JP2009192846A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009192846A5
JP2009192846A5 JP2008033842A JP2008033842A JP2009192846A5 JP 2009192846 A5 JP2009192846 A5 JP 2009192846A5 JP 2008033842 A JP2008033842 A JP 2008033842A JP 2008033842 A JP2008033842 A JP 2008033842A JP 2009192846 A5 JP2009192846 A5 JP 2009192846A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
defect
light
photomask
light transmitting
missing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008033842A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2009192846A (ja
JP5085366B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2008033842A priority Critical patent/JP5085366B2/ja
Priority claimed from JP2008033842A external-priority patent/JP5085366B2/ja
Publication of JP2009192846A publication Critical patent/JP2009192846A/ja
Publication of JP2009192846A5 publication Critical patent/JP2009192846A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5085366B2 publication Critical patent/JP5085366B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2008033842A 2008-02-14 2008-02-14 フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法 Expired - Fee Related JP5085366B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008033842A JP5085366B2 (ja) 2008-02-14 2008-02-14 フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008033842A JP5085366B2 (ja) 2008-02-14 2008-02-14 フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009192846A JP2009192846A (ja) 2009-08-27
JP2009192846A5 true JP2009192846A5 (enExample) 2011-03-17
JP5085366B2 JP5085366B2 (ja) 2012-11-28

Family

ID=41074899

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008033842A Expired - Fee Related JP5085366B2 (ja) 2008-02-14 2008-02-14 フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5085366B2 (enExample)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5104832B2 (ja) * 2009-09-09 2012-12-19 大日本印刷株式会社 フォトマスクの修正方法および修正されたフォトマスク
JP6167568B2 (ja) * 2013-03-07 2017-07-26 大日本印刷株式会社 フォトマスクの欠陥修正方法、及びフォトマスクの製造方法
JP2014174243A (ja) * 2013-03-07 2014-09-22 Dainippon Printing Co Ltd フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク
CN110727170B (zh) * 2018-07-16 2023-12-01 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种光罩的缺陷修复方法及光罩

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2862924B2 (ja) * 1989-12-26 1999-03-03 株式会社日立製作所 パターン形成方法及びマスク修正方法
JP2634289B2 (ja) * 1990-04-18 1997-07-23 三菱電機株式会社 位相シフトマスクの修正方法
JPH0611827A (ja) * 1992-03-31 1994-01-21 Matsushita Electron Corp ホトマスクおよびその修正方法
JP3071324B2 (ja) * 1992-09-08 2000-07-31 沖電気工業株式会社 位相シフトマスクの修正方法
JP2988417B2 (ja) * 1997-02-28 1999-12-13 日本電気株式会社 フォトマスク
JP2000347386A (ja) * 1999-06-04 2000-12-15 Sony Corp 露光用マスクの欠陥修正方法、露光用マスク、露光方法、並びに、半導体装置及びその製造方法
JP2002323746A (ja) * 2001-04-24 2002-11-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 位相シフトマスク及び、それを用いたホールパターン形成方法
JP4339106B2 (ja) * 2003-12-25 2009-10-07 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 位相シフトマスクの欠陥修正方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6432444B2 (ja) マスクブランクス、ネガ型レジスト膜付きマスクブランクス、位相シフトマスク、およびそれを用いるパターン形成体の製造方法
JP2009042753A5 (enExample)
JP2014102496A5 (enExample)
JP2015212826A5 (enExample)
WO2008136155A1 (ja) 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置
JP2019053288A5 (ja) フォトマスク及び表示装置の製造方法
KR101140054B1 (ko) 다계조 포토마스크, 다계조 포토마스크의 제조 방법, 및 패턴 전사 방법
JP2009192846A5 (enExample)
TW200739247A (en) Photomask blank and photomask, and their manufacturing method
JP2009187032A5 (enExample)
TWI396934B (zh) 多階調光罩、圖案轉移方法及使用多階調光罩之顯示裝置的製造方法
JP2009086384A5 (enExample)
TWI512410B (zh) 半色調光罩及其製造方法，以及採用該半色調光罩之平面顯示器
JP2002099071A5 (enExample)
TW200702906A (en) Photomask structures providing improved photolithographic process windows and methods of manufacturing same
JP2006267262A5 (enExample)
JP5037231B2 (ja) ハーフトーンマスクの欠陥修正方法及び欠陥が修正されたハーフトーンマスク
KR20170079742A (ko) 하프톤 마스크의 리페어 방법
JP2010078923A5 (enExample)
JP5742300B2 (ja) 反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスク
JP2008116517A5 (enExample)
KR101343256B1 (ko) 포토마스크의 제조 방법, 패턴 전사 방법 및 표시 장치의 제조 방법
JP7257100B2 (ja) 透明基板、薄膜支持基板
JP2009229893A (ja) 多階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法
TW200746249A (en) Mask defect repairing method and semiconductor device manufacturing method