JP2009154036A - 発色構造体とその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】所定のパターンを容易に形成できる発色構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されるパターン部BPと、パターン部の周囲に形成される非パターン部NPとが設けられ、所定の発色特性を有する。パターン部と非パターン部とのいずれか一方に、第1液状体材料により第1の屈折率を有する第1透明薄膜F1を液滴吐出法によって発色特性に基づく厚さで成膜する第1工程と、第1透明薄膜上に、第2液状体材料により第2の屈折率を有する第2透明薄膜F2を液滴吐出法によって発色特性に基づく厚さで成膜する第2工程とを有する。第1工程及び第2工程を交互にそれぞれ複数回繰り返して、第1透明薄膜及び第2透明薄膜を積層する。
【選択図】図6

Description

本発明は、発色構造体とその製造方法に関するものである。
装飾用部材(例えば、時計文字盤、ブレスレット、ブローチ、携帯電話筺体等)や、自動車用部材(内装ダッシュボード等)の高級化に伴い、アルミフレーク光輝材を用いた従来のメタリック塗装だけではなく、雲母片や加工雲母などを光輝材として用いることで、塗装面の質感向上を表現する努力がなされている。
しかし、上記の技術では、色調に対しては、光輝材の影響はあるものの、その主因子は顔料や染料によるものであり、退色が避けられないのが現状である。
そこで、特許文献1には、モルフォ蝶の羽に着目した発色構造体の技術が記載されている。この技術は、TiO等で構成された短冊状の光触媒物質薄膜層と、光触媒薄膜層よりも細い短冊状のSiO等で構成された支持物質薄膜層を交互に積層した多層構造体を形成し、この多層構造体を複数配列した光発色部材を有するものであり、スパッタリング等による多層薄膜形成の後に、ドライエッチングやウエットエッチングによって支持物質を所定量除去して空隙を設けることで形成される。このように、上記の技術は、空隙を有する多層膜構造とすることで、光触媒が接触する表面積を大きくできるため、より高い光触媒効果が期待できる。特に、光触媒層と空隙層との光学的層厚を発色光波長の1/4とすることによる光干渉効果と、配列された構造体による回折格子効果により、金属光沢を有するような鮮やかな発色を実現することができる。
特許第3443656号
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
多層薄膜形成に用いるスパッタリングや、支持物質薄膜層を形成する際に用いるエッチングには、工数が掛かるとともに、露光機等、大型の設備も必要になり、生産性が悪いという問題がある。
また、上記発色構造体では、文字や模様等の特定のパターンをもって発色させる場合には、例えば当該パターン形状に発色構造体を形成したり、発色構造体の一部を当該パターン形状で除去するといった方法が考えられるが、いずれの場合も、多層薄膜形成の後に、ドライエッチングやウエットエッチングによって支持物質を所定量除去して支持物質薄膜層を形成した後に、さらにエッチング等により発色構造体をパターニングする必要があり、膨大な手間がかかるという問題がある。
さらに、上記の技術では、支持物質のみを除去するエッチング剤を用いているが、パターニングを行う際には、光触媒物質薄膜層と支持物質薄膜層との双方を除去するエッチング剤を用いる必要があり、さらなる作業量の増加及びコストアップを招いてしまう可能性がある。
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、所定のパターンを容易に形成できる発色構造体とその製造方法を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の発色構造体の製造方法は、所定のパターンが形成されるパターン部と、該パターン部の周囲に形成される非パターン部とが設けられ、所定の発色特性を有する発色構造体の製造方法であって、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方に、第1液状体材料により第1の屈折率を有する第1透明薄膜を液滴吐出法によって前記発色特性に基づく厚さで成膜する第1工程と、第1透明薄膜上に、第2液状体材料により第2の屈折率を有する第2透明薄膜を液滴吐出法によって前記発色特性に基づく厚さで成膜する第2工程とを有し、前記第1工程及び第2工程を交互にそれぞれ複数回繰り返して、前記第1透明薄膜及び前記第2透明薄膜を積層することを特徴とするものである。
従って、本発明の発色構造体の製造方法では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方が所定の発色特性を有することになるため、所定の発色特性を有さない前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方とのコントラストにより、所定のパターン形状をもって発色させることが可能になる。
また、本発明の発色構造体の製造方法では、第1液状体材料及び第2液状体材料をそれぞれ発色特性に基づく厚さで成膜するという簡単な方法で発色構造体を形成できるため、露光機等、大型の設備も不要になり、効率的な製造が可能になる。
この発色特性としては、第1液状体材料(第1透明薄膜)、第2液状体材料(第2透明薄膜)の屈折率をn1、n2とし、第1透明薄膜、第2透明薄膜の厚さをt1、t2とし、第1透明薄膜、第2透明薄膜の屈折角をθ1、θ2とすると、反射波長λは2×(n1×t1×cosθ1+n2×t2×cosθ2)で表され、反射率(反射強度)Rは(n1−n2)/(n1+n2)で表される。さらに、発色強度は光学厚みが、n1×t1=n2×t2=λ/4のときが最大となる。
従って、本発明では、用いる材料により、屈折率n1、n2、及び屈折角θ1、θ2が予め設定されている場合には、第1透明薄膜、第2透明薄膜の厚さt1、t2を上記の式に基づいて適宜設定することにより、所望波長の光を高い発色強度にて発色させることが可能になる。
また、本発明では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方に、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方とは異なる第2発色特性を有する膜体を成膜する膜体成膜工程を有する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方の所定発色特性と、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方の第2発色特性との違いにより、コントラストが生じ、所定のパターン形状をもって味わいのある色で発色させることが可能になる。
前記膜体成膜工程としては、第3液状体材料により第3の屈折率を有する第3透明薄膜を液滴吐出法によって前記第2発色特性に基づく厚さで成膜する第3工程と、第3透明薄膜上に、第4液状体材料により第4の屈折率を有する第4透明薄膜を液滴吐出法によって前記第2発色特性に基づく厚さで成膜する第4工程とを有し、前記第3工程及び第4工程を交互にそれぞれ複数回繰り返して、前記第3透明薄膜及び前記第4透明薄膜を積層する手順を好適に採用できる。
これにより、本発明では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方においても、上述した第1液状体材料(第1透明薄膜)、第2液状体材料(第2透明薄膜)を用いる場合と同様に、第3透明薄膜、第4透明薄膜の厚さを上記の式に基づいて適宜設定することにより、所望波長の光を高い発色強度にて発色させることが可能になる。
また、本発明では、前記第3液状体材料が、前記第1液状体材料と前記第2液状体材料とのいずれか一方であり、前記第4液状体材料が、前記第1液状体材料と前記第2液状体材料とのいずれか他方である構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方を、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方と同じ材料を用いて成膜することができる。
また、上記の構成では、前記第3の屈折率は、前記第4の屈折率よりも小さく、前記第3透明薄膜の厚さを前記第4透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、上述した式に対応する式n3×t3=n4×t4=λ/4の関係を満足させる膜厚t3、t4を適宜選択することにより、所望波長の光を高い発色強度にて発色させることが可能になる。
さらに、上記構成では、前記第3工程及び前記第4工程が、前記液状体材料を塗布する工程と、塗布した前記液状体材料を乾燥または焼成する工程とをそれぞれ有する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、第3工程及び第4工程のそれぞれで第3液状体材料、第4液状体材料が膜化されるため、塗布した第3液状体材料と第4液状体材料とが混合されてしまい発色特性に悪影響を及ぼすことを防止できる。
また、本発明では、前記第1工程及び前記第2工程が、前記液状体材料を塗布する工程と、塗布した前記液状体材料を乾燥または焼成する工程とをそれぞれ有する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、第1工程及び第2工程のそれぞれで第1液状体材料、第2液状体材料が膜化されるため、塗布した第1液状体材料と第2液状体材料とが混合されてしまい発色特性に悪影響を及ぼすことを防止できる。
また、本発明では、前記第1の屈折率が、前記第2の屈折率よりも小さく、前記第1透明薄膜の厚さを前記第2透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜する構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、上述したn1×t1=n2×t2=λ/4の関係を満足させる膜厚t1、t2を適宜選択することにより、所望波長の光を高い発色強度にて発色させることが可能になる。
また、本発明では、積層された前記第1透明薄膜及び前記第2透明薄膜のうち、最下層及び最上層に位置する透明薄膜の厚さを、他の層の透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜する構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、実験及びシミュレーションの結果から、良好な発色特性を得ることができた。
この場合、特に前記第1透明薄膜及び前記第2透明薄膜を、前記最下層及び最上層に位置する透明薄膜の厚さが、前記他の層に位置する透明薄膜の二倍の厚さで成膜することにより、良好な発光特性(反射特性)を得ることができた。
また、本発明では、前記第1透明薄膜の厚さを第1透明薄膜形成材料の粒子径に基づく厚さで形成する工程と、前記第2透明薄膜の厚さを第2透明薄膜形成材料の粒子径に基づく厚さで形成する工程との少なくとも一方の工程を有する手順を好適に採用できる。
これにより、本発明では、第1透明薄膜と第2透明薄膜との少なくとも一方を、ばらつきが少ない一定の厚さで精度よく成膜することが可能になる。
一方、本発明の発色構造体は、所定のパターンが形成されるパターン部と、該パターン部の周囲に形成される非パターン部とが設けられ、所定の発色特性を有する発色構造体であって、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方に、液滴吐出法によって第1液状体材料により前記発色特性に基づく厚さで成膜され、第1の屈折率を有する第1透明薄膜と、液滴吐出法によって第2液状体材料により前記発色特性に基づく厚さで成膜され、第2の屈折率を有する第2透明薄膜とが交互にそれぞれ複数積層されることを特徴とするものである。
従って、本発明の発色構造体の製造方法では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方が所定の発色特性を有することになるため、所定の発色特性を有さない前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方とのコントラストにより、所定のパターン形状をもって発色させることが可能になる。
また、本発明の発色構造体の製造方法では、第1液状体材料及び第2液状体材料をそれぞれ発色特性に基づく厚さで成膜するという簡単な方法で発色構造体を形成できるため、露光機等、大型の設備も不要になり、効率的な製造が可能になる。
この発色特性としては、第1液状体材料(第1透明薄膜)、第2液状体材料(第2透明薄膜)の屈折率をn1、n2とし、第1透明薄膜、第2透明薄膜の厚さをt1、t2とし、第1透明薄膜、第2透明薄膜の屈折角をθ1、θ2とすると、反射波長λは2×(n1×t1×cosθ1+n2×t2×cosθ2)で表され、反射率(反射強度)Rは(n1−n2)/(n1+n2)で表される。さらに、発色強度は光学厚みが、n1×t1=n2×t2=λ/4のときが最大となる。
従って、本発明では、用いる材料により、屈折率n1、n2、及び屈折角θ1、θ2が予め設定されている場合には、第1透明薄膜、第2透明薄膜の厚さt1、t2を上記の式に基づいて適宜設定することにより、所望波長の光を高い発色強度にて発色させることが可能になる。
また、本発明では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方に、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方とは異なる第2発色特性を有する膜体が成膜される構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方の所定発色特性と、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方の第2発色特性との違いにより、コントラストが生じ、所定のパターン形状をもって味わいのある色で発色させることが可能になる。
前記膜体としては、液滴吐出法によって第3液状体材料により前記第2発色特性に基づく厚さで成膜され、第3の屈折率を有する第3透明薄膜と、液滴吐出法によって第4液状体材料により前記第2発色特性に基づく厚さで成膜され、第4の屈折率を有する第4透明薄膜とが交互にそれぞれ複数積層される構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方においても、上述した第1液状体材料(第1透明薄膜)、第2液状体材料(第2透明薄膜)を用いる場合と同様に、第3透明薄膜、第4透明薄膜の厚さを上記の式に基づいて適宜設定することにより、所望波長の光を高い発色強度にて発色させることが可能になる。
また、本発明では、前記第3液状体材料が、前記第1液状体材料と前記第2液状体材料とのいずれか一方であり、前記第4液状体材料が、前記第1液状体材料と前記第2液状体材料とのいずれか他方である構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方を、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方と同じ材料を用いて成膜することができる。
また、上記の構成では、前記第3の屈折率は、前記第4の屈折率よりも小さく、前記第3透明薄膜の厚さを前記第4透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜する手順も好適に採用できる。
これにより、本発明では、上述した式に対応する式n3×t3=n4×t4=λ/4の関係を満足させる膜厚t3、t4を適宜選択することにより、所望波長の光を高い発色強度にて発色させることが可能になる。
また、本発明では、前記第1の屈折率が、前記第2の屈折率よりも小さく、前記第1透明薄膜の厚さを前記第2透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜する構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、上述したn1×t1=n2×t2=λ/4の関係を満足させる膜厚t1、t2を適宜選択することにより、所望波長の光を高い発色強度にて発色させることが可能になる。
また、本発明では、積層された前記第1透明薄膜及び前記第2透明薄膜のうち、最下層及び最上層に位置する透明薄膜の厚さを、他の層の透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜する構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、実験及びシミュレーションの結果から、良好な発色特性を得ることができた。
この場合、特に前記第1透明薄膜及び前記第2透明薄膜を、前記最下層及び最上層に位置する透明薄膜の厚さが、前記他の層に位置する透明薄膜の二倍の厚さで成膜することにより、良好な発光特性(反射特性)を得ることができた。
また、本発明では、前記第1透明薄膜の厚さが、第1透明薄膜形成材料の粒子径に基づく厚さで形成される構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、第1透明薄膜をばらつきが少ない一定の厚さで精度よく成膜することが可能になる。
さらに、前記第2透明薄膜の厚さが、第2透明薄膜形成材料の粒子径に基づく厚さで形成される構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、第2透明薄膜をばらつきが少ない一定の厚さで精度よく成膜することが可能になる。
以下、本発明の発色構造体とその製造方法の実施の形態を、図1ないし図22を参照して説明する。
なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
(液滴吐出装置)
まず、本実施形態に係る発色構造体の製造方法に用いる液滴吐出装置について説明する。
図1は、液滴吐出装置の概略的な構成図である。
液滴吐出装置(インクジェット装置)IJは、液滴吐出ヘッドから基板Pに対して液滴を吐出(滴下)するものであって、液滴吐出ヘッド301と、X方向駆動軸304と、Y方向ガイド軸305と、制御装置CONTと、ステージ307と、クリーニング機構308と、基台309と、ヒータ315とを備えている。ステージ307は、この液滴吐出装置IJによりインク(液状体材料)を設けられる基板Pを支持するものであって、基板Pを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
液滴吐出ヘッド301は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とX軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド301の下面にX軸方向に並んで一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド301の吐出ノズルからは、ステージ307に支持されている基板Pに対して、上述した導電性微粒子を含むインクが吐出される。
X方向駆動軸304には、X方向駆動モータ302が接続されている。X方向駆動モータ302はステッピングモータ等であり、制御装置CONTからX方向の駆動信号が供給されると、X方向駆動軸304を回転させる。X方向駆動軸304が回転すると、液滴吐出ヘッド301はX軸方向に移動する。
Y方向ガイド軸305は、基台309に対して動かないように固定されている。ステージ307は、Y方向駆動モータ303を備えている。Y方向駆動モータ303はステッピングモータ等であり、制御装置CONTからY方向の駆動信号が供給されると、ステージ307をY方向に移動する。
制御装置CONTは、液滴吐出ヘッド301に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、X方向駆動モータ302に液滴吐出ヘッド301のX方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Y方向駆動モータ303にステージ307のY方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
クリーニング機構308は、液滴吐出ヘッド301をクリーニングするものである。クリーニング機構308には、図示しないY方向の駆動モータが備えられている。このY方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構は、Y方向ガイド軸305に沿って移動する。クリーニング機構308の移動も制御装置CONTにより制御される。
ヒータ315は、ここではランプアニールにより基板Pを熱処理する手段であり、基板P上に塗布された液体材料に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒータ315の電源の投入及び遮断も制御装置CONTにより制御される。
液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド301と基板Pを支持するステージ307とを相対的に走査しつつ基板Pに対して液滴を吐出する。ここで、以下の説明において、X方向を非走査方向、X方向と直交するY方向を走査方向とする。
したがって、液滴吐出ヘッド301の吐出ノズルは、非走査方向であるX方向に一定間隔で並んで設けられている。なお、図1では、液滴吐出ヘッド301は、基板Pの進行方向に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッド301の角度を調整し、基板Pの進行方向に対して交差させるようにしてもよい。このようにすれば、液滴吐出ヘッド301の角度を調整することで、ノズル間のピッチを調節することが出来る。また、基板Pとノズル面との距離を任意に調節することが出来るようにしてもよい。
図2は、液滴吐出ヘッド301の断面図である。
液滴吐出ヘッド301には、液体材料(配線用インク等)を収容する液体室321に隣接してピエゾ素子322が設置されている。液体室321には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系323を介して液体材料が供給される。
ピエゾ素子322は駆動回路324に接続されており、この駆動回路324を介してピエゾ素子322に電圧を印加し、ピエゾ素子322を変形させることにより、液体室321が変形し、ノズル325から液体材料が吐出される。
この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子322の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子322の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
なお、液滴吐出法の吐出技術としては、上記の電気機械変換式の他に、帯電制御方式、加圧振動方式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。帯電制御方式は、材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御してノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に例えば30kg/cm程度の超高圧を印加してノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進してノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散してノズルから吐出されない。
また、電気熱変換方式は、材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル(泡)を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すものである。また、この他に、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術も適用可能である。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。なお、液滴吐出法により吐出される液状材料(流動体)の一滴の量は、例えば1〜300ナノグラムである。
(第1実施形態)
続いて、上記の液滴吐出装置IJを用いて、基板P上に発色構造体を製造する方法の第1実施形態について、図3を参照して説明する。
まず、発色構造体の構成について説明する。
図3は、多層構造を有する発色構造体Cが基板P上に形成された断面図である。
この図に示す発色構造体Cは、互いに屈折率が異なる第1透明薄膜F1と第2透明薄膜F2とが、交互に複数層ずつ成膜されて形成されたものである。本実施形態では、基板Pから数えて第1層、第3層、…、第11層の奇数層に第1透明薄膜F1が成膜され、第2層、…、第10層の偶数層に第2透明薄膜F2が成膜された11層の薄膜により発色構造体Cが形成されている。
基板Pとしては、ガラス、Si基板、プラスチック基板、金属等を適宜選択することができる。
第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2の形成材料としては、ポリシロキサン系樹脂(屈折率1.42)、SiO(石英;屈折率1.45)、Al(アルミナ;屈折率1.76)、ZnO(酸化亜鉛;屈折率1.95)、酸化チタン(屈折率2.52)、Fe(酸化第二鉄;屈折率3.01)等を適宜選択できる。
そして、基板P上に発色構造体Cを形成する際には、まず、上述した液滴吐出装置IJを用いて第1透明薄膜形成材料を含む第1液状体材料の液滴を基板P上に所定の厚さで塗布した後に、例えば180℃で1分の乾燥処理及び200℃で3分の焼成処理を行うことにより1層目に第1透明薄膜F1を成膜する(第1工程)。
次に、上述した液滴吐出装置IJを用いて第2透明薄膜形成材料を含む第2液状体材料の液滴を第1透明薄膜F1上に所定の厚さで塗布した後に、上記と同様の条件で乾燥処理及び焼成処理を行って2層目(第2透明薄膜F2としては一層目)に第2透明薄膜F2を成膜する(第2工程)。
そして、これら第1工程及び第2工程を交互に複数回(第1工程は全部で6回、第2工程は全部で5回)繰り返して行うことにより、第1透明薄膜F1と第2透明薄膜F2とが所定の厚さで交互に積層された発色構造体Cが形成される。
本実施形態では、第1透明薄膜F1の屈折率(第1の屈折率)が第2透明薄膜F2の屈折率(第2の屈折率)よりも小さい上記薄膜材料を用い、また第1透明薄膜F1の厚さが第2透明薄膜F2の厚さよりも大きい厚さで発色構造体Cが形成されている。
上記多層膜構造の発色構造体Cの発色特性としては、入射光ILに対して最上層の透明薄膜で反射した反射光RL1と、透明薄膜に屈折して入射し、次層及び同様に次層以下の層の透明薄膜で反射して出射する反射光RL2〜RL11とが干渉する。薄膜干渉理論に基づき、その干渉色(反射波長)、強度は、第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2の屈折率をn1、n2とし、第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2の厚さをt1、t2とし、第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F1の屈折角をθ1、θ2とすると、反射波長λは次式で表される。
λ=2×(n1×t1×cosθ1+n2×t2×cosθ2)…(1)
また、反射率(反射強度)Rは次式で表される。
R=(n1−n2)/(n1+n2)…(2)
この反射率を表す式(1)から明かなように、第1透明薄膜F1と第2透明薄膜F2との屈折率の差が大きいほど、反射強度(発色強度)は大きくなる。
さらに、発色強度は光学厚みが、次式を満足するときに最大となる。
n1×t1=n2×t2=λ/4 …(3)
そして、例えば反射強度等に基づいて、第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2の材料を選定すると屈折率n1、n2及び屈折角θ1、θ2が決まるため、所望の発色特性(λ)と、式(1)〜式(3)とを用いることで、第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2の各層の厚さt1、t2と、所望の反射率を得るための積層数とを設定することができる。
(実施例)
第1透明薄膜形成材料としてシロキサンポリマー(屈折率1.42)を含む第1液状体材料を用い、第2透明薄膜形成材料として酸化チタン(屈折率2.52)を含む第2液状体材料を用いて第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2を成膜した。
ここで、例えば青色(λ=480nm)を発色させる場合には、式(3)に基づいて、各第1透明薄膜F1を厚さt1=84.5nmで成膜し、各第2透明薄膜F2を厚さt2=47.6nmで成膜した。この結果、図4(a)に示すように、反射率が80%以上で青色の発色特性が得られた。
同様に、例えば緑色(λ=520nm)を発色させる場合には、式(3)に基づいて、各第1透明薄膜F1を厚さt1=91.5nmで成膜し、各第2透明薄膜F2を厚さt2=52.0nmで成膜した。この結果、図4(b)に示すように、反射率が80%以上で緑色の発色特性が得られた。
さらに、例えば赤色(λ=630nm)を発色させる場合には、式(3)に基づいて、各第1透明薄膜F1を厚さt1=111.0nmで成膜し、各第2透明薄膜F2を厚さt2=62.5nmで成膜した。この結果、図4(c)に示すように、反射率が80%以上で赤色の発色特性が得られた。
続いて、上述した発色構造体の製造方法を用いて所定のパターンを形成する手順を、図5及び図6を参照して説明する。
図5は、発色構造体Cの平面図であり、図6は発色構造体Cの断面図である。
これらの図に示される発色構造体Cは、文字「E」のパターンが形成されるパターン部BPと、パターン部BPの周囲に形成される非パターン部NPとを有している。
図6に示すように、非パターン部NPは、基板P上に、第1透明薄膜形成材料としてシロキサンポリマー(屈折率1.42)を含む第1液状体材料を用いて膜厚150nmで成膜した第1透明薄膜F1と、第2透明薄膜形成材料として酸化チタン(屈折率2.52)を含む第2液状体材料を用いて膜厚35nmで成膜した第2透明薄膜F2とが、交互に複数層(例えば、第1透明薄膜F1が6層、第2透明薄膜F2が5層)に亘って積層された構成となっている。
また、本実施形態では、パターン部BPについては、透明薄膜等の成膜は行わない。
なお、既に成膜された透明薄膜(例えばF1)上に透明薄膜を積層する場合には、液状体材料を塗布する前に、パターン部BPに撥液材料を塗布しておくことが好ましい。
これにより、塗布した液状体材料がパターン部BPに流れ込んで、パターン部BPにおける発色特性に悪影響を与えることを防止できる。
上記構成の発色構造体Cにおいては、非パターン部NPについては上述したように、第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2の膜厚に応じて発色し、パターン部BPについては実質的に発色が行われないことから、非パターン部NPとパターン部BPとの発色特性の差であるコントラストにより、パターン部BPで形成される文字「E」を容易、且つ明瞭に形成することができる。
また、本実施形態では、液滴吐出法を用いて所望の発色特性に基づく厚さで第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2を交互に成膜・積層することにより、工数が掛かったり、大型の設備が必要になることなく、容易、且つ効率的に所望の発色特性を有する発色構造体Cを製造することができる。また、本実施形態では、各透明薄膜層を塗布・乾燥(焼成)後に、次の透明薄膜層を形成しているため、塗布した第1液状体材料と第2液状体材料とが混合されてしまい発色特性に悪影響を及ぼすことを防止できるとともに、各層の厚さを精度よく管理することが可能になる。
(第2実施形態)
続いて、基板P上に形成される発色構造体Cの第2実施形態について、図7及び図8を参照して説明する。
なお、これらの図において、図5及び図6に示す第1実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第1実施形態では、パターン部BPに透明薄膜を成膜せず、非パターン部NPのみに透明薄膜を成膜する構成としたが、第2実施形態では上記とは逆に、パターン部BPに透明薄膜を成膜し、非パターン部NPに透明薄膜を成膜しない構成とする。
すなわち、図7及び図8に示すように、本実施形態の発色構造体Cにおいては、非パターン部NPには薄膜が形成されず、パターン部BPに文字「E」の形状で第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2が交互に成膜・積層されている。第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2の材料、膜厚は上記第1実施形態と同様である。
上記の構成の発色構造体Cでは、パターン部BPについては上述したように、第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2の膜厚に応じて発色し、非パターン部NPについては実質的に発色が行われないことから、非パターン部NPとパターン部BPとのコントラストにより、パターン部BPで形成される文字「E」を容易、且つ明瞭に形成することができる。
(第3実施形態)
続いて、基板P上に形成される発色構造体Cの第3実施形態について、図9乃至図11を参照して説明する。
なお、これらの図において、図5及び図6に示す第1実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
上記第1実施形態では、パターン部BPについては透明薄膜を成膜しない構成としたが、本実施形態では、このパターン部BPについても成膜する場合について説明する。
図9及び図10に示すように、非パターン部NPについては上記第1実施形態と同様に、第1透明薄膜F1と第2透明薄膜F2とが交互に複数層に亘って積層された構成となっている。
そして、パターン部BPについては、図10に示すように、上記で例示した透明薄膜形成材料から選択された第3液状体材料を用いて成膜した第3の屈折率を有する第3透明薄膜F3と、同様に第4液状体材料を用いて成膜した第4の屈折率を有する第4透明薄膜F4とが、交互に複数層(図10では、第1透明薄膜F1と第2透明薄膜F2と同一厚さを例示)に亘って積層された構成となっている。これら第3透明薄膜F3及び第4透明薄膜F4が積層された膜体は、第1透明薄膜F1と第2透明薄膜F2とが積層された膜体とは異なる発色特性(第2発色特性)を有するように、第3液状体材料及び第4液状体材料が選択される。
上記の構成の発色構造体Cにおいては、非パターン部NPについては上述したように、第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2の材料及び膜厚に応じて発色し、パターン部BPについては、第3透明薄膜F3及び第4透明薄膜F4の材料及び膜厚に応じて、非パターン部NPとは異なる発色特性で発色することから、非パターン部NPとパターン部BPとの色の違いにより、パターン部BPで形成される文字「E」を容易、且つ明瞭に形成することができる。
なお、第3実施形態では、第3透明薄膜F3及び第4透明薄膜F4の膜厚を、第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2の膜厚とほぼ同一として説明したが、実際には、パターン部BPにおいて発色させる色に応じて設定される。従って、図10に示したように、第3透明薄膜F3及び第4透明薄膜F4の膜厚が、第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2の膜厚とほぼ同一の場合でもよいし、図11に示すように、所望の色(発色特性)に応じて非パターン部NPとは異なる厚さで積層する構成であってもよい。
(第4実施形態)
続いて、基板P上に形成される発色構造体Cの第4実施形態について、図12を参照して説明する。
なお、この図において、図11に示す第3実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
図12に示すように、本実施形態では、パターン部BPにおいても第1透明薄膜F1と第2透明薄膜F2とを積層して膜体を形成している。すなわち、第3実施形態における第3液状体材料として上述した第1液状体材料を用い、第4液状体材料として上述した第2液状体材料を用いている。
そして、パターン部BPにおける発色特性が非パターン部NPとは異なる発色特性となるように、各透明薄膜F1、F2の膜厚を非パターン部NPと異なるように、例えば各第1透明薄膜F1を厚さ84.5nmで成膜し、各第2透明薄膜F2を厚さ47.6nmで成膜し青色を発色させるものとしている。
上記の構成の発色構造体Cにおいては、非パターン部NPについては上述したように、第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2の材料及び膜厚に応じて発色し、パターン部BPについては、第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2の膜厚に応じて、非パターン部NPとは異なる発色特性で発色することから、非パターン部NPとパターン部BPとの色の違いにより、パターン部BPで形成される文字「E」を容易、且つ明瞭に形成することができる。
また、本実施形態では、パターン部BPと非パターン部NPとを同じ材料を用いて成膜できるため、準備する材料の種類を減らすことが可能となり、生産性を向上させることができる。
(第5実施形態)
続いて、基板P上に形成される発色構造体Cの第5実施形態について、図13を参照して説明する。
なお、この図において、図11、図12に示す第3、第4実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
図13に示すように、本実施形態では、パターン部BPにおける層数を減らし、パターン部BPにおける膜体の厚さを非パターン部NPにおける膜体の厚さよりも薄くして成膜している。この場合、パターン部BPにおける透明薄膜としては、第1液状体材料及び第2液状体材料を用いて第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2を成膜しても、第3液状体材料及び第4液状体材料を用いて第3透明薄膜F3及び第4透明薄膜F4を成膜してもいずれでもよい。
この構成の発色構造体Cにおいては、パターン部BPと非パターン部NPとの発色特性の差に基づいて文字「E」を視認させることができるとともに、膜厚の差による反射強度(明暗)によっても、パターン部BPで形成されるパターンを容易、且つ明瞭に形成することができる。
なお、パターン部BPに第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2を積層し、膜厚(総厚)を非パターン部NPよりも薄くする場合、例えば図10を用いて第3実施形態で説明したように、非パターン部NPと第1透明薄膜F1及び第2透明薄膜F2の膜厚とほぼ同一に成膜することが好ましい。
これにより、パターン部BPと非パターン部NPとにおける透明薄膜を同一工程で全面的に成膜することができるため、生産効率を一層向上させることが可能になる。
(第6実施形態)
続いて、発色構造体Cとその製造方法の第6実施形態について、図14乃至図21を参照して説明する。
上記第1〜第5実施形態では、第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2、または第3透明薄膜F3、第4透明薄膜F4をそれぞれについて同じ厚さで成膜する構成としたが、第6実施形態では最上層及び最下層については、他の層と厚さを異ならせている。
なお、第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2と、第3透明薄膜F3、第4透明薄膜F4とは、同様の作用・効果を奏するため、主に第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2について説明する。
図14(a)は、上記と同様に、奇数層にシロキサンポリマー(屈折率1.42)により成膜された第1透明薄膜F1と、偶数層に酸化チタン(屈折率2.52)により成膜された第2透明薄膜F2との膜厚を示すものであり、ここでは波長が430〜450nm近辺の青色の反射スペクトルを得るために、便宜上、第1透明薄膜F1の厚さを70nm、第2透明薄膜F2の厚さを40nmとしている。そして、図14(b)は、これらの膜厚で形成された発色構造体Cにおける発光波長と反射率との関係で表される発光特性を示す図である。
そして、図15(a)〜図21(a)は、図14(a)に示した第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2の膜厚に対して、最下層である第1層と、最上層である第11層の膜厚をそれぞれ0倍(すなわち、厚さゼロ)、0.5倍、1.5倍、2倍、3倍、4倍、5倍に変化させたことを示す図である。また、図14(b)〜図21(b)は、図14(a)〜図21(a)で示された膜厚の第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2で構成される発色構造体Cにおける発光波長と反射率との関係で表される発光特性を示す図である。
図14(b)、図15(b)及び図16(b)の発光特性で示されるように、最上層及び最下層の膜厚が他の層よりも小さい場合には、所定領域以外の波長領域における反射ピークが大きくなってしまう。一方、図17(b)、図18(b)、図21(b)の発光特性で示されるように、最上層及び最下層の膜厚が他の層の膜厚の1.5倍、2倍、5倍である場合には、所定領域以外の波長領域における反射ピークを小さくすることができる。
そして、図18(b)、図19(b)、図20(b)の発光特性で示されるように、最上層及び最下層の膜厚が他の層の膜厚の2倍、3倍、4倍である場合には、所定領域以外に出現する反射ピークの波長領域を小さくすることができる。
従って、本実施形態では、上記第1実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、最上層及び最下層の膜厚を他の層よりも大きくすることにより、より良好な発色特性を得ることができる。特に、本実施形態では、最上層及び最下層の膜厚を他の層の膜厚の二倍の厚さで成膜することにより、所定領域以外の波長領域における反射ピークを小さくできるとともに、所定領域以外に出現する反射ピークの波長領域を小さくでき、一層良好な発色特性を得ることが可能になる。
(第7実施形態)
続いて、発色構造体Cとその製造方法の第7実施形態について、図22を参照して説明する。
上記第1〜第6実施形態では、第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2(第3透明薄膜F3、第4透明薄膜F4)について、屈折率の小さい第1透明薄膜F1の膜厚が、屈折率の大きい第2透明薄膜F2よりも大きな膜厚で形成する構成としたが、本実施形態ではこれとは逆の構成としている。
図22(a)は、上記と同様に、奇数層にシロキサンポリマー(屈折率1.42)により成膜された第1透明薄膜F1と、偶数層に酸化亜鉛(屈折率1.95)により成膜された第2透明薄膜F2との膜厚を示すものであり、図22(b)は、これらの膜厚で形成された発色構造体Cにおける発光波長と反射率との関係で表される発光特性を示す図である。
図22(a)に示すように、本実施形態では、最上層及び最下層の膜厚を除いて、屈折率の小さい第1透明薄膜F1の膜厚が、屈折率の大きい第2透明薄膜F2よりも小さな膜厚で形成されている。そして、上記第2実施形態と同様に、最上層及び最下層の膜厚が他の層の膜厚よりも大きく成膜されている。
そして、図22(b)に示すように、本実施形態においても、所定領域以外の波長領域における反射ピークを小さくできるとともに、所定領域以外に出現する反射ピークの波長領域を小さくでき、良好な発色特性を得ることが可能になる。
上記第1〜第7実施形態で説明した発色構造体Cとしては、例えば時計文字盤、ブレスレット、ブローチ、携帯電話筺体等の装飾用部材(意匠部材、外装部材)に広く適用可能であり、この発色構造体C及びその製造方法を用いることにより、効率的(容易)に装飾用部材(意匠部材、外装部材)を製造することができ、製造コストが削減された生産性に優れた装飾用部材(意匠部材、外装部材)を得ることができる。
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
例えば、上記実施形態では、奇数層に第1透明薄膜F1(第3透明薄膜F3)を成膜し、偶数層に第2透明薄膜F2(第4透明薄膜F4)を成膜する構成としたが、これに限定されるものではなく、逆の積層配置としてもよい。また、透明薄膜の積層数についても、上記実施形態で示した数は一例であり、所望の反射特性が得られるのであれば、11層以下でも11層以上であってもよい。
また、上記実施形態における透明薄膜の膜厚調整としては、第1透明薄膜F1、第2透明薄膜F2の少なくとも一方を、第1透明薄膜形成材料、第2透明薄膜形成材料の粒子径で形成することもできる。この場合、塗布した液状体材料に含まれる粒子が積み重ならないように、液状体材料に分散促進剤を含有させる等の方法を採ることが好ましい。
さらに、粒子径以上の膜厚で透明薄膜を形成する場合には、透明薄膜の膜厚を粒子径の整数倍とすることにより、上記粒子径の厚さで膜を成膜する工程を複数回繰り返すことにより、ばらつきが少ない一定の厚さで精度よく成膜することが可能になる。
また、上記実施形態では、所定のパターンとして文字を形成する構成を例示したが、これに限定されるものではなく、数字や模様、絵等、各種のパターンを形成する際に適用可能である。
液滴吐出装置の概略的な構成図である。 液滴吐出ヘッド301の断面図である。 多層構造を有する発色構造体Cが基板P上に形成された断面図である。 第1実施形態に係る発光波長と反射率との関係を示す図である。 第1実施形態に係る発色構造体Cの平面図である。 第1実施形態に係る発色構造体Cの断面図である。 第2実施形態に係る発色構造体Cの平面図である。 第2実施形態に係る発色構造体Cの断面図である。 第3実施形態に係る発色構造体Cの平面図である。 第3実施形態に係る発色構造体Cの断面図である。 第3実施形態に係る発色構造体Cの断面図である。 第4実施形態に係る発色構造体Cの断面図である。 第5実施形態に係る発色構造体Cの断面図である。 第6実施形態に係る膜厚と発光特性との関係を示す図である。 第6実施形態に係る膜厚と発光特性との関係を示す図である。 第6実施形態に係る膜厚と発光特性との関係を示す図である。 第6実施形態に係る膜厚と発光特性との関係を示す図である。 第6実施形態に係る膜厚と発光特性との関係を示す図である。 第6実施形態に係る膜厚と発光特性との関係を示す図である。 第6実施形態に係る膜厚と発光特性との関係を示す図である。 第6実施形態に係る膜厚と発光特性との関係を示す図である。 第7実施形態に係る膜厚と発光特性との関係を示す図である。
符号の説明
BP…パターン部、 C…発色構造体、 F1…第1透明薄膜、 F2…第2透明薄膜、 NP…非パターン部、 P…基板

Claims (21)

  1. 所定のパターンが形成されるパターン部と、該パターン部の周囲に形成される非パターン部とが設けられ、所定の発色特性を有する発色構造体の製造方法であって、
    前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方に、第1液状体材料により第1の屈折率を有する第1透明薄膜を液滴吐出法によって前記発色特性に基づく厚さで成膜する第1工程と、
    第1透明薄膜上に、第2液状体材料により第2の屈折率を有する第2透明薄膜を液滴吐出法によって前記発色特性に基づく厚さで成膜する第2工程とを有し、
    前記第1工程及び第2工程を交互にそれぞれ複数回繰り返して、前記第1透明薄膜及び前記第2透明薄膜を積層することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  2. 請求項1記載の発色構造体の製造方法において、
    前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方に、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方とは異なる第2発色特性を有する膜体を成膜する膜体成膜工程を有することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  3. 請求項2記載の発色構造体の製造方法において、
    前記膜体成膜工程は、第3液状体材料により第3の屈折率を有する第3透明薄膜を液滴吐出法によって前記第2発色特性に基づく厚さで成膜する第3工程と、
    第3透明薄膜上に、第4液状体材料により第4の屈折率を有する第4透明薄膜を液滴吐出法によって前記第2発色特性に基づく厚さで成膜する第4工程とを有し、
    前記第3工程及び第4工程を交互にそれぞれ複数回繰り返して、前記第3透明薄膜及び前記第4透明薄膜を積層することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  4. 請求項3記載の発色構造体の製造方法において、
    前記第3液状体材料は、前記第1液状体材料と前記第2液状体材料とのいずれか一方であり、
    前記第4液状体材料は、前記第1液状体材料と前記第2液状体材料とのいずれか他方であることを特徴とする発色構造体の製造方法。
  5. 請求項3または4記載の発色構造体の製造方法において、
    前記第3の屈折率は、前記第4の屈折率よりも小さく、
    前記第3透明薄膜の厚さを前記第4透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  6. 請求項3から5のいずれか一項に記載の発色構造体の製造方法において、
    前記第3工程及び前記第4工程は、前記液状体材料を塗布する工程と、塗布した前記液状体材料を乾燥または焼成する工程とをそれぞれ有することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  7. 請求項1から6のいずれか一項に記載の発色構造体の製造方法において、
    前記第1工程及び前記第2工程は、前記液状体材料を塗布する工程と、塗布した前記液状体材料を乾燥または焼成する工程とをそれぞれ有することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  8. 請求項1から7のいずれか一項に記載の発色構造体の製造方法において、
    前記第1の屈折率は、前記第2の屈折率よりも小さく、
    前記第1透明薄膜の厚さを前記第2透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  9. 請求項1から8のいずれか一項に記載の発色構造体の製造方法において、
    積層された前記第1透明薄膜及び前記第2透明薄膜のうち、最下層及び最上層に位置する透明薄膜の厚さを、他の層の透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  10. 請求項9記載の発色構造体の製造方法において、
    前記第1透明薄膜及び前記第2透明薄膜を、前記最下層及び最上層に位置する透明薄膜の厚さが、前記他の層に位置する透明薄膜の二倍の厚さで成膜することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  11. 請求項1から10のいずれか一項に記載の発色構造体の製造方法において、
    前記第1透明薄膜の厚さを第1透明薄膜形成材料の粒子径に基づく厚さで形成する工程と、
    前記第2透明薄膜の厚さを第2透明薄膜形成材料の粒子径に基づく厚さで形成する工程との少なくとも一方の工程を有することを特徴とする発色構造体の製造方法。
  12. 所定のパターンが形成されるパターン部と、該パターン部の周囲に形成される非パターン部とが設けられ、所定の発色特性を有する発色構造体であって、
    前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方に、液滴吐出法によって第1液状体材料により前記発色特性に基づく厚さで成膜され、第1の屈折率を有する第1透明薄膜と、
    液滴吐出法によって第2液状体材料により前記発色特性に基づく厚さで成膜され、第2の屈折率を有する第2透明薄膜とが交互にそれぞれ複数積層されることを特徴とする発色構造体。
  13. 請求項12記載の発色構造体において、
    前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか他方に、前記パターン部と前記非パターン部とのいずれか一方とは異なる第2発色特性を有する膜体が成膜されることを特徴とする発色構造体。
  14. 請求項13記載の発色構造体において、
    前記膜体は、液滴吐出法によって第3液状体材料により前記第2発色特性に基づく厚さで成膜され、第3の屈折率を有する第3透明薄膜と、
    液滴吐出法によって第4液状体材料により前記第2発色特性に基づく厚さで成膜され、第4の屈折率を有する第4透明薄膜とが交互にそれぞれ複数積層されることを特徴とする発色構造体。
  15. 請求項14記載の発色構造体において、
    前記第3液状体材料は、前記第1液状体材料と前記第2液状体材料とのいずれか一方であり、
    前記第4液状体材料は、前記第1液状体材料と前記第2液状体材料とのいずれか他方であることを特徴とする発色構造体。
  16. 請求項14または15記載の発色構造体において、
    前記第3の屈折率は、前記第4の屈折率よりも小さく、
    前記第3透明薄膜の厚さを前記第4透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜することを特徴とする発色構造体。
  17. 請求項12から16のいずれか一項に記載の発色構造体において、
    前記第1の屈折率は、前記第2の屈折率よりも小さく、
    前記第1透明薄膜は、前記第2透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜されることを特徴とする発色構造体。
  18. 請求項12から17のいずれか一項に記載の発色構造体において、
    積層された前記第1透明薄膜及び前記第2透明薄膜のうち、最下層及び最上層に位置する透明薄膜の厚さは、他の層の透明薄膜の厚さよりも大きい厚さで成膜されることを特徴とする発色構造体。
  19. 請求項18記載の発色構造体において、
    前記第1、第2透明薄膜は、前記最下層及び最上層に位置する透明薄膜の厚さが、前記他の層に位置する前記第1、第2透明薄膜のそれぞれ二倍の厚さで成膜されることを特徴とする発色構造体。
  20. 請求項12から19のいずれか一項に記載の発色構造体において、
    前記第1透明薄膜の厚さは、第1透明薄膜形成材料の粒子径に基づく厚さで形成されることを特徴とする発色構造体。
  21. 請求項12から20のいずれか一項に記載の発色構造体において、
    前記第2透明薄膜の厚さは、第2透明薄膜形成材料の粒子径に基づく厚さで形成されることを特徴とする発色構造体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011123186A (ja) * 2009-12-09 2011-06-23 Panasonic Corp 発色構造及び発色構造を用いた製品
JP2012199098A (ja) * 2011-03-22 2012-10-18 Dainippon Printing Co Ltd 封止ガラス、封止ガラスを備えた有機el表示装置および有機el表示装置の製造方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0234669A (ja) * 1988-07-22 1990-02-05 Kao Corp 染料含有光沢顔料の製造法
JPH07287115A (ja) * 1994-04-20 1995-10-31 Toppan Printing Co Ltd 反射型カラーフィルタおよび液晶表示装置
JPH08332450A (ja) * 1995-03-20 1996-12-17 Catalina Coatings Inc マルチカラー干渉コーティング
JP2000167969A (ja) * 1998-12-07 2000-06-20 Nitto Denko Corp 透明積層体およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルター
JP2001347798A (ja) * 2000-06-07 2001-12-18 Teijin Ltd 発色構造体
JP2003075623A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタおよびその製造方法
JP3443656B2 (ja) * 2000-05-09 2003-09-08 独立行政法人産業技術総合研究所 光触媒発色部材とその製造方法
JP2004029169A (ja) * 2002-06-21 2004-01-29 Seiko Epson Corp 光学部材の製造方法、光学部材、電気光学装置、及び電子機器
JP2005081335A (ja) * 2003-09-11 2005-03-31 Seiko Epson Corp パターン形成方法、導電性薄膜、電気光学装置、電子機器
JP2007139913A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Canon Inc 画像表示装置
JP2007249028A (ja) * 2006-03-17 2007-09-27 Denso Corp 表示盤及びその製造方法
JP2007319431A (ja) * 2006-06-01 2007-12-13 Sri Sports Ltd ゴルフボールのマーク形成用インキ組成物、ゴルフボール、および、ゴルフボールの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4741930A (en) * 1984-12-31 1988-05-03 Howtek, Inc. Ink jet color printing method
JP2625453B2 (ja) * 1987-12-09 1997-07-02 セントラル硝子 株式会社 パターン膜形成法
US6219113B1 (en) * 1996-12-17 2001-04-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for driving an active matrix display panel
US5970873A (en) * 1998-04-27 1999-10-26 Eastman Kodak Company Imaging and printing methods to form imaging member by formation of insoluble crosslinked polymeric sol-gel matrix
JP2001244066A (ja) * 2000-03-01 2001-09-07 Seiko Epson Corp 発光装置
KR100510423B1 (ko) * 2001-06-01 2005-08-30 세이코 엡슨 가부시키가이샤 컬러 필터, 표시 장치 및 전자 기기
JP3823981B2 (ja) * 2003-05-12 2006-09-20 セイコーエプソン株式会社 パターンと配線パターン形成方法、デバイスとその製造方法、電気光学装置、電子機器及びアクティブマトリクス基板の製造方法
US7142375B2 (en) * 2004-02-12 2006-11-28 Nanoopto Corporation Films for optical use and methods of making such films

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0234669A (ja) * 1988-07-22 1990-02-05 Kao Corp 染料含有光沢顔料の製造法
JPH07287115A (ja) * 1994-04-20 1995-10-31 Toppan Printing Co Ltd 反射型カラーフィルタおよび液晶表示装置
JPH08332450A (ja) * 1995-03-20 1996-12-17 Catalina Coatings Inc マルチカラー干渉コーティング
JP2000167969A (ja) * 1998-12-07 2000-06-20 Nitto Denko Corp 透明積層体およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルター
JP3443656B2 (ja) * 2000-05-09 2003-09-08 独立行政法人産業技術総合研究所 光触媒発色部材とその製造方法
JP2001347798A (ja) * 2000-06-07 2001-12-18 Teijin Ltd 発色構造体
JP2003075623A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタおよびその製造方法
JP2004029169A (ja) * 2002-06-21 2004-01-29 Seiko Epson Corp 光学部材の製造方法、光学部材、電気光学装置、及び電子機器
JP2005081335A (ja) * 2003-09-11 2005-03-31 Seiko Epson Corp パターン形成方法、導電性薄膜、電気光学装置、電子機器
JP2007139913A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Canon Inc 画像表示装置
JP2007249028A (ja) * 2006-03-17 2007-09-27 Denso Corp 表示盤及びその製造方法
JP2007319431A (ja) * 2006-06-01 2007-12-13 Sri Sports Ltd ゴルフボールのマーク形成用インキ組成物、ゴルフボール、および、ゴルフボールの製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011123186A (ja) * 2009-12-09 2011-06-23 Panasonic Corp 発色構造及び発色構造を用いた製品
JP2012199098A (ja) * 2011-03-22 2012-10-18 Dainippon Printing Co Ltd 封止ガラス、封止ガラスを備えた有機el表示装置および有機el表示装置の製造方法

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