JP2009192871A - 反射スクリーンとその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】斜め方向からの光を反射スクリーンの前方の観察側に効率よく反射させ、投影画像のコントラストを向上させる。
【解決手段】スクリーン基板１の観察面に複数の反射部２を有し、観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部ＰＶから、観察面に向けて斜めに射出された投影光Ｌｐを観察側に反射する。反射部は、凹または凸の球状面を有し、球状面の少なくとも一部は、投影光を乱反射させる所定の粗さとなるように粗面処理された粗面処理部２０を有する。
【選択図】図２

Description

本発明は、反射スクリーンとその製造方法に関するものである。

従来から、投影画像を反射させて観察可能にする反射スクリーンが知られている。このような反射スクリーンとして、スクリーン基板の前面側に同一形状の多数の凸状の単位形状部が２次元的に規則的に配置され、凸状の単位形状部の投影光入射方向に向かう一部の表面部分にのみに反射面が形成されている反射スクリーンが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００６−２１５１６２号公報

しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
例えばプロジェクタをスクリーン前方の下方側に配置し、プロジェクタからスクリーンに向けて斜め上方に投影画像を照射した場合、スクリーンの表面が凸形状の球状面に形成されていることから、球状面のうち、プロジェクタと球状面とを結ぶ直線の近傍に位置する領域のみが投影光を前方の観察側へ反射する際に寄与し、他の領域については他の方向に反射する割合が多くなるため、反射スクリーン前方の観察者側に十分に反射されず、投影画像のコントラストが低下するという問題がある。

本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、斜め方向からの光を反射スクリーンの前方の観察側に効率よく反射させ、投影画像のコントラストを向上させることができる反射スクリーンとその製造方法を提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の反射スクリーンは、スクリーン基板の観察面に複数の反射部を有し、前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部から、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、前記反射部は、凹または凸の球状面を有し、前記球状面の少なくとも一部は、前記投影光を乱反射させる所定の粗さとなるように粗面処理された粗面処理部を有することを特徴とするものである。
従って、本発明の反射スクリーンでは、反射部のうち、粗面処理されなければ投影光を前方の観察側へ反射する際に寄与しない領域であっても、粗面処理部が投影光を乱反射することにより、投影光を観察側に反射することが可能となり、投影画像のコントラストを向上させることができる。

上記構成の反射スクリーンにおいては、前記粗面処理部が、前記球状面における周縁部に設けられる構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、粗面処理されなければ投影光を前方の観察側へ反射する際に寄与しづらい球状面の周縁部であっても、粗面処理部が投影光を乱反射することにより、投影光を観察側に反射することが可能となる。

また、上記構成の反射スクリーンにおいては、前記粗面処理部は、前記スクリーン基板の周辺部に配置された前記反射部の少なくとも一部に設けられる構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、粗面処理されなければ投影光を前方の観察側へ反射する際に寄与しづらいスクリーン基板の周辺部であっても、粗面処理部が投影光を乱反射することにより、投影光を観察側に反射することが可能となる。特に、スクリーン基板における周辺部は、到達した投影光の光量が低下しやすいが、当該周辺部において観察側に反射する投影光の光量を増すことができるため、スクリーン基板内での投影ムラを低減することができる。

さらに、前記粗面処理部が、前記スクリーン基板の周辺部に配置された前記反射部の少なくとも一部に設けられる構成の場合、前記粗面処理部を有する前記反射部が、前記粗面処理部を有さない前記反射部よりも大きな径で形成された球状面を有する構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、球状面の径が大きくなることにより平面に近づき、観察側に反射する投影光の光量を一層増すことが可能となる。

また、本発明では、前記粗面処理部は平均粗度が１０ｎｍ〜５０μｍの範囲に形成される構成を好適に採用できる。
平均粗度が１０ｎｍ未満である場合には十分な乱反射が得られず、また、平均粗度が５０μｍを超えると、投影光の乱反射が安定せず、画像の視認性が低下する可能性があるが、本発明ではこれらの不具合を回避できる。

また、上記平均粗度を有する構成の場合、前記粗面処理部の平均粗度としては、前記球状面の半径の１／１０以下であることが好ましい。
平均粗度が前記球状面の半径の１／１０を超えると、反射部の球状面の形状を維持できなくなる虞があるが、本発明では、球状面の形状を維持した状態で乱反射面（粗面処理部）を形成することが可能になる。

また、前記反射部の前記球状面の半径としては、３０μｍ〜５００μｍの範囲に形成される構成を好適に採用できる。
球状面の半径が３０μｍを下回ると、スクリーンにモアレ縞（干渉縞）を生じやすく、５００μｍを超えるとスクリーンに投射した画像の視認性が低下する虞があるが、本発明では、これらの不具合を回避することができる。

また、本発明では、前記反射部が、前記投影部からの距離が大きくなるに従って、疎となる分布で配置される構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、投影部からの距離が大きい位置における反射部の数が減るため、投影光を観察側に反射する箇所も減ることになる。そのため、本発明では、投影部からの距離が大きい位置の反射部からの観察側への反射光が減り、投影部からの距離が小さい位置の反射部からの反射光と同等とすることができ、投影光を反射スクリーンの前方の観察側に均一に反射させることが可能になる。

前記反射部の配置分布としては、前記観察面からの前記投影光の反射分布に応じて調整される構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、例えば反射スクリーンの端縁部（周辺部）等、投影光の反射が少ない箇所には反射部の配置分布を密にして反射部の数を増やし、反射量を大きくするように調整することができる。

前記反射部としては、前記投影部を臨む面に反射膜を有するとともに、前記反射膜の非形成領域に光吸収面を有する構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、投影部から投影された投影光を反射膜によってスクリーン基板の観察側に反射させると共に、反射膜の非形成領域で外光を吸収し、投影画像のコントラストを向上させることができる。また、反射部が凹の球状面を有する場合には、反射膜が凹状に形成されているので、反射スクリーンの外縁部に照射された投影光を反射スクリーンの法線方向により近い方向に反射させ、投影画像のコントラストを向上させることができる。

また、本発明の反射スクリーンは、前記スクリーン基板の前記観察面側に保護層が設けられていることを特徴とする。
このように構成することで、反射膜の損傷や劣化を防止することができる。

また、本発明では、前記スクリーン基板は光透過性を有する材料によって形成され、前記凹の球状面が、前記スクリーン基板の前記観察面と反対側の面に設けられた凹部に形成される構成も好適に採用できる。
このように構成することで、観察側から見て反射膜は凸状に形成される。投影光は、スクリーン基板を透過し、凸状の反射膜で反射して観察側に反射される。また、スクリーン基板自体を反射スクリーンの観察面側に対して反射膜の保護層として機能させることができる。

また、本発明では、前記スクリーン基板は光透過性を有する材料によって形成され、前記凸の球状面は、前記スクリーン基板の前記観察面と反対側の面に設けられた凸部に形成される構成も好適に採用できる。
このように構成することで、観察側から見て反射膜は凹状に形成される。投影光は、スクリーン基板を透過し、凹状の反射膜で反射して観察側に反射される。これにより、反射スクリーン外縁部に照射された投影光をより法線方向に近い方向に反射させ、反射スクリーンの投影画像のコントラストを向上させることができる。
また、光透過性を有するスクリーン基板を反射膜の保護層として機能させることができる。

また、本発明の反射スクリーンは、前記スクリーン基板の前記観察面側に反射防止層が設けられていることを特徴とする。
このように構成することで、投影光および外光が反射膜以外で反射することを防止して、投影画像のコントラストを向上させることができる。

また、本発明の反射スクリーンは、前記スクリーン基板が、可撓性を有する材料によって形成されていることを特徴とする。
このように構成することで、可撓性を有する反射スクリーンを形成することができ、反射スクリーンの巻き取り収納が可能となる。

一方、本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面に複数の反射部を有し、前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部から、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記反射部は、凹または凸の球状面を有し、前記球状面の少なくとも一部を、前記投影光を乱反射させる所定の粗さとなるように粗面処理する粗面処理工程を有することを特徴とするものである。
これにより、本発明では、反射部のうち、粗面処理されなければ投影光を前方の観察側へ反射する際に寄与しない領域であっても、粗面処理部が投影光を乱反射することにより、投影光を観察側に反射することが可能となり、投影画像のコントラストを向上させることができる。

上記反射スクリーンの製造方法においては、前記粗面処理部を、前記球状面における周縁部に設けることも好適に採用できる。
これにより、本発明では、粗面処理されなければ投影光を前方の観察側へ反射する際に寄与しづらい球状面の周縁部であっても、粗面処理部が投影光を乱反射することにより、投影光を観察側に反射することが可能となる。

また、上記反射スクリーンの製造方法においては、前記粗面処理部を、前記スクリーン基板の周辺部に配置された前記反射部の少なくとも一部に設けることも好適に採用できる。
これにより、本発明では、粗面処理されなければ投影光を前方の観察側へ反射する際に寄与しづらいスクリーン基板の周辺部であっても、粗面処理部が投影光を乱反射することにより、投影光を観察側に反射することが可能となる。特に、スクリーン基板における周辺部は、到達した投影光の光量が低下しやすいが、当該周辺部において観察側に反射する投影光の光量を増すことができるため、スクリーン基板内での投影ムラを低減することができる。

さらに、前記粗面処理部が、前記スクリーン基板の周辺部に配置された前記反射部の少なくとも一部に設けられる構成の場合、前記粗面処理部を有する前記反射部を、前記粗面処理部を有さない前記反射部よりも大きな径を有する球状面をもって形成することも好適に採用できる。
これにより、本発明では、球状面の径が大きくなることにより平面に近づき、観察側に反射する投影光の光量を一層増すことが可能となる。

また、本発明では、前記粗面処理部を、平均粗度が１０ｎｍ〜５０μｍの範囲で形成する構成を好適に採用できる。
平均粗度が１０ｎｍ未満である場合には十分な乱反射が得られず、また、平均粗度が５０μｍを超えると、投影光の乱反射が安定せず、画像の視認性が低下する可能性があるが、本発明ではこれらの不具合を回避できる。

また、上記平均粗度を有する構成の場合、前記粗面処理部の平均粗度としては、前記球状面の半径の１／１０以下であることが好ましい。
平均粗度が前記球状面の半径の１／１０を超えると、反射部の球状面の形状を維持できなくなる虞があるが、本発明では、球状面の形状を維持した状態で乱反射面（粗面処理部）を形成することが可能になる。

また、前記反射部の前記球状面の半径としては、３０μｍ〜５００μｍの範囲に形成される構成を好適に採用できる。
球状面の半径が３０μｍを下回ると、スクリーンにモアレ縞（干渉縞）を生じやすく、５００μｍを超えるとスクリーンに投射した画像の視認性が低下する虞があるが、本発明では、これらの不具合を回避することができる。

前記粗面処理工程としては、型基板の前記反射部が転写される転写面に粗面処理する工程を有する手順を好適に採用できる。
これにより、本発明では、例えば熱可塑性樹脂を転写面に押し付けることにより、粗面処理部を有するスクリーン基板を容易に製造することができる。
この場合、粗面処理としては、前記転写面の少なくとも一部をショットブラスト法により粗面化する手順や、前記転写面の少なくとも一部をケミカルフロスト法により粗面化する手順、あるいは前記型基板として結晶化ガラスを用い、該結晶化ガラスをエッチング処理することにより、前記転写面の少なくとも一部を粗面化する手順を採用できる。

また、本発明では、前記反射部を、前記投影部からの距離が大きくなるに従って、疎となる分布で配置する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、投影部からの距離が大きい位置における反射部の数が減るため、投影光を観察側に反射する箇所も減ることになる。そのため、本発明では、投影部からの距離が大きい位置の反射部からの観察側への反射光が減り、投影部からの距離が小さい位置の反射部からの反射光と同等とすることができ、投影光を反射スクリーンの前方の観察側に均一に反射させることが可能になる。

また、本発明の反射スクリーンの製造方法では、前記反射部の配置分布を、前記観察面からの前記投影光の反射分布に応じて調整することも好適である。
これにより、本発明では、例えば反射スクリーンの端縁部（周辺部）等、投影光の反射が少ない箇所には反射部の配置分布を密にして反射部の数を増やし、反射量を大きくするように調整することができる。

また、本発明の反射スクリーンの製造方法では、少なくとも前記スクリーン基板の前記観察面側に光吸収面を形成する工程と、前記反射部の前記投影部を臨む面に反射膜を形成する工程とを有する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、投影部から投影された投影光を反射膜によってスクリーン基板の観察側に反射させると共に、反射膜の非形成領域で外光を吸収し、投影画像のコントラストを向上させることができる。また、反射部が凹の球状面を有する場合には、反射膜が凹状に形成されているので、反射スクリーンの外縁部に照射された投影光を反射スクリーンの法線方向により近い方向に反射させ、投影画像のコントラストを向上させることができる。

上記手順においては、ターゲットを有する蒸着源を前記投影部に配置し、前記ターゲットを前記反射部の前記投影部を臨む面に蒸着することが好ましい。
これにより、本発明では、反射部において投影光が投影される箇所にターゲットを蒸着して容易に反射面を形成することができる。

また、本発明では、前記スクリーン基板の前記観察面側に保護層を設ける工程を有する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、反射膜の損傷や劣化を防止することができる。

以下、本発明の反射スクリーンとその製造方法の実施の形態を、図１ないし図１１を参照して説明する。なお、以下の各図面では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。また、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。鉛直面内における所定方向をＸ軸方向、鉛直面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに直交する方向をＺ軸方向とする。

（第１実施形態）
図１に示すように、反射スクリーン１００は、反射スクリーン１００の観察面１００ａの中心点Ｃを通る法線ＮＬに対して垂直方向（Ｙ軸方向）にずれた位置に配置されたプロジェクタＰから、観察面１００ａに向けて斜めに射出された投影光Ｌｐを、反射スクリーン１００の観察側（Ｚ軸正方向側）に反射するものである。反射スクリーン１００は、法線ＮＬがＺ軸と平行になるように配置されている。

プロジェクタＰは投影光Ｌｐを反射スクリーン１００の観察面１００ａに向けて反射するミラーＭを備えている。ここで、投影光ＬｐがミラーＭを備えていないプロジェクタＰから射出されたと仮定した場合のプロジェクタＰの位置を仮想光源位置（投影部）ＰＶとする。仮想光源位置ＰＶもプロジェクタＰと同様に、反射スクリーン１００の観察面１００ａの法線ＮＬに対して垂直方向にずれた位置となる。

プロジェクタＰは、仮想光源位置ＰＶと観察面１００ａとの距離Ｄを約９００ｍｍとし、仮想光源位置ＰＶから反射スクリーン１００の中心点Ｃに向かう投影光Ｌｐと法線ＮＬのなす角度θを約３６°としたときに、反射スクリーン１００に垂直方向の寸法Ｈが約９９６ｍｍ、水平方向（図のＸ軸方向）の寸法Ｗが１７７１ｍｍの画像を投影可能に構成されている。すなわち、反射スクリーン１００は８０インチの投影画像を表示可能な大きさとなっている。

図２および図３に示すように、スクリーン基板１の観察面１ａには、略同一径の半球状に形成された凹の球状面６を有する凹部（反射部）２が複数配列されている。凹部２の半径としては、例えば約５００μｍ以下かつ３０μｍ以上に形成されている。スクリーン基板１は、例えば、樹脂等の可撓性を有する材料によって形成されている。また、スクリーン基板１は、例えば、染色等によって全体が黒色の光吸収材によって着色され、可視光を吸収可能に形成されている。

また、凹部２は、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなることにより、疎となる分布で配置されている。より詳細には、凹部２は、矩形のスクリーン基板１の長辺（Ｘ方向に延びる辺）に沿う方向、及び短辺（Ｙ方向に延びる方向）に沿う方向に複数配列されており、Ｘ方向のピッチＰＸ及びＹ方向のピッチＰＹが仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、順次大きくなるように形成されている。

図３に示すように、凹部２の内壁面２ａ（球状面６）には、投影光Ｌｐを乱反射させる粗さとなるように粗面処理された粗面部（粗面処理部）２０が形成されている。粗面部２０の粗さとしては、平均粗度が球状面６の半径の１／１０以下に設定され、より詳細には、１０ｎｍ〜５０μｍの範囲に形成されている。

また、内壁面２ａ（球状面６）の、プロジェクタＰからの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、粗面部２０の一部を覆うように、投影光Ｌｐを反射する反射膜３が形成されている。すなわち、凹部２の内壁面２ａの仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐが照射される部分にのみ、反射膜３が形成され、凹部２の内壁面２ａのその他の部分には反射膜３が形成されず、スクリーン基板１の光吸収材によって形成された光吸収面７が露出した状態となっている（光吸収面７についても粗面部２０となっている）。

凹部２の内壁面２ａに形成された反射膜３は、観察側から見て凹状に形成されている。
反射膜３の面積は、スクリーン基板１の観察面１ａの垂直方向上方（Ｙ軸正方向）側に近づくにつれて徐々に小さくなるように形成されている。反射膜３は、例えば、アルミニウム等の反射性を有する材料によって、後述する蒸着により膜厚が１０ｎｍ以上かつ５μｍ以下となるように形成されている。

スクリーン基板１の観察面１ａ上には、反射膜３およびスクリーン基板１の観察面１ａを覆う保護層４が形成されている。保護層４は、例えば樹脂等の、可撓性を有する透明な材料によって形成されている。保護層４の上層側でスクリーン基板１の観察面１ａ側の最表面には、反射防止層５が形成されている。反射防止層５は、保護層４と同様の材料によって形成され、保護層４の表面４ａでの投影光Ｌｐや外光等の反射を防止するように、保護層４との間で屈折率が調整されている。この反射防止層５の表面が反射スクリーン１００の観察面１００ａとなっている。

次に、上記構成のスクリーン基板１を製造する方法について、図４を参照して説明する。
まず、図４（ａ）に示すように、平板状のスクリーン基板１上にマスクＭを形成する。このマスクＭとしては、例えばクロム（Ｃｒ）を、スパッタ等により成膜して形成されたものである。
続いて、このようにスクリーン基板１上に形成されたマスクＭに対して、図４（ｂ）に示すように、凹部２を形成する位置に開口部Ｋを形成する。開口部Ｋは、フォトエッチングやレーザ加工等により形成することができる。

次に、図４（ｃ）に示すように、開口部Ｋを有するマスクＭが形成されたスクリーン基板１に対して、所定時間エッチング処理を施すことにより、スクリーン基板１の表面に凹部２を形成する。エッチング処理としてはドライエッチング、ウェットエッチングのいずれの方法を採ってもよく、ウェットエッチング処理を行う場合には、例えば一水素二フッ化アンモニウム系のものを用いることができる。

次に凹部２の球状面６に粗面処理を実施する方法について説明する。
凹部２が形成されたスクリーン基板１に対して、粗面処理としてショットピーニング法により鋳鉄や鋳鋼等の金属、あるいはアルミナ、炭化ケイ素等のセラミックからなる球状粒子を投射材Ｒとしてスクリーン基板１の表面に吹き付けたり、あるいは水に上記投射材Ｒを混合してスクリーン基板１の表面に吹き付ける湿式ブラスト法を実施する。投射材Ｒの粒径としては、例えば０．０１ｍｍ〜２ｍｍの範囲から選択することができ、また選択した粒径の標準偏差の３倍値は、０．００５ｍｍ以内に管理された投射材Ｒを用いる。この粗面処理により、凹部２の表面には、所定の粗さを有する粗面部２０が形成される。なお、これら投射材Ｒの粒径やスクリーン基板１に対する吹付速度は、上述した平均粗度が得られるように適宜調整される。

なお、粗面処理としてはショットピーニング法の他に、例えば、スクリーン基板１がガラス基板で形成される場合、粗面処理としてケミカルフロスト法により球状面６を粗面化する。このケミカルフロスト法は、フッ酸、塩酸等の化学薬品を使用してガラス基板の化学的に腐食することにより、球状面６の表面を磨りガラス状、またはつや消し状に加工するものである。

さらに、スクリーン基板１のガラス材料として、結晶化ガラスを用いることもできる。結晶化ガラスは、エッチング処理により表面が粗面化されるため、上記凹部２を形成する工程で同時に粗面部２０を形成することができる。
結晶化ガラスとしては、例えばＳｉＯ_２−Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３系ガラスからなる基板を結晶化処理し、その表面を研磨した後、フッ酸に硫酸あるいはフッ化アンモニウムを加えたエッチング剤によりエッチング処理し、表面に微細な凹凸を形成したものを用いることができる。フッ酸を主体とするエッチング剤としては、結晶化ガラスの結晶化層とアモルファス層の各層に対するエッチング速度が異なる（アモルファス層に対する溶解度がより大きい。）ものであり、このようなエッチング剤を用いることにより、アモルファス層に均質な結晶粒が凸状をなして規則正しく分布された微細構造を形成し、結晶化層とアモルファス層との間に微細な凹凸を均一に形成することができる。ここで、ガラス基板の表面に形成される凹凸の深さあるいは高さは、フッ酸の濃度、後述する硫酸またはフッ化アンモニウムの濃度、処理時間等の条件により制御される。これらの諸条件を調整することにより、凹凸の深さを５０〜１５０オングストロームとすることが望ましい。
エッチング剤としてフッ酸に硫酸あるいはフッ化アンモニウムを添加した溶液を用いるのは、以下の理由による。すなわち、フッ酸のみを使用した場合には、ガラスとフッ酸との反応により生成した水に不溶若しくは難溶性のフッ化カルシウムやケイフッ化ソーダが、部分的にガラス表面を覆うため、その後の反応が妨げられて部分的な表面粗さの差が大きくなる。これに対して、添加剤として硫酸を併用した場合には、硫酸が前記した反応生成物を分解して可溶性の塩を作るため、ガラス面全体に腐食反応が均一に進行する。さらに、このような分解反応によりフッ酸が再生されるため、処理液中のフッ酸濃度の経時変化が小さくなり、これら両方の効果から部分的な表面粗さの差を小さくすることができる。また、添加剤としてフッ化アンモニウムを併用した場合にも、硫酸を加えた場合と同様に、ガラスとフッ酸との反応生成物が分解されかつフッ酸が再生されるため、反応が促進される。そのうえ、ガラスとフッ化アンモニウムとの反応により生じたケイフッ化アンモニウムの微結晶が、ガラス表面に接触するため、この微結晶の接触に対応して基板表面に非常に微細な凹凸が形成され、部分的な表面粗さの差がより小さくなる。
また、エッチング剤におけるフッ酸の望ましい濃度範囲としては、０．１〜３．０重量％（以下、単に％と示す。）とするとともに、硫酸およびフッ化アンモニウムの望ましい濃度範囲を、それぞれ２．０〜１２．０％および１．０〜１０．０％とする。フッ酸の濃度がエッチング剤全体の０．１％未満では、ガラス基板に対して十分なエッチング効果が発揮されず、また硫酸の濃度が２．０％未満である場合には、ガラスとフッ酸との反応により生じた水に難溶性の生成物を、硫酸が十分に分解することができないため、反応生成物によるエッチング阻害が生じ均一な凹凸が形成されない。さらに、フッ化アンモニウムの濃度が１．０％未満の場合にも、硫酸の場合と同様に腐食反応が均一に進行せず、表面粗さの差が大きくなる。またさらに、フッ酸、硫酸またはフッ化アンモニウムの濃度がそれぞれの上限値を越えた場合には、短時間の間に急激に反応が進行するため、エッチング工程から洗浄工程への移送時間にもエッチングが進行し、少しの時間差で表面粗さの値が大きく変動する。現実の工程管理を考慮すると、所望の表面粗さが得られるまでに、１０秒以上より好ましくは２０〜６０秒の処理時間を要することが望ましく、そのために各成分の濃度を前記上限値以下とすることが望ましい。各成分のより好ましい濃度範囲は、フッ酸濃度が０．５〜２％、硫酸濃度が２〜８％、フッ化アンモニウム濃度が１〜５％である。
なお、上記結晶化ガラスに対するエッチング処理については、特開平７−２９６３８０号公報等に詳述されている。

この後、スクリーン基板１からマスクＭを除去することにより、図４（ｄ）に示すように、凹部２を有するスクリーン基板１を得ることができる。

次に、凹部２を形成したスクリーン基板１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。
続いて、凹部２に反射膜３を形成する。
図３に示すように、スクリーン基板１の観察側（Ｚ軸正方向側）で、スクリーン基板１の観察面１ａの法線ＮＬに対して垂直方向下方側（Ｙ軸負方向側）にずれた位置の仮想光源位置ＰＶに蒸着源Ｓを配置する。そして、蒸着法により反射膜材料を観察面１ａに対して斜めに蒸着させ、凹部２の内壁面２ａに反射膜３を形成する。反射膜材料としては、例えば、アルミニウム等の反射性に優れた金属材料を用いることができる。

蒸着法により反射膜３を形成する際には、観察面１ａの各凹部２に対する反射膜材料の蒸着の角度θｓが、観察面１ａの各凹部２に対する仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しくなるようにターゲットとしてアルミニウム等を有する蒸着源Ｓを配置して、投影光Ｌｐの入射方向から各凹部２に反射膜材料を蒸着させる。
なお、観察面１ａについては、反射膜が成膜されないように、マスクを配しておくことが好ましい。

これにより、凹部２における仮想光源位置ＰＶを臨む位置の内壁面２ａの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凹状の反射膜３が、蒸着源Ｓを中心に、観察面１ａに放射状に形成される。このとき、反射膜３の膜厚は、例えば約１０ｎｍ以上かつ約５μｍ以下程度に形成される。また、内壁面２ａに粗面部２０が形成されていることから、粗面部２０の粗さが転写されることにより、反射膜３の表面にも粗面部２０と同様の粗さが形成される。
また、このように斜め方向から蒸着法により反射膜３を形成することで、反射膜３の膜厚が反射膜３の非形成領域側の外縁３ｅに近づくに従って徐々に薄くなるように形成される。
また、反射膜３を蒸着法により形成することで、スプレーコート方法、印刷方法等よりも薄く高品質な反射膜３を形成することができる。

また、蒸着源Ｓを上述のように配置して反射膜材料を投影光Ｌｐの入射方向から斜めに蒸着させることで、スクリーン基板１がマスクとして機能し、凹部２の投影光Ｌｐが照射される部分に合わせて、部分的に反射膜３を形成することができる。また、蒸着源Ｓからの距離が遠くなるほど、凹部２の内壁面２ａの反射膜３が形成される部分の面積が縮小し、反射膜３の非形成領域（光吸収面７）が拡大する。
また、観察面１ａに対する反射膜材料の蒸着の角度θｓを仮想光源位置ＰＶからの投影光Ｌｐの入射角度θｐと等しくなるようにすることで、蒸着源Ｓから各凹部２までの投影光Ｌｐの入射方向の距離の差による反射膜３の面積の差を小さくすることができる。
また、蒸着による反射膜３形成時の真空度は、例えば、約１×１０^−４Ｔｏｒｒ〜約１×１０^−５Ｔｏｒｒの範囲であることが望ましい。このようにすることで、形成された反射膜３の表面３ａの粗度を上昇させ、より明るい投影画像を得ることができる。

次に、図３に示したように、凹部２の内壁面２ａ（球状面６）を含むスクリーン基板１の観察面１ａに保護層４を形成する。保護層４は、例えば、透明な樹脂等、光透過性を有する材料により形成する。さらに保護層４の表面に、反射防止層５を形成する。反射防止層５は、保護層４と同様の材料により形成され、反射防止層５に入射する投影光Ｌｐや外光が保護層４の表面で反射しないように、保護層４との間で屈折率が調整されている。
以上、本実施形態の反射スクリーン１００の製造方法によれば、図３に示すような反射スクリーン１００を製造することができる。

次に、上記の反射スクリーン１００の作用について説明する。
図１に示すように、プロジェクタＰはミラーＭに向けて投影光Ｌｐを射出する。ミラーＭに向けて射出された投影光Ｌｐは、ミラーＭによって反射され、仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に、スクリーン基板１の観察面１ａに対して斜めに入射する。このとき、反射スクリーン１００の中心点Ｃに入射する投影光Ｌｐと、反射スクリーン１００の観察面１００ａとのなす角度θは、約３６°となっている。

反射スクリーン１００の観察面１００ａに到達した投影光Ｌｐは、図５（ａ）に示すように、反射防止層５に入射する。反射防止層５に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。このとき、反射防止層５は保護層４との間で屈折率が調整されているので、反射防止層５を透過した投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。
保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凹部２の内壁面２ａに形成された反射膜３に到達する。反射膜３に到達した投影光Ｌｐは、反射膜３によって反射スクリーン１００の観察側に反射される。

ここで、凹部２（反射膜３）に入射した投影光Ｌｐは、凹部２に粗面部２０が設けられていない場合には、図５（ｂ）に示すように、主に仮想光源位置ＰＶと凹部２とを結ぶ光軸ＡＸの近傍に位置する領域Ｒａのみが観察側への反射に寄与し、光軸ＡＸから離間した周辺領域Ｒｂについては、二点鎖線の矢印Ｋａで示すように、多くが観察側への反射に寄与しないが、本実施形態では、凹部２に粗面部２０が設けられているため、周辺領域Ｒｂに入射した投影光Ｌｐは矢印Ｋｂで示すように、表面が粗面の反射膜３で乱反射し、その一部が反射スクリーン１００の観察側に反射される。

また、図２に示すように、凹部２は、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凹部２は距離が小さい位置の凹部２よりも分布が疎になって個数が少なくなっているため、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凹部２については、観察側への反射に寄与する面積がトータルで仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凹部２に比べて減ることになる。その結果、仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凹部２で反射した投影光Ｌｐが、観察側ではなく＋Ｙ側へ抜ける割合が大きく輝度が低下しやすい状況であっても、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凹部２についても輝度を抑えることができる。

一方、反射スクリーン１００の観察面１００ａには、投影光Ｌｐ以外に、図５（ａ）に示すように、スクリーン基板１の垂直方向の上方（Ｙ軸正方向側）から外光Ｌｏが入射する。観察面１００ａに入射した外光Ｌｏは、反射防止層５に入射して、反射防止層５を透過し、保護層４の表面４ａに到達する。
ここで、反射スクリーン１００には、反射防止層５が形成されているので、観察面１００ａの上方から観察面１００ａに入射した外光Ｌｏが、保護層４の表面４ａで観察側に反射することが防止される。

そして、保護層４の表面４ａに到達した外光Ｌｏは、保護層４を透過して凹部２に入射する。凹部２に入射した外光Ｌｏは、凹部２の図示下方側の反射膜３の非形成領域に位置する光吸収面７に到達する。
ここで、スクリーン基板１は、上述のように可視光を吸収可能な光吸収面７を有しているので、凹部２の内壁面２ａの反射膜３の非形成領域にある光吸収面７に到達した外光Ｌｏは、スクリーン基板１（光吸収面７）によって吸収される。また、外光Ｌｏが反射した場合でも、光吸収面７にも粗面部２０が形成されているため、外光Ｌｏは乱反射し、観察側に反射する光量を抑制することができる。

また、スクリーン基板１の凹部２の非形成領域に到達した外光Ｌｏも、同様にスクリーン基板１によって吸収される。さらに、反射膜３は凹部２の上方側の、投影光Ｌｐが入射する部分のみに形成されているので、外光Ｌｏは反射膜３に入射しない。
したがって、反射スクリーン１００の観察面１００ａに入射した外光Ｌｏが、観察側に反射されることが防止できる。

このように、反射防止層５は、プロジェクタＰから反射スクリーン１００の観察面１００ａに入射する投影光Ｌｐに対しては、投影光Ｌｐを反射膜３により確実に到達させ、投影光Ｌｐの反射率を向上させる効果がある。一方、観察面１００ａに入射する外光Ｌｏに対しては、外光Ｌｏを保護層４によって観察側に反射させず、スクリーン基板１に吸収させる効果がある。したがって、上述のように反射防止層５を形成することで、反射スクリーン１００のコントラストを向上させることができる。

以上のように、本実施形態では、凹部２の球状面６に粗面部２０が形成されているため、粗面部２０が存在しない場合には観察側に反射しなかった投影光Ｌｐの一部を観察側に反射させることが可能となり、また、外光Ｌｏの観察側への反射も抑制できるため、投影画像のコントラストを向上させて表示品質を高めることができる。また、粗面部２０の平均粗度が１０ｎｍ未満である場合には十分な乱反射が得られず、また、平均粗度が５０μｍを超えると、投影光の乱反射が安定せず、画像の視認性が低下する可能性があるが、本実施形態では、平均粗度を１０ｎｍ〜５０μｍの範囲としているため、これらの不具合を回避できる。さらに、粗面部２０の平均粗度が球状面６の半径の１／１０を超えると、凹部２の球状面６の形状を維持できなくなる虞があるが、本実施形態では、球状面６の半径の１／１０以下とすることにより、球状面６の形状を維持した状態で粗面部２０を形成することが可能である。

また、本実施形態では、凹部２が仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されているため、仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凹部２で反射した投影光Ｌｐが、観察側ではなく＋Ｙ側へ抜ける割合が大きく輝度が低下しやすい状況であっても、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凹部２についても輝度を抑えることができ、斜め方向からの投影光Ｌｐを反射スクリーン１００の前方の観察側に均一に反射させて、投影画像のコントラストを向上させることが可能になる。特に、本実施形態では、凹部２が球状面６を有しており、投影光Ｌｐを反射スクリーン１００の前方の観察側に反射させる面積がその一部であることから、配置分布の粗密を調整することにより、反射光の輝度分布を容易に調整することが可能になる。
しかも、本実施形態では、反射部が凹で形成されているため、凸のように投影光Ｌｐが遮られることなく、凹部２に到達することができ、全体的に輝度を向上させることができる。

また、本実施形態では、仮想光源位置ＰＶに蒸着源Ｓを配置し、凹部２の仮想光源位置ＰＶに臨む位置に反射膜３を形成するため、投影光Ｌｐが照射される位置にのみ反射膜３を形成し、外光Ｌｏが入射するその他の凹部２については光吸収面７に設定できるため、外光Ｌｏが、観察側に反射されることを効果的に防止でき、投影品質を向上させることが可能になる。

加えて、本実施形態では、反射膜３を覆うように保護層４が形成されているので、反射膜３の損傷や劣化を防止することができる。
さらに、スクリーン基板１が可撓性を有する材料によって形成されているので、可撓性を有する反射スクリーン１００を形成することができ、反射スクリーン１００の巻き取りを可能とし、反射スクリーン１００をコンパクトに収納することができる。

（第２実施形態）
続いて、反射スクリーン１００の第２実施形態について、図６を参照して説明する。
本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン１００と、スクリーン基板１１に凹部２ではなく凸部２１がされている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
図６に示す反射スクリーン２００は、プロジェクタＰに対して、図１に示す第一実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。反射スクリーン２００のスクリーン基板１１は、第一実施形態のスクリーン基板１と同様に、可視光を吸収可能に形成されている。

スクリーン基板１１の観察面１１ａには、図６に示すように、複数の半球状の凸部（反射部）２１が形成されている。凸部２１は、図２に示す凹部２と同様に、半球状に形成された凸の球状面２６を有し、スクリーン基板１１の垂直方向（Ｙ軸方向）および水平方向（Ｘ軸方向）に複数配列されている。また、凹部２と同様に、凸部２１は、直径が約５００μｍ以下かつ３０μｍ以上の範囲の略同一径に形成され、且つ仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている（平面的な配置は、図２に示した凹部２と同様である）。

凸部２１の表面２１ａ（球状面２６）には、上記第１実施形態における凹部２の粗面部２０と同様に、投影光Ｌｐを乱反射させる粗さとなるように粗面処理された粗面部（粗面処理部）２０Ａが形成されている。粗面部２０Ａの粗さとしては、平均粗度が球状面２６の半径の１／１０以下に設定され、より詳細には、１０ｎｍ〜５０μｍの範囲に形成されている。

凸部２１の表面２１ａの、プロジェクタＰからの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、粗面部２０Ａの一部を覆うように、第一実施形態の反射膜３と同様の反射膜３１が形成されている。反射膜３１は凸部２１の表面２１ａの、投影光Ｌｐが照射される部分のみに形成され、凸部２１の表面２１ａのその他の部分には反射膜３１が形成されず、スクリーン基板１１の一部である凸部２１の表面２１ａが露出した光吸収面２７となっている（光吸収面２７についても粗面部２０Ａとなっている）。また、凸部２１の表面２１ａに形成された反射膜３１は、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凸状に形成されている。

スクリーン基板１１の観察面１１ａ側には、反射膜３１およびスクリーン基板１１の観察面１１ａを覆うように、第一実施形態と同様の保護層４が形成されている。また、保護層４の上層側で、スクリーン基板１１の観察面１１ａ側の最表面には、第一実施形態と同様に、反射防止層５が形成されている。

上記のスクリーン基板１１に凸部２１を形成する方法としては、公知のものを用いることができる。例えば、特開２００４−２８６９０６号公報に記載されているように、凸部２１を形成するための型基板に、凸部２１に対応する凹部をエッチング等により形成した後に当該凹部に粗面処理を行い、型基板の凹部が形成された面に熱可塑性の樹脂等を、熱を加えながら押し当てて転写することにより、凸部２１を形成することができる。

型基板に凸部２１に対応する凹部を形成する工程としては、第１実施形態における図４で示した、スクリーン基板１に凹部２を形成し、当該凹部２の表面を粗面処理する手順と同様である。図４を用いて具体的に説明すると、図４（ａ）に示すように、まず平板状の型基板Ｐ上にクロム等によりマスクＭを形成する。型基板Ｐとしては、ここではガラス材料を用いる。

続いて、このように型基板Ｐ上に形成されたマスクＭに対して、図４（ｂ）に示すように、凸部２１を形成する位置にフォトエッチングやレーザ加工等により開口部Ｋを形成する。次に、図４（ｃ）に示すように、開口部Ｋを有するマスクＭが形成された型基板Ｐに対して、所定時間エッチング処理を施すことにより、型基板Ｐの表面に凹部ＰＲを形成する。エッチング処理としてはドライエッチング、ウェットエッチングのいずれの方法を採ってもよい。

そして、凹部ＰＲが形成された型基板Ｐに対して、粗面処理としてショットピーニング法により鋳鉄や鋳鋼等の金属、あるいはアルミナ、炭化ケイ素等のセラミックからなる球状粒子を投射材Ｒとしてスクリーン基板１の表面に吹き付けたり、あるいは水に上記投射材Ｒを混合してスクリーン基板１の表面に吹き付ける湿式ブラスト法を実施する。投射材Ｒの粒径としては、例えば０．０１ｍｍ〜２ｍｍの範囲から選択することができ、また選択した粒径の標準偏差の３倍値は、０．００５ｍｍ以内に管理された投射材Ｒを用いる。この粗面処理により、凹部ＰＲの表面には、所定の粗さを有する粗面部２０Ａ’が形成される。なお、これら投射材Ｒの粒径や型基板Ｐに対する吹付速度は、上述した平均粗度が得られるように適宜調整される。

なお、粗面処理としてはショットピーニング法の他に、例えば、型基板Ｐがガラス基板で形成される場合、粗面処理としてケミカルフロスト法により凹部ＰＲの表面を粗面化する。このケミカルフロスト法は、フッ酸、塩酸等の化学薬品を使用してガラス基板の化学的に腐食することにより、凹部ＰＲの表面を磨りガラス状、またはつや消し状に加工するものである。
さらに、型基板Ｐのガラス材料として、結晶化ガラスを用いることもできる。結晶化ガラスは、エッチング処理により表面が粗面化されるため、上記凹部ＰＲを形成する工程で同時に粗面部２０Ａ’を形成することができる。

そして、このように形成された型基板Ｐを用いて、上述したように、熱可塑性の樹脂等を、熱を加えながら型基板Ｐの表面に押し当てることにより、図６に示した粗面処理された複数の凸部２１を有するスクリーン基板１１を形成することができる。

次に、上記第１実施形態と同様に、スクリーン基板１１全体を、例えば、染色等により黒色に着色する。
次いで、上記と同様に、仮想光源位置ＰＶに蒸着源Ｓを配置し、蒸着法により反射膜材料を観察面１１ａに対して斜めに蒸着させ、凸部２１の表面に反射膜３１を形成する。この反射膜３１についても、凸部２１の表面に粗面部２０Ａが形成されているため、粗面部２０Ａの粗さが転写されることにより、反射膜３１の表面にも粗面部２０Ａと同様の粗さが形成される。
この後の工程は、上記第１実施形態と同様である。

次に、この実施の形態の作用について説明する。
図６に示す仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐは、反射スクリーン２００の観察面２００ａに対して斜めに入射する。
観察面２００ａに到達した投影光Ｌｐは、反射防止層５に入射する。反射防止層５に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５を透過して保護層４に入射する。
このとき、第１実施形態と同様に、反射防止層５によって投影光Ｌｐが保護層４の表面４ａで反射することが防止される。
保護層４に入射した投影光Ｌｐは、保護層４を透過して凸部２１に形成された反射膜３１に到達する。反射膜３１に到達した投影光Ｌｐは、凸状の反射膜３１によって反射スクリーン２００の観察側に反射される。

ここで、凸部２１に入射した投影光Ｌｐは、凸部２１に粗面部２０Ａが設けられていない場合には、上述したように、主に仮想光源位置ＰＶと凸部２１とを結ぶ光軸ＡＸの近傍に位置する領域のみが観察側への反射に寄与し、光軸ＡＸから離間した周辺領域については、多くが観察側への反射に寄与しないが、本実施形態では、凸部２１に粗面部２０Ａが設けられているため、周辺領域に入射した投影光Ｌｐは表面が粗面の反射膜３１で乱反射し、その一部が反射スクリーン２００の観察側に反射される。

また、凸部２１は、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凸部２１が、距離が小さい位置の凸部２１よりも分布が疎になって個数が少なくなっているため、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凸部２１については、観察側への反射に寄与する面積がトータルで仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凸部２１に比べて減ることになる。その結果、仮想光源位置ＰＶからの距離が小さい位置の凸部２１で反射した投影光Ｌｐが、観察側ではなく＋Ｙ側へ抜ける割合が大きく輝度が低下しやすい状況であっても、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きい位置の凸部２１についても輝度を抑えることができ、上記第１実施形態と同様の作用・効果を得ることができる。

また、本実施形態では、反射膜３１が半球状の凸部２１の表面２１ａの、投影光Ｌｐが照射される部分に沿って形成されている。これにより、反射膜３１の形状は、反射スクリーン２００の観察面２００ａ側からみて凸面状に形成されるので、反射膜３１が凹面状に形成されている場合と比較して、投影光Ｌｐをより広い角度に反射させて投影画像の視野角を拡大することができる。

（第３実施形態）
続いて、反射スクリーンの第３実施形態について、図７を参照して説明する。
本実施形態では上述の第１実施形態で説明した反射スクリーン１００と、スクリーン基板１２が光透過性を有する材料によって形成され、スクリーン基板１２の観察面１２ａ側とは反対側の面１２ｂに凹部２２が形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
図７に示す反射スクリーン３００は、プロジェクタＰに対して、図１に示す第１実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている。

図７に示すように、反射スクリーン３００のスクリーン基板１２は、例えば、樹脂等の光透過性および可撓性を備えた材料によって形成されている。スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂには、半球状に形成された凹の球状面３６を有する凹部（反射部）２２が略同一径に複数形成されている。凹部２２は、図２に示す凹部２と同様に、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている。

凹部２２の内壁面２２ａには、上述した凹部２における粗面部２０と同様に、投影光Ｌｐを乱反射させる粗さとなるように粗面処理された粗面部（粗面処理部）２０Ｂが形成されている。粗面部２０Ｂの粗さとしては、上述した粗面部２０と同様である。

内壁面２２ａのプロジェクタＰからの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、投影光Ｌｐを反射する反射膜３２が粗面部２０Ｂの一部を覆うことにより粗面が転写された状態に形成されている。凹部２２の内壁面２２ａの投影光Ｌｐが照射される部分のみに反射膜３２が形成され、凹部２２の内壁面２２ａのその他の部分には反射膜３２が形成されず、スクリーン基板１２の光吸収材によって形成された光吸収面３７が露出した状態となっている（光吸収面３７についても粗面部２０Ｂとなっている）。凹部２２の内壁面２２ａに形成された反射膜３２は、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凸状に形成されている。また、反射膜３２は、第１実施計態の反射膜３と同様の材質および膜厚で形成されている。

スクリーン基板１２の観察面１２ａ側には、スクリーン基板１２の観察面１２ａでの光の反射を防止するように屈折率が調整された反射防止層５１が形成されている。
一方、スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂには、光を吸収する材料によって光吸収層１６が形成されている。光吸収層１６は、例えば、染色等によって黒色に着色された樹脂や、黒色の顔料を含有する樹脂等を用いて形成する。光吸収層１６は、凹部２２の内側を含むスクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂに、反射膜３２を覆うように形成されている。

次に、この実施の形態の作用について説明する。
図１に示すようにプロジェクタＰからミラーＭに向けて投影光Ｌｐが射出され、図７に示す仮想光源位置ＰＶから射出されたと仮定した投影光Ｌｐと同様に、反射スクリーン３００の観察面３００ａに対して斜めに入射する。
観察面３００ａに到達した投影光Ｌｐは、図７に示すように、反射防止層５１に入射する。反射防止層５１に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５１を透過してスクリーン基板１２に入射する。このとき、反射防止層５１によって投影光Ｌｐがスクリーン基板１２の観察面１２ａで反射することが防止される。
スクリーン基板１２に入射した投影光Ｌｐは、スクリーン基板１２を透過して凹部２２に形成された反射膜３２に到達する。反射膜３２に到達した投影光Ｌｐは、観察側から見て凸状に形成された反射膜３２によって反射スクリーン３００の観察側に反射される。

ここで、図６に示す凸部２１と同様に、凹部２２（の裏面側）に入射した投影光Ｌｐは、凹部２２に粗面部２０Ｂが設けられていない場合には、上述したように、主に仮想光源位置ＰＶと凹部２２とを結ぶ光軸の近傍に位置する領域のみが観察側への反射に寄与し、光軸から離間した周辺領域については、多くが観察側への反射に寄与しないが、本実施形態では、凹部２２に粗面部２０Ｂが設けられているため、周辺領域に入射した投影光Ｌｐは表面が粗面の反射膜３２で乱反射し、その一部が反射スクリーン３００の観察側に反射される。

また、凹部２２は、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている。また、凹部２２は、上述のように、スクリーン基板１２の観察面１２ａとは反対側の面１２ｂの凹部２２の内壁面２２ａに反射膜３２および光吸収層１６が形成されている。このため、反射膜３２は、反射スクリーン３００の観察面３００ａ側から見て凸状に形成され、上述の第２実施形態で説明した凸部２１および反射膜３１と略同様の構成となっている。
すなわち、凹部２２の反射膜３２の非形成領域に入射した外光Ｌｏを、凹部２２に充填された光吸収層１６によって吸収し、外光Ｌｏが反射スクリーン３００の観察側に反射することを防止することができる。また、外光Ｌｏが凹部２２で反射した場合でも、粗面部２０Ｂが形成されているため、外光Ｌｏは乱反射し、観察側に反射する光量を抑制することができる。
また、反射スクリーン３００の水平方向に隣接する凹部２２，２２（観察面３００ａ側から見て凸部）の間に投影光Ｌｐを通過させて、垂直方向に隣接する凹部２２の反射膜３２に入射させることができる。

したがって、本実施形態によれば、上述の第２実施形態と同様の効果を得ることができる。加えて、スクリーン基板１２自体が第２実施形態における保護層４と同様に機能するので、保護層４を形成する必要がなく、反射スクリーン３００の製造工程を簡略化し、生産性を向上させることができる。

（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について、図８を用いて説明する。
本実施形態では上述の第１実施形態で説明した反射スクリーン１００と、スクリーン基板１３が光透過性を有する材料によって形成され、スクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１３ｂに凸部（反射部）２３が形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。図８に示す反射スクリーン４００は、プロジェクタＰに対して、図１に示す第１実施形態の反射スクリーン１００と同様に配置されている

反射スクリーン４００のスクリーン基板１３は、例えば、樹脂等の光透過性および可撓性を備えた材料によって形成されている。スクリーン基板１３の反射観察面１３ａとは反対側の面１３ｂには、略同一径の半球状に形成された凸の球状面４６を有する凸部２３が複数形成されている。凸部２３は、図２に示す凹部２と同様に、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている。

凸部２３の表面２３ａには、上記第２実施形態における凸部２１の粗面部２０Ａと同様に、投影光Ｌｐを乱反射させる粗さとなるように粗面処理された粗面部（粗面処理部）２０Ｃが形成されている。粗面部２０Ｃの粗さとしては、粗面部２０Ａと同様である。

凸部２３の表面２３ａの、プロジェクタＰからの投影光Ｌｐが照射される部分に沿って、投影光Ｌｐを反射する反射膜３３が粗面部２０Ｃの一部を覆うことにより粗面が転写された状態に形成されている。すなわち、図８に示すように、凸部２３の表面２３ａの投影光Ｌｐが照射される部分のみに反射膜３３が形成され、凸部２３の表面２３ａのその他の部分には反射膜３３が形成されず、スクリーン基板１３の光吸収材によって形成された光吸収面４７が露出した状態となっている（光吸収面４７についても粗面部２０Ｃとなっている）。

凸部２３の表面２３ａに形成された反射膜３３は、観察側（Ｚ軸正方向側）から見て凹状に形成されている。また、反射膜３３は、第１実施計態の反射膜３と同様の材質および膜厚に形成されている。
スクリーン基板１３の観察面１３ａには、第３実施形態と同様の反射防止層５１が形成されている。一方、スクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１３ｂには、第３実施形態と同様の光吸収層１６が凸部２３および反射膜３３を覆うように形成されている。

次に、この実施の形態の作用について説明する。
プロジェクタＰからミラーＭに向けて投影光Ｌｐが射出され、図８に示す仮想光源位置ＰＶから射出された投影光Ｌｐと同様に、反射スクリーン４００の観察面４００ａに対して斜めに入射する。
観察面４００ａに到達した投影光Ｌｐは、反射防止層５１に入射する。反射防止層５１に入射した投影光Ｌｐは、反射防止層５１を透過してスクリーン基板１３に入射する。このとき、反射防止層５１によって投影光Ｌｐがスクリーン基板１３の観察面１３ａで反射することが防止される。
スクリーン基板１３に入射した投影光Ｌｐは、スクリーン基板１３を透過して凸部２３の表面２３ａに形成された反射膜３３に到達する。反射膜３３に到達した投影光Ｌｐは、反射スクリーン４００の観察側から見て凹状に形成された反射膜３３によって反射スクリーン４００の観察側に反射される。

ここで、図５に示す凹部２と同様に、凸部２３（の裏面側）に入射した投影光Ｌｐは、凸部２３に粗面部２０Ｃが設けられていない場合には、上述したように、主に仮想光源位置ＰＶと凸部２３とを結ぶ光軸の近傍に位置する領域のみが観察側への反射に寄与し、光軸から離間した周辺領域については、多くが観察側への反射に寄与しないが、本実施形態では、凸部２３に粗面部２０Ｃが設けられているため、周辺領域に入射した投影光Ｌｐは表面が粗面の反射膜３３で乱反射し、その一部が反射スクリーン４００の観察側に反射される。

また、凸部２３は、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されている。また、凸部２３は、上述のように、スクリーン基板１３の観察面１３ａとは反対側の面１３ｂに形成され、表面２３ａに反射膜３３および光吸収層１６が形成されている。このため、反射膜３３は、反射スクリーン４００の観察面４００ａ側から見て凸状に形成され、上述の第１実施形態で説明した凹部２と略同様の構成となっている。
すなわち、凸部２３の反射膜３３の非形成領域に入射した外光を、凸部２３の表面２３ａを覆う光吸収層１６によって吸収し、外光Ｌｏが反射スクリーン４００の観察側に反射することを防止することができる。また、外光Ｌｏが凸部２３で反射した場合でも、粗面部２０Ｃが形成されているため、外光Ｌｏは乱反射し、観察側に反射する光量を抑制することができる。

したがって、本実施形態の反射スクリーン４００によれば、第１実施形態の反射スクリーン１００と同様の効果が得られるだけでなく、第３実施形態と同様に、保護層４を形成する必要がないので、反射スクリーン４００の製造工程を簡略化し、生産性を向上させることができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。

例えば、凹部または凸部の形状は、球状面を有するものであれば、上述した実施形態で説明したような半球状ではなく、半楕円球状、円錐状、扇型、またはこれらの組み合わせであってもよく、これらの形状も球状面に含まれる。

また、上記実施形態では、凹部２、２２及び凸部２１、２３の全面に粗面部を形成する構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば図９の正面図及び図１０の断面図に示すように、各凹部２の球状面６における中心部を平滑面部４０とし、周縁部のみに粗面部２０を形成する構成としてもよい。
この構成では、平滑面部４０において観察側へ反射される投影光Ｌｐの光量が増えるとともに、前方の観察側へ反射する際に寄与しづらい周縁部であっても、粗面部２０が投影光Ｌｐを乱反射することにより、投影光の一部を観察側に反射することが可能となり、投影画像のコントラストを向上させて表示品質を高めることができる。

さらに、各凹部または各凸部において粗面部と平滑面部とを区画して設ける構成ではなく、例えば図１１に示すように、スクリーン基板１の周辺部に位置する凹部２に粗面部２０を設け、中央側に位置する凹部２に平滑面部４０を設ける構成としてもよい。
この構成では、中央側に位置する凹部２において観察側へ反射される投影光Ｌｐの光量が増えるとともに、前方の観察側へ反射する際に寄与しづらいスクリーン基板１の周辺部であっても、粗面部２０が投影光Ｌｐを乱反射することにより、投影光の一部を観察側に反射することが可能となり、投影画像のコントラストを向上させて表示品質を高めることができる。また、この構成においても、スクリーン基板１の周辺部に位置する凹部２毎に球状面６における中心部を平滑面部４０とし、周縁部のみに粗面部２０を形成する構成としてもよい。

また、粗面部２０を有する凹部２がスクリーン基板１の周辺部に配置される場合には、粗面部２０を有する凹部２（球状面）の半径が、粗面部２０を有さない凹部２の半径よりも大きな半径で形成される構成としてもよい。
この構成では、球状面の径が大きくなることにより平面に近づき、スクリーン基板１の周辺部に照射された投影光Ｌｐであっても、観察側に反射する投影光Ｌｐの光量を一層増すことが可能となる。

また、凹部または凸部は、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されように、仮想光源位置ＰＶからの距離が大きくなるに従って、配置ピッチが大きくなるように配置されていれば、平面的な配置は、仮想光源位置ＰＶを中心として放射状に延びる直線上に配置される構成や、スクリーン基板の−Ｙ側の端縁から順次配列される構成、扁平千鳥状に配置したものであってもよい。
さらに、仮想光源位置ＰＶからの距離に応じて疎となる分布で配置されていれば、一様に配置する必要はなく、例えば観察面からの投影光Ｌｐの反射分布に偏りが生じている場合には、当該偏りを有する領域の配置分布を調整することにより、反射分布（輝度分布）を補正してもよい。

また、上記実施形態で説明したように、スクリーン基板の全体を染色によって着色するのではなく、観察面側の一部だけを着色したり、観察面のみを黒色に塗装し光吸収用の膜を設けたりしてもよい。

また、上記実施形態では、反射膜を形成する際に蒸着源を仮想光源位置ＰＶに配置して放射状に蒸着する構成としたが、これに限定されるものではなく、例えば矩形の蒸着源をスクリーン基板の−Ｙ側の端縁に沿って平行に配置し、ライン状に蒸着する構成としてもよい。

本発明の第１実施形態に係る反射スクリーンとプロジェクタの位置関係を示す断面図である。 本発明の第１実施形態に係る反射スクリーンの正面図である。 本発明の第１実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。 スクリーン基板１を製造する手順を示す図である。 本発明の第１実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。 本発明の第２実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。 本発明の第３実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。 本発明の第４実施形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。 本発明の別形態に係る反射スクリーンの正面図である。 同別形態に係る反射スクリーンの垂直方向の断面図である。 本発明の別形態に係る反射スクリーンの正面図である。

符号の説明

１、１１、１２、１３…スクリーン基板、 ２、２２…凹部（反射部）、 ３、３１、３２、３３…反射膜、 ４…保護層、 ５、５１…反射防止層、 ６、２６、３６、４６…球状面、 ７、２７、３７…光吸収面、 ２０、２０Ａ、２０Ｂ…粗面部（粗面処理部）、 ２１、２３…凸部（反射部）、 １００、２００、３００…反射スクリーン、 １００ａ、２００ａ…観察面、 Ｌｐ…投影光、 ＮＬ…法線、 ＰＶ…仮想光源位置（投影部）

Claims (31)

1. スクリーン基板の観察面に複数の反射部を有し、前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部から、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンであって、
   前記反射部は、凹または凸の球状面を有し、
   前記球状面の少なくとも一部は、前記投影光を乱反射させる所定の粗さとなるように粗面処理された粗面処理部を有することを特徴とする反射スクリーン。
2. 請求項１記載の反射スクリーンにおいて、
   前記粗面処理部は、前記球状面における周縁部に設けられることを特徴とする反射スクリーン。
3. 請求項１または２記載の反射スクリーンにおいて、
   前記粗面処理部は、前記スクリーン基板の周辺部に配置された前記反射部の少なくとも一部に設けられることを特徴とする反射スクリーン。
4. 請求項３記載の反射スクリーンにおいて、
   前記粗面処理部を有する前記反射部は、前記粗面処理部を有さない前記反射部よりも大きな径で形成された球状面を有することを特徴とする反射スクリーン。
5. 請求項１から４のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
   前記粗面処理部は、平均粗度が１０ｎｍ〜５０μｍの範囲に形成されることを特徴とする反射スクリーン。
6. 請求項５記載の反射スクリーンにおいて、
   前記粗面処理部の平均粗度は、前記球状面の半径の１／１０以下であることを特徴とする反射スクリーン。
7. 請求項１から６のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
   前記反射部の前記球状面の半径は、３０μｍ〜５００μｍの範囲に形成されることを特徴とする反射スクリーン。
8. 請求項１から７のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
   前記反射部は、前記投影部からの距離が大きくなるに従って、疎となる分布で配置されることを特徴とする反射スクリーン。
9. 請求項８記載の反射スクリーンにおいて、
   前記反射部の配置分布は、前記観察面からの前記投影光の反射分布に応じて調整されることを特徴とする反射スクリーン。
10. 請求項１から９のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
    前記反射部は、前記投影部を臨む面に反射膜を有するとともに、前記反射膜の非形成領域に光吸収面を有することを特徴とする反射スクリーン。
11. 請求項１から１０のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
    前記スクリーン基板の前記観察面側に保護層が設けられていることを特徴とする反射スクリーン。
12. 請求項１から１１のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
    前記スクリーン基板は光透過性を有する材料によって形成され、
    前記凹の球状面は、前記スクリーン基板の前記観察面と反対側の面に設けられた凹部に形成されることを特徴とする反射スクリーン。
13. 請求項１から１１のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
    前記スクリーン基板は光透過性を有する材料によって形成され、
    前記凸の球状面は、前記スクリーン基板の前記観察面と反対側の面に設けられた凸部に形成されることを特徴とする反射スクリーン。
14. 請求項１から１３のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
    前記スクリーン基板の前記観察面側に反射防止層が設けられていることを特徴とする反射スクリーン。
15. 請求項１から１４のいずれか一項に記載の反射スクリーンにおいて、
    前記スクリーン基板が、可撓性を有する材料によって形成されていることを特徴とする反射スクリーン。
16. スクリーン基板の観察面に複数の反射部を有し、前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部から、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、
    前記反射部は、凹または凸の球状面を有し、
    前記球状面の少なくとも一部を、前記投影光を乱反射させる所定の粗さとなるように粗面処理する粗面処理工程を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
17. 請求項１６記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記粗面処理部を、前記球状面における周縁部に設けることを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
18. 請求項１６または１７記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記粗面処理部を、前記スクリーン基板の周辺部に配置された前記反射部の少なくとも一部に設けることを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
19. 請求項１８記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記粗面処理部を有する前記反射部を、前記粗面処理部を有さない前記反射部よりも大きな径を有する球状面をもって形成することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
20. 請求項１６から１９のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記粗面処理部を、平均粗度が１０ｎｍ〜５０μｍの範囲で形成することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
21. 請求項２０記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記粗面処理部の平均粗度は、前記球状面の半径の１／１０以下であることを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
22. 請求項１６から２１のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記反射部の前記球状面の半径を、３０μｍ〜５００μｍの範囲で形成することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
23. 請求項１６から２２のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記粗面処理工程は、型基板の前記反射部が転写される転写面に粗面処理する工程を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
24. 請求項２３記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記転写面の少なくとも一部をショットブラスト法により粗面化することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
25. 請求項２３記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記転写面の少なくとも一部をケミカルフロスト法により粗面化することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
26. 請求項２３記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記型基板として結晶化ガラスを用い、該結晶化ガラスをエッチング処理することにより、前記転写面の少なくとも一部を粗面化することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
27. 請求項１６から２６のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記反射部を、前記投影部からの距離が大きくなるに従って、疎となる分布で配置することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
28. 請求項２７記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記反射部の配置分布は、前記観察面からの前記投影光の反射分布に応じて調整されることを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
29. 請求項１６から２８のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法において、
    少なくとも前記スクリーン基板の前記観察面側に光吸収面を形成する工程と、
    前記反射部の前記投影部を臨む面に反射膜を形成する工程とを有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
30. 請求項２９記載の反射スクリーンの製造方法において、
    ターゲットを有する蒸着源を前記投影部に配置し、前記ターゲットを前記反射部の前記投影部を臨む面に蒸着することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
31. 請求項１６から３０のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法において、
    前記スクリーン基板の前記観察面側に保護層を設ける工程を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。

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