JP2009156545A - 加熱調理器 - Google Patents

Abstract

【課題】加熱皿によって仕切られた加熱室の下側における高周波による加熱処理時間を短縮することのできる加熱調理器を提供する。
【解決手段】制御部による制御により、操作部２３から入力された調理情報に基づいて、加熱室１１の底面の載置台１２ｃに載置された第１の被加熱物１２ａを高周波熱源を含む下熱源により調理するとともに、加熱室１１を上下に分割する加熱皿３０に載置された第２の被加熱物１２ｂを上熱源により、同時に調理することができる。この際、加熱皿３０の下方に設けられている反射部により高周波熱源から供給される高周波を反射させて第１の被加熱物１２ａに照射するので、効率よく調理することができ、調理時間を短縮することができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、被加熱物を誘電加熱する加熱調理器に関するものである。

代表的なマイクロ波加熱装置である電子レンジは、被加熱物である食品を直接的に加熱できるので、なべや釜を準備する必要がない簡便さでもって生活上の不可欠な機器になっている。これまで、電子レンジは、マイクロ波が伝搬する加熱室のうち食品を収納する空間の大きさが、幅方向寸法および奥行き方向寸法がおおよそ３００〜４００ｍｍ前後、高さ方向寸法がおおよそ２００ｍｍ前後のものが、一般に普及している。

近年においては、食材を収納する空間の底面をフラットにし、さらに幅寸法を４００ｍｍ以上として奥行き寸法よりも比較的大きくし、食器を複数個並べて加熱できるように利便性を高めた横幅が広い加熱室形状を持った製品が実用化されている。

また、電子レンジの多機能化に伴い、従来からある、いわゆる「温めメニュー」（食品に対してマイクロ波を放射することで食品を加熱する高周波加熱）に加えて、「グリルメニュー」を備えるものが市場に登場している。グリルメニューとは、食品を載せた加熱皿を昇温させることで食品を加熱皿を介して加熱する方法や、加熱ヒータにより食品を加熱する方法、またはこれらの組み合わせにより食品を直火焼き風（表面はパリッとしつつ中身はジューシーに調理する調理仕上がり）に調理するメニューのことである。

図１２の従来の高周波加熱装置の構成図に示すように、従来、この種の高周波加熱装置３００は、代表的なマイクロ波発生手段であるマグネトロン３０２から放射されたマイクロ波を伝送する導波管３０３と、加熱室３０１と、代表的な被加熱物である食品（図示せず）を載置するため加熱室３０１内に固定され、セラミックやガラスなどの低損失誘電材料からなるためにマイクロ波が容易に透過できる性質の載置台３０６と、加熱室３０１内の載置台３０６より下方に形成されるアンテナ空間３１０と、導波管３０３内のマイクロ波を加熱室３０１内に放射するため、導波管３０３からアンテナ空間３１０にわたり、加熱室３０１の中央付近に取り付けられた回転アンテナ３０５と、回転アンテナ３０５を回転駆動できる代表的な駆動手段としてのモータ３０４と、加熱室３０１内に用途に応じて設置される加熱皿３０８と、加熱皿３０８を支持する皿受部３０７と、電熱加熱を行うヒータ３０９とを備えるものである。

高周波加熱により被加熱物を直接加熱する温めメニューのときは、載置台３０６の上に食品等が置かれた状態で、高周波加熱処理が実行される。マグネトロン３０２から放射されたマイクロ波が導波管３０３を経て回転アンテナ３０５に伝送され、そして回転アンテナ３０５の放射部からマイクロ波が加熱室３０１に向けて放射される。このとき、通常、加熱室３０１内にマイクロ波を均一に攪拌させるため回転アンテナ３０５は、一定速度で回転しながらマイクロ波を放射する。

また、直火焼き風に調理するグリルメニューのときは、皿受部３０７に置かれた加熱皿３０８上に食品（例えば、鳥もも肉、魚など）が置かれる。この状態で、食品の上側に位置することになるヒータ３０９により、食品の表面部分が加熱処理される。一方、マイクロ波によって昇温させられた加熱皿３０８により食品の裏面部が加熱処理される。

マイクロ波を食品に集中させる加熱調理では、マイクロ波の性質により食品の内部の水分が過度に蒸発してしまうことに対し、ヒータや加熱皿により食品を加熱する処理では、食品内部の水分や旨みを閉じ込めつつ、食品の表面をパリッと仕上げる、いわゆる直火焼き風に仕上げることができるものである（特許文献１参照）。
特開２００４−７１２１６号公報（第５−７頁、第１図）

ところで、前述したような従来の加熱調理器において、加熱室３０１に設けた加熱皿３０８によって仕切られる加熱室３０１の下側では、高周波による加熱処理が行われているが、この高周波加熱処理の時間を短縮して調理時間を短縮することが望まれている。

本発明は、従来の問題を解決するためになされたもので、加熱皿によって仕切られた加熱室の下側における高周波による加熱処理時間を短縮することのできる加熱調理器を提供することを目的とする。

本発明の加熱調理器は、第１の被加熱物をその底面兼載置台に載置する加熱室と、前記加熱室内部に着脱自在に設けられ、その上面に第２の被加熱物を載置する加熱皿と、前記加熱室の上側に設けた上熱源と、前記加熱室の下側に設け少なくとも高周波熱源を有する下熱源と、前記第１および第２の被加熱物に対する加熱処理に関する情報を入力する操作部と、前記操作部によって入力された前記加熱処理に関する情報に基づいて、前記上熱源および下熱源を別個に制御可能な制御部と、を備え、前記加熱皿の下方に前記高周波熱源から供給される高周波を左右方向に反射させる反射部を設けた構成を有している。

この構成により、制御部による制御により、操作部から入力された調理情報に基づいて、加熱室の底面の載置台に載置された第１の被加熱物を高周波熱源を含む下熱源により調理するとともに、加熱室を上下に分割する加熱皿に載置された第２の被加熱物を上熱源により、同時に調理することができる。この際、加熱皿の下方に設けられている反射部により高周波熱源から供給される高周波を反射させて第１の被加熱物に照射するので、効率よく調理することができ、調理時間を短縮することができる。

また、本発明の加熱調理器は、第１の被加熱物をその底面兼載置台に載置する加熱室と、前記加熱室内部に着脱自在に設けられ、その上面に第２の被加熱物を載置する加熱皿と、前記加熱室を加熱する熱源と、前記第１および第２の被加熱物に対する加熱処理に関する情報を入力する操作部と、前記操作部によって入力された前記加熱処理に関する情報に基づいて、前記熱源を制御する制御部と、を備え、前記制御部が、前記加熱室における前記加熱皿よりも上側の温度を前記加熱皿の下側の温度よりも高く制御するとともに、前記加熱皿の下方に前記高周波熱源から供給される高周波を左右方向に反射させる反射部を設けた構成を有している。

この構成により、制御部による制御により、操作部から入力された調理情報に基づいて、加熱室の底面の載置台に載置された第１の被加熱物を調理するとともに、加熱室を上下に分割する加熱皿に載置された第２の被加熱物を同時に調理することができる。この際、加熱皿よりも上側の温度を下側よりも高くして第２の被加熱物の調理を行うとともに、加熱皿の下方に設けられている反射部により高周波熱源から供給される高周波を反射させて第１の被加熱物に照射するので、第１および第２の被加熱物を効率よく調理することができ、調理時間を短縮することができる。

また、本発明の加熱調理器は、前記反射部に加熱室の前後方向に沿ったＶ溝が形成された構成を有している。

この構成により、加熱皿に下方から照射された高周波は、反射部のＶ溝の斜面に当たって左右方向へ分散されることになり、第１の被加熱物に高周波を均一に照射することができ、効率よく調理することができる。

また、本発明の加熱調理器は、前記反射部が下に凸の湾曲面状に形成された構成を有している。

この構成により、加熱皿に下方から照射された高周波は、反射部の湾曲面に当たって左右方向へ分散されることになり、第１の被加熱物に高周波を均一に照射することができ、効率よく調理することができる。

また、本発明の加熱調理器は、スチーム発生熱源をさらに有し、前記加熱室における前記加熱皿の上下少なくとも一方にスチームを供給する構成を有している。

この構成により、第１の被加熱物および第２の被加熱物の少なくとも一方をスチーム加熱することができる。これにより、被加熱物の表面にうるおいをもたした状態で被加熱物を加熱することができる。

さらに、本発明の加熱調理器は、被加熱物の温度を検出する温度検出手段を設け、前記制御部が、前記第１の被加熱物または前記第２の被加熱物の一方を調理する単品調理の場合には前記温度検出手段により検出された温度に基づいて前記熱源を制御し、前記第１の被加熱物および前記第２の被加熱物を調理する場合には時間で前記熱源を制御する構成を有している。

この構成により、単品調理の場合には温度検出手段で検出した温度に基づいて熱源を制御し、第１および第２の被加熱物を調理する場合には時間で熱源を制御することにより、効率のよい調理を行うことができる。

また、本発明の加熱調理器は、前記加熱皿の反射部の一部に高周波を吸収して発熱する発熱体を設けた構成を有している。

この構成により、加熱皿が高周波の一部を吸収して加熱されるので、加熱皿に載置された第２の被加熱物を下側から加熱することができ、効率よく調理することができる。

また、本発明の加熱調理器は、前記熱源の一部に光ヒータを設けた構成を有している。

この構成により、光ヒータを用いることにより、短時間で強い加熱力を得ることができ効率よく調理することができる。

さらに、本発明の加熱調理器は、前記光ヒータが蒸気透過型ヒータである構成を有している。

この構成により、スチーム発生熱源を用いつつ光ヒータを用いることができるので、被加熱物の表面にうるおいをもたした状態で、かつ迅速に被加熱物を加熱することができる。

本発明は、制御部による制御により、操作部から入力された調理情報に基づいて、加熱室の底面の載置台に載置された第１の被加熱物を高周波熱源を含む下熱源により調理するとともに、加熱室を上下に分割する加熱皿に載置された第２の被加熱物を上熱源により、同時に調理することができる。この際、加熱皿の下方に設けられている反射部により高周波熱源から供給される高周波を反射させて第１の被加熱物に照射するので、効率よく調理することができ、調理時間を短縮することができるという効果を有する加熱調理器を提供することができるものである。

以下、本発明の実施の形態の加熱調理器について、図面を用いて説明する。
図１は本発明の第１の実施の形態にかかる加熱調理器の概略斜視図、図２は加熱調理器を左右（加熱調理器の前面部に向かって左右方向）に切断した断面図、図３は本発明の実施の形態の加熱調理器を前後（加熱調理器の前面部から加熱室の奥に向かう方向）に切断した断面図、図４は温度検出手段によって加熱室内の温度を測定している状態を示す断面図、図５は温度検出手段の断面図、図６は温度検出手段による検出範囲を示す平面図、図７は加熱皿の斜視図、図８は反射部を示す加熱皿の断面図、図９は発熱体を示す加熱皿の断面図、図１０は反射部の別の例を示す加熱皿の断面図、図１１は発熱体の別の例を示す加熱皿の断面図である。

図１および図２に示すように、本発明の加熱調理器は、第１の被加熱物１２ａをその底面兼載置台１２ｃに載置する加熱室１１を有しており、加熱室１１内部に着脱自在に設けられ、その上面３０ａに第２の被加熱物１２ｂを載置する加熱皿３０が設けられている。従って、加熱室１１は、加熱皿３０によって下側加熱室１１ａと上側加熱室１１ｂとに区画されることになる。また、加熱室１１の上側に設けた上熱源（２０）と、加熱室１１の下側に設け少なくとも高周波熱源２１を有する下熱源（２１）と、第１および第２の被加熱物１２ａ、１２ｂに対する加熱処理に関する情報を入力する操作部２３と、操作部２３によって入力された加熱処理に関する情報に基づいて、上熱源（２０）および下熱源（２１）を別個に制御可能な制御部２４とを備えている。

加熱室１１の前面開口には加熱室１１を密閉可能に開閉する扉１３が設けられており、扉１３には加熱室１１内を視認するための透光窓１３ａが設けられている。操作パネル２３は例えば扉１３の下方に設けられており、加熱の開始を指示するスタートスイッチ２３ａ、加熱の終了を指示する取り消しスイッチ２３ｂ、表示部２３ｃ、予め用意されている調理プログラムを選定するための、またはマニュアル操作を行うためのダイヤル２３ｄ等が設けられている。このように、加熱室１１内を視認しやすい位置に操作パネル２３が設けられ、これにより、加熱室１１内及び表示部２３ｃの表示内容を確認しながらスイッチまたはダイヤルを操作することが容易に行える。

図２及び図３に示すように、加熱室１１の上側に設けた上熱源（２０）として、例えば蒸気透過型の光ヒータである赤外線発生手段２０を用いることができる。赤外線発生手段２０としては、例えば天井面の中央にアルゴンヒータ２０ａ、そのアルゴンヒータ２０ａの前後両側にミラクロンヒータ２０ｂの合計３本が設けられている。この赤外線発生手段２０と高周波熱源２１を制御部２４で制御し、アルゴンヒータ２０ａおよびミラクロンヒータ２０ｂが水蒸気に吸収されにくい波長の赤外線を輻射して、加熱室１１内に存在する水蒸気を透過して第２の被加熱物１２ｂ(加熱皿３０がない場合は第１の被加熱物１２ａ)に当てて調理を行う構成としている。

アルゴンヒータ２０ａは心線がタングステン線であり、透明な管部材にはアルゴンガスが封入されている。このアルゴンヒータ２０ａは、ミラクロンヒータ２０ｂと比較して動作の立ち上がりが早いという特徴を持っている。

ミラクロンヒータ２０ｂは、従来から用いられているが、アルゴンヒータ２０ａより波長が長く、マイカヒータなどに比較して立ち上がりが早いので、被加熱物１２ａ、１２ｂの表面に焦げ色を付けるのに適している。また、コストが安いという特徴がある。

ここで、ミラクロンヒータ２０ｂを電子レンジに搭載する場合、ミラクロンヒータ２０ｂがマイクロ波を吸収し発熱してしまい、使用しているガラス材料を溶かす恐れがあるので、誘電率が比較的低くマイクロ波を吸収しにくい、白色管のミラクロンヒータ２０ｂを採用することが望ましい。

これにより、短時間で強い加熱力を得ることができ効率よく調理することができる。なお、アルゴンヒータ２０ａおよびミラクロンヒータ２０ｂを総称する場合には、管ヒータ（２０）と記すことにする。

図２および図３に示すように、加熱室１１の下側に設けた下熱源として、少なくとも高周波熱源２１を用いる。従って、高周波熱源２１以外にも熱源を設けてもよい。高周波熱源２１は、高周波発生手段であるマグネトロン２１からなり、マグネトロン２１から発生した高周波を加熱室１１内に導く導波管４２と、電波を加熱室１１へ放射する回転アンテナ４３を設けている。回転アンテナ４３は、放射指向性を有する構成である。本実施の形態の加熱調理器１０は、回転アンテナ４３のうちの少なくとも一方の放射指向性の強い部位を所定の向きに制御して特定の方向にマイクロ波をより集中して放射する構成としている。図３に示す加熱室１１の底面兼載置台１２ｃから天面方向に伸びる矢印は、回転アンテナ４３から放射されるマイクロ波を表しており、その向きはマイクロ波が放射される方向を、その長さはマイクロ波の強度を示している。図３では、加熱皿の周部付近にマイクロ波が強く放射される場合を示している。

また、図３に示すように、加熱室１１の奥の仕切板１１ｄの後方には、連通路１４と循環ファン１５とヒータ１６を有しており、循環ファン１５によって加熱室１１内の空気を吸い込んでヒータ１６により加熱し（図３における加熱室１１から循環ファン１５に向かう矢印がその空気の流れを表している。）、仕切板１１ｄに設けられている排出孔から加熱された空気を加熱室１１内に送ることができるようになっている（図３におけるヒータ１６から加熱室１１に向かう矢印がその空気の流れを表している。）。

また、本発明の加熱調理器１０は、スチーム発生熱源２２をさらに設け、加熱室１１における加熱皿３０の上下加熱室１１ｂ、１１ａの少なくとも一方にスチームを供給するようにするのが望ましい。

すなわち、図２および図３に示すように、加熱室１１の下側に蒸気発生手段２２を設けて、加熱室１１にスチームを供給する。スチームは次々に供給されて加熱室１１内を循環するので、第１の被加熱物１２ａに接する領域の蒸気密度がゼロになるわけではなく、第１の被加熱物１２ａの表面が過度に焦げるのを防止することができる。また、蒸気は、加熱皿３０によって区画された上側加熱室１１ｂにも循環するため、加熱皿３０に載置された第２の被加熱物１２ｂの内部の温度上昇を促し中心部に生が残ることなく過度に焦げることを防止することができる。また、表面に適度な湿度を与えることになるので第２の被加熱物１２ｂの表面を蒸気で包むことになり、第２の被加熱物１２ｂの内部の水分が逃げにくくなり、表面はカリッと焼かれ、中身はジューシーな調理を行うことができることになる。

このように、光ヒータである赤外線発生手段２０を用いるとともに、蒸気透過型ヒータである赤外線発生手段２０を用いることにより、スチーム発生熱源２２を用いつつ光ヒータを用いることができるので、被加熱物１２ｂの表面にうるおいをもたした状態で、かつ迅速に被加熱物を加熱することができる。

さらに、図４に示すように、本発明の加熱調理器１０は、被加熱物１２ａ、１２ｂの温度を検出する温度検出手段５０を設け、制御部２４が、第１の被加熱物１２ａまたは第２の被加熱物１２ｂの一方を調理する単品調理の場合には温度検出手段５０により検出された温度に基づいて熱源２０、２１、２２を制御し、第１の被加熱物１２ａおよび第２の被加熱物１２ｂを調理する場合には時間で熱源２０、２１、２２を制御（図２参照）するのが望ましい。

図５に示すように、温度検出手段５０は、基板１０９上に一列に並んで設けられた複数の赤外線検出素子１０３と、基板１０９全体を収納するケース１０８と、ケース１０８を赤外線検出素子１０３が並んでいる方向と垂直に交わる方向に移動させるステッピングモータ１０１と、を備えるものである。

基板１０９上には、赤外線検出素子１０３を封入する金属製のカン１０５と、赤外線検出素子の動作を処理する電子回路１１０とが設けられている。また、カン１０５には赤外線が通過するレンズ１０４が設けられている。また、ケース１０８には、赤外線を通過させる赤外線通過孔１０６と、電子回路１１０からのリード線を通過させる孔１０７とが設けられている。

この構成により、ステッピングモータ１０１が回転運動することで、ケース１０８を、赤外線検出素子１０３が一列に並んでいる方向とは垂直方向に移動させることができる。

図６は、図４のＣ−Ｃ’断面における赤外線温度検出スポットを説明する図である。図６に示すように、本実施の形態の加熱調理器１０は、制御部２４による制御のもと、温度検出手段のステッピングモータ１０１が往復回転動作することにより、加熱室１１内のほぼ全ての領域の温度分布を検出することができるものである。

具体的には、例えば、まず図６中のＡ１〜Ａ４の領域の温度分布を、温度検出手段が有する一列に並んだ温度検出素子１０３（例えば、赤外線センサ）が同時に検出する。次に、ステッピングモータ１０１が回転動作しケース１０８が移動するとき、温度検出素子１０３がＢ１〜Ｂ４の領域の温度分布を検出する。さらに、ステッピングモータ１０１が回転動作してケース１０８が移動するとき、温度検出素子１０３がＣ１〜Ｃ４の領域の温度分布を検出し、同様に、Ｄ１〜Ｄ４の領域の温度分布が検出される。

また、上述の動作に続けて、ステッピングモータ１０１が逆回転することで、Ｄ１〜Ｄ４の領域側から、Ｃ１〜Ｃ４、Ｂ１〜Ｂ４、Ａ１〜Ａ４の順に、温度分布を検出する。温度分布検出手段は、以上の動作を繰り返すことで、加熱室１１内の全体の温度分布を検出することができる。

この構成により、単品調理の場合には温度検出手段５０で検出した温度に基づいて熱源２０，２１，２２を制御し、第１および第２の被加熱物１２ａ、１２ｂを調理する場合には時間で熱源２０，２１，２２を制御することにより、効率のよい調理を行うことができる。

また、図２に示すように、加熱室１１における互いに対向する側壁１１ｅ、１１ｆには係止部１７が設けられている。加熱皿３０は、この係止部１７に支持されて加熱室１１を上下加熱室１１ｂ、１１ａに区画するとともに第２の被加熱物１２ｂを載置することができる。

図７に示すように、加熱皿３０は、全体矩形板状をしており、左右両辺には樹脂取っ手３３が設けられており、加熱室１１の係止部１７に沿って前後方向へ出し入れ可能となっている。また、加熱皿３０の周部には、加熱室１１を上下に連通する連通孔３２が設けられている。これにより、加熱皿３０によって区画した加熱室１１の下方において蒸気を発生させ、発生した蒸気を加熱皿３０の周部に設けた連通孔３２から上側加熱室１１ｂに案内して、加熱皿３０の上に載置された第２の被加熱物１２ｂを加熱調理する。図３において、加熱皿３０によって区画される下の空間から加熱皿３０の周部を通過して加熱皿３０によって区画される上の空間に向かう矢印があるが、この矢印が、上の空間に向かう蒸気の流れを表している。

図８に示すように、加熱皿３０の下方（ここでは加熱皿３０の下面）には、高周波熱源２１から供給される高周波を左右方向に反射させる反射部３１が設けられている。反射部３１は、例えば、加熱室１１の前後方向（図８中紙面直交方向）に沿ったＶ溝３１ａを複数本形成して構成することができる。なお、Ｖ溝３１ａは、加熱皿３０と一体的に形成することができるが、Ｖ溝３１ａを有する別部材を加熱皿３０の下方に取り付けるようにすることもできる。

このように加熱皿３０の下方に反射部３１を設けることにより、下方から加熱皿３０に照射された高周波は、反射部３１のＶ溝３１ａの斜面に当たって左右方向へ分散されることになり、第１の被加熱物１２ａに高周波を均一に照射することができ、効率よく調理することができる。

また、図９に示すように、加熱皿３０の反射部３１の一部に高周波を吸収して発熱する例えばフェライトゴムのような発熱体３４を設けるのが望ましい。発熱体３４は、例えば、下側加熱室１１ａの中心側へ高周波を反射する面に設けることができる。従って、加熱皿３０に当たった高周波は、左右両外側へ反射することになる。また、発熱体３４に接する加熱皿３０の下面を未塗装とすることにより、熱伝導率が向上し、調理時間を短縮することができる。

これにより、発熱体３４が高周波の一部を吸収して加熱皿３０が加熱されるので、加熱皿３０に載置された第２の被加熱物１２ｂを下側から加熱することができ、効率よく調理することができる。

なお、図１０に示す加熱皿３０Ｂのように、反射部３１として下に凸の湾曲面３１ｂ（加熱皿３０Ｂの前後方向に中心を有する筒状）を形成することもできる。湾曲面３１ｂとしては、円形断面、楕円形断面、放物線断面等を採用することができる。この湾曲面３１ｂは、加熱皿３０Ｂと一体に設けることができるが、別体で設けて加熱皿３０Ｂの下方へ取付けるようにしてもよい。

これにより、加熱皿３０Ｂに下方から照射された高周波は、反射部３１の湾曲面３１ｂに当たって左右方向へ分散されることになり、第１の被加熱物１２ａに高周波を均一に照射することができ、効率よく調理することができる。

また、図１１に示すように、加熱皿３０Ｂの反射部３１の一部に高周波を吸収して発熱する発熱体３４を設けるのが望ましい。例えば、所定幅の発熱体３４を、左右方向に一定の間隔で設けることができる。

これにより、発熱体３４が高周波の一部を吸収して加熱皿３０Ｂが加熱されるので、加熱皿３０Ｂに載置された第２の被加熱物１２ｂを下側から加熱することができ、効率よく調理することができる。

以上、説明した加熱調理器１０によれば、制御部２４による制御により、操作部２３から入力された調理情報に基づいて、加熱室１１の底面兼載置台１２ｃに載置された第１の被加熱物１２ａを高周波熱源を含む下熱源２１により調理するとともに、加熱室１１を上下に分割する加熱皿３０に載置された第２の被加熱物１２ｂを上熱源２０により、同時に調理することができる。この際、加熱皿３０の下方に設けられている反射部３１により高周波熱源２１から供給される高周波を反射させて第１の被加熱物１２ａに照射するので、効率よく調理することができ、調理時間を短縮することができる。

次に、本発明の第２実施形態について説明する。なお、図面は前述した第１実施形態と共通するので、重複する説明を省略することとする。
第２実施形態にかかる加熱調理器１０Ｂでは、制御部２４が、加熱室１１における加熱皿３０よりも上側の加熱室１１ｂの温度を加熱皿３０の下側の加熱室１１ａ温度よりも高く制御するとともに、加熱皿３０の下方に高周波熱源２１から供給される高周波を左右方向に反射させる反射部３１を設けた構成を有している。

これにより、制御部２４による制御により、操作部２３から入力された調理情報に基づいて、加熱室１１の底面兼載置台１２ｃに載置された第１の被加熱物１２ａを調理するとともに、加熱室１１を上下に分割する加熱皿３０に載置された第２の被加熱物１２ｂを同時に調理することができる。この際、加熱皿３０よりも上側の加熱室１１ｂの温度を下側の加熱室１１ａよりも高くして第２の被加熱物１２ｂの調理を行うとともに、加熱皿３０の下方に設けられている反射部３１により高周波熱源２１から供給される高周波を反射させて第１の被加熱物１２ａに照射するので、第１および第２の被加熱物１２ａ、１２ｂを効率よく調理することができ、調理時間を短縮することができる。

なお、本発明の加熱調理器は、前述した各実施形態に限定されるものでなく、適宜な変形，改良等が可能である。

以上のように、本発明にかかる加熱調理器は、制御部による制御により、操作部から入力された調理情報に基づいて、加熱室の底面の載置台に載置された第１の被加熱物を高周波熱源を含む下熱源により調理するとともに、加熱室を上下に分割する加熱皿に載置された第２の被加熱物を上熱源により、同時に調理することができる。この際、加熱皿の下方に設けられている反射部により高周波熱源から供給される高周波を反射させて第１の被加熱物に照射するので、効率よく調理することができ、調理時間を短縮することができるという効果を有し、被加熱物を誘電加熱する加熱調理器等として有用である。

本発明の第１の実施の形態にかかる加熱調理器の概略斜視図 加熱調理器を左右に切断した断面図 本発明の実施の形態の加熱調理器を前後に切断した断面図 温度検出手段によって加熱室内の温度を測定している状態を示す断面図 温度検出手段の断面図 温度検出手段による検出範囲を示す平面図 加熱皿の斜視図 反射部を示す加熱皿の断面図 発熱体を示す加熱皿の断面図 反射部の別の例を示す加熱皿の断面図 発熱体の別の例を示す加熱皿の断面図 従来の高周波加熱装置の構成図

符号の説明

１０ 加熱調理器
１１ 加熱室
１１ｃ 底面兼載置台
１２ａ 第１の被加熱物
１２ｂ 第２の被加熱物
２０ 赤外線発生手段（上熱源）
２０ａ アルゴンヒータ（光ヒータ）
２０ｂ ミラクロンヒータ（光ヒータ）
２１ 高周波熱源（下熱源）
２２ スチーム発生熱源
２３ 操作部
２４ 制御部
３０ 加熱皿
３０ａ 上面
３１ 反射部
３１ａ Ｖ溝
３１ｂ 湾曲面
３４ 発熱体
５０ 温度検出手段

Claims (9)

1. 第１の被加熱物をその底面兼載置台に載置する加熱室と、
   前記加熱室内部に着脱自在に設けられ、その上面に第２の被加熱物を載置する加熱皿と、
   前記加熱室の上側に設けた上熱源と、前記加熱室の下側に設け少なくとも高周波熱源を有する下熱源と、
   前記第１および第２の被加熱物に対する加熱処理に関する情報を入力する操作部と、
   前記操作部によって入力された前記加熱処理に関する情報に基づいて、前記上熱源および下熱源を別個に制御可能な制御部と、
   を備え、
   前記加熱皿の下方に前記高周波熱源から供給される高周波を左右方向に反射させる反射部を設けた加熱調理器。
2. 第１の被加熱物をその底面兼載置台に載置する加熱室と、
   前記加熱室内部に着脱自在に設けられ、その上面に第２の被加熱物を載置する加熱皿と、
   前記加熱室を加熱する熱源と、
   前記第１および第２の被加熱物に対する加熱処理に関する情報を入力する操作部と、
   前記操作部によって入力された前記加熱処理に関する情報に基づいて、前記熱源を制御する制御部と、
   を備え、
   前記制御部が、前記加熱室における前記加熱皿よりも上側の温度を前記加熱皿の下側の温度よりも高く制御するとともに、
   前記加熱皿の下方に前記高周波熱源から供給される高周波を左右方向に反射させる反射部を設けた加熱調理器。
3. 前記反射部に加熱室の前後方向に沿ったＶ溝が形成されている請求項1または２記載の加熱調理器。
4. 前記反射部が下に凸の湾曲面状に形成されている請求項1または２に記載の加熱調理器。
5. スチーム発生熱源をさらに有し、前記加熱室における前記加熱皿の上下少なくとも一方にスチームを供給する請求項１〜請求項４のいずれかに記載の加熱調理器。
6. 被加熱物の温度を検出する温度検出手段を設け、
   前記制御部が、前記第１の被加熱物または前記第２の被加熱物の一方を調理する単品調理の場合には前記温度検出手段により検出された温度に基づいて前記熱源を制御し、前記第１の被加熱物および前記第２の被加熱物を調理する場合には時間で前記熱源を制御する請求項1〜請求項４のいずれかに記載の加熱調理器。
7. 前記加熱皿の反射部の一部に高周波を吸収して発熱する発熱体を設けた請求項1〜請求項４のいずれかに記載の加熱調理器。
8. 前記熱源の一部に光ヒータを設けた請求項1〜請求項４のいずれかに記載の加熱調理器。
9. 前記光ヒータが蒸気透過型ヒータである請求項８記載の加熱調理器。

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