JP2009180333A - 薬液供給装置及び薬液供給弁 - Google Patents
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Abstract
薬液を供給する複数の供給ポートと接続する複数の弁装置が上面に取付けられ、各弁装置の駆動により、任意の薬液が主流路に供給される薬液供給装置を提供すること。
【解決手段】
薬液を供給する複数の供給ポートと接続する複数の弁装置が上面に取付けられ、各弁装置の駆動により、任意の薬液が主流路に供給される薬液供給マニホールドを有する薬液供給装置において、主流路の一端部に出力ポートが形成され、主流路の他端部に取付けられた弁装置が洗浄液弁装置4であること、を特徴とする。
【選択図】 図1
Description
特許文献1に開示された、任意の薬液を供給できる薬液供給マニホールドを有する薬液供給装置70の構造を図10に示す。
薬液供給マニホールド71の上面には、パイロット機構を有する弁装置72を内部に備えた、2つのダイアフラム弁76A、76Bが取り付けられている。薬液供給マニホールド71には、V字型の屈折角度が約120度のV字形状流路78が形成されている。V字形状流路78の右端部が、第2弁室75の左端部側弁室壁面と連通している。V字形状流路78の左端部が、第1弁室77の右端部側弁室壁面と連通している。第2弁室75の右端部側弁室壁面には、第2流路80が連通されている。第1弁室77の下端部側弁室壁面には第1流路79が連通されている。
第1流体から第2流体に切り替える場合、第1流路79から第2流体を供給する。第1流路79から流入された第2流体は、第1弁室77を通過して、V字形状流路78へと流れる。V字形状流路78へと流れた第2流体は、第2弁室75に入る。そして、第2流体は、第2弁室75を通過して、第2流路80へと流れていく。第2流体は、第1弁室77、V字形状流路78、第2弁室75と流れていく際、第1流体を押し流すことで置換する。このとき、第2流体が、第1流体を押し出すため、V字形状流路78等に、第1流体が滞留しない。
特許文献1に係る発明では、流体を切換える際には、洗浄液を使用しない。そのため、第1流体から第2流体へと完全に切換えるまで、すなわち液置換のために第2流体を流し続けなければならない。流体は、洗浄液よりも高価であることが多く、第1流体を完全に切換える時まで第2流体を液置換のために多く流さなければならないとなると、それだけ費用が多く掛かることになる。
特許文献2に開示された、任意の薬液を供給できる薬液供給マニホールドを有する薬液供給装置90の構造を図12に示す。
本体ブロック91の上面には、パイロット弁機構を有する弁装置97を内部に備えた、副ブロック92が3個取り付けられている。本体ブロック91には一直線状の主流路94が形成されている。主流路94の両端には、本体ブロック91の両端面から突出した接続部が形成されている。各弁装置97の主流路94に対応する位置に弁室96が各々形成されている。主流路94の連通開口部は各弁室96の弁室側壁面に形成している。各弁室96には、薬液流入口93が形成されている。薬液流入口93の上部弁座95に対して、当接又は離間可能にパイロット機構により駆動される弁体98が保持されている。弁室96内にはダイアフラム99を有する弁体98が形成されている。
弁装置97Aの作動で弁体98Aが上昇し、弁体98Aが弁座95Aから離間すると、薬液流入口93Aから入った薬液は、主流路94内に供給される。そして、エアーの切換えにより、弁体98Aがパイロット機構によって下降すると、弁座95Aが弁体98Aの下端で主流路94内側から閉じられ、薬液の主流路94への供給が停止する。そのため、主流路94内に洗浄液のみが流れるようになる。それによって、1つの洗浄液に複数種類の薬液のうち任意の薬液を適宜切り替えて混入して供給したり、さらには、1つの流体を複数の場所へ分配して供給したりする。複数種の他の流体を切り替えて供給する際には、洗浄すべき薬液は、主流路94を流れる洗浄液によって洗浄される。
(1)主流体について、流れを止めることについての記載はないが、洗浄液として使用するなら主流体の弁を外に設ける必要があり、外に弁を設けた場合には、全体として長くなり、スペースを大きく取る問題がある。また、弁が流路の近くにないと、圧力損失が大きく流体の流れが弱まるため洗浄がしにくくなる。
(2)また、図12のYの拡大図である部分を図13に示す、例えばダイアフラム99が形成されている場所には、液の滞留部252が形成される。そして、第1流体から第2流体に変更する場合には、適宜洗浄液を流しバルブ内を洗浄する必要がある。だが、液の滞留部252があるため、洗浄すべき第1流体が液の滞留部252で薬液の滞留部となり、洗浄液に置換しにくい。
さらに、主流路94は弁室96Cの壁面に接続されているため、主流路94と弁室96Cの底面との間には、液の滞留部251が形成される。液の滞留部251に溜まった洗浄すべき第1流体は主流路94から流れてくる洗浄液が直接当たらないため、洗浄するのに多くの時間が掛かる。多くの時間が掛かると、多くの洗浄液を使用しなければならないため費用が掛かるという問題があった。
図10のXの拡大図を図11に示す、第2弁室75のダイアフラム83が形成されている場所には、特許文献2にある液の滞留部252と同じく、液の滞留部253が存在する。しかし、特許文献1の薬液供給装置70では、V字形状流路78から弁室75に入った流体は、直接液の滞留部253にぶつかるため、液の滞留部253に残った流体を置換することができる。そのため、特許文献2におけるダイアフラム99の液の滞留部252の問題を解決することができた。
しかし、特許文献1には、図11に示す、第2弁室75の底面81と弁室壁面82との接続面の隅で、流体が直接あたらない場所にある液の滞留部250に溜まった第1流体が、洗浄液に置換されにくい問題がある。
図11に示すように、洗浄液の流れは、直接液の滞留部250に溜まった第1流体に当たらない。特に、特許文献1に係る発明は、V字形状流路78は鋭角に弁室と連結しているため、洗浄液の流れが、液の滞留部250に直接当たらない。そのため、第1流体は、洗浄液の流れに少しずつ流されることにより置換しなくてはならないため、洗浄液への置換に時間が掛かる問題があった。すなわち、流体の流れは中心から外れた壁面に近い部分の流れは弱くなるため、液の滞留部250を置換するのにも時間が掛かるのである。
そのため、先に使用した第1流体を完全に置き換える必要がある。ここで流体を完全に置き換えたといえる基準を、超純水の基準である比抵抗値が18MΩ・cmとなったときとする。一般的には、比抵抗値が15MΩ・cm以上の場合に超純水と呼ぶが、半導体製造装置においては、不純物が混じるのを嫌うため特に超純水の基準が高く求められているからである。比抵抗値を18MΩ・cmにするために、時間がかかると、置き換え後の作業に取り掛かるのに時間が掛かり、生産効率が悪くなる。また、比抵抗値を18MΩ・cmとするために、第1流体を流し続けると、時間の分だけ洗浄液が必要となる。
さらに、第1流体の粘性が高く壁に張り付く性質を有するものであるときには、直接洗浄液が当たらないと、さらに比抵抗値を18MΩ・cmにするために時間が掛かり、そのため生産効率が悪くなり、費用が発生することになる。
(1)薬液を供給する複数の供給ポートと接続する複数の弁装置が上面に取付けられ、各弁装置の駆動により、任意の薬液が主流路に供給される薬液供給マニホールドを有する薬液供給装置において、主流路の一端部に出力ポートが形成され、主流路の他端部に取付けられた弁装置が洗浄液弁装置であること、を特徴とする。
(3)(2)に記載する薬液供給装置において、主流路が各弁装置の弁室を連通するV字形状流路であることにより、連通開口部において流れを乱流とすること、を特徴とする。
(4)(3)に記載する薬液供給装置において、V字形状流路の屈曲角度が90度以下であること、を特徴とする。
(5)(2)に記載する薬液供給装置において、各弁装置の弁室を連通する主流路は屈曲点を有すること、を特徴とする。
(7)薬液を供給する供給ポートと接続する弁装置が上面に取付けられ、弁装置の駆動により、任意の薬液が流路に供給される薬液供給弁であって、流路が弁装置の弁室を連通する屈曲点を有する流路であり、流路の弁室との連通開口部が弁室底面とにまたがって形成されていること、を特徴とする。
各弁装置の駆動により、任意の薬液が主流路に供給される薬液供給装置において、第1薬液を第2薬液に切り替えるとき、第1薬液を供給していた入力ポートを閉じるためダイアフラム弁を閉じる。次に、洗浄用装置の入力ポートを開くためダイアフラム弁を開ける。洗浄用装置の入力ポートから洗浄液が流れる。洗浄液は、主流路を通り第1弁室へと流れる。
洗浄液が主流路を流れる際に、主流路が例えばV字形状流路等のように屈曲点を有することにより、流れが乱流となる。乱流が起こることにより、本来配管抵抗により流れが遅い壁面付近の第1薬液も洗浄液に撹拌されるため、今までよりも容易に置換することができる。
V字形状流路の連通開口部は、第1弁室底面と弁室壁面とにまたがって形成されている。そのため、従来では、液の滞留部となっていた弁室底面と壁面の接合部付近が流体の通路となるため、液の置換効率が向上する。
したがって、従来品と比べて、比抵抗値を18MΩ・cmにするために掛かる時間を約30秒、全体から見て約40%の削減を行うことができる。そのため、置換に必要な洗浄液の使用量も約30秒分だけ少なくて済む。そのため、生産効率をよくし、費用の発生を抑えることができるという効果がある。
次に、本発明に係る一実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、薬液供給装置1の正面図を示す。図2は、図1の薬液供給装置1に洗浄液を流した場合の、流体の流れを示した図である。図3は、図1のうちV字形状流路10A(薬液供給装置1のZに該当する部分)を拡大した図である。図4は、図1のうちダイアフラム弁体12を中心とした(薬液供給装置1のWに該当する部分)部分についてのV字形状流路10AからV字形状流路13Aへの流体の流れを説明した図である。図5は、弁室11の底面を上方から見た図である。
薬液供給装置1は、薬液供給マニホールド16上に、洗浄液弁4、及び、2つのダイアフラム弁6が連続して結合することにより構成されている。図1においては、ダイアフラム弁6を、ダイアフラム弁6A、ダイアフラム弁6Bのみ記載しているが、必要に応じて、ダイアフラム弁6がさらに連続して結合しても良い。
薬液供給マニホールド16の左端部には、洗浄液弁4がある。薬液供給マニホールド16上にある弁装置において、洗浄液弁装置が端部にあると、洗浄液を流したときに流路の端から他端まで流路全体に洗浄液を供給することができる。また、主流路の他端部に洗浄液弁装置が取付けられていることにより、全体として短くでき、スペースを小さくできる。
洗浄液弁4とダイアフラム弁6の構成部品は同じであるため、構成部品の名称は同じ名称で説明する。
洗浄液弁4、ダイアフラム弁6A、ダイアフラム弁6B内には、弁室11A、弁室11B、弁室11Cが形成されている。弁室11Aの底面17には、入力ポート2Aが連通されている。弁室11B、弁室11Cには、入力ポート2B、入力ポート2Cが弁室底面19、21に連通されている。
また、弁室11Aの弁室底面17と弁室壁面18とにまたがってV字形状流路10Aの連通開口部が連通されている。ここで、「またがって」とは、連通開口部の上面部分が弁室壁面の一部にあり、連通開口部の下面部分が弁室底面の一部にあることをいう。
入力ポート2Aの孔を開閉可能な状態でダイアフラム弁体12Aが構成されている。ダイアフラム弁体12Aはピストン7に固定されており、ピストン7はスプリング8の下方への付勢力により、下方へ摺動する。
V字形状流路13Aの左連通開口部の上面部分が弁室11Bの右下方部の壁面20の一部にあり、左連通開口部の下面部分が弁室11B右下方部の底面20の一部にあり、またがった状態で連通されている。また、V字形状流路13Aの右連通開口部の上面部分が弁室11Cの左下方部の壁面22の一部にあり、左連通開口部の下面部分が弁室11Cの左下方部の底面21にあり、またがった状態で連通されている。ダイアフラム弁体12Cは、入力ポート2Cを閉めた状態にある。
V字形状流路は、引き続きダイアフラム弁の弁室に連通していく。
ダイアフラム弁6Aに接合されている入力ポート2Bから取り入れることができる第1薬液から、ダイアフラム弁6Bに接合されている入力ポート2Cから取り入れることができる第2薬液へと切り替えるときに、入力ポート2Aから洗浄液が流される。第1薬液から第2薬液へ切り替える際には、第1薬液がV字形状流路10Aや弁室11Bに残っているからであり、洗浄液により第1薬液を洗い流すことができるからである。
V字形状流路10Aには、入力ポート2Bから取り入れられていた第1薬液が残っている。第1薬液は特に、流れのよくないV字形状流路10Aの角10Dに滞留している。また、第1薬液の粘性が高い場合には、V字形状流路10Aの壁面付近にも滞留している。
V字形状流路10Aに入った洗浄液は、V字形状流路10Aが直線になっていないため、V字形状流路10Aの壁面10Cにぶつかる。洗浄液の流れが、壁面10Cにぶつかると、洗浄液は角10Dの周辺で乱流を起こす。図3に、V字形状流路10Aの洗浄液の流れを示す。洗浄液が乱流を起こすと、壁面10B、壁面10C、角10Dに滞留していた第1薬液が乱流によって洗浄液が撹拌されるため、短時間で洗浄することができるのである。このとき、洗浄液の流れが強いまま、V字形状流路10Aに侵入することができるのは、洗浄液弁4が主流路の端部に取り付けられていることによる。流体は、流れ続けると安定して流れが弱くなるが、洗浄液弁4が洗浄すべき流路等の近くにあることにより、流れが強いまま流れることができるからである。
本発明のように、流路をV字形状とすることで、意図的に乱流を起こすことにより、直線流路では流れが弱く薬液を洗浄しにくい壁面付近も意図的に乱流を起こすことにより早く洗浄できるのである。
洗浄液の流れは、ダイアフラム5にぶつかる流れだけではなく、直接V字形状流路13Aに向かう流れもある。直接V字形状流路13Aに向かう洗浄液の流れを、弁室11Bの上方から見た図である図5に示す。
V字形状流路10Aから入った洗浄液は、中心のダイアフラム弁体12Bにぶつかり乱流を起こして流れる流体と、ダイアフラム弁12Bを避ける形で左右に流れる流体がある。弁室11Bの底面と弁室側面との接合面42は、丸みがある形状となっている。そのため、洗浄液が流れるときも接合面42には、角があるときと比較して第1薬液が溜まりにくく、さらに丸みがあるため洗浄液が流れやすいため、第1薬液を洗浄するのに時間が掛からない。
また、V字形状流路10Aの右連通開口部は、上面部分が弁室11Bの左下方部の壁面20の一部にあり、右連通開口部の下面部分が弁室11Bの左下方部の底面19の一部にあり、またがった状態で連通されている。すなわち、V字形状流路10Aを流れてくる流れの中心は弁室11Bに対して、底面19と弁室壁面20との接合面に来るように接合されている。そのため、流れが最も強い中心部分が、液の滞留部41に直接当たる。それにより、液の滞留部41の薬液を、より早く置換することができる。
本発明の効果を説明するために、比較例と比べて、どのような効果を得ることができるのかを説明していく。
そのため、図8及び図9に比較例1及び比較例2の薬液供給装置を示す。
ダイアフラム弁101A、101B、101Cは連結している。ダイアフラム弁101Aの弁室111Aから出ている流路102は、薬液供給マニホールド108を貫通している。
流路102を洗浄する際には、弁室111Aから洗浄液が流される。洗浄液は流体であり、流体は中心部ほど流れが強い。図8の矢印は、流路102を流れる洗浄液の流体の流れを示したものである。矢印は、太いのは流れが強く、細いのは流れが弱いことを示す。
流路102を流れる洗浄液は、中心の流れは強く、壁面に行くにつれ流れは弱くなる。流路が直線であるときには、流れが弱くても壁面付近に滞留した第1薬液を時間を掛けることにより、取り除くことはできる。しかし、図8にある、流路102と弁室111Bとの間にある連通流路110Aにある液の滞留部120、流路102と弁室111Cとの間にある連通流路110Bにある液の滞留部120、のような液の滞留部に対しては、洗浄液の流れが特に弱いため、連通流路110A、110Bにある液の滞留部120に溜まった第1薬液を置換するには、さらに時間が掛かる。
ダイアフラム弁201A、201B、201Cは連結している。ダイアフラム弁201Aの弁室204Aへ接合している入力ポート205がある。流路202Aの左端部は、ダイアフラム弁201Aの弁室204Aの弁室壁面に接続しており、右端部は、ダイアフラム弁201Bの弁室204Bの弁室壁面に接続している。流路202Bの左端部は、ダイアフラム弁201Bの弁室204Bの弁室壁面に接続しており、右端部は、ダイアフラム弁201Cの弁室204Cの弁室壁面に接続している。
流路202A、202B及び弁室204B、204C内を洗浄する際には、ダイアフラム弁206を上昇させ、入力ポート205を開くことにより洗浄液が流される。入力ポート205より入った洗浄液は、ダイアフラム弁201Cの方に流れていく。図9の矢印は、流路102を流れる洗浄液の流体の流れを示したものである。
流路202を流れる洗浄液は、中心の流れは強く、壁面に行くにつれ流れは弱くなる。流路が直線であるときには、流れが遅くても、時間を掛ければ壁面付近に滞留した第1薬液を取り除くことはできる。しかし、図9にある、ダイアフラム203の周りの第1薬液の液の滞留部210に対しては、洗浄液の流れが弱いため、ダイアフラム203の周りの液の滞留部210に溜まった第1薬液を置換するのにさらに時間が掛かる。
また、流路202Aと弁室204Bの底面の間には液の滞留部211ができる。液の滞留部211に溜まった流体は、流路202Aから流れてくる洗浄液が直接当たらないため、洗浄するのに多くの時間が掛かる。
比較例1と本発明とを比較すると、本発明では、超純水の比抵抗値まで置換されるのに約30秒も短縮されている。約40%の短縮時間で超純水の値にすることができるのである。本願発明の目的である、例えば超純水への置き換えの作業は、半導体製造工程では、頻繁に行われる作業であり、約40%の短縮時間で行うことができると、約40%分の洗浄液の経済的な費用を削減することができる。また、頻繁に行われる作業であるため、約40%の削減も1年を通してみると大きな効果を得ることができ、約40%分の時間を短縮することができたことで、その後の作業効率もよくなる。さらに、実験でなく、製造現場においては、実験で用いた食塩水よりも粘性の強い薬液が使用されているため、実験結果の約30秒の短縮時間も、本発明と比較例1の発明の超純水とする時間の差がさらに開くものと考えられる。
また、図8にある、連通流路110A、連通流路110Bにある液の滞留部120に対しては、壁面近くの洗浄液の流れが弱い部分しか当たらないため、液の滞留部120に溜まった第1薬液を置換するにさらに時間が掛かるからである。
また、図9にある、ダイアフラム203の周りの液の滞留部210に対しては、壁面近くの洗浄液の流れが弱い部分しか当たらないため、液の滞留部210に溜まった第1薬液を置換するにはさらに時間が掛かるからである。
さらに、流路の弁室連通口と弁室底面の間にできる液の滞留部211に対しても、壁面近くの洗浄液の流れが弱い部分しか当たらないため、液の滞留部211に溜まった第1薬液を置換するには時間が掛かるからである。
また、連通流路110Aに相当する部分がなく液の滞留部120も存在せず、液の滞留部120の第1薬液を置換する必要がないため、比較例1で液の滞留部120の置換に要していた時間約30秒の分だけ早く、洗浄液に置換できるのである。
薬液が溜まりやすいダイアフラム203の周りの液の滞留部210があるのは同じである。しかし、本発明は、比較例2と比較して、V字形状流路10Aを有する構成を採る点で相違する。本発明に係るV字形状流路10Aは、弁室11Bに対して、左下方部の弁室底面と弁室壁面とにまたがって接合しているため、洗浄液は右上に向かって流れ、第1薬液が溜まりやすい比較例の液の滞留部210部分に相当するダイアフラム5の液溜部分に流れが発生する。洗浄液が流れを起こすことにより、第1薬液が洗浄液に撹拌されて、洗浄することができる効果を有する。
比較例2と比較して、V字形状流路10A、13Aを有するという相違点を有することにより、ダイアフラムの液溜部分に流れが発生するため、比較例2よりも液の滞留部の薬液を早く洗浄液に置換することができるのである。
しかし、本発明では、V字形状流路10Aは、弁室11Bに対して、左下方部の弁室底面と弁室壁面とにまたがって接合しているため、比較例2のように流路と底面との間に液の滞留部211はできない。さらに、弁室11Bの底面と弁室側面との接合面41は、丸みがある形状となっている。そのため、洗浄液が流れるときも、角がある比較例2と比較して薬液が溜まりにくく、丸みがあるため洗浄液が流れやすいため、薬液を洗浄するのに時間が掛からないのである。
例えば、V字形状流路を屈曲点を有する主流路にすることによっても、V字形状流路と同様の効果を得ることができる。屈曲点を有する薬液供給装置としては、例えば主流路がU字形状流路である薬液供給装置がある。
各弁装置の弁室を連通する主流路は屈曲点を有する薬液供給装置の具体例を図14に示す。
図14は、図1の薬液供給装置1のV字形状流路10A及び13Aが屈曲点を有する主流路に変更された薬液供給装置であり、屈曲点を有する主流路以外の構成は図1の薬液供給装置1と同様の構成であるため、主流路以外の構成の説明は省略する。
薬液供給装置50は、屈曲点53、54、55、56を有する主流路が弁室11A、11B、11Cを結んでいる。
弁室11Aから流入した洗浄液は、流路51に流入し、屈曲点53を流れる。屈曲点53があることにより、洗浄液は乱流する。すなわち、流路の屈曲した内側の圧力が下がり、外側の圧力より低くなることにより、渦が発生して洗浄液が乱流となるからである。乱流を起こすことにより、屈曲点53や屈曲点53付近に滞留していた薬液を洗浄することができる。
屈曲点53以降の屈曲点54,55,56においても同様に乱流が起こり、滞留している薬液を洗浄することができる。
また、V字形状流路は、弁室に対して、左下方部の弁室底面と弁室壁面とにまたがって接合しているため、洗浄液は右上に向かって流れる。右上に向かって洗浄液が流れると、薬液が溜まりやすいダイアフラムの液の滞留部40に流れが発生する。洗浄液が液の滞留部分40に流れを起こすことにより、薬液が洗浄液に撹拌され、洗浄することができる。
また、弁室の底面と弁室側面との接合面41は、丸みがある形状となっている。そのため、洗浄液が流れるときも接合面41には、角があるときと比較して薬液が溜まりにくく、さらに丸みがあるため洗浄液が流れやすいため、薬液を洗浄するのに時間が掛からない。
さらに、(3)(2)に記載する薬液供給装置において、主流路が各弁装置の弁室を連通するV字形状流路であることにより、連通開口部において流れを乱流とするので、壁面に滞留した薬液及び流路の角に滞留した薬液を、短時間で洗浄することができる。
(4)(3)に記載する薬液供給装置において、V字形状流路の屈曲角度が90度以下であることにより、V字形状流路の屈折角度が約120度以上の場合と比較して、壁面に滞留した薬液及び流路の角に滞留した薬液を、短時間で洗浄することができる。
(5)(2)に記載する薬液供給装置において、各弁装置の弁室を連通する主流路は屈曲点を有することにより、流路の屈曲した流路内に滞留した薬液が洗浄液に撹拌されるため、短時間で洗浄することができる。
(7)薬液を供給する供給ポートと接続する弁装置が上面に取付けられ、弁装置の駆動により、任意の薬液が流路に供給される薬液供給弁であって、流路が弁装置の弁室を連通する屈曲点を有する流路であり、流路の弁室との連通開口部が弁室底面とにまたがって形成されていること、壁面に滞留した薬液及び流路の角に滞留した薬液を、短時間で洗浄することができる。
また、洗浄液を使用する流体の置換だけではなく、均一性の高い混合液を作ることもできる。
2 入力ポート
4 洗浄液弁
6A、6B ダイアフラム弁
7 ピストン
8 スプリング
10A、13A V字形状流路
11A、11B、11C 弁室
12A、12B、12C ダイアフラム弁体
16 薬液供給マニホールド
Claims (7)
- 薬液を供給する複数の供給ポートと接続する複数の弁装置が上面に取付けられ、各弁装置の駆動により、任意の薬液が主流路に供給される薬液供給マニホールドを有する薬液供給装置において、
前記主流路の一端部に出力ポートが形成され、前記主流路の他端部に取付けられた前記弁装置が洗浄液弁装置であること、を特徴とする薬液供給装置。 - 請求項1に記載する薬液供給装置において、
前記主流路が各弁装置の弁室を連通する流路であること、
前記流路の弁室との連通開口部が弁室底面と弁室壁面とにまたがって形成されていること、
を特徴とする薬液供給装置。 - 請求項2に記載する薬液供給装置において、
前記主流路が各弁装置の弁室を連通するV字形状流路であることにより、前記連通開口部において流れを乱流とすること、
を特徴とする薬液供給装置。 - 請求項3に記載する薬液供給装置において、
前記V字形状流路の屈曲角度が90度以下であること、
を特徴とする薬液供給装置。 - 請求項2に記載する薬液供給装置において、
前記各弁装置の弁室を連通する主流路は屈曲点を有すること、
を特徴とする薬液供給装置。 - 薬液を供給する複数の供給ポートと接続する複数の弁装置が上面に取付けられ、各弁装置の駆動により、任意の薬液が主流路に供給される薬液供給装置において、
前記主流路が各弁装置の弁室を連通する屈曲点を有する流路であること、
前記主流路の弁室との連通開口部が弁室底面とにまたがって形成されていること、
を特徴とする薬液供給装置。 - 薬液を供給する供給ポートと接続する弁装置が上面に取付けられ、弁装置の駆動により、任意の薬液が流路に供給される薬液供給弁であって、
前記流路が前記弁装置の弁室を連通する屈曲点を有する流路であり、
前記流路の弁室との連通開口部が弁室底面とにまたがって形成されていること、
を特徴とする薬液供給弁。
Priority Applications (1)
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