JP2009190916A - SiC基板とSiC基板の気相成長方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のSiC基板は、第5族元素の炭化物と、第6族元素の炭化物と、第13族元素の窒化物とからなる群より選ばれる少なくとも1つを含む組成の薄膜を主面に有する気相成長用基板である。この薄膜は、TaC、NbC、MoC、WC、CrC、GaN、AlNまたはBNを含む組成を有する態様が好ましい。
【選択図】図1
Description
高純度黒鉛基材上にCVDにより厚さ100μmのSiC膜をコーティングし、サセプターを形成した。つぎに、6H型単結晶SiC基板の1の主面に、TaCをターゲットとしたスパッタリング装置を用いてTaCからなる厚さ0.5μmの薄膜を形成した。つづいて、SiC基板のTaC薄膜を形成した主面を、サセプターに向けて載置し、原料ガスとして、シランガス(SiH4)、プロパンガス(C3H8)を用い、1500℃で30分間、CVDによる気相成長を行ない、厚さ1μmの6H単結晶SiC膜を形成した。気相成長後、観察すると、SiC基板に形成したTaC薄膜上には、SiCは認められず、SiC基板をサセプターから容易に分離することができ、SiC基板に損傷はなかった。
Claims (3)
- 第5族元素の炭化物と、第6族元素の炭化物と、第13族元素の窒化物とからなる群より選ばれる少なくとも1つを含む組成の薄膜を主面に有する気相成長用SiC基板。
- 前記薄膜は、TaC、NbC、MoC、WC、CrC、GaN、AlNまたはBNを含む組成を有する請求項1に記載のSiC基板。
- 炭素基材の表面をSiC膜で被覆したサセプター上にSiC基板を載置し、1400℃以上で加熱するSiC基板の気相成長方法であって、
SiC基板は、第5族元素の炭化物と、第6族元素の炭化物と、第13族元素の窒化物とからなる群より選ばれる少なくとも1つを含む組成の薄膜を主面に有し、
SiC基板の前記薄膜を形成した主面をサセプターに向けて配置するSiC基板の気相成長方法。
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