JP2009184054A - 研磨パッド研削用リング及びウエハ研磨装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 研磨パッドの表層部を研削加工する際の研削効率を高めることのできる研磨パッド研削用リングを提供する。
【解決手段】 ウエハ研磨装置に用いられて、研磨パッドの表層部を研削加工する研磨パッド研削用リング160である。円環状のリング本体161と、リング本体161の外周縁部に設けられて遊星歯車機構に歯合するギア部162と、リング本体161の内部に形成された研削用の内部孔163と、内部孔163からギア部162にかけて形成された研削溝164とを有している。内部孔163は、リング本体161の外周円Rの中心O4とは異なる位置に中心O3を有する、円形の開口を有している。
【選択図】 図4
【解決手段】 ウエハ研磨装置に用いられて、研磨パッドの表層部を研削加工する研磨パッド研削用リング160である。円環状のリング本体161と、リング本体161の外周縁部に設けられて遊星歯車機構に歯合するギア部162と、リング本体161の内部に形成された研削用の内部孔163と、内部孔163からギア部162にかけて形成された研削溝164とを有している。内部孔163は、リング本体161の外周円Rの中心O4とは異なる位置に中心O3を有する、円形の開口を有している。
【選択図】 図4
Description
本発明は、研磨パッド研削用リング及びウエハを研磨加工に関するものである。
近年、携帯電話や携帯情報端末機器には、時刻源や制御信号等のタイミング源、リファレンス信号源等として水晶等を利用した圧電振動子が用いられている。この種の圧電振動子は、様々なものが知られており、例えば音叉型の圧電振動片を有するものや、厚み滑り振動する圧電振動片を有するもの等が知られている。
ところで、この圧電振動片は、水晶、タンタル酸リチウムやニオブ酸リチウム等の各種の圧電体から形成されている。具体的には、圧電体の原石を切断してウエハにした後、該ウエハを所定の厚みまで研磨加工する。そして、研磨加工されたウエハを洗浄、乾燥させた後、フォトリソ技術によりエッチング加工して圧電振動片の外形を形成すると共に、所定の金属膜をパターニングして電極を形成する。これにより、1枚のウエハから一度に複数の圧電振動片を作製することができる。
ところで、この圧電振動片は、水晶、タンタル酸リチウムやニオブ酸リチウム等の各種の圧電体から形成されている。具体的には、圧電体の原石を切断してウエハにした後、該ウエハを所定の厚みまで研磨加工する。そして、研磨加工されたウエハを洗浄、乾燥させた後、フォトリソ技術によりエッチング加工して圧電振動片の外形を形成すると共に、所定の金属膜をパターニングして電極を形成する。これにより、1枚のウエハから一度に複数の圧電振動片を作製することができる。
このように作製される圧電振動片は、自身の厚みがウエハの厚みに依存するため、上述した研磨加工が品質等を決定付けるための特に重要な工程とされている。通常、研磨加工は、原石から切断されたウエハをある程度の厚みまで粗く研磨するラッピング工程と、該ラッピング工程後、ウエハを鏡面研磨して所定の厚みまで高精度に仕上げるポリッシング工程と、を行っている。
この研磨加工は、一般的に研磨装置を利用して行われている(特許文献1参照)。ここで、従来の研磨装置について簡単に説明する。
この研磨加工は、一般的に研磨装置を利用して行われている(特許文献1参照)。ここで、従来の研磨装置について簡単に説明する。
研磨装置200は、図6及び図7に示すように、サンギア201と、インターナルギア202と、キャリア203とを有している。また、キャリア203の上下には、上定盤204及び下定盤205が配置されている。サンギア201及びインターナルギア202は、共に反時計方向に回転するようになっており、キャリア203を遊星運動させている。すなわち、キャリア203を時計方向に自転させながら、反時計方向に公転させている。キャリア203は、例えば直径数インチの円板であり、上定盤204と下定盤205との間に所定角度毎に複数個配置されている。また、1つのキャリア203に対して、複数枚(例えば5枚)のウエハSを保持することができるようになっている。よって、1バッチの研磨で複数枚のウエハSを一度に研磨することが可能になっている。
上定盤204及び下定盤205には、図7に示すようにそれぞれの内面(対向面)に研磨パッドPが貼設されている。したがって、キャリア203に保持されたウエハSを両定盤204、205で上下から挟み込んだ際、ウエハSの表裏両面を前記研磨パッドPで挟持するようになっている。ここで、研磨パッドPは、図8(a)に示すように接着層P1とナップ層P2とからなる2層のパッドである。ナップ層P2は、厚みが例えば400μmから1000μm程度のスエード等の繊維状の層であり、表面に無数の微小開口P3が形成されている。つまり、ナップ層P2はその表面が襞状となっており、これによって研磨中にこの微小開口P3に後述する研磨液Wを一時的に保持したり、ウエハSの研磨加工粉を一時的に溜め込むようになっている。また、接着層P1は、厚みが例えば400μmから1000μm程度の層であり、格子状の溝部P4が形成されている。そして、この溝部P4を通じて研磨液WやウエハSの研磨加工粉が外部に排出するようになっている。
また、前記上定盤204は、キャリア203に保持されたウエハSを両定盤204、205で上下から挟み込んだ際、所定の荷重をウエハSに加えるようになっている。前記下定盤205は、キャリア203が公転する方向とは逆方向である反時計方向に回転するようになっている。
また、上定盤204には、図7及び図9に示すように、両定盤204、205の間に研磨液Wを供給するための供給路204aが複数(数十個)形成されている。具体的には、半径R1の内側円、半径R2の中間円、半径R3の外側円に沿って所定間隔毎に形成されている。そして、図示しない供給ホースを介して研磨液Wが供給路204aに供給されるようになっている。これにより、両定盤204、205の間に各供給路204aを介して研磨液Wを供給することができ、研磨液Wを利用してウエハSを研磨することができるようになっている。
また、上定盤204には、図7及び図9に示すように、両定盤204、205の間に研磨液Wを供給するための供給路204aが複数(数十個)形成されている。具体的には、半径R1の内側円、半径R2の中間円、半径R3の外側円に沿って所定間隔毎に形成されている。そして、図示しない供給ホースを介して研磨液Wが供給路204aに供給されるようになっている。これにより、両定盤204、205の間に各供給路204aを介して研磨液Wを供給することができ、研磨液Wを利用してウエハSを研磨することができるようになっている。
なお、上定盤204に形成された研磨パッドPには、供給路204aを塞がないように開口が形成されている。また、研磨液Wとしては、微小な粒径の研磨剤が混入されたものが使用される。また、ラッピング工程あるいはポリッシング工程を行う場合には、通常、同一の構成ではあるが異なる研磨装置200を使用している。但し、ラッピングを行う場合には、通常、研磨パッドPは使用しない。研磨剤(遊離砥粒)によるウエハ表面の微細な破壊でラッピングが進行するためである。
このような研磨装置200によってポリッシング工程を行い、ウエハSを鏡面研磨するには、まず、上定盤204と下定盤205とを離間させた状態で、各キャリア203に複数枚のウエハSをセットする。セット後、上定盤204を所定の荷重でウエハSに押し付けて該ウエハSを両定盤204、205で挟み込み、一対の研磨パッドP間にウエハSを挟持する。そして、供給路204aを介して一対の研磨パッドP間に研磨液Wを供給しながら、サンギア201、インターナルギア202を駆動させてキャリア203を自転及び公転させる。また、これと同時に下定盤205を回転させる。これにより、キャリア203に保持されたウエハSの両面を研磨パッドPで鏡面研磨することができ、ウエハSの厚みを所定の厚みに仕上げることができる。
ところで、前記の研磨パッドPは長期に亘って使用すると、微小開口P3を形成するナップ層P2が摩耗しすり減ってしまってしまうため、定期的に新しい研磨パッドPに貼り替えている。ところが、新品の研磨パッドPは図8(b)に示すようにそのナップ層P2の微小開口P3が十分に開いておらず、入り口側が塞がっていることがある。また、新品でなくても、一旦使用した後長期に亘って使用しない状態でいると、微小開口P3内に残った研磨剤が固まってしまい、微小開口P3の入り口側が塞がってしまうこともある。
そこで、従来では、このように新品の研磨パッドPに貼り替えたときや、しばらく使用しなかったものを再使用するときなどに、前記したウエハSのポリッシング工程に先立ち、図10に示すような研削用リング150を用いて研磨パッドPのナップ層P2の表層部を研削加工し、塞がった入り口側を十分に開くようにしている。
この研削用リング150は、円環状のリング本体151と、該リング本体151の外周縁部に設けられて前記研磨装置200のサンギア201及びインターナルギア202に歯合するギア部152と、前記リング本体151の内部に形成された研削用の内部孔153と、前記内部孔153から前記ギア部152にかけて形成された複数(4つ)の研削溝154とを有してなるものである。前記内部孔153は、前記リング本体151の外周円Rと同心円状に形成された円形の開口を有している。すなわち、この内部孔153は、その中心O1がリング本体151の外周円Rの中心O2と同じ位置に形成されたものである。
このような構成の研削用リング150によって前記したように研磨パッドPの表層部を研削加工するには、まず、この研削用リング150を前記したキャリア203と同様にして上定盤204の研磨パッドPと下定盤205の研磨パッドPとの間にセットする。そして、サンギア201、インターナルギア202を駆動させることにより、研削用リング150を前記キャリア203と同様に自転及び公転させる。これにより、その研削用の内部孔153や研削溝154によって研磨パッドPの表層部を研削加工することができる。すなわち、研削用リング150の自転及び公転によってその内部孔153の周端縁や研削溝154の端縁を研磨パッドP上に摺動させることにより、研磨パッドPの表層部を研削加工し、ナップ層P2の微小開口P3の入り口側を十分に開いた状態にすることができる。
特開平4−331068号公報
しかしながら、前記の研削用リング150では、研磨パッドPの表層部を研削加工する際の研削効率が低く、したがって研削加工に要する時間が長くなってしまうといった課題がある。すなわち、このように研削加工時間が長くなると、ウエハSの研磨工程全体の生産性が低下し、このウエハSを原材料とする圧電振動子の生産性まで損なうことになってしまうからである。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、研磨パッドの表層部を研削加工する際の研削効率を高めることのできる研磨パッド研削用リングを提供するとともに、該研磨パッド研削用リングを有するウエハ研磨装置を提供することである。
本発明は、前記課題を解決するために以下の手段を提供する。
本発明に係る研磨パッド研削用リングは、ウエハを自転させながら軸線回りに公転させる遊星歯車機構と、前記ウエハの上下に配置されて、該ウエハの両面を挟み込む上定盤及び下定盤と、前記上定盤及び前記下定盤のそれぞれの内面に設けられて、前記ウエハを研磨する研磨パッドと、前記上定盤に設けらた研磨パッドと前記下定盤に設けらた研磨パッドとの間に研磨液を供給する研磨液供給手段とを備え、前記研磨液供給手段によって研磨液を供給しつつウエハの両面を研磨パッドで研磨して、該ウエハの厚みを所定の厚みに調整するウエハ研磨装置に用いられて、前記研磨パッドの表層部を研削加工する研磨パッド研削用リングであって、
円環状のリング本体と、該リング本体の外周縁部に設けられて前記遊星歯車機構に歯合するギア部と、前記リング本体の内部に形成された研削用の内部孔と、前記内部孔から前記ギア部にかけて形成された研削溝と、を有し、
前記内部孔が、前記リング本体の外周円の中心とは異なる位置に中心を有する、円形の開口を有していることを特徴としている。
本発明に係る研磨パッド研削用リングは、ウエハを自転させながら軸線回りに公転させる遊星歯車機構と、前記ウエハの上下に配置されて、該ウエハの両面を挟み込む上定盤及び下定盤と、前記上定盤及び前記下定盤のそれぞれの内面に設けられて、前記ウエハを研磨する研磨パッドと、前記上定盤に設けらた研磨パッドと前記下定盤に設けらた研磨パッドとの間に研磨液を供給する研磨液供給手段とを備え、前記研磨液供給手段によって研磨液を供給しつつウエハの両面を研磨パッドで研磨して、該ウエハの厚みを所定の厚みに調整するウエハ研磨装置に用いられて、前記研磨パッドの表層部を研削加工する研磨パッド研削用リングであって、
円環状のリング本体と、該リング本体の外周縁部に設けられて前記遊星歯車機構に歯合するギア部と、前記リング本体の内部に形成された研削用の内部孔と、前記内部孔から前記ギア部にかけて形成された研削溝と、を有し、
前記内部孔が、前記リング本体の外周円の中心とは異なる位置に中心を有する、円形の開口を有していることを特徴としている。
この研磨パッド研削用リングによれば、その研削用の内部孔が、リング本体の外周円の中心とは異なる位置に中心を有する円形の開口を有しており、すなわち、偏心した内部孔を有しているので、この研削用リングを一対の研磨パッド間で自転及び公転させて研削加工した際、特に内部孔の周端縁が研磨パッドに対してより効率的に摺動するので、研磨パッドの表層部を効率良く研削加工することができる。
すなわち、従来の研磨パッド研削用リングでは、公転を考えずに自転だけを考えた場合、その内部孔がリング本体に対して同心円状に形成されているので、内部孔の周端縁は研磨パッドに対してその面方向に摺動せず、同じ円周の線上を回転するだけであり、したがって研磨パッドの表層部の研削に実質的に寄与しないことになる。もちろん、この研削用リングは自転だけでなく公転もさせられるので、内部孔の周端縁はこの公転によって研磨パッドに対してその面方向に摺動し、研磨パッドの表層部の研削に寄与するようになる。しかし、内部孔の周端縁は前述したように自転による研削力が働かないため、結果的に従来の研削用リングでは研削効率が低くなっている。
すなわち、従来の研磨パッド研削用リングでは、公転を考えずに自転だけを考えた場合、その内部孔がリング本体に対して同心円状に形成されているので、内部孔の周端縁は研磨パッドに対してその面方向に摺動せず、同じ円周の線上を回転するだけであり、したがって研磨パッドの表層部の研削に実質的に寄与しないことになる。もちろん、この研削用リングは自転だけでなく公転もさせられるので、内部孔の周端縁はこの公転によって研磨パッドに対してその面方向に摺動し、研磨パッドの表層部の研削に寄与するようになる。しかし、内部孔の周端縁は前述したように自転による研削力が働かないため、結果的に従来の研削用リングでは研削効率が低くなっている。
これに対して本発明の研磨パッド研削用リングでは、その内部孔を偏心させているので、該研削用リングをその外周縁部に設けられたギア部によって自転させた際、内部孔の周端縁はその円周の軌道に沿って回転することなく、リング本体の外周円の回転軌道に沿って回転し、これによって研磨パッドに対してその面方向に摺動するようになる。したがって、この内部孔の周端縁は公転によってはもちろん、自転によっても研磨パッドに対してその面方向に摺動し、研磨パッドの表層部の研削に寄与することから、この研磨パッド研削用リングは研磨パッドの表層部を効率良く研削加工することができるようになる。
また、本発明に係る研磨パッド研削用リングは、前記の研磨パッド研削用リングにおいて、前記研削溝が複数の溝からなり、該溝がそれぞれ前記リング本体の外周円の半径方向に沿って形成されているのが好ましい。
このように構成すれば、研削溝は研削用リングの自転を考えた場合に、その端縁がその長さ方向と直交する方向に摺動する。しかし、これに公転が加わることにより、研削溝の端縁はその長さ方向に対して斜めの方向に摺動することになる。したがって、研磨パッドに対する研削溝の研削効果が高くなる。
このように構成すれば、研削溝は研削用リングの自転を考えた場合に、その端縁がその長さ方向と直交する方向に摺動する。しかし、これに公転が加わることにより、研削溝の端縁はその長さ方向に対して斜めの方向に摺動することになる。したがって、研磨パッドに対する研削溝の研削効果が高くなる。
また、本発明に係る研磨パッド研削用リングは、前記の研磨パッド研削用リングにおいて、前記研削溝が、前記ギア部においてその谷部に開口しているのが好ましい。
このように構成すれば、ギア部の山部に研削溝が形成されることで該山部が研削溝により二分され、その歯先が細くなることなどによって強度が著しく低下してしまうのを防止することができる。
このように構成すれば、ギア部の山部に研削溝が形成されることで該山部が研削溝により二分され、その歯先が細くなることなどによって強度が著しく低下してしまうのを防止することができる。
また、本発明に係る研磨パッド研削用リングは、前記の研磨パッド研削用リングにおいて、前記研削溝が前記リング本体の表裏両面に形成されており、該リング本体の表面側の研削溝と裏面側の研削溝とは、互いに前記リング本体上の異なる位置に配設されているのが好ましい。
このように構成すれば、リング本体の表面側の研削溝と裏面側の研削溝とがリング本体上の同じ位置に配設されることで、この研削溝形成箇所におけるリング本体の厚さが極端に薄くなり、結果的にこの研磨パッド研削用リングの強度が著しく低下してしまうのを防止することができる。
このように構成すれば、リング本体の表面側の研削溝と裏面側の研削溝とがリング本体上の同じ位置に配設されることで、この研削溝形成箇所におけるリング本体の厚さが極端に薄くなり、結果的にこの研磨パッド研削用リングの強度が著しく低下してしまうのを防止することができる。
本発明に係るウエハ研磨装置は、研磨液を供給しつつウエハの両面を研磨して、該ウエハの厚みを所定の厚みに調整するウエハ研磨装置であって、
外周縁がギア部とされ、前記ウエハが収納される保持孔が形成された円板状のキャリアと、
前記ギア部を介して前記キャリアに歯合され、該キャリアを自転させながら軸線回りに公転させる遊星歯車機構と、
中心が刳り貫かれた円板状に形成され、前記キャリアの上下に配置されて、前記保持孔に収納された前記ウエハに所定の荷重を加えつつ、該ウエハの両面を挟み込む上定盤及び下定盤と、
前記上定盤及び前記下定盤のそれぞれの内面に設けられて、前記ウエハを研磨する研磨パッドと、
前記上定盤に設けらた研磨パッドと前記下定盤に設けらた研磨パッドとの間に研磨液を供給する研磨液供給手段と、を備えるとともに、
前記研磨パッドの表層部を研削加工する研磨パッド研削用リングとして、前記の研磨パッド研削用リングを有することを特徴としている。
外周縁がギア部とされ、前記ウエハが収納される保持孔が形成された円板状のキャリアと、
前記ギア部を介して前記キャリアに歯合され、該キャリアを自転させながら軸線回りに公転させる遊星歯車機構と、
中心が刳り貫かれた円板状に形成され、前記キャリアの上下に配置されて、前記保持孔に収納された前記ウエハに所定の荷重を加えつつ、該ウエハの両面を挟み込む上定盤及び下定盤と、
前記上定盤及び前記下定盤のそれぞれの内面に設けられて、前記ウエハを研磨する研磨パッドと、
前記上定盤に設けらた研磨パッドと前記下定盤に設けらた研磨パッドとの間に研磨液を供給する研磨液供給手段と、を備えるとともに、
前記研磨パッドの表層部を研削加工する研磨パッド研削用リングとして、前記の研磨パッド研削用リングを有することを特徴としている。
このウエハ研磨装置によれば、前述したように研磨パッドの表層部を効率良く研削加工することができる研磨パッド研削用リングを有しているので、ウエハのポリッシング工程に先立ってこの研磨パッド研削用リングで研磨パッドの表層部を研削加工することにより、研磨パッドを短時間で研削加工し、その表層部を所望の状態に調整することができる。
本発明に係る研磨パッド研削用リングによれば、研磨パッドの表層部を効率良く研削加工することができるので、この研削加工時間を短くすることにより、ウエハの研磨工程全体の生産性を向上することができる。
本発明に係るウエハ研磨装置によれば、前記研磨パッド研削用リングを有していることにより、研磨パッドの研削加工時間を短くしてウエハの研磨工程全体の生産性を向上することができるので、このウエハを原材料とする圧電振動子の生産性まで向上することができる。
本発明に係るウエハ研磨装置によれば、前記研磨パッド研削用リングを有していることにより、研磨パッドの研削加工時間を短くしてウエハの研磨工程全体の生産性を向上することができるので、このウエハを原材料とする圧電振動子の生産性まで向上することができる。
以下、本発明に係るウエハ研磨装置の一実施形態を、図1から図4を参照して説明する。
図1、図2に示すようにウエハ研磨装置40は、図6〜図9に示したウエハ研磨装置200と基本的に同じ構成を有するもので、研磨液Wを供給しながらウエハSの両面を研磨して、該ウエハSの厚みを所定の厚みに調整する装置である。すなわち、このウエハ研磨装置40は、キャリア41と、遊星歯車機構42と、上定盤43と、下定盤44と、研磨パッドPと、研磨液供給手段45と、を備え、さらに図4(a)(b)に示す本発明に係る研磨パッド研削用リング160を有したものである。
図1、図2に示すようにウエハ研磨装置40は、図6〜図9に示したウエハ研磨装置200と基本的に同じ構成を有するもので、研磨液Wを供給しながらウエハSの両面を研磨して、該ウエハSの厚みを所定の厚みに調整する装置である。すなわち、このウエハ研磨装置40は、キャリア41と、遊星歯車機構42と、上定盤43と、下定盤44と、研磨パッドPと、研磨液供給手段45と、を備え、さらに図4(a)(b)に示す本発明に係る研磨パッド研削用リング160を有したものである。
キャリア41は、図1〜図3に示すように外周縁部がギア部41aとされ、ウエハSが収納される保持孔41bが複数形成された円板状のものである。このキャリア41は、その厚さが研磨対象となるウエハSより十分に薄く形成されたものである。なお、本実施形態では、図3に示すようにキャリア41が5枚備えられている場合を例に挙げて説明するが、キャリア41の枚数やキャリア41に形成された保持孔41bの数については、それぞれ上定盤43及び下定盤44の寸法、ウエハSの寸法などによって適宜変更可能である。また、本実施形態では、前記の5枚のキャリア41は、軸線Lを中心として等角度毎に配置されている。
また、前記軸線Lに沿ってシャフト50が配置されており、該シャフト50にはサンギア51が固定されている。また、5枚のキャリア41の周囲を取り囲むように、リング状に形成されたインターナルギア52が配置されている。そして、5枚のキャリア41は、サンギア51及びインターナルギア52に対してギア部41aが歯合した状態で配置されている。
これらサンギア51及びインターナルギア52は、図示しない駆動源により共に反時計方向に回転するようになっている。この際、サンギア51及びインターナルギア52の回転速度は、それぞれ別個の速度で回転するように調整されている。これにより、各キャリア41は、時計方向に自転しながら、軸線Lを中心に反時計方向に公転するようになっている。つまり、サンギア51及びインターナルギア52は、ギア部41aを介してキャリア41に歯合し、該キャリア41を自転させながら軸線L回りに公転させる前記遊星歯車機構42として機能する。
これらサンギア51及びインターナルギア52は、図示しない駆動源により共に反時計方向に回転するようになっている。この際、サンギア51及びインターナルギア52の回転速度は、それぞれ別個の速度で回転するように調整されている。これにより、各キャリア41は、時計方向に自転しながら、軸線Lを中心に反時計方向に公転するようになっている。つまり、サンギア51及びインターナルギア52は、ギア部41aを介してキャリア41に歯合し、該キャリア41を自転させながら軸線L回りに公転させる前記遊星歯車機構42として機能する。
上定盤43及び下定盤44は、共に中心が刳り貫かれた円板状(リング状)に形成されており、キャリア41の上下に配置されている。下定盤44は、回転テーブル53上に固定されており、回転テーブル53と共に軸線Lを中心としてキャリア41の公転方向とは反対方向(時計方向)に回転するようになっている。また、上定盤43は、ポール54に沿って上下に移動可能とされており、下定盤44との距離を自在に調整できるようになっている。これにより、キャリア41に形成された保持孔41bにウエハSを収納あるいは取り出したり、保持孔41bに収納されたウエハSに所定の荷重を加えながら該ウエハSを両定盤で挟み込んだりすることができるようになっている。
また、これら両定盤43、44には、それぞれの内面に図8(a)に示した研磨パッドPが貼設されている。この研磨パッドPは、両定盤43、44にそれぞれ貼り替えられたばかりの新品のときや、しばらく使用されておらずに再使用されるときなどには、図8(b)に示したような状態になっている。したがって、その場合にはウエハSのポリッシング工程に先立ち、図4(a)(b)に示す研削用リング160によってその表層部、すなわちナップ層P2の表層部が研削加工されるようになっている。
また、両定盤43、44は、キャリア41の一部を両定盤43、44の内周面及び外周面から外側に飛び出させ、露出させるサイズに形成されている。そのため、自転及び公転するキャリア41は、図3に示すように、サンギア51側の一部及びインターナルギア52側の一部が常に露出するようになっている。なお、図3では下定盤44だけ図示しているが、上定盤43も下定盤44と同じサイズになっている。
また、上定盤43の上方には、図1に示すように、パウダーリング55が固定されたリングプレート56が配置されており、該リングプレート56の下面に前記ポール54が固定されている。パウダーリング55には、環状の溝部55aが形成されており、パウダーリング55の上方に配置された供給バルブ57から吐出された研磨液Wを内部に貯留できるようになっている。
また、リングプレート56には、複数のパウダーホース(供給ホース)58の基端側が固定されている。この際、各パウダーホース58は、溝部55a内に連通した状態で固定されている。これにより、溝部55a内に一旦貯留された研磨液Wは、溝部55aからパウダーホース58内に流れ、パウダーホース58の先端に向かって流れるようになっている。
また、リングプレート56には、複数のパウダーホース(供給ホース)58の基端側が固定されている。この際、各パウダーホース58は、溝部55a内に連通した状態で固定されている。これにより、溝部55a内に一旦貯留された研磨液Wは、溝部55aからパウダーホース58内に流れ、パウダーホース58の先端に向かって流れるようになっている。
これらパウダーホース58は、その先端が、上定盤43を貫通して形成された供給路(図示せず)に接続固定されている。供給路は、図9に示したように、半径R1の内側円、半径R2の中間円、半径R3の外側円に沿って所定間隔毎に形成された貫通孔からなっている。これにより、パウダーホース58から供給された研磨液Wは、各供給路を介して両定盤43、44のそれぞれの研磨パッドP、P間に供給されるようになっている。
また、図1に示すように下定盤44の下方には、研磨後に流れてきた研磨液Wを受け取る回収パン61と、回収パン61で受け取られて集められた研磨液Wを貯める研磨液槽62とが配置されている。研磨液槽62には、内部に溜まった研磨液Wを撹拌すると共に、研磨液Wを汲み上げて循環ホース63に循環させるポンプ64が設けられている。そして、循環ホース63は、供給バルブ57に接続された分配器65に接続されている。これにより、回収した研磨液Wを再度供給バルブ57に戻し、パウダーリング55の溝部55a内に供給できるようになっている。
なお、前述したパウダーリング55、リングプレート56、供給バルブ57、パウダーホース58、回収パン61、研磨液槽62、循環ホース63、ポンプ64及び分配器65は、上定盤43の供給路を介してこの上定盤43と下定盤44との間に研磨液Wを供給する、前記研磨液供給手段45として機能する。また、このうち、回収パン61、研磨液槽62、循環ホース63、ポンプ64及び分配器65は、供給した研磨液Wを回収すると共に、回収した研磨液Wを循環させて再度両定盤43、44の間に供給する研磨液回収手段66として機能する。
また、回収パン61には、フィルタ67が設けられており、回収した研磨液Wに含まれるウエハSの研磨加工粉を除去している。これにより、常に清浄な研磨液Wを両定盤43、44の間に供給し続けることができるようになっている。
なお、前述した研磨液Wは、研磨剤(砥粒)が含有された液である。研磨剤(砥粒)としては、このラッピングの際には炭化珪素(SiC)が慣用され、平均砥粒が6μmから9μm程度のより粒径の細かいものが使用される。
なお、前述した研磨液Wは、研磨剤(砥粒)が含有された液である。研磨剤(砥粒)としては、このラッピングの際には炭化珪素(SiC)が慣用され、平均砥粒が6μmから9μm程度のより粒径の細かいものが使用される。
また、本発明に係る研磨パッド研削用リング(以下、研削用リングと記す)160は、図4(a)に示すように、円環状のリング本体161と、該リング本体161の外周縁部に設けられたギア部162と、前記リング本体161の内部に形成された研削用の内部孔163と、前記内部孔163から前記ギア部162にかけて形成された研削溝164とを有してなるものである。前記ギア部162は、前記キャリア41のギア部41aと同じに形成されており、これによって前記サンギア51及びインターナルギア52からなる遊星歯車機構42に歯合するようになっている。
この研削用リング160が図10に示した研削用リング150と主に異なるところは、本発明に係る研削用リング160の内部孔163は、その開口が、リング本体161の外周円Rと同心円状に形成されておらず、偏心した円形状に形成されている点である。すなわち、この研削用リング160の内部孔163は、その開口形状である円の中心O3が、リング本体161の外周円Rの中心O4と異なる位置に形成されている。したがって、この内部孔163の周端縁(内縁)は、後述するように研削用リング160のギア部162が遊星歯車機構42によって自転させられた際、その回転中心が内部孔163の中心O3でなく、リング本体161の外周円Rの中心O4となることから、リング本体161の外周円Rの回転軌道に沿って回転するようになる。
すると、この内部孔163の周端縁(内縁)は、研削用リング160の自転だけを考えた場合に、リング本体161の外周円Rの中心O4から最も遠い位置にある点L1が回転することによって形成される円Q1と、最も近い位置にある点L2が回転することによって形成される円Q2との間の範囲163Aを、摺動するようになる。したがって、内部孔163の周端縁(内縁)は、公転を考えずに自転だけを考えた場合、この範囲163Aにある研磨パッドPを良好に研削するようになるのである。
一方、図10に示した従来の研削用リング150では、その内部孔153がリング本体151に対して同心円状に形成されているので、公転を考えずに自転だけを考えた場合、内部孔153の周端縁は同じ円周の線上を回転するだけとなる。したがって、この内部孔153の周端縁は、研磨パッドPに対してその面方向に摺動せず、研磨パッドPの表層部の研削に実質的に寄与しないものとなっている。
一方、図10に示した従来の研削用リング150では、その内部孔153がリング本体151に対して同心円状に形成されているので、公転を考えずに自転だけを考えた場合、内部孔153の周端縁は同じ円周の線上を回転するだけとなる。したがって、この内部孔153の周端縁は、研磨パッドPに対してその面方向に摺動せず、研磨パッドPの表層部の研削に実質的に寄与しないものとなっている。
なお、これら研削用リング160、150は、自転だけでなく公転もさせられるので、それぞれの内部孔163(153)の周端縁はこの公転によって研磨パッドPに対してその面方向に摺動し、研磨パッドPの表層部の研削に寄与するようになっている。
また、図4(a)に示した本実施形態の研削用リング160では、内部孔163の内径を大きくしてその周端縁を長くし、前記範囲163Aの面積を十分に確保していることにより、自転による研削効率を一層高めている。
また、図4(a)に示した本実施形態の研削用リング160では、内部孔163の内径を大きくしてその周端縁を長くし、前記範囲163Aの面積を十分に確保していることにより、自転による研削効率を一層高めている。
また、この研削用リング160には、研削溝164が六つ形成されている。これら研削溝164は、それぞれ前記リング本体161の外周円Rの半径方向に沿ってほぼ等間隔(等角度間隔)に形成されている。また、これら研削溝164は、図4(b)に示すようにギア部162においてその谷部162aに、すなわち隣り合う山部162b、162b間にまで延びてここで開口している。このような構成によってギア部162は、その山部162bに研削溝164が形成されることで該山部162bが二分されることなどにより、該山部162bの歯先が細くなってしまうことが防止されている。したがって、山部162bの歯先が細くなることでその強度が著しく低下し、稼働中などに山部162bの歯先が破損してしまうのが防止されている。
また、図4(a)では、研削用リング160(リング本体161)の一方の面(表面)しか示していないが、この研削リング160はその上下に位置する一対の研磨パッドPを同時に研削加工処理することから、リング本体161の他方の面(裏面)にも研削溝164が形成されている。すなわち、リング本体161(研削用リング160)にはその表面側と同様に裏面側にも、六つの研削溝164が形成されている。ただし、これら裏面側の研削溝164は、図示しないものの、表面側の研削溝164とは、互いにリング本体161上において異なる位置に配設されている。これにより、表面側の研削溝64と裏面側の研削溝164とがリング本体161上の同じ位置に配設されることで、この研削溝形成箇所におけるリング本体161の厚さが極端に薄くなり、結果的にこの研磨パッド研削用リングの強度が著しく低下してしまうのが防止されている。
このような研削溝164は、研削用リング160が研磨パッドP上で自転及び公転した際、その端縁が研磨パッドP上を摺動することにより、その表層部を研削するようになっている。その際、特に研削溝164をリング本体161の外周円Rの半径方向に沿って形成しているので、研磨パッドPに対する研削効果が高くなっている。すなわち、研削溝164は研削用リング160の自転を考えた場合に、その端縁がその長さ方向と直交する方向に摺動する。しかし、これに公転が加わることにより、研削溝164の端縁はその長さ方向に対して斜めの方向に摺動することになる。したがって、研磨パッドPに対する研削溝164の研削効果が高くなっているのである。
次に、このような研削用リング160を有するウエハ研磨装置40を利用した、ウエハSの製造方法について、図5に示すフローチャートを参照して以下に説明する。なお、製造するウエハSは、圧電振動子に用いられる圧電振動片の原材料になるものとする。
まず、原石を用意すると共に、X線回析法等により原石の切断角度(カット角)の測定を行う(S1)。詳細には、原石のZ面のX軸回りの角度が指定の角度になるようにX線を用いて測定する。測定後、ベースとなるガラス上に接着剤を用いて原石を固定する。
まず、原石を用意すると共に、X線回析法等により原石の切断角度(カット角)の測定を行う(S1)。詳細には、原石のZ面のX軸回りの角度が指定の角度になるようにX線を用いて測定する。測定後、ベースとなるガラス上に接着剤を用いて原石を固定する。
次いで、ガラス上に固定された原石を、ワイヤーソーのワークテーブルにセットする。そして、測定した前記切断角度に沿って、原石をワイヤーソー(例えば、線径が約160μmの高張力線)を用いて所望の厚みに切断する(S2)。この切断の際、ワイヤーソーの送り速度は、毎分40mmから50mmに制御されている。また、切削液としては、砥粒にラッピングオイルを適量配合した液を使用する。この砥粒としては、平均粒径が約12μm程度の炭化珪素(SiC)が慣用される。なお、切削液は、常温を保つように温度管理されている。
次いで、切断されたウエハSの両面を粗く研磨してラッピングを行い、ウエハSを所望の厚みにする工程を行う。
まず、ラッピングを行う前に、ウエハSの側面研磨を行う(S3)。すなわち、切断したウエハSの1枚毎に外周面を研磨するか、あるいは、複数のウエハSを重ね合わせて接着剤で張り合わせてブロックにした後に、図示しない研磨機で外周の研磨を行う。これにより、外周を滑らかに仕上げて、ウエハSの割れや欠け等の発生を抑制することができる。また、角形のウエハSの場合には、ウエハSの外形の寸法精度を出すことができる。研磨後に、加熱等により接着剤を溶解させ、1枚毎のウエハSに分離する。そして、分離したウエハSを洗浄液中で超音波洗浄して、接着剤を完全に除去する。
まず、ラッピングを行う前に、ウエハSの側面研磨を行う(S3)。すなわち、切断したウエハSの1枚毎に外周面を研磨するか、あるいは、複数のウエハSを重ね合わせて接着剤で張り合わせてブロックにした後に、図示しない研磨機で外周の研磨を行う。これにより、外周を滑らかに仕上げて、ウエハSの割れや欠け等の発生を抑制することができる。また、角形のウエハSの場合には、ウエハSの外形の寸法精度を出すことができる。研磨後に、加熱等により接着剤を溶解させ、1枚毎のウエハSに分離する。そして、分離したウエハSを洗浄液中で超音波洗浄して、接着剤を完全に除去する。
続いて、図示しない両面ラップ装置によってウエハSの両面をラッピング(粗加工)し、研磨する(S4)。このラッピングにより、例えば表裏両面をそれぞれ約30μm程度研磨する。なお、このラッピングの際に用いる砥粒は、炭化珪素(SiC)が同じく慣用され、平均砥粒が6μmから9μm程度のより粒径の細かいものを使用する。
このラッピングが終了した後、ウエハSを洗浄する(S5)。すなわち、ウエハSを図示しないバスケットに収納すると共に、バスケットごと洗浄液に漬浸する。そして、超音波洗浄と純水洗浄とを繰り返し行う。また、同時に酸洗浄とアルカリ洗浄とを組み合わせて行う。そして、ウエハSに付着している砥粒を除去した後、純水によるすすぎ洗浄を行う。その後、スピン乾燥機により脱水及び乾燥を行う。
このラッピングが終了した後、ウエハSを洗浄する(S5)。すなわち、ウエハSを図示しないバスケットに収納すると共に、バスケットごと洗浄液に漬浸する。そして、超音波洗浄と純水洗浄とを繰り返し行う。また、同時に酸洗浄とアルカリ洗浄とを組み合わせて行う。そして、ウエハSに付着している砥粒を除去した後、純水によるすすぎ洗浄を行う。その後、スピン乾燥機により脱水及び乾燥を行う。
次いで、ラッピングによってウエハSの表面に生じた加工変質層を除去する第1のエッチングを行う(S6)。この工程は、ラッピングを行った際に用いた砥粒が加工変質層に食い込んでいるので、ウエハSの両面を約10μm程度フッ酸系の溶液によりエッチングして加工変質層を除去する工程である。詳細には、ウエハSをバスケットに収納した後、所定の時間の間、バスケットごとフッ酸系の溶液であるエッチング液に漬浸する。なおこの間、バスケットをゆっくり上下に揺動させて、ウエハSの厚みにムラが生じてしまうことを防止することが好ましい。そして、所定の時間が経過した後、バスケットをエッチング液から取り出すと共に、純水に漬浸させて十分にエッチング液を取り去る。
次いで、ウエハSを乾燥させた後、前記のウエハ研磨装置40を用いてウエハSの両面を鏡面研磨し、最終的な厚みを所定の厚みに仕上げるポリッシングを行う(S7)。ただし、本例では、ウエハ研磨装置40の研磨パッドPが、貼り替えられたばかりの新品であったり、しばらく使用されておらずに再使用される状態にあるものとする。したがって、このようなウエハSのポリッシング工程に先立ち、ポリッシング工程の前処理として、図4(a)(b)に示した研削用リング160を用い、図8(b)に示したようにナップ層P2の微小開口P3の入り口側が塞がっている状態から、図8(a)に示したように塞がった入り口側が十分に開くように、研磨パッドPの表層部を研削加工する。
具体的には、図3に示したキャリア41及びこれに収容されたウエハSに代えて、所望の数の研削用リング160を上定盤204の研磨パッドPと下定盤205の研磨パッドPとの間にセットする。そして、サンギア51及びインターナルギア52からなる遊星歯車機構42を駆動させることにより、研削用リング160を従来の研削用リング150と同様に自転及び公転させる。これにより、その研削用の内部孔163や研削溝164によって研磨パッドPの表層部を研削加工することができる。すなわち、研削用リング160の自転及び公転によってその内部孔163の周端縁や研削溝164の端縁を研磨パッドP上に摺動させることにより、研磨パッドPの表層部を研削加工し、ナップ層P2の微小開口P3の入り口側を十分に開いた状態にすることができる。
そして、特に本発明に係る研削用リング160を用いて研削加工していることにより、研磨パッドPの表層部を効率良く研削加工することができ、したがってこの研削加工時間を短くすることができる。
なお、必要に応じて、この研削加工時に適宜な研削剤を用い、これを研磨パッドPと研削用リング160との間に供給するようにしてもよい。
なお、必要に応じて、この研削加工時に適宜な研削剤を用い、これを研磨パッドPと研削用リング160との間に供給するようにしてもよい。
このようにして研磨パッドPの研削加工を行ったら、上定盤43を上昇させて下定盤44上から研削用リング160を取り外し、この研削用リング160に代えて図3に示したようにキャリア41及びウエハSをセットする。そして、従来と同様にして研磨液Wを供給しつつ、両定盤43、44に貼設した前記研磨パッドPでウエハSの両面を研磨加工し、ウエハSを所定の厚みに調整する。
具体的には、研磨液供給手段45によって上定盤43の研磨パッドPと下定盤44の研磨パッドPとの間に研磨液Wを供給すると同時に、遊星歯車機構42を駆動させてキャリア41を自転公転させながら両定盤43、44の中心を貫く軸線L回りに公転させる。ただし、研磨液Wの供給と遊星歯車機構42の作動が同時ではなく、研磨液Wの供給を行った後に遊星歯車機構42を駆動させても構わない。また、遊星歯車機構42の駆動と同時に、下定盤44をキャリア41の公転方向とは反対方向に回転させる。
なお、研磨液Wについては、研磨剤が含有された液が用いられ、研磨剤としては、一般的に酸化セリウム(CeO2)が慣用される。したがって、研磨液Wとしては、例えば酸化セリウムと防錆材と水とからなるスラリーが用いられる。
なお、研磨液Wについては、研磨剤が含有された液が用いられ、研磨剤としては、一般的に酸化セリウム(CeO2)が慣用される。したがって、研磨液Wとしては、例えば酸化セリウムと防錆材と水とからなるスラリーが用いられる。
以上によりポリッシングが終了し、所定の厚さに高精度に仕上げされたウエハSを得ることができる。
次いで、再び洗浄を行う(S8)。すなわち、ウエハSをバスケットに収納した後、超音波洗浄と純水洗浄とを繰り返し行って洗浄を行う。なお、ポリッシングが終了したウエハSは、次工程に移行するまでの間、純水等に漬浸した状態で保管することが好ましい。
次いで、再び洗浄を行う(S8)。すなわち、ウエハSをバスケットに収納した後、超音波洗浄と純水洗浄とを繰り返し行って洗浄を行う。なお、ポリッシングが終了したウエハSは、次工程に移行するまでの間、純水等に漬浸した状態で保管することが好ましい。
次いで、ポリッシングによってウエハSの表面に生じたダメージ層や何らかの付着物等を除去する第2のエッチングを行う(S9)。詳細には、ウエハSをバスケットに収納した後、所定の時間の間、バスケットごとフッ酸系の溶液であるエッチング液に漬浸してエッチングを行う。
その後、ウエハSをバスケットに収納した後、純水や60℃程度の温度に加熱した温純水や超純水にバスケットを漬浸して、ウエハSの洗浄を行う(S10)。洗浄した後、ウエハSをスピン乾燥機等で脱水する。脱水後、真空中でウエハSを加熱して、吸着した水分を脱利させて乾燥させる。なお、乾燥後は、窒素を封入したデシケータ中にウエハSを保管するのが好ましい。
そして、保管後、このウエハSは前述したように圧電振動子に用いられる圧電振動片の原材料として、その製造に供される。
その後、ウエハSをバスケットに収納した後、純水や60℃程度の温度に加熱した温純水や超純水にバスケットを漬浸して、ウエハSの洗浄を行う(S10)。洗浄した後、ウエハSをスピン乾燥機等で脱水する。脱水後、真空中でウエハSを加熱して、吸着した水分を脱利させて乾燥させる。なお、乾燥後は、窒素を封入したデシケータ中にウエハSを保管するのが好ましい。
そして、保管後、このウエハSは前述したように圧電振動子に用いられる圧電振動片の原材料として、その製造に供される。
このようなウエハSの研磨に用いられる研磨パッド研削用リング160にあっては、ポリッシング工程の前処理として、研磨パッドPの表層部を効率良く研削加工することができるので、この研削加工時間を短くすることにより、ウエハSの研磨工程全体の生産性を向上することができる。
また、この研磨パッド研削用リング160を有したウエハ研磨装置40にあっては、研磨パッドPの研削加工時間を短くしてウエハの研磨工程全体の生産性を向上することができるので、例えばこのウエハSを原材料とする圧電振動子の生産性まで向上することができる。
また、この研磨パッド研削用リング160を有したウエハ研磨装置40にあっては、研磨パッドPの研削加工時間を短くしてウエハの研磨工程全体の生産性を向上することができるので、例えばこのウエハSを原材料とする圧電振動子の生産性まで向上することができる。
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。例えば、図4(a)に示した研磨パッド研削用リング160では、研削溝164が六つ形成されている例を示したが、研削溝164の数については特に限定されることなく、任意の数とすることができる。ただし、研削効率を考慮すると、表裏各面毎に四つ以上ずつ形成するのが好ましく、また、リング本体161の強度、つまり耐久性などを考慮すると、表裏各面毎に八つ以下ずつ形成するのが好ましい。
L…軸線、O3、O4…中心、R…外周円、S…ウエハ、40…ウエハ研磨装置、41…キャリア、41a…キャリアのギア部、41b…キャリアの保持孔、42…遊星歯車機構、43…上定盤、44…下定盤、45…研磨液供給手段、160…研削用リング、161…リング本体、162…ギア部、162a…谷部、162b…山部、163…内部孔、164…研削溝
Claims (5)
- ウエハを自転させながら軸線回りに公転させる遊星歯車機構と、前記ウエハの上下に配置されて、該ウエハの両面を挟み込む上定盤及び下定盤と、前記上定盤及び前記下定盤のそれぞれの内面に設けられて、前記ウエハを研磨する研磨パッドと、前記上定盤に設けらた研磨パッドと前記下定盤に設けらた研磨パッドとの間に研磨液を供給する研磨液供給手段とを備え、前記研磨液供給手段によって研磨液を供給しつつウエハの両面を研磨パッドで研磨して、該ウエハの厚みを所定の厚みに調整するウエハ研磨装置に用いられて、前記研磨パッドの表層部を研削加工する研磨パッド研削用リングであって、
円環状のリング本体と、該リング本体の外周縁部に設けられて前記遊星歯車機構に歯合するギア部と、前記リング本体の内部に形成された研削用の内部孔と、前記内部孔から前記ギア部にかけて形成された研削溝と、を有し、
前記内部孔が、前記リング本体の外周円の中心とは異なる位置に中心を有する、円形の開口を有していることを特徴とする研磨パッド研削用リング。 - 前記研削溝は複数の溝からなり、該溝はそれぞれ前記リング本体の外周円の半径方向に沿って形成されていることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド研削用リング。
- 前記研削溝は、前記ギア部においてその谷部に開口していることを特徴とする請求項1又は2に記載の研磨パッド研削用リング。
- 前記研削溝が前記リング本体の表裏両面に形成されており、該リング本体の表面側の研削溝と裏面側の研削溝とは、互いに前記リング本体上の異なる位置に配設されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の研磨パッド研削用リング。
- 研磨液を供給しつつウエハの両面を研磨して、該ウエハの厚みを所定の厚みに調整するウエハ研磨装置であって、
外周縁がギア部とされ、前記ウエハが収納される保持孔が形成された円板状のキャリアと、
前記ギア部を介して前記キャリアに歯合され、該キャリアを自転させながら軸線回りに公転させる遊星歯車機構と、
中心が刳り貫かれた円板状に形成され、前記キャリアの上下に配置されて、前記保持孔に収納された前記ウエハに所定の荷重を加えつつ、該ウエハの両面を挟み込む上定盤及び下定盤と、
前記上定盤及び前記下定盤のそれぞれの内面に設けられて、前記ウエハを研磨する研磨パッドと、
前記上定盤に設けらた研磨パッドと前記下定盤に設けらた研磨パッドとの間に研磨液を供給する研磨液供給手段と、を備えるとともに、
前記研磨パッドの表層部を研削加工する研磨パッド研削用リングとして、請求項1〜4のいずれか一項に記載の研磨パッド研削用リングを有することを特徴とするウエハ研磨装置。
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