JP2008289850A - 光プローブおよび光断層画像化装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】内視鏡の挿入部の先端部で開口する管路に挿通される長尺の光プローブ10は、光プローブ10の外周面を構成するシース11と、シース11の内部空間に長手方向に延びる状態に配設された光ファイバ12と、シース11の内部空間に配設され、光ファイバ12から出射した光を偏向するとともに、前記長手方向の軸線の周りに回動されて、偏向された光を前記軸線の周方向に走査させる偏向走査手段であるプリズムミラー15とを備える。シース11の側壁には、走査する光を透過させ、その外面が平坦に形成された透光部16が周方向にわたって複数設けられている。
【選択図】図1
Description
I(k)=∫0 ∞S(l)[1+cos(kl)]dl ・・・(1)
で表される。ここで、kは波数、lは光路長差である。式(1)は波数kを変数とする光周波数領域のインターフェログラムとして与えられていると考えることができる。このため、画像取得手段150において、干渉光検出手段40が検出した干渉光をフーリエ変換にかけて周波数解析を行い、干渉光L4の光強度S(l)を決定することにより、測定対象Sbの各深さ位置における反射情報を取得し、断層画像を生成することができる。そして、生成された断層画像は、表示装置160において表示される。
11、11A、11B、11C、11D、11E、32 シース
12 光ファイバ
13 固定部材
14 GRINレンズ
15 プリズムミラー
16、18 透光部
17 フレキシブルシャフト
50 内視鏡
100、200 光断層画像化装置
L1 測定光
Claims (9)
- 内視鏡の挿入部の先端部で開口する管路に挿通される長尺の光プローブであって、
該光プローブの外周面を構成するシースと、
前記シースの内部空間に長手方向に延びる状態に配設された光ファイバと、
前記シースの内部空間に配設され、前記光ファイバから射出した光を偏向するとともに、前記長手方向の軸線の周りに回動されて、偏向された光を前記軸線の周方向に走査させる偏向走査手段と、を備え、
前記シースの側壁には、前記走査する光を透過させ、その外面が平坦に形成された透光部が前記周方向にわたって複数設けられていることを特徴とする光プローブ。 - 前記長手方向に垂直で前記透光部を含む断面における前記シースの外形が、多角形状または多角形の角部を丸くした形状であることを特徴とする請求項1記載の光プローブ。
- 内視鏡の挿入部の先端部で開口する管路に挿通される長尺の光プローブであって、
該光プローブの外周面を構成するシースと、
前記シースの内部空間に長手方向に延びる状態に配設された光ファイバと、
前記シースの内部空間に配設され、該光ファイバから射出した光を偏向するとともに、前記長手方向の軸線の周りに回動されて、偏向された光を前記軸線の周方向に走査させる偏向走査手段と、を備え、
前記シースの側壁には前記走査する光を透過させる透光部が前記周方向にわたって複数設けられ、前記長手方向に垂直で前記透光部を含む断面における前記シースの外形が略楕円形状であることを特徴とする光プローブ。 - 前記長手方向に垂直で前記透光部を含む断面における前記シースの内形が、前記軸線上の点を中心とする円形状であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の光プローブ。
- 前記シースが、円筒状の第1の部材と、該第1の部材に着脱自在に装着されて前記透光部が前記周方向にわたって複数設けられた第2の部材とを含んで構成されることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載の光プローブ。
- 前記第2の部材が、前記第1の部材の先端部を覆うキャップ部材であることを特徴とする請求項5記載の光プローブ。
- 前記第2の部材が、前記第1の部材の外周面の一部を覆う帯状部材であることを特徴とする請求項5記載の光プローブ。
- 前記第2の部材が、前記第1の部材の先端部を挿入可能な内径を有し、内視鏡の挿入部の先端部まで導通する管路の内部に収納可能で前記管路の方向に摺動自在に配設されたカバー部材であり、
前記第1の部材を前記管路の先端方向へ移動させることにより、前記カバー部材が前記第1の部材の先端部を被覆する状態で前記挿入部から突出し、前記光が前記透光部を透過して射出可能となるように構成されたことを特徴とする請求項5記載の光プローブ。 - 光を射出する光源と、
該光源から射出された光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、
前記測定光を測定対象に照射する照射光学系と、
前記測定対象に測定光が照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、
合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光検出手段と、
この検出された干渉光の周波数および強度に基づいて、前記測定対象の複数の深さ位置における反射光の強度を検出し、これらの各深さ位置における反射光の強度に基づいて測定対象の断層画像を取得する画像取得手段とを備えてなる光断層画像化装置において、
前記照射光学系が、請求項1から8のいずれか1項記載の光プローブを含んで構成されていることを特徴とする光断層画像化装置。
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