JP2009168687A - 微小光電気機械素子加速度センサおよび微小光電気機械素子加速度センサ製造方法 - Google Patents
微小光電気機械素子加速度センサおよび微小光電気機械素子加速度センサ製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】光MEMSにより形成されたファブリ・ペロ型光共振器16と、その下部に設けられた錘8および光取り出し開口部19とを備えている。ファブリ・ペロ型光共振器16は、光取り出し開口部19側と光導入側Aとに各々設けられた基本膜厚が1μm以下の複数種類の薄膜14(高屈折率の誘電体薄膜)および15(低屈折率の誘電体薄膜)を交互に積層した多層膜構造体13と11とにより空気層12を挟んだ構造を有している。重力加速度を受けた時、錘18が取り付けられた多層膜構造体13と11とではその撓み量が異なるため、重力加速度が反映された分光波形が光取り出し開口部19から取り出される。
【選択図】図1
Description
Jin et al., Electron-cyclotron-resonance sputtering apparatus for multilayered
optical bandpass filters to wavelength division multiplexing, JVST A22, p.2431)。図3で、横軸はECR薄膜の表面粗さRrms(Surface roughness σ(nm))、縦軸は500nm単位の散乱損失(Scattering loss(%)@500nm)である。原図では波長λ=500nmを黒丸および黒線、波長λ=780nmを赤四角および赤線で表示してあるが、出願図面では白黒でしか表示できないため、波長λ=500nm、波長λ=780nmと付してある。参照文献によれば、ECR薄膜の表面粗さRrmsは〜0.2nm程度(図3では0.2nm付近の縦線Bで示す。)である。図3の縦線Bと波長λ=500nmおよび780nmの両グラフとの交わる付近に示されるように、計算からECR薄膜の光損失は、計算したいずれの設計波長(λ=500nm、780nm)においても、10−3%程度と非常に低い値である。これは、ECR技術を用いることにより光損失の少ない光MEMS加速度センサ10を実現することができることを示している。
w = 0.221×(Pa4/Eh3) (1)
Claims (5)
- 微小電気機械素子により形成されたファブリ・ペロ型光共振器と、該ファブリ・ペロ型光共振器の下部に設けられた錘及び光取り出し開口部とを備えたことを特徴とする微小光電気機械素子加速度センサ。
- 請求項1記載の微小光電気機械素子加速度センサにおいて、前記ファブリ・ペロ型光共振器は、前記光取り出し開口部側と光導入側とに各々設けられた複数種類の薄膜を交互に積層した多層膜構造体により空気層を挟んだ構造を有することを特徴とする微小光電気機械素子加速度センサ。
- 請求項2記載の微小光電気機械素子加速度センサにおいて、前記複数種類の薄膜は高屈折率及び低屈折率の2種類の誘電体薄膜であることを特徴とする微小光電気機械素子加速度センサ。
- 請求項3記載の微小光電気機械素子加速度センサにおいて、前記誘電体薄膜はSiO2、Ta2O5又はTaOxNyのいずれか2つの組合せであることを特徴とする微小光電気機械素子加速度センサ。
- 請求項2乃至4のいずれかに記載の微小光電気機械素子加速度センサの多層膜構造体を電子サイクロトロン共鳴プラズマ成膜により形成することを特徴とする微小光電気機械素子加速度センサ製造方法。
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