CN101910733A

CN101910733A - 烹调装置

Info

Publication number: CN101910733A
Application number: CN2008801233849A
Authority: CN
Inventors: 内山智美; 高山富美子; 藏合加代子
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2007-12-27
Filing date: 2008-12-16
Publication date: 2010-12-08
Also published as: JP2009156545A; US20100276417A1; EP2230464A1; WO2009084169A1; EP2230464A4; JP5152971B2

Abstract

一种烹调装置，具有由加热板隔开的加热室，位于加热板下方的加热室的一部分可以通过高频波以缩短的时间加热。控制单元(24)进行控制，从而基于从操作部(23)输入的烹调信息，由包括高频热源(21)的下热源来烹调放置在位于加热室(11)的底表面的载置台(12c)上的第一待加热物(12a)，并且此外，可以同时由上热源(20)烹调放置在沿着水平面分割加热室(11)的加热板(30)上的第二待加热物(12b)。在该过程中，从高频热源(21)供应的高频波由设置在加热板(30)下方的反射部(31)反射，以将高频波施加到第一待加热物(12a)。结果，待加热物得到有效率地烹调，从而缩短了烹调时间。

Description

烹调装置

技术领域

本发明涉及一种通过电介质加热来加热待加热物的烹调装置。

背景技术

微波炉作为典型的微波加热装置可以直接加热作为待加热物的食物。因此，因无需准备锅碗瓢盆的便利性，微波炉是生活上用于烹调的不可缺少的装置。在一种流行的微波炉中，微波在其中传播的加热室中用于容纳食物的空间的尺寸是这样的：宽度和深度尺寸为约300-400mm，高度尺寸为约200mm。

近年来，实际使用的微波炉具有水平方向上更宽的加热室构造，其包括用于容纳食物的空间的平的底表面，具有与深度尺寸相比相对更大的增加的宽度尺寸(400mm或更大)，从而改进了在加热室中放置和加热多个餐具的便利性。

此外，随着微波炉功能的增加，微波炉已经被引入到除了常见的所谓“加热功能”(使食物受到微波辐射以加热食物的高频加热)以外还具有“烧烤功能”的市场。烧烤功能包括对放置有食物的加热板进行加热从而经由加热板对食物进行加热的方法、用加热器加热食物的方法、或者通过组合这些方法用直火烧型式(使烹调后的食物的成品外面松脆、里面多汁)来烹调食物的功能。

如图12所示，图12示出了常规高频加热装置的框图，通常，此类型的高频加热装置300包括：波导管303，用于传送从作为典型的微波发生装置的磁控管300放射的微波；加热室301；载置台306，固定在加热室301中，用于放置作为典型的待加热物的食物(未示出)，由于该载置台306由诸如陶瓷或玻璃的低损失电介质材料制成，因此其具有容易透过微波的性质；天线空间310，限定在加热室301内的载置台306的下方；旋转天线305，安装在加热室301的中心位置附近，并从波导管303延伸到天线空间310，从而使波导管303中的微波辐射到加热室301中；电机304，作为用于旋转地驱动旋转天线305的典型驱动装置；加热板308，根据应用场合安装在加热室301中；板接收部307，用于支撑加热板308；和加热器309，用于进行电加热。

当选择加热功能以通过高频加热直接加热待加热物时，在食物等放置在载置台306上的状态下执行高频加热操作。从磁控管302放射的微波经由波导管303传送至旋转天线305，然后微波从旋转天线305的辐射部朝加热室301辐射。此时，一般地，旋转天线305在以恒定速度旋转的同时辐射微波，从而使微波在加热室301内均匀地搅动。

当选择直火烧型式的烧烤功能时，食物(例如，鸡腿、鱼等)放置在位于板接收部307上的加热板308上。在该状态下，位于食物上方的加热器309执行对食物正面的加热处理。另一方面，由微波加热至高温的加热板308执行对食物背面的加热处理。

在通过使微波集中于食物的烹调中，因微波的性质，食物内部的水分被过度蒸发。相反，在由加热器和加热板对食物进行加热的过程中，食物能够以直火烧型式加工，使得食物表面是松脆的，而水分和滋味被封在食物内部(参见专利文献1)。

专利文献1：JP-A-2004-71216(第5-7页，图1)

发明内容

技术问题

在上述的常规烹调装置中，在被设置在加热室301中的加热板308分割的加热室301的下部进行高频波的加热处理。进一步期望的是，缩短高频加热处理时间，以缩短烹调时间。

为了解决现有技术中的问题，已经做出本发明，本发明的目的是提供一种烹调装置，该烹调装置可以利用位于被加热板分割的加热室的下部的高频波来缩短加热处理时间。

技术方案

根据本发明，提供了一种烹调装置，其包括：加热室，具有底表面，第一待加热物放置在该底表面上；加热板，可拆卸地设置在加热室中，并具有上表面，第二待加热物放置在该上表面上；设置在加热室的上侧的上热源和设置在加热室的下侧的下热源，下热源至少包括高频热源；操作单元，构造成接收有关对第一和第二待加热物的加热处理的信息的输入；控制单元，构造成基于通过操作单元输入的有关加热处理的信息而单独地控制上热源和下热源；和反射部，设置在加热板的下方，并构造成向左和向右反射从高频热源供应的高频波。

通过该构造，在控制单元的控制下，基于通过操作单元输入的烹调信息，放置在位于加热室的底表面的载置台上的第一待加热物可以由包括高频热源的下热源烹调。同时，放置在将加热室分成上下两个部分的加热板上的第二待加热物可以由上热源烹调。此时，从高频热源供应的高频波被设置在加热板下方的反射部反射，然后辐射在第一待加热物上。因此，可以有效率地烹调第一待加热物，从而能够缩短烹调时间。

此外，根据本发明，提供了一种烹调装置，其包括：加热室，具有底表面，第一待加热物放置在该底表面上；加热板，可拆卸地设置在加热室中，并具有上表面，第二待加热物放置在该上表面上；热源，构造成对加热室进行加热；操作单元，构造成接收有关对第一和第二待加热物的加热处理的信息的输入；和控制单元，构造成基于通过操作单元输入的有关加热处理的信息来控制热源，其中，控制单元进行控制，使得加热室中加热板上侧的温度比加热板下侧的温度高，并且其中，反射部设置在加热板的下方，用于向左和向右反射从高频热源供应的高频波。

通过该构造，在控制单元的控制下，可以基于通过操作单元输入的烹调信息，来烹调放置在位于加热室的底表面的载置台上的第一待加热物。同时，可以烹调放置在将加热室分成上下两个部分的加热板上的第二待加热物。此时，通过将加热板上侧的温度控制得比加热板下侧的温度高，来烹调第二待加热物。此外，从高频热源供应的高频波被设置在加热板下方的反射部反射，从而辐射在第一待加热物上。因此，可以有效率地烹调第一和第二待加热物，从而能够缩短烹调时间。

此外，在本发明的烹调装置中，V槽形成在反射部上，并沿着加热室的前后方向延伸。

通过该构造，从下方辐射在加热板上的高频波到达形成在反射部上的V槽的斜面，从而向左和向右分散。因此，高频波可以均匀地辐射在第一待加热物上，从而可以有效率地烹调第一待加热物。

此外，在本发明的烹调装置中，反射部限定出向下凸出的弯曲表面。

通过该构造，从下方辐射在加热板上的高频波到达反射部的弯曲表面，并向左和向右分散。因此，高频波可以均匀地辐射在第一待加热物上，从而可以有效率地烹调第一待加热物。

此外，本发明的烹调装置还包括蒸汽热源，该蒸汽热源构造成向加热室中的加热板的上侧和下侧中至少之一供应蒸汽。

通过该构造，可以对第一待加热物和第二待加热物中至少之一进行蒸汽加热，从而可以在使待加热物的表面的湿气增加的状态下加热待加热物。

此外，本发明的烹调装置包括：温度检测装置，用于检测待加热物的温度，其中，在烹调第一待加热物和第二待加热物中之一的单品烹调的情况下，控制单元基于温度检测装置检测到的温度来控制热源，并且其中，在烹调第一待加热物和第二待加热物的情况下，控制单元基于时间来控制热源。

通过该构造，在单品烹调的情况下，基于温度检测装置检测到的温度来控制热源，而在烹调第一和第二待加热物的情况下，基于时间来控制热源，从而可以进行有效率的烹调。

此外，本发明的烹调装置包括加热元件，该加热元件构造成通过吸收高频波来产热，并且设置于加热板的反射部的一部分处。

通过该构造，由于加热板通过吸收一部分高频波而被加热，因此，放置在加热板上的第二待加热物可以从下侧被加热，由此可以有效率地烹调第二待加热物。

此外，本发明的烹调装置包括设置在热源的一部分处的光学加热器。

通过该构造，可以通过使用光学加热器在短时间内获得强加热能力，以进行有效率的烹调。

此外，在本发明的烹调装置中，光学加热器是蒸汽透过型加热器(steamtransmissive heater)。

通过该构造，由于可以在使用蒸汽热源的同时使用光学加热器，因此可以在使待加热物的表面的湿气增加的状态下快速地加热待加热物。

有益效果

在本发明中，在控制单元的控制下，基于通过操作单元输入的烹调信息，放置在位于加热室的底表面的载置台上的第一待加热物可以由包括高频热源的下热源烹调。同时，放置在将加热室分成上下两个部分的加热板上的第二待加热物可以由上热源烹调。此时，从高频热源供应的高频波被设置在加热板下方的反射部反射，然后辐射在第一待加热物上。因此，本发明可以提供具有如下优点的烹调装置：可以有效率地烹调第一待加热物，从而可以缩短烹调时间。

附图说明

图1是根据本发明第一实施例的烹调装置的示意性透视图。

图2是在左右方向上切割烹调装置得到的截面图。

图3是在前后方向上切割本发明实施例的烹调装置得到的截面图。

图4是示出温度检测装置检测加热室内的温度的状态的截面图。

图5是温度检测装置的截面图。

图6是示出温度检测装置的检测范围的平面图。

图7是加热板的透视图。

图8是加热板的截面图，用于显示反射部。

图9是加热板的截面图，用于显示加热元件。

图10是加热板的截面图，用于显示另一示例的反射部。

图11是加热板的截面图，用于显示另一示例的加热元件。

图12是常规高频加热装置的框图。

附图标记说明

10 烹调装置

11 加热室

11c 底表面

12a 第一待加热物

12b 第二待加热物

20 红外线产生装置(上热源)

20a 氩加热器(光学加热器)

20b 陶瓷加热器(光学加热器)

21 高频热源(下热源)

22 蒸汽热源

23 操作单元

24 控制单元

30 加热板

30a 上表面

31 反射部

31a V槽

31b 弯曲表面

34 加热元件

50 温度检测装置

具体实施方式

下面将参照附图描述根据本发明实施例的烹调装置。图1是根据本发明第一实施例的烹调装置的示意性透视图，图2是沿左右方向(朝向烹调装置的前部观察时的左右方向)切割烹调装置得到的截面图，图3是沿前后方向(朝向烹调装置的前部观察时的前后方向)切割本发明实施例的烹调装置得到的截面图，图4是示出温度检测装置检测加热室内的温度的状态的截面图，图5是温度检测装置的截面图，图6是示出温度检测装置的检测范围的平面图，图7是加热板的透视图，图8是加热板的截面图，用于显示反射部，图9是加热板的截面图，用于显示加热元件，图10是加热板的截面图，用于显示另一示例的反射部，图11是加热板的截面图，用于显示另一示例的加热元件。

如图1和2所示，本发明的烹调装置包括加热室11，加热室11具有底表面12c，第一待加热物12a放置在该底表面12c上，并且，具有上表面30a的加热板30可拆卸地设置在加热室11中，第二待加热物12b放置在该上表面30a上。从而，加热室11被加热板30分成下加热室11a和上加热室11b。此外，烹调装置包括：上热源(20)，设置在加热室11的上侧；下热源(21)，设置在加热室11的下侧，并具有至少高频热源21；操作单元23，构造成接收有关对第一和第二待加热物12a、12b的加热处理的信息的输入；以及控制单元24，构造成基于通过操作单元23输入的有关加热处理的信息而单独地控制上热源(20)和下热源(21)。

门13设置在加热室11的前开口处，其打开和闭合以密闭加热室11。门13包括透光窗13a，通过该透光窗13a可以看到加热室11的内部。操作面板23设置在例如门13的下方，并包括命令加热开始的启动开关23a、命令加热结束的取消开关23b、显示部23c、以及用于选择事先备好的烹调程序或允许进行手动操作的标度盘旋钮23d。以此方式，操作面板23设置在加热室11的内部容易被看到的位置，从而可以在确认加热室11的内部和显示部23c上的显示内容的同时容易地操作开关或标度盘旋钮。

如图2和3所示，例如，作为蒸汽透过型的光学加热器的红外线产生装置20可以用作设置在加热室11的上侧的上热源(20)。三个加热器作为红外线产生装置20，包括例如设置在天花板表面的中央的氩加热器(argonheater)20a和分别设置在氩加热器20a的前侧和后侧的陶瓷加热器(Miraclonheater)20b。红外线产生装置20和高频热源21由控制单元24控制，使得氩加热器20a和陶瓷加热器20b辐射难以被蒸汽吸收的波长的红外线，从而允许红外线透过蒸汽。因此，红外线施加到第二待加热物12b(或者，在没有设置加热板30时施加到第一待加热物12a)，以进行烹调。

氩加热器20a包括作为芯线的钨丝，氩气密封在透明的管状元件中。该氩加热器20a具有与陶瓷加热器20b相比更快被激活的特性。

虽然陶瓷加热器20b已经被作为常规的使用，但是陶瓷加热器20b产生的波长比氩加热器20a的波长长，并且陶瓷加热器20b与云母加热器相比被更快地激活。因此，陶瓷加热器20b适于将第一和第二待加热物12a、12b的表面烘焦。此外，陶瓷加热器20b的特点是低成本。

这里，当陶瓷加热器20b用于微波炉时，陶瓷加热器20b可能会吸收微波并可能会受热，从而所使用的玻璃材料可能会熔化。因此，优选的是使用白色管形式的陶瓷加热器20b，其具有相对较低的介电常数，难以吸收微波。

因此，可以在短时间内获得强加热能力，并且可以实现有效率的烹调。正如这里所使用的，如果有的话，氩加热器20a和陶瓷加热器20b也被统称为管式加热器(20)。

如图2和3所示，至少高频热源21用作设置在加热室11的下侧的下热源。换言之，可以设置除了高频热源21以外的热源。高频热源21包括作为高频发生装置的磁控管21，并且设置有构造成用于将从磁控管21产生的高频波引导到加热室11中的波导管42以及构造成向加热室11辐射无线电波的旋转天线43。旋转天线43构造成具有辐射指向性。该实施例的烹调装置10构造成将具有高辐射指向性的旋转天线43的至少一部分控制为处于预定的取向，以使微波向特定的方向集中和辐射。图3中所示的从底表面12c朝加热室11的天花板的方向延伸的箭头表示从旋转天线43辐射的微波。箭头的取向表示微波辐射的方向，箭头的长度表示微波的强度。图3示出微波强烈地朝加热板的周边部的附近辐射的情况。

此外，如图3所示，烹调装置10包括位于在加热室11远侧的隔板11d的后面的连通通路14、循环风扇15和加热器16。加热室11内的空气被循环风扇15抽吸，并被加热器16加热(图3中由循环风扇15吸入的空气流由从加热室11指向循环风扇15的箭头表示)。然后，经加热的空气可以从设置在隔板11d中的出口孔被送出至加热室11中(经加热的空气流由从加热器16指向加热室11的箭头表示)。

此外，本发明的烹调装置10优选地还包括蒸汽热源22，用于向在加热室11中限定在加热板30的上侧和下侧的上下加热室11b、11a中至少之一供应蒸汽。

即，如图2和3所示，蒸汽产生装置22设置在加热室11的下侧，以将蒸汽供应至加热室11中。由于蒸汽连续地供应至加热室11中以在加热室11中循环，因此与第一待加热物12a邻接的区域中的蒸汽浓度不会变为零，这可以防止第一待加热物12a的表面被过度烘焦。此外，由于蒸汽还循环至由加热板30限定的上加热室11b，因此促进了第二待加热物12b的内部的温度升高，这可以防止在弄熟第二待加热物12b的中心部时位于加热板30上的第二待加热物12b的表面被过度烘焦。此外，由于适当的湿度提供给第二待加热物12b的表面，因此第二待加热物12b的表面被蒸汽包围。因此，第二待加热物12b内部的水分不容易流失。这样，第二待加热物12b可以被烹调成表面烤得松脆，而内部保持多汁。

以此方式，通过使用作为光学加热器的红外线产生装置20，并使用作为蒸汽透过型加热器的红外线产生装置20，可以在使用蒸汽热源22的同时使用光学加热器。因此，待加热物可以在待加热物12b的表面的湿度增加的状态下被快速加热。

此外，如图4所示，本发明的烹调装置10包括用于检测待加热物12a、12b的温度的温度检测装置50。在烹调第一待加热物12a或第二待加热物12b的单品烹调的情况下，控制单元24优选地基于温度检测装置50检测到的温度来控制热源20、21、22。当烹调第一待加热物12a和第二待加热物12b时，控制单元24优选地基于时间来控制(参见图2)热源20、21、22。

如图5所示，温度检测装置50包括：多个红外线检测器103，设置在基板109上以排成一列；壳体108，容纳整个基板109；和步进电机101，用于使壳体108在与红外线检测器103布置的方向垂直的方向上移动。

将红外线检测器103密封在其中的金属罐105和用于处理红外线检测器的操作的电子电路110设置在基板109上。此外，罐105设置有透镜104，红外线通过该透镜104。此外，能够使红外线通过的红外线通过孔106和能够使来自电子电路110的引线通过的孔107设置在壳体108中。

步进电机101的旋转运动可以使壳体108在与红外线检测器103排成一行的方向垂直的方向上移动。

图6是解释沿着图4中的C-C’线剖开的截面上的红外线温度检测点的示图。如图6所示，与步进电机101的往复旋转运动联合，该实施例的烹调装置10可以检测加热室11内的几乎全部区域的温度分布。

具体地，例如，首先，温度检测装置的温度检测元件103(例如，红外线传感器)同时检测图6中的区域A1至A4中的温度分布。接下来，当步进电机101旋转以使壳体108移动时，温度检测元件103检测区域B1至B4中的温度分布。进一步地，步进电机101旋转以使壳体108移动，从而温度检测元件101检测区域C1至C4中的温度分布。类似地，检测区域D1至D4中的温度分布。

上述操作之后，当步进电机101反向旋转时，以区域D1至D4、区域C1至C4、区域B1至B4和区域A1至A4的相反顺序来检测温度分布。通过重复上述操作，温度分布检测装置可以检测加热室11的整个内部的温度分布。

通过该构造，当进行单品烹调时，基于温度检测装置50检测到的温度来控制热源20、21、22。当烹调第一和第二待加热物12a、12b时，基于时间来控制热源20、21、22。这样，可以实现有效率的烹调。

如图2所示，锁定部17设置在加热室11的相对侧壁11e、11f上。加热板30被支撑在锁定部17上，从而将加热室11分成上和下加热室11b、11a，并且还允许第二待加热物12b放置在其上。

如图7所示，加热板30在整体上具有矩形的板状形状，并包括设置在其左右两边的树脂把手33，由此，加热板30可以沿着加热室11的锁定部17在前后方向上从加热室11中拉出以及装入加热室11中。连通孔32设置在加热板30的周边部，从而在加热室11内在由加热板30分割的上加热室和下加热室之间建立连通。因此，蒸汽产生在由加热板30分割的加热室11的下部，并且产生的蒸汽通过设置在加热板30的周边部的连通孔32被引导至上加热室11b中，由此对放置在加热板30上的第二待加热物12b进行烹调。图3示出从由加热板30限定的下部空间指向由加热板30限定的上部空间的箭头通过加热板30的周边部。这些箭头表示指向上部空间的蒸汽流。

如图8所示，反射部31设置在加热板30的下侧(在该实施例中，设置在加热板30的下表面上)，该反射部31将从高频热源21供应的高频波向左和向右反射。反射部31可以通过例如形成沿着加热室11的前后方向(与图8所在的纸面垂直的方向)延伸的多个V槽31a而构造出。要指出，虽然V槽31a可以与加热板30一体形成，但也可以将具有V槽31a的单独元件附接到加热板30的下表面。

通过如上所述在加热板30的下侧设置反射部31，从下方辐射到加热板30上的高频波到达反射部31上的V槽31a的斜面，从而向左和向右分散。因此，高频波可以均匀地辐射在第一待加热物12a上，从而可以有效率地烹调第一待加热物12a。

此外，如图9所示，优选地，在加热板30上的反射部31的一部分上设置加热元件34。加热元件34由例如铁氧体橡胶(ferrite rubber)制成，并通过吸收高频波来产热。加热元件34可以设置在例如朝下加热室11a的中心反射高频波的表面上。结果，使到达加热板30的高频波向左和向右反射。此外，通过使与加热元件34接触的加热板30的下表面保持未上漆状态，增加了热传导率，从而能够缩短烹调时间。

由此，由于加热元件34吸收一部分高频波以加热加热板30，因此放置在加热板30上的第二待加热物12b可以从下侧受热，从而能够有效率地烹调第二待加热物12b。

此外，对于图10所示的加热板30B，向下凸出的弯曲表面31b(中心在加热板30B的前后方向上的圆柱形状)可以形成为反射部31。对于弯曲表面31b，可以采用圆形截面、椭圆形截面、抛物线截面等。弯曲表面31b可以与加热板30B一体设置。然而，弯曲表面31b可以单独地设置，以附接到加热板30B的下表面。

由此，允许从下方辐射到加热板30B上的高频波到达反射部31的弯曲表面31b，从而向左和向右分散。因此，高频波可以均匀地辐射在第一待加热物12a上，从而可以有效率地烹调第一待加热物12a。

此外，如图11所示，优选地，通过吸收高频波而产热的加热元件34部分地设置在加热板30B的反射部31上。例如，预定宽度的加热元件34可以在左右方向上以恒定间隔设置。

由于加热板30因加热元件34吸收一部分高频波而被加热，因此放置在加热板30B上的第二待加热物12b可以从下侧被加热，由此可以有效率地烹调第二待加热物12b。

这样，根据上述的烹调装置10，在控制单元24的控制下，基于通过操作单元23输入的烹调信息，放置在加热室11的底表面12c上的第一待加热物12a可以由包括高频热源的下热源21烹调。同时，放置在将加热室11分成上下加热室的加热板30上的第二待加热物12b可以与此同时由上热源20烹调。此时，从高频热源21供应的高频波被设置在加热板30下方的反射部31反射，从而辐射在第一待加热物12a上。因此，可以进行有效率的烹调，从而能够缩短烹调时间。

接下来，将描述本发明的第二实施例。要指出，用于描述第一实施例的附图被共用，并省去类似的重复说明。

根据第二实施例的烹调装置10B包括控制单元24，该控制单元24构造成进行控制，使得加热室11中限定在加热板30的上侧的的加热室11b的温度变得比限定在加热板30的下侧的加热室11a的温度高，并且反射部31设置在将从高频热源21供应的高频波向左和向右反射的加热板30的下方。

通过该构造，在控制单元24的控制下，基于从操作单元23输入的烹调信息，来烹调放置在加热室11的底表面12c上的第一待加热物12a。同时，可以烹调放置在将加热室11分成上下两个部分的加热板30上的第二待加热物12b。此时，通过将限定在加热板30的上侧的加热室11b的温度设定成比限定在加热板30的下侧的加热室11a的温度高，来烹调第二待加热物12b，并且从高频热源21供应的高频波被设置在加热板30下方的反射部31反射，以辐射在第一待加热物12a上。因此，可以有效率地烹调第一和第二待加热物12a、12b，从而能够缩短烹调时间。

本发明的烹调装置不限于上述的实施例，而是可以按照需要修改和改进。

本专利申请基于2007年12月27日提交的日本专利申请(No.2007-337593)，这里将其公开内容引入作为参考。

工业实用性

根据本发明的烹调装置，在控制单元的控制下，基于通过操作单元输入的烹调信息，放置在位于加热室的底表面的载置台上的第一待加热物可以由包括高频热源的下热源烹调。同时，放置在将加热室分成上下两个部分的加热板上的第二待加热物可以由上热源烹调。此时，从高频热源供应的高频波被设置在加热板下方的反射部反射，然后辐射在第一待加热物上。因此，本发明的烹调装置具有如下优点：可以有效率地烹调第一待加热物，从而能够缩短烹调时间。因此，本发明在涉及对待加热物进行电介质加热的烹调装置的领域中是有用的。

Claims

1.一种烹调装置，包括：

加热室，具有底表面，第一待加热物放置在该底表面上；

加热板，可拆卸地设置在加热室中，并具有上表面，第二待加热物放置在该上表面上；

设置在加热室的上侧的上热源和设置在加热室的下侧的下热源，下热源包括至少高频热源；

操作单元，构造成接收有关对第一和第二待加热物的加热处理的信息的输入；

控制单元，构造成基于通过操作单元输入的有关加热处理的信息而单独地控制上热源和下热源；和

反射部，设置在加热板的下方，并构造成向左和向右反射从高频热源供应的高频波。

2.根据权利要求1的烹调装置，其中，V槽形成在反射部上，并沿着加热室的前后方向延伸。

3.根据权利要求1的烹调装置，其中，反射部限定出向下凸出的弯曲表面。

4.根据权利要求1的烹调装置，还包括蒸汽热源，该蒸汽热源构造成向加热室中的加热板的上侧和下侧中至少之一供应蒸汽。

5.根据权利要求1的烹调装置，还包括：

温度检测装置，用于检测待加热物的温度，

其中，在烹调第一待加热物和第二待加热物中之一的单品烹调的情况下，控制单元基于温度检测装置检测到的温度来控制热源，并且

其中，在烹调第一待加热物和第二待加热物的情况下，控制单元基于时间来控制热源。

6.根据权利要求1的烹调装置，包括加热元件，该加热元件构造成通过吸收高频波来产热，并且设置于加热板的反射部的一部分处。

7.根据权利要求1的烹调装置，包括设置在热源的一部分处的光学加热器。

8.根据权利要求7的烹调装置，其中，光学加热器是蒸汽透过型加热器。