JP2009154371A - 記録ヘッド、及びこれを備えた記録装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係るサーマルヘッド10は、基板21と、基板21に配列される複数の発熱部23Aと、発熱部23Aに対して電気的に接続される導電層30と、導電層30を酸化してなる絶縁層40と、を有するものであって、導電層30が、発熱部23Aに接続される第1,第2接続部31A,32Aと、第1,第2接続部31A,32Aに比べて長手方向D2,D3に沿った断面積の小さい第1,第2伝導部31B,32Bと、を有しており、絶縁層40が、第1,第2伝導部31B,32Bの表面に形成されている。
【選択図】図3
Description
図5(a)に示すように、基板21上に蓄熱層22を形成する。具体的には、スパッタリングなどの成膜技術により蓄熱層を成膜した後、フォトリソグラフィなどの微細加工技術により該蓄熱層を所望のパターンに加工することによって、蓄熱層22が形成される。
図5(b)に示すように、基板21上に、これに形成された蓄熱層22上に位置するようにして抵抗体層23を形成する。具体的には、スパッタリングや蒸着などの成膜技術により抵抗体膜を成膜した後、フォトリソグラフィなどの微細加工技術により該抵抗体膜を所望のパターンに加工することによって、抵抗体層23が形成される。
図5(c)に示すように、基板21上に形成された抵抗体層23上に位置するようにして導電層30を形成する。具体的には、スパッタリングや蒸着などの成膜技術により導体膜としてアルミニウム膜を厚みTで成膜した後、フォトリソグラフィなどの微細加工技術により該アルミニウム膜を所望のパターンに加工することによって、導体層30が形成される。この導体層形成工程では、抵抗体層23の一部を露出させることにより、発熱部23Aが併せて形成される。
図5(d)に示すように、基板21上に形成された導電層30を覆うようにして絶縁層40を形成する。具体的には、フォトリソグラフィなどの微細加工技術により該アルミニウム上にマスクを形成して絶縁層を形成する領域に位置する導電層30の一部を露出させる。次に、この露出した導電層30の一部を陽極酸化し、絶縁層40が形成される。この陽極酸化は、溶液中に基板21を浸すとともに、導電層30に正の電圧を、溶液に負の電圧を印加することによって行われる。この溶液としては、例えばリン酸、ホウ酸、シュウ酸、酒石酸、および硫酸などの電解液が挙げられる。本実施形態の絶縁層40は、基板21上の領域毎に厚みの異なる部位を有している。このように厚みの異なる部位は、部位毎にマスクを形成したり、厚みの大きい部位のみを複数回陽極酸化したりすることにより形成される。また、導電層30の厚みTは、この工程で形成した絶縁層40の厚みに応じて小さくなる。
図5(e)に示すように、基板21上に形成された蓄熱層22、抵抗体層23、導電層30、および絶縁層40を覆うようにして保護層24を形成する。具体的には、フォトリソグラフィなどの微細加工技術により保護部位上を露出させるようにマスクを形成し、スパッタリングや蒸着などの成膜技術により保護膜40が形成される。
基体10の所定の領域に駆動IC101を配置する。
基体10の所定の領域に外部接続用部材102を配置する。
10 サーマルヘッド
11 搬送機構
111 プラテンローラ
112,113,114,115 搬送ローラ
12 駆動手段
101 駆動IC
102 外部接続用部材
20,20w,20x,20y,20z 基体
21 基板
22 蓄熱層
23 発熱部
24 保護層
30,30w,30x,30y,30z 導電層
31,31w,31y,31z 第1電極
31A 第1接続部
31B,31Bw,31By,31Bz 第1伝導部
32,32w,32y,32z 第2電極
32A 第2接続部
32B,,31w,31y,31z 第2伝導部
33 共通電極
34,35,36 30xを構成する電極
40 絶縁層
W1 長手D2,D3方向に沿った発熱部23Aの平面視幅
W2 長手D2,D3方向に沿った第1伝導部31Bの平面視幅
W3 長手D2,D3方向に沿った第2伝導部32Bの平面視幅
W4 長手D2,D3方向に沿った絶縁層40の平面視幅
T1 絶縁層40の部位40aの厚み
T2 絶縁層40の部位40bの厚み
T3 絶縁層40の部位40dの厚み
T4 絶縁層40の上面の高さ
L1 矢印D1方向に沿った第1伝導部31Bの長さ
L2 矢印D1方向に沿った第2伝導部32Bの長さ
P 記録媒体
Claims (12)
- 基板と、該基板に配列される複数の発熱部と、該発熱部に対して電気的に接続される導電層と、該導電層を主として構成する金属材料の酸化物を含む絶縁層と、を有しており、
前記導電層は、前記発熱部に接続される第1部位と、該第1部位に比べて前記発熱部の配列方向に沿った断面積の小さい第2部位と、を含んでなり、
前記絶縁層は、前記第2部位の表面に形成されていることを特徴とする、記録ヘッド。 - 前記絶縁層は、前記第1部位の表面に更に形成されており、
前記絶縁層の厚みは、前記第1部位の表面に形成される部位に比べて前記第2部位の表面に形成される部位が大きいことを特徴とする、請求項1に記載の記録ヘッド。 - 前記絶縁層は、前記第1部位の表面に更に形成されており、
前記絶縁層の平面視幅は、前記第1部位の表面に形成される部位と前記第2部位の表面に形成される部位とで略等しいことを特徴とする、請求項1または2に記載の記録ヘッド。 - 前記絶縁層は、前記第1部位の表面に更に形成されており、
前記導電層の下面に対する前記絶縁層の上面の高さは、前記基板の厚み方向において、前記第1部位の表面に形成される部位と前記第2部位の表面に形成される部位とで略等しいことを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の記録ヘッド。 - 前記第2部位の平面視幅は、前記第1部位の平面視幅より小さいことを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の記録ヘッド。
- 前記導電層は、前記発熱部の一端に接続される第1導電層と、該発熱部の他端に接続される第2導電層と、を含んでなり、
前記第2部位の平面視幅は、前記第1導電層と前記第2導電層とで異なることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の記録ヘッド。 - 前記第2導電層は、複数の前記発熱部に接続されており、
前記第2部位の平面視幅は、前記第1導電層に比べて前記第2導電層が大きいことを特徴とする、請求項6に記載の記録ヘッド。 - 前記導電層は、前記発熱部の一端に接続される第1導電層と、複数の前記発熱部の他端に接続される第2導電層と、を含んでなり、
前記第2部位の体積は、前記第1導電層に比べて前記第2導電層が大きいことを特徴とする、請求項1から7のいずれかに記載の記録ヘッド。 - 前記第2部位の平面視幅は、前記発熱部より離れるにつれて漸次大きくなることを特徴とする、請求項1から8のいずれかに記載の記録ヘッド。
- 前記絶縁層の厚みは、前記第2部位の平面視幅が小さくなるにつれて漸次大きくなることを特徴とする、請求項1から9のいずれかに記載の記録ヘッド。
- 前記絶縁層は、前記導電層に比べて硬度が大きいことを特徴とする、請求項1から10のいずれかに記載の記録ヘッド。
- 請求項7または8に記載の記録ヘッドと、前記発熱部上に記録媒体を押圧する押圧手段と、を備えており、前記押圧手段の押圧力が最も大きくなる領域が前記発熱部の中央より前記第2導体層側に位置することを特徴とする、記録装置。
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