JP2009147370A - 複数の位置調整装置を備えるリソグラフィ装置、及び位置調整測定方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】多数の位置調整装置を備えるリソグラフィ装置及び位置調整測定方法の提供。
【解決手段】リソグラフィ装置は、第1の検出器によって対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成し、第1の検出器とは異なる方法の位置調整測定を使用して、第2の検出器によって同じ第1のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成し、第1の検出器から第1の位置調整信号を受信し、第1の位置調整信号に基づき少なくとも第1のマークの第1の位置を算出し、第2の検出器から第2の位置調整信号を受け、第2の位置調整信号に基づき少なくとも第1のマークの別の第1の位置を算出することによって、同じマークに関する位置調整測定を行うために使用される、複数の異なる位置調整装置を有する。
【選択図】図14
【解決手段】リソグラフィ装置は、第1の検出器によって対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成し、第1の検出器とは異なる方法の位置調整測定を使用して、第2の検出器によって同じ第1のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成し、第1の検出器から第1の位置調整信号を受信し、第1の位置調整信号に基づき少なくとも第1のマークの第1の位置を算出し、第2の検出器から第2の位置調整信号を受け、第2の位置調整信号に基づき少なくとも第1のマークの別の第1の位置を算出することによって、同じマークに関する位置調整測定を行うために使用される、複数の異なる位置調整装置を有する。
【選択図】図14
Description
本発明は、複数の位置調整装置を備えるリソグラフィ装置、及び位置調整測定方法に関するものである。
リソグラフィ装置は、基板、通常は基板の目標部分に所望のパターンを形成する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路(IC)の製造に使用できる。例えば、マスク又は焦点板とも呼ばれるパターン付与装置を使用して、ICの個別の層に形成される回路パターンを作製できる。このパターンは、基板(例えば、シリコン・ウェハ)の(例えば、1つ又はいくつかのダイの一部を備える)目標部分に転写できる。パターンの転写は通常、基板に設けられた放射感受材料(レジスト)の層での画像化により行われる。普通、単一の基板は連続してパターンの形成される隣接する目標部分のネットワークを含む。既知のリソグラフィ装置は、目標部分にパターン全体を露光することによって1回で各目標部分が露光される、いわゆるステッパと、基板を所与の方向(「走査」方向)と平行又は非平行に同時に走査しながら、この方向に放射ビームによりパターンを走査することによって各目標部分が露光される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板に押印することによって、パターン付与装置から基板にパターンを転写することも可能である。
複数の位置調整装置を使用するリソグラフィ装置が知られている。参照文献としては、例えば、K.Ota他の、「New Alignment Sensors for Wafer Stepper(ウェハ・ステッパの新たな位置調整センサ)」、SPIE、第1463巻、Optical/Laser Microlithography IV(1991年)、第304〜314頁、及びN.R.Farrar他の、「Performance of through−the−lens/off−axis laser alignment systems and alighment algorithms on Nikon wafer steppers(ニコン・ウェハでのレンズ経由/オフ・アクシスのレーザ位置調整システムの性能および位置調整アルゴリズム)」、SPIE、第1673巻、Intergrated Circuit Metrology,Inspection,and Process Control VI(1992年)、第369〜380頁がある。位置調整装置はすべて、例えば、露光される基板、及び/又は基板を支持する基板テーブルの独自の別個のマークを使用する。
従来技術を参照すると、改良された性能を有する複数の位置調整装置を備えたリソグラフィ装置を提供することが望ましい。
この目的のため、第1の観点では、本発明は、特許請求の範囲の独立請求項1に規定された、多数の位置調整装置を備えるリソグラフィ装置を提供する。
第2及び第3の観点では、本発明は特許請求の範囲の独立請求項13及び請求項16に規定された、多数の位置調整装置を備えるリソグラフィ装置を提供する。
さらに、本発明は、特許請求の範囲の独立請求項19、請求項23及び請求項25で請求する位置調整測定方法、特許請求の範囲の独立請求項27、請求項28及び請求項29で請求するコンピュータ・プログラム製品、及び特許請求の範囲の独立請求項30、請求項31、及び請求項32で請求するデータ記憶媒体を提供する。
次に、本発明の実施例を添付の略図を参照して、例としてのみ説明する。対応する参照符号は、対応する部品を示す。
図1は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を略図的に示す。この装置は、
放射ビームB(例えば、UV放射)を調整するように構成された照明システム(照明器)ILと、
パターン付与装置(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターン付与装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置PMに連結された支持構造体(例えば、マスク・テーブル)MTと、
基板(例えば、レジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め装置PWに連結された基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WTと、
基板Wの目標部分C(例えば、1つ又は複数のダイを備える)にパターン付与装置MAによってパターンを加えられた放射ビームBを放射するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズ・システム)PSとを備えている。
放射ビームB(例えば、UV放射)を調整するように構成された照明システム(照明器)ILと、
パターン付与装置(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターン付与装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置PMに連結された支持構造体(例えば、マスク・テーブル)MTと、
基板(例えば、レジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め装置PWに連結された基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WTと、
基板Wの目標部分C(例えば、1つ又は複数のダイを備える)にパターン付与装置MAによってパターンを加えられた放射ビームBを放射するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズ・システム)PSとを備えている。
照明システムは、放射を案内、成形、又は制御するために、屈折、反射、磁気、電磁、静電などの様々な種類の光学構成要素、又は他の種類の光学構成要素、又はそのあらゆる組合せを含むことができる。
支持構造体は、パターン付与装置を支持する、即ちその重量を支承する。支持構造体は、パターン付与装置の方向性、リソグラフィ装置の設計、及び例えばパターン付与装置が真空環境に保持されるかどうかなどの他の条件に左右される方法で、パターン付与装置を保持する。支持構造体は、パターン付与装置を保持するように、機械的、真空、静電又は他の締付け技術を使用できる。支持構造体は、例えば、所望により固定又は移動できる枠台(フレーム)又はテーブルであってもよい。支持構造体は、パターン付与装置が、例えば投影システムに対して所望の位置にあることを保証できる。本明細書中の「焦点板」又は「マスク」という用語の使用は、「パターン付与装置」というより一般的な用語と同義であると考えることができる。
本明細書で使用される「パターン付与装置」という用語は、基板の目標部分にパターンを形成するために、断面にパターンを付与された放射ビームを与えるために使用できるあらゆる装置を言うものとして広範囲に解釈すべきである。放射ビームに付与されるパターンは、例えば、パターンが位相特性、又はいわゆるアシスト特性を含む場合、基板の目標部分内の所望のパターンに正確には対応するものではないことに留意すべきである。通常、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路などの、目標部分に形成される装置内の特定の機能層に対応する。
パターン付与装置は透過性又は反射性であってもよい。パターン付与装置の例としては、マスク、プログラム可能ミラー配列(アレイ)、及びプログラム可能LCDパネルが含まれる。マスクはリソグラフィではよく知られており、二値、交互位相、及び減衰位相などのマスク・タイプ、及び様々なハイブリッド・マスク・タイプを含む。プログラム可能ミラー・アレイの実施例は、小さなミラーの行列配置を利用し、各ミラーは入射放射ビームを異なる方向に反射させるように個別に傾斜させることができる。傾斜したミラーは、ミラー行列によって反射される放射ビームのパターンを与える。
本明細書で使用される「投影システム」という用語は、使用されている露光放射、又は浸漬液体の使用、或いは真空の使用などの他の要因に適当な屈折、反射、反射屈折、磁気、電磁、及び静電光学システムを含むあらゆる種類の投影システム、又はその組合せを含むものとして広範囲に解釈すべきである。本明細書中の「投影レンズ」という用語の使用は、「投影システム」というより一般的な用語と同義であると解釈できる。
ここに示すように、この装置は(例えば、透過性マスクを使用する)透過型である。別の方法では、装置は(例えば、上記に言及するような種類のプログラム可能ミラー・アレイを使用する、又は反射性マスクを使用する)反射型である。
リソグラフィ装置は、2つ(二重ステージ)又はそれ以上の基板テーブル(及び/又は2つ以上のマスク・テーブル)を有する種類であってもよい。このような「多段」機械では、追加のテーブルを並列に使用できる。即ち1つ又は複数の他のテーブルを露光に使用しながら、1つ又は複数のテーブルの上で準備工程を行うことができる。
リソグラフィ装置はまた、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を比較的大きい屈折率を有する液体、例えば水で覆うことのできる種類であってもよい。浸漬液体はまた、例えばマスクと投影システムとの間のリソグラフィ装置内の他の空間に加えることができる。投影システムの開口数を増やす浸漬技術が当業界ではよく知られている。本明細書で使用される「浸漬」という用語は、基板などの構造体が液体に沈められなければならないということを意味するのではなく、単に液体が露光中に投影システムと基板との間に配置されることを意味する。
図1を参照すると、照明器ILは放射源SOから放射ビームを受ける。例えば放射源がエキシマ・レーザの場合に、放射源及びリソグラフィ装置は別個の物体であってよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成するようには考えられず、放射ビームは、例えば適切な方向付けミラー及び/又はビーム拡大器を備えるビーム伝達システムBDの助けにより、放射源SOから照明器ILまで通過される。他の場合では、例えば放射源が水銀灯の場合、放射源はリソグラフィ装置の一体部であってもよい。放射源SO及び照明器ILは、必要に応じてビーム伝達システムBDと共に、投影システムと呼ばれることができる。
照明器ILは、放射ビームの角強度分配を調節する調節器ADを備えることができる。通常、照明器の瞳孔平面内の強度分配の少なくとも外側及び/又は内側半径範囲(普通、それぞれσ外側及びσ内側と呼ばれる)を調節できる。さらに、照明器ILは通常、積分器IN及びコンデンサCOなどの様々な他の構成部品を備える。照明器は、断面に所望の均一性及び強度分配を有するように放射ビームを調整するために使用できる。
投影ビームBは、支持構造体(例えば、マスク・テーブルMT)に保持されたパターン付与装置(例えば、マスクMA)に入射し、パターン付与装置によってパターンを付与される。マスクMAを通過するので、投影線ビームBは、基板Wの目標部分Cにビームの焦点を合わせる投影システムPSを通過する。第2の位置決め装置PW及び位置センサIF(例えば、干渉計装置、リニア・エンコーダ又は容量センサ)の助けにより、例えば異なる目標部分CをビームBの経路内に位置決めするために、基板テーブルWTを正確に移動させることができる。同様に、第1の位置決め装置PM及び別の位置センサ(図1には特に図示せず)を、例えば、マスク・ライブラリからの機械的検索後、又は走査中に、放射ビームBの経路に対してマスクMAを正確に位置決めするために使用できる。通常、マスク・テーブルMTの移動は、第1の位置決め装置PMの一部を形成する、長ストローク・モジュール(粗位置決め)及び短ストローク・モジュール(微細位置決め)の助けにより実現できる。同様に、基板テーブルWTの移動は、第2の位置決め装置PWの一部を形成する、長ストローク・モジュール及び短ストローク・モジュールの助けにより実現できる。(スキャナに対して)ステッパの場合、マスク・テーブルMTは短ストローク・アクチュエータのみに連結、又は固定されていてもよい。マスクMA及び基板Wは、マスク位置調整用マークMM1、MM2及び基板位置調整用マークP1、P2を使用して、位置調整できる。図示するような基板位置調整用マークは専用の目標部分を占めているが、目標部分(これらは、スクライブ列位置調整用マークとして知られている)間の空間に配置できる。同様に、2つ以上のダイがマスクMAに設けられる状況では、マスク位置調整用マークをダイの間に配置できる。
図示する装置は、以下のモードの少なくとも1つで使用できる。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは基本的に固定して保持されており、投影ビームに加えられるパターン全体は1回(即ち、単一の静的露光)で目標部分Cに投影される。基板テーブルWTはその後、X方向及び/又はY方向に移動され、それによって異なる目標部分Cが露光される可能性がある。ステップ・モードでは、露光領域の最大寸法が、単一の静的露光で画像化される目標部分Cの寸法を制限する。
2.走査モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは同期して走査され、投影ビームに加えられるパターンが目標部分C(即ち、単一の動的露光)に投影される。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び画像反転特徴によって決まる。走査モードでは、露光領域の最大寸法が、単一の動的露光での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向の)高さを決める。
3.別のモードでは、マスク・テーブルMTはプログラム可能パターン付与装置を基本的に固定して保持したままであり、基板テーブルWTは移動又は走査され、放射ビームに加えられたパターンが目標部分Cに投影される。このモードでは、通常はパルス状の放射源が使用され、プログラム可能パターン付与装置が、基板テーブルWTの各移動の後に、又は走査中の連続放射パルスの合間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で言及した種類のプログラム可能ミラー・アレイなどの、プログラム可能パターン付与装置を利用するマスクレス・リソグラフィに簡単に適用できる。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは基本的に固定して保持されており、投影ビームに加えられるパターン全体は1回(即ち、単一の静的露光)で目標部分Cに投影される。基板テーブルWTはその後、X方向及び/又はY方向に移動され、それによって異なる目標部分Cが露光される可能性がある。ステップ・モードでは、露光領域の最大寸法が、単一の静的露光で画像化される目標部分Cの寸法を制限する。
2.走査モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは同期して走査され、投影ビームに加えられるパターンが目標部分C(即ち、単一の動的露光)に投影される。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び画像反転特徴によって決まる。走査モードでは、露光領域の最大寸法が、単一の動的露光での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向の)高さを決める。
3.別のモードでは、マスク・テーブルMTはプログラム可能パターン付与装置を基本的に固定して保持したままであり、基板テーブルWTは移動又は走査され、放射ビームに加えられたパターンが目標部分Cに投影される。このモードでは、通常はパルス状の放射源が使用され、プログラム可能パターン付与装置が、基板テーブルWTの各移動の後に、又は走査中の連続放射パルスの合間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で言及した種類のプログラム可能ミラー・アレイなどの、プログラム可能パターン付与装置を利用するマスクレス・リソグラフィに簡単に適用できる。
上記の使用モード又はまったく異なる使用モードに関する組合せ及び/又は変更形態も利用できる。
図2は、レーザ・ステップ位置調整装置の実施例を示す。図2に示す装置は、レーザ源2、ミラー10、半透明ミラー12、ミラー14、検出器4、およびプロセッサ(処理装置)6を備えている。また、投影システムPS、基板W、基板テーブルWT、及びアクチュエータ8が図2に示されている。
使用中、レーザ源2は、ミラー10に向かって方向付けられるレーザ・ビーム16を発生させる。ミラー10は、第2のミラー12に対してレーザ・ビーム16を反射させる。ミラー12によって反射されたレーザ・ビーム16は、ミラー14に向かって方向付けられる。ミラー14によって反射されたレーザ・ビーム16は、位置調整ビーム18として基板WのマークM1(図3参照)に向かって方向付けられる。マークM1によって受光される位置調整ビーム18は、マークM1によって回折された放射16′としてミラー14に回折し戻される。ミラー14は、回折された放射16′をミラー12に反射させる。ミラー12は半透明であり、回折された放射16′の一部を検出器4に通過させる。検出器4は回折された放射16′を受け、プロセッサ6に対する出力信号を発生する。
図2に示すアクチュエータ8は、基板テーブルWTを、マークM1が位置調整ビーム18と位置調整できる位置に移動させることができることを示すものである。さらに、アクチュエータ8は、当業者に知られているように、投影システムPSを通る露光による基板Wの露光が可能になるように、基板テーブルWTを移動させるように配置されている。アクチュエータ8はプロセッサ6によって制御されている。もちろん、実際は、複数の方向への基板テーブルWTの移動を可能にする2つ以上のアクチュエータがある。プロセッサ6は、検出器4およびアクチュエータ8の両方に連結された単一のプロセッサ・ユニットとして示されていることに留意されたい。しかし、所望の場合、プロセッサ6の多数の異なる機能を異なるプロセッサ内で実施できる。これらのプロセッサは必ずしもリソグラフィ装置内にある必要はなく、リソグラフィ装置の外側に配置できる。
図3は、位置調整の目的で基板Wに配置できるマークM1の実施例を示している。しかし、マークM1は、また、基板テーブルWT、又は位置調整されるあらゆる他の対象物に配置できる。
図3はマークM1の上面図である。マークは、行及び列に配置された複数の四角形状の構造体19を備えている。四角形状の構造体19は、その周囲から識別可能である材料又は構造体でできている。四角形状の構造体19は、例えば、マークM1の残りの表面より高くても又は低くてもよい。四角形状の構造体19の代わりに、他の形状を使用することもできる。四角形状の構造体19は長さL1及び幅W1を有する。列内の隣接する四角形状の構造体はピッチP1を有し、列内の隣接する四角形状の構造体同士の中間距離はS1と呼ばれる。行内の隣接する四角形状の構造体19はピッチP2を有する。
位置調整ビーム18は、幅Ws及び長さLsを備える実質的に矩形形状のスポット(小領域)17を作るように示されている。図示する実施例では、位置調整ビームのスポット17の位置は固定されている。マークM1は、図3に示すように走査方向に、マークM1の列と垂直な方向に移動させることができる。マークM1を走査方向に移動させることによって、位置調整ビームのスポット17は、1つの列内の四角形状の構造体19上に位置することができる。移動はアクチュエータ8によって行われる。
使用できる測定の実施例は以下の通りである。
W1=L1=4μm
P1=8μm
S1=4μm
P2=20μm
Ws=2μm
Ls=70μm
W1=L1=4μm
P1=8μm
S1=4μm
P2=20μm
Ws=2μm
Ls=70μm
しかし、所望の場合、他の数字を使用することもできる。
位置調整ビームのスポット17が図3に示すように四角形状の構造体19の列の1つに向って方向付けられると、当業者に知られているように、複数の次数で回折パターンが生じる。
図4は、このような回折パターンの断面図を示している。図4は、マークM1:16′(i)(i=−3,−2,−1,0,1,2,3、ここでiは回折次数)によって、回折される位置調整放射の回折パターンの次数を示している。回折次数16′(0)だけは点線で示されている。この理由は、図4が2つの穴20、22を備える板21をも示しているからである。板21は、次数16′(i),i=−3,−2,−1,1,2,3だけが穴20、22を通過することが可能となるように配置されている。回折次数16′(0)は板21によって遮断される。回折次数16′(i),i=−3,−2,−1,1,2,3は、検出器4に向かって方向付けられる。
穴20及び22を通過する回折次数は、四角形状の構造体の寸法及び期間に左右されることが当業者には明らかである。本発明は、回折次数16′(i),i=−3,−2,−1,1,2,3が検出器4に方向付けられる状況に限るものではない。検出器4に方向付けられた多少の回折次数16′(i)はまた、本発明の範囲内にある。
図5は、回折次数16′(i),i=−3,−2,−1,1,2,3を受ける場合の、検出器4の出力信号を示す。受けられた回折次数の光強度は、検出器4によって積算される。穴20、22ができるだけたくさん回折次数16′(i),i=−3,−2,−1,1,2,3を通している場合に、検出器4の出力信号はImaxの最大値を有する。基板テーブルWTが走査方向に移動されると、検出器4の出力信号の強度は、位置調整ビームのスポット17が回折強度を制限する四角形状の構造体19同士の間の領域を優先的に照らしている場合にIminの最小値まで小さくなる。基板テーブルWTがさらに走査方向に移動すると、検出器4の出力信号の強度は、四角形状の構造体19の次の列の回折次数16′(i),i=−3,−2,−1,1,2,3が検出器4によって受けられるまで、再び増加する。このパターンは、四角形状の構造体19のすべての列が検出器4によって検出されるまで繰り返される。図5に示す信号の周期的性質は、ゼロ次数16′(0)が板21によって遮断される場合に、最適な信号/雑音比を有することが分かる。
プロセッサ6によって受信される図5の信号は、マークM1の配置されている対象物を位置調整するために、プロセッサ6によって使用できる。この目的のため、当業者に知られている様々なアルゴリズムを使用できる。例えば、図5に示す信号から生成される図3に示す四角形状の構造体19の列の位置は、マークM1の位置のより優れた評価に到達するために平均化できる。
図6は、レーザ干渉計位置調整装置の概略図を示す。前の図と同じ参照番号は同じ構成要素を示す。
図6による位置調整装置は、光源、例えばレーザ源2を備えている。さらに、図6の位置調整装置は、2つの位置調整ビームを形成するいくつかの光学構成要素を備えている。図示した光学構成要素は、半透明ミラー23と、ミラー25と、ミラー30、34とを備える。さらに、光学構成要素は、2つの周波数変調装置24、26、及びレンズ32を備えている。マークから戻る位置調整放射を受けるために、図6による位置調整装置は、ミラー34とは別に、ミラー35及び検出器36を備えている。周波数変調装置24、26は、駆動装置28に連結されている。検出器36は、プロセッサ6に連結されている。
使用中、図6による位置調整装置は以下の方法で作動する。
レーザ源2は、ミラー23に向かって方向付けられた光ビーム16を発生させる。光ビーム16の第1の部分38は、ミラー23によって周波数変調装置24に反射される。光ビーム16の第2の部分40は、半透明ミラー23によってミラー25に通過され、ミラー25によって周波数変調装置26に反射される。周波数変調装置24、26は、音響光学変調装置であることが好ましい。駆動装置28によって制御されるように、周波数変調装置24、26はそれぞれ、比較的高い周波数であるが、小さな周波数差で変調されるように、光ビーム38、40を変調する。典型的な変調周波数は、数十から数百MHz、例えば約80MHzである。2つの変調周波数の差は25kHzであってもよい。しがって、変調周波数の一方は80,000kHzであってもよく、もう一方は80,025kHzであってもよい。これらの数字は単に、ここで例として示されているだけである。他の数字を使用できる。差動周波数はより高い、例えば約100kHz程度であってもよい。
周波数変調装置24、26はそれぞれ、光ビーム42、44を発生し、上記のような差動周波数を有する。光ビーム42、44は両方とも、ミラー30によってレンズ32に向かって反射される。レンズ32は、これらの光ビーム42、44をミラー34に伝達する。ミラー34は、光ビーム42、44を基板WのマークM2(図7参照)に反射させる。マークM2は、受けた光ビーム42、44を回折し、ミラー34に送り戻される回折次数を形成する。これらの次数の一方が、図6に参照番号46で示されている。回折次数46は、ミラー34によってミラー35に向かってレンズ32を通して反射され、検出器36によって受光される。検出器36は、受光された回折次数46によって、適切な出力信号を発生させる。
図7は基板W上のマークM2を示す。マークM2は、基板Wの表面から延びる複数の、例えば7個の棒状構造体を備えている。基板W及びマークM2に対する垂線は、参照番号45で示されている。位置調整ビーム42、44は、マークM2に衝突する。上記で言及した光学構成要素は、位置調整ビーム42、44が両方とも角度αでマークM2に衝突するように設計されている。位置調整ビーム42及び位置調整ビーム44は両方とも、マークM2によって回折される。したがって、位置調整ビーム42、44は、いくつかの位置調整次数を作る。角度αは、一次回折の光ビーム42が、垂線45と角度αでマークM2を離れる、即ち、位置調整ビーム44もこれに沿って伝搬する経路に沿って反対方向にマークM2から離れるように伝搬するように選択される。このゼロ次回折は、42(0)で示される。さらに、マークM2から離れるように垂線45に沿って伝搬する(a−1)次回折42(−1)が作られる。(a−2)次回折42(−2)は、位置調整ビーム42がこれに沿って伝搬する経路に沿って反対方向にマークM2から離れるように伝搬する。同時に、入射位置調整ビーム44によるゼロ次回折44(0)は、位置調整ビーム42がこれに沿って伝搬する経路に沿って反対方向にマークM2から離れるように案内される。したがって、ビーム48は、入射位置調整ビーム44によるゼロ次回折44(0)及び入射位置調整ビーム42による−2次回折42(−2)の組合せであるマークM2から離れるように伝搬している。入射位置調整ビーム42、44による回折次数の組合せである他のビームは、図7に参照番号46、50、52、54で示されている。これらの内容は以下のことから始まる。
ビーム46=44(1)及び42(−1)
ビーム50=44(−1)及び42(−3)
ビーム52=44(2)及び42(0)
ビーム54=44(3)及び42(1)
ビーム46=44(1)及び42(−1)
ビーム50=44(−1)及び42(−3)
ビーム52=44(2)及び42(0)
ビーム54=44(3)及び42(1)
図6の装置は、ビーム46がミラー34、35、及びレンズ32を介して検出器36に方向付けられるようになっている。マークM2はアクチュエータ8によって変位されると、位相差は回折次数44(1)と42(−1)との間に生じる。変調された周波数及び位置調整ビーム42、44の間の周波数差により、検出器36は拍子信号を検出する。既知の位置(図示せず)で基準マークを測定する基準ビームは、マークM2の位置調整された位置の決定に使用される。さらなる詳細については、上記に言及したSPIE第1463巻のOtaによる記事を参照されたい。
図8は、棒状構造体55を備えるマークM2の上面図を示している。棒状構造体55は、幅W2及び長さL2を有する。これらの寸法の典型的な値は、W2=4μm、L=70μmである。棒状構造体55はピッチP2を有する。ピッチP2の典型的な値は、P2=8μmである。位置調整ビーム42、44は、図8の参照番号56で示すように、矩形の断面を有することが好ましい。
図2の位置調整システムだけが、動的測定に基づいている、即ち、1つ又は複数の位置調整ビームに対するマークの移動に基づいている。図6及び図9の位置調整システムは、静的測定に基づく位置調整装置を示している。図9に示す位置調整装置は、広帯域源である光源58を備えている。光源58は、ファイバ60の一端部でファイバ60に連結されている。伝達装置62は、ファイバ60の反対側の端部に連結されている。マークM3(図10参照)に向かって位置調整ビームを与える光学素子は、半透明ミラー68及びミラー69を備えている。マークM3からの位置調整放射を受け、出力信号を検出器、好ましくはCCDカメラ72に与えるように、画像化光学装置70が設けられている。検出器72は、プロセッサ6に連結されている。
使用中、光源58は、ファイバ60を介して伝達装置62に出力される広帯域光ビームを発生させる。伝達装置62は、ミラー68によってミラー69に反射される広帯域光ビーム64を与える。ミラー69は、基板WのマークM3に方向付けられる広帯域位置調整ビームを作る。マークM3に衝突する広帯域光ビームは、ミラー69に位置調整放射として反射される。ミラー69は、受けた光の少なくとも一部を画像化光学装置70に通過させる半透明ミラー68に受けた光を反射させる。画像化光学装置70は、受けた位置調整放射を収集し、適切な光学画像を検出器72に提供するように配置されている。検出器72は、画像化光学装置70から受ける光学画像の内容に依存するプロセッサに出力信号を与える。
有利に使用できる基板Wに存在するマークM3が、図10に示されている。これは、図8に示すマークM2と同様の形状をしている。これは、幅W3、長さL3、及びピッチP3を有する複数の棒状構造体73を備えている。これらの寸法の典型的な値は、W3=6μm、L3=75μmである。棒状構造体73はピッチP3を有する。ピッチP3の典型的な値は、P3=12μmである。
図11は、画像化光学装置70から受けるようなマークM3の光学画像に基づいてプロセッサ6に伝達される検出器72の出力信号を示している。図11に示す曲線は、マークM3での位置の関数としての信号の強度を示している。曲線は、I1の強度レベルで絶対最大値、I2の強度レベルで極大値、及びI3の強度レベルで絶対最小値を示している。絶対最大値I1は、それぞれの棒状構造体73の中心に対応している。極大値I2は、隣接する棒状構造体73同士の間の空間の中心に対応している。絶対最小値I3は、棒状構造体の間の中間空間に向かって、棒状構造体73の移行するわずかに横の位置に対応している。したがって、絶対最大値I1と絶対最小値I3との間の曲線の傾斜は、棒状構造体73の間の移行及び棒状構造体73の間の中間空間によるものである。これらの移行、即ち棒状構造体の側面では、ほとんど光が反射しない。
したがって、検出器72はマークM3の二次元画像を受け、プロセッサへの検出器72の出力信号は一次元情報を含む。受けた画像情報から図11に示すような強度信号に到達するために、様々なアルゴリズムを使用できる。例えば、検出器72は行及び列に配置されたCCD素子を備えるCCDカメラであってもよく、列内のCCD素子によって受けられる信号が平均化される。さらなる詳細については、上記で言及したSPIE第1463巻のOtaによる記事を参照されたい。
図2、図6及び図9に示すような位置調整装置では、別個の異なるマークM1、M2、M3が使用されている。これらの従来技術の装置では、3つの位置調整装置の1つを使用したい場合、異なるマークM1、M2、M3の1つを選択し、選択したマークを予め対象物(例えば、基板又は基板テーブル)に設ける。図2、図6、及び図9による3つの位置調整装置の複数を使用したい場合、多数の異なる位置調整用マークM1、M2、M3を位置調整する対象物に設ける。多数の異なる位置調整用マークM1、M2、M3を対象物に使用したい場合、1つの位置調整装置から別の位置調整装置に極めて簡単に切り換えることができる。位置調整用マークM1、M2、M3が基板Wで使用されている場合、これらは通常、基板Wのスクライブ列内に配置されている。特に多数の異なる位置調整用マークM1、M2、M3を使用したい場合、これは不利である。なぜなら、今日、多くの他のデバイス/回路がスクライブ列で占められた空間に配置されているからである。スクライブ列内の十分な空間の利用可能性は、今日ますます重要な問題である。
したがって、図2〜図11を参照して示した位置調整装置の改良をここに提示する。
「実施例1」
本発明の第1の実施例では、異なる方法の位置調整測定、例えば上記の測定を使用して多数の異なる位置調整装置によって使用されるのに適した位置調整用マークが提供される。多数の異なる位置調整装置に適したこのような位置調整用マークを提供することにより、基板Wの製造中の柔軟性が増大する。
本発明の第1の実施例では、異なる方法の位置調整測定、例えば上記の測定を使用して多数の異なる位置調整装置によって使用されるのに適した位置調整用マークが提供される。多数の異なる位置調整装置に適したこのような位置調整用マークを提供することにより、基板Wの製造中の柔軟性が増大する。
このような1つの位置調整用マークが、図12に位置調整用マークM4として示されている。図12に示す位置調整用マークM4は、x方向の位置を測定する1つの部分M4x、及びy方向の位置を測定する1つの部分M4yを有する。マークの部分M4xは、マークM2及びM3と同様である。この部分は、幅W4x、長さL4x、及びピッチP4xを有する複数の棒状構造体を備えている。マークの部分M4yはマークM4xと同様であるが、90度回転している。マークの部分M4yは、幅W4y、長さL4y、及びピッチP4yを有する棒状構造体を備えている。幅W4x、W4y、長さL4x、L4y、及びピッチP4x、P4yはそれぞれ、マークM2及びM3の幅W2、W3、長さL2、L3、及びピッチP2、P3と同様の値を有する。マークM4は有利には、図6に示すようなレーザ干渉計位置調整装置、及び図9に示すような領域画像位置調整装置の両方によって使用できる。さらに、x方向の位置を配置するスポットをマークの部分M4xに方向付けすべきであり、y方向の位置を測定するスポットをマークの部分M4yに方向付けすべきであることに留意すべきである。マークの部分M4x及びM4yは、できる限り互いに近くに配置される。
1方向のみの位置を測定したい場合、マークの部分M4x又はマークの部分M4yのみの提供で十分である。マークの部分M4x、M4yの少なくとも一方で、図6及び図9に示すような位置調整装置の両方を使用できる。多数の異なる位置調整装置に対してマークを1つだけ使用することにより、スクライブ列空間が節約され、ユーザに基板の製造中に位置調整装置を変更する自由が与えられる。両方の位置調整装置が適用可能である場合、精度改良のために両方の信号を使用することが可能である。さらに、異なる位置調整装置が同じ位置調整用マークを使用する場合、これらの異なる位置調整装置が同一の座標系を有することを保証できる。このような位置調整用マークM4が基板テーブルWTに設けられると、位置調整用マークM4はオンライン較正の目的で使用できる。
図13は、多数の位置調整装置に使用できる位置調整用マークM5の別の実施例を示す。位置調整用マークM5は、図3に示す位置調整用マークM1と同様又は同一である。位置調整用マークM5は複数の列を有する。各列には、複数の四角形状の構造体74が配置される。四角形状の構造体74は、x方向に幅W5x及びy方向に幅W5yを有する。x方向のマークM5の長さはL5xであり、y方向のマークM5の長さはL5yである。マークM5は、x方向の隣接する行の間にピッチP5x、及びy方向の行の間にピッチP5yを有する。幅W5x、W5yの典型的な値は、4μmである。長さL5x、L5yの典型的な値は、40〜100μmである。ピッチP5x、P5yの典型的な値は8μmである。
図13に示すようなマークM5は、図2〜図11を参照して説明したように、3つの位置調整装置のすべてで位置調整用マークとして使用できる。図2に示す位置調整装置での位置調整用マークM5の使用は、自明である。
しかし、図6に示す位置調整装置の位置調整ビーム42、44の断面56が幅W5x、W5yより小さい幅を有する場合、位置調整用マークM5は図13に示すように、x方向及びy方向両方の測定のため、図6による位置調整装置で使用することもできる。位置調整ビーム42、44の断面56の幅は約2μmであるので、これは極めて実現可能な選択肢である。
マークM5はまた、図9に示す装置で使用することもできる。図9による装置で使用される場合、図11に示すものと同様の強度信号が、検出器72によってプロセッサ6に対して作られる。マークM5は、信号/雑音比がより小さいため、図9による位置調整装置用のマークM3又はM4ほど最適ではない可能性がある。しかし、広帯域光源58を使用することにより、これは大きな問題にならないと予想される。なぜなら、広帯域光源58を使用することにより、使用された帯域幅のいくつかの部分で積極的な干渉につながるからである。
したがって、位置調整用マークM5は、図12のマークM4と同様の利点を有する。さらに、位置調整用マークM5は基本的に、x方向及びy方向の両方で使用することもできる。
図14及び図15は、第1の実施例のプロセッサ6の機能性に関するフロー・チャートを示す。
プロセッサ6は、基板テーブルWTを移動させるようにアクチュエータ8を制御し、それによって第1のマークが第1の位置調整ビームを受光する。第1のマークは、2つ以上の異なる位置調整装置で使用されるのに適した位置調整用マークの1つである。第1の位置調整ビームは、第1の位置調整装置によって作られる。これは、動作101によって行われる。
動作103では、プロセッサ6は、第1の位置調整装置の第1の検出器から第1の位置調整信号を受信する。この第1の位置調整信号は、第1の位置調整装置の第1の検出器によって、第1のマークから受光する位置調整放射に関するものである。
動作105では、プロセッサ6は、第1の検出器から受信する第1の位置調整信号に基づき、第1のマークの第1の位置を算出する。
動作107では、プロセッサ6は、基板テーブルWTを移動させるようにアクチュエータ8を制御し、それによって同じ第1のマークが第2の位置調整ビームを受光する。第2の位置調整ビームは、第1の位置調整装置とは異なる第2の位置調整装置によって作られる。
動作109では、プロセッサ6は、第2の位置調整装置に存在する第2の検出器から第2の位置調整信号を受信する。
動作111では、プロセッサ6は、第2の位置調整信号に基づき、第1のマークの別の第1の位置を算出する。
動作101〜111を使用することにより、1つの同じマークが異なる位置調整装置によって使用され、異なる位置調整装置は位置調整測定の異なる方法を使用するという利点が提供される。同じ位置調整用マークを使用することによって、例えば基板Wのスクライブ列内の空間を節約できる。
動作113は、プロセッサ6によって行われる別の選択肢、即ち可能な別の動作を選択することを示している。図14では、別の2つの可能な動作が示されている。プロセッサ6によって行うことのできる第1の別の動作が動作115に示されており、第1及び別の第1の位置が、プロセッサ6によって組み合わされ、第1のマークの計算した第1の位置を算出する。第1及び別の第1の位置のこのような組合せは、様々な方法で行うことができる。1つの方法は、第1及び別の第1の位置を平均化することである。そうすることによって、計算された第1の位置はより正確な値を有する。動作115の後、プロセッサ6は、図14に参照番号117で示すように、図17に示す他の任意の動作を行うことができる。
動作115の代わりに、プロセッサ6は動作113の後に動作119を行うことができ、プロセッサ6は、所定の品質インジケータ(表示)に基づき別の位置調整測定を行うように、第1又は第2の位置調整装置の何れかを選択する。このような所定の品質インジケータは、第1及び第2の位置調整信号の信号強度、騒音レベル、及び適合品質の少なくとも1つであってもよい。
図15は、動作117(図14参照)でプロセッサ6によって行うことができる動作のフロー・チャートを示す。
動作121では、プロセッサ6は、基板テーブルWTを移動させるようにアクチュエータ8を制御し、それによって第2及び第3のマークは連続して、第1の位置調整装置によって作られる第1の位置調整ビームを受光する。
動作123では、プロセッサ6は、第1、第2、及び第3のマークに関する位置情報を備える第1の検出器から第1の位置調整信号を受信する。したがって、動作123では、少なくとも3つのマークが第1の位置調整装置で測定される。
動作125では、プロセッサ6は、第1の位置調整信号に基づき、第1のマークの第1の位置、第2のマークの第2の位置、及び第3のマークの第3の位置を算出する。
動作127では、プロセッサ6は、基板テーブルWTを移動させるようにアクチュエータ8を制御し、それによって第2及び第3のマークが第2の位置調整装置から第2の位置調整ビームを受光する。
動作129では、プロセッサ6は、第1、第2、及び第3のマークに関する別の位置情報を備える第2の位置調整装置内の第2の検出器から第2の位置調整信号を受信する。
動作131では、プロセッサ6は動作111ですでに計算した第1のマークの別の第1の位置とは別に、第2の位置調整信号に基づき、第2のマークの別の第2の位置及び第3のマークの別の第3の位置も算出する。
動作133では、プロセッサ6は、第2及び別の第2の位置を組み合わせて、少なくとも第2のマークの計算した第2の位置を算出し、第3及び別の第3の位置を組み合わせて、第3のマークの計算した第3の位置を算出する。様々なアルゴリズム、例えば平均化をここで使用できる。
動作135では、プロセッサ6は、計算した第1の位置、計算した第2の位置、及び計算した第3の位置に基づき座標系を算出する。このような座標系は、単一の位置調整装置のみによる3つのマークに関する位置調整測定に基づく座標系よりも信頼性がある。異なる測定方法、例えば結果の平均化に基づき、2つ以上の位置調整装置で3つの位置調整用マークに関して測定することによって、位置調整結果を改善できる。
「実施例2」
図16は、本発明の第2の実施例を示す。図16は、プロセッサ6で作動するプログラムのフロー・チャートを示している。
図16は、本発明の第2の実施例を示す。図16は、プロセッサ6で作動するプログラムのフロー・チャートを示している。
動作201では、プロセッサ6は、基板テーブルWTを移動させるようにアクチュエータ8を制御し、それによって第1のマークが第1の位置調整装置の第1の位置調整ビームを受光する。
動作203では、プロセッサ6は、第1の位置調整装置内の第1の検出器から第1の位置調整信号を受信する。
動作205では、プロセッサ6は、受信した第1の位置調整信号に基づき、第1のマークの第1の位置を算出する。
動作207では、プロセッサ6は、基板テーブルWTを移動させるようにアクチュエータ8を制御し、それによって第2のマークが第2の位置調整装置から第2の位置調整ビームを受光する。
動作209では、プロセッサ6は、第2の位置調整装置内の第2の検出器から第2の位置調整信号を受信する。
動作211では、プロセッサ6は、第2の位置調整信号に基づき、第2のマークの第2の位置を算出する。
この第2の実施例では、第1の位置調整装置は、行われる位置調整測定方法において第2の位置調整装置と異なる。したがって、1つの例では、第1の位置調整装置は、図2〜図11を参照して説明した位置調整装置のいずれであってもよく、第2の位置調整装置はまた、これらの位置調整装置の1つであるが、第1の位置調整装置とは異なるものである。ここで、使用される位置調整装置はそれぞれ、上記に説明したように、考えられる位置調整装置専用のマークに関する位置調整測定を行う。
動作213では、プロセッサ6は、品質インジケータ(表示)に基づき別の位置調整測定を行うために、第1及び第2の位置を組み合わせて、第1又は第2の位置調整装置の何れかを選択する。このような品質インジケータは、第1及び第2の位置調整信号の信号強度、騒音レベル、及び適合品質の品質表示の群からの1つ又は複数であってもよい。このような品質表示は、上記の異なる位置調整装置によって行われた位置調整測定からこれらの品質インジケータを得る方法が、このような当業者に知られている。
別の実施例では、プロセッサ6は、前記第1又は第2の位置の何れかで少なくとも1つの重み係数を使用して計算した位置を算出するように、第1及び第2の位置を組み合わせる。これは、動作213に対する代替動作213aとして図16に示されている。重み係数は、このような計算において、第1及び第2の位置に対する乗法因数として使用される。また、このようなインジケータは、第1及び第2の位置調整信号の信号強度、騒音レベル、及び適合品質などの品質インジケータの群からの1つ又は複数であってもよい。重み係数は例えば、以下の方法でこのようなインジケータによって決めることができる。
計算した位置(P)は、第1の重み係数(w1)で乗算した第1の測定(P1)、及び第2の重み係数(w2)で乗算した第2の測定(P2)に基づき算出される。
P=w1*P1+w2*P2
P=w1*P1+w2*P2
重み係数w1及びw2は、以下の式によって決めることができ、第1の測定の品質インジケータはI1で特定され、I2は第2の測定の品質インジケータを示す。
別の実施例では、プロセッサ6は、品質インジケータの値に基づき最適な測定を選択する。
I1≧I2の場合、w1=1;w2=0
I1<I2の場合、w1=0;w2=1
I1≧I2の場合、w1=1;w2=0
I1<I2の場合、w1=0;w2=1
さらに別の実施例では、プロセッサ6は、インジケータが同様の値を有する場合に両方の測定に重みをおき、インジケータが明らかに単一の測定を好む場合に単一の測定を選択する。これは、以下の式で示すことができる。
両方の実施例とも性能及び/又はローバスト性(堅牢性)を良くする。
上記に説明した実施例は、特定の実施によって、従来技術を凌ぐいくつかの利点を提供できる。これらの利点は以下の通りである。
1.改善された位置調整精度
2.改善された位置調整ローバスト性
3.少ないスクライブ列使用
1.改善された位置調整精度
2.改善された位置調整ローバスト性
3.少ないスクライブ列使用
集積回路の製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して、この本文では特定の言及を行ったが、本明細書に記載するリソグラフィ装置は、集積光学システムの製造、磁気領域メモリ用案内及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ(LCD)、薄膜磁気ヘッドなどの他の応用例を有することができることを理解すべきである。当業者は、このような代替応用例の内容で、ここでの「ウェハ」又は「ダイ」という用語の使用は、それぞれ「基板」又は「目標部」というより一般的な用語と同義であると考える得ることが分かるだろう。ここで言う基板は、露光の前後に、例えばトラック(普通、基板にレジスト層を塗布し、露光したレジストを現像する器具)、測定器具、及び/又は検査器具内で加工できる。適用可能である場合、本明細書の開示を、このような他の基板加工器具に適用できる。さらに、例えば多層集積回路を作り出すために、基板を複数回加工することもでき、それによって本明細書で使用される基板という用語は、多数の加工された層をすでに含む基板を言うこともある。
光学リソグラフィの内容において、本発明の実施例の使用の特定の言及を上記で行ったが、本発明は、他の応用例、例えば押印(インプリント)リソグラフィ又は浸漬リソグラフィで使用することができ、内容が許す限り、光学リソグラフィに限るものではないことが分かるだろう。押印リソグラフィでは、パターン付与装置内のトポグラフィが基板に形成されるパターンを規定する。パターン付与装置のトポグラフィは、基板に供給されるレジスト層内に押圧することができ、レジストは、電磁放射、熱、圧力、又はその組み合わせを加えることによって硬化される。パターン付与装置は、レジストが硬化された後に、パターンをそこに残してレジストから移動される。
上側位置調整の内容で、本発明の実施例の使用に対して上記の特定の言及を行ったが、本発明は位置調整用マークがウェハの底部側に配置される応用例で使用できることが分かるだろう。
特定の位置調整用マーク寸法の実施例の使用に対して上記の特定の言及を行ったが、CMP(化学機械研磨)、PVD(物理的気相成長法)、又はエッチングのような特定の過程に対する位置調整用マークの感度を小さくするマーク寸法調節を、本発明の範囲から逸脱することなく行うことができる。
本明細書で使用される「放射」及び「ビーム」という用語は、紫外線(UV)放射(例えば、約365、355、248、193、157、又は126nmの波長を有する)、及び超紫外線(EUV)放射(例えば、5〜20nmの範囲の波長を有する)と、イオン・ビーム又は電子ビームなどの粒子ビームを含む、すべての種類の電磁放射を含んでいる。
「レンズ」という用語は、内容が許す限り、屈折、反射、磁気、電磁、及び静電光学構成要素を含む様々な種類の光学構成要素のいずれか1つ又は組合せのことを言うことができる。
本発明の特定の実施例を上記で説明したが、説明した方法以外で本発明を実施できることを理解されたい。例えば本発明は、上記に開示するような方法を説明する1つ又は複数の一連の機械読取可能な指示を含むコンピュータ・プログラム、又は中にこのようなコンピュータ・プログラムを記憶するデータ記憶媒体(例えば、半導体メモリ、磁気又は光ディスク)の形を取ってもよい。
代替実施例では、位置調整装置の1つ又は複数は、図2〜図11に説明した位置調整装置とは異なる。例えば、本発明は、例えばいわゆる「アテネ」センサを備える他の種類の位置調整設備でも適用可能である。この位置調整センサは、位置調整用マークの位置を測定する。ここで、位置調整中に、位置調整用マークは位置調整放射ビームで照射される。位置調整放射ビームは、位置調整用マークによって、+1、−1、+2、及び−2などのいくつかの回折次数に回折される。光学素子を使用して、対応する回折次数(例えば、+1及び−1)の組がそれぞれ、基準板に位置調整用マークの画像を形成するために使用される。基準板は、測定される対応する回折次数の組のそれぞれに対する基準格子を備えている。各基準格子の後に、基準格子を通過する画像内で放射の強度を測定するために、別個の検出器が配置される。基準板に対して位置調整用マークを移動させることによって、1つ又は複数の画像に対して最も大きい強度を有する位置が求められ、位置調整された位置が与えられる。性能を高めるため、いくつかの画像の強度を測定することができ、位置調整放射ビームは多数の色からなることができる。
容量又は音響測定に基づくセンサのような、他の種類のセンサの使用は除く。
さらに、図2を参照して示した装置は、基板Wにわたって位置調整ビーム18の移動を作るように、アクチュエータ8が基板テーブルWTを移動させることを示しているが、位置調整ビーム18は適切な装置、例えば基板Wにわたって位置調整ビーム18を走査するように作動されたミラーによって移動させることができ、そのとき、基板テーブルWT、及び基板Wは固定位置にあることを理解すべきである。さらに別の実施例では、基板テーブル及び位置調整ビームは両方とも、測定を行いながら移動できる。
上記の説明は例示的ものであり、限定するものではない。したがって、特許請求の範囲から逸脱することなく、上記の発明に変更を加えることができることは当業者には自明のことであろう。例えば、図は1つの装置から他の装置へ信号を伝達運ぶするための物理的接続を示すこともできる。しかし、すべての通信接続は無線であってもよい。
Claims (38)
- 対象物に配置された少なくとも第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成するように構成された第1の検出器を備える第1の位置調整装置と、
前記第1の位置調整装置とは異なる方法の位置調整測定を使用し、前記と同じの少なくとも第1のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成するように構成された第2の検出器を備える第2の位置調整装置と、
前記第1の検出器及び前記第2の検出器に連結されたプロセッサであって、該プロセッサが、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信し、
前記第1の位置調整信号に基づき前記少なくとも第1のマークの第1の位置を算出し、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信し、
前記第2の位置調整信号に基づき前記少なくとも第1のマークの別の第1の位置を算出するように構成されたプロセッサとを備えるリソグラフィ装置。 - 前記第1の位置調整装置が、
第1の光ビームを生成する第1の光源と、
前記第1の光ビームを受け、第1の位置調整ビームを生成し、前記第1の位置調整ビームを前記対象物に配置された前記少なくとも第1のマークに方向付け、前記少なくとも第1のマークから戻る第1の位置調整放射を受け、前記第1の位置調整放射を前記第1の検出器に伝達する第1の光学装置とを備える請求項1に記載されたリソグラフィ装置。 - 前記第2の位置調整装置が、
第2の光ビームを生成する第2の光源と、
前記第2の光ビームを受け、第2の位置調整ビームを生成し、前記第2の位置調整ビームを前記対象物に配置された前記と同じの少なくとも第1のマークに方向付け、前記少なくとも第1のマークから戻る第2の位置調整放射を受け、前記第2の位置調整放射を前記第2の検出器に伝達する第2の光学装置とを備える請求項2に記載されたリソグラフィ装置。 - 前記対象物が、基板及び基板テーブルの一方である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記プロセッサが、前記第1及び別の第1の位置を組み合わせて、前記少なくとも第1のマークの計算された第1の位置を算出するように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、前記対象物を移動させるアクチュエータを備え、前記プロセッサが、
前記第1及び別の第1の位置を組み合わせて、前記少なくとも第1のマークの計算された第1の位置を算出し、
前記アクチュエータを制御して、少なくとも第2及び第3のマークが連続して前記第1の位置調整ビームを受けるように前記対象物を移動させ、
前記第1、第2、及び第3のマークに関する位置情報とともに、前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信し、
前記第1の位置調整信号に基づき、前記第2のマークの第2の位置及び前記第3のマークの前記第3の位置も算出し、
前記アクチュエータを制御して、前記少なくとも第2及び第3のマークが前記第2の位置調整ビームを受けるように前記対象物を移動させ、
前記第1、第2、及び第3のマークに関する別の位置情報とともに、前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受け、
前記第2の位置調整信号に基づき、前記第2のマークの別の第2の位置及び前記第3のマークの別の第3の位置も算出し、
前記第2及び別の第2の位置を組み合わせて、前記少なくとも第2のマークの計算された第2の位置を算出し、前記第3及び別の第3の位置を組み合わせて、前記少なくとも第3のマークの計算された第3の位置を算出し、
前記計算された第1の位置、前記計算された第2の位置、及び前記計算された第3の位置に基づいて座標系を算出するように構成されている請求項3に記載されたリソグラフィ装置。 - 前記プロセッサが、前記第1又は前記第2の位置調整装置を選択して、前記第1及び第2の位置調整信号の少なくとも一方に関連する少なくとも1つの品質インジケータの値に基づき、別の位置調整測定を行うように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記品質インジケータが、前記第1及び第2の位置調整信号の信号強度、騒音レベル、及び適合品質のうちの少なくとも1つである請求項7に記載されたリソグラフィ装置。
- 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えて、パターンの付与された放射ビームを形成することの可能なパターン付与装置を支持するように構成された支持体と、
基板の目標部分に前記パターンの付与された放射ビームを投影するように構成された投影システムとを備える請求項1に記載されたリソグラフィ装置。 - 前記位置調整測定の方法が、レーザ・ステップ位置調整測定、レーザ干渉計位置調整測定、及び領域画像位置調整測定のうちの1つに基づくものである請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記プロセッサ(6)が、前記第1のマークの前記第1の位置及び前記別の第1の位置を算出するように構成され、
前記第1のマークが、所定の方向に延びる複数の棒状構造体を備える第1のマーク、第1の方向に延びる第1の複数の棒状構造体及び前記第1の方向に実質的に垂直である第2の方向に延びる第2の複数の棒状構造体を備える第2のマーク、及び複数の列及び複数の行に規則的パターンで配置された複数の四角形状の構造体を備える第3のマークのうちの1つから選択される請求項1に記載されたリソグラフィ装置。 - 前記第1及び第2の位置調整装置の両方が、前記同じ第1のマークで、第1の方向及び前記第1の方向に垂直な第2の方向で位置調整測定を行うように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 浸漬リソグラフィを行うように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記対象物が、前記リソグラフィ装置によって露光される上側部、及び底側部を有する基板であり、前記少なくとも第1の位置調整用マークが前記底側部に配置されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成するように構成された第1の検出器を備える第1の位置調整装置と、
前記対象物の第2のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成するように構成された第2の検出器を備える第2の位置調整装置と、
前記第1の検出器及び前記第2の検出器に連結されたプロセッサであって、該プロセッサが、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信し、
前記第1の位置調整信号に基づき前記第1のマークの第1の位置を算出し、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信し、
前記第2の位置調整信号に基づき前記第2のマークの第2の位置を算出し、
前記第1又は第2の位置調整装置のいずれかを選択して、品質インジケータに基づき別の位置調整測定を行うために、前記第1及び第2の位置を評価するように構成されたプロセッサとを備えるリソグラフィ装置。 - 前記品質インジケータが、前記第1及び第2の位置調整信号の信号強度、騒音レベル、及び適合品質の品質インジケータの群のうちの1つ又は複数である請求項15に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第1及び第2の位置調整装置が、レーザ・ステップ位置調整測定、レーザ干渉計位置調整測定、及び領域画像位置調整測定の1つを行うように構成されている請求項15に記載されたリソグラフィ装置。
- 浸漬リソグラフィを行うように構成されている請求項15に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記対象物が、前記リソグラフィ装置によって露光される上側部、及び底側部を有する基板であり、前記第1及び第2の位置調整用マークが前記底側部に配置されている請求項15に記載されたリソグラフィ装置。
- 対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成するように構成された第1の検出器を備える第1の位置調整装置と、
前記対象物の第2のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成するように構成された第2の検出器を備える第2の位置調整装置と、
前記第1の検出器及び前記第2の検出器に連結されたプロセッサであって、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信し、
前記第1の位置調整信号に基づき前記第1のマークの第1の位置を算出し、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信し、
前記第2の位置調整信号に基づき前記第2のマークの第2の位置を算出し、
インジケータによって決まる前記第1又は第2の位置の何れかに関する少なくとも1つの重み係数を使用しながら、前記第1及び第2の位置を組み合わせて、計算された位置を算出するように構成されたプロセッサとを備えるリソグラフィ装置。 - 前記品質インジケータが、前記第1及び第2の位置調整信号の信号強度、騒音レベル、及び適合品質の品質インジケータ群のうちの1つ又は複数である請求項20に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第1及び第2の位置調整装置が、レーザ・ステップ位置調整測定、レーザ干渉計位置調整測定、及び領域画像位置調整測定の1つを行うように構成されている請求項20に記載されたリソグラフィ装置。
- 浸漬リソグラフィを行うように構成されている請求項20に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記対象物が、前記リソグラフィ装置によって露光される上側部、及び底側部を有する基板であり、前記第1の位置調整用マークが前記底側部に配置されている請求項20に記載されたリソグラフィ装置。
- 第1の検出器によって、対象物に配置された少なくとも第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器とは異なる方法の位置調整測定を使用して、前記同じ少なくとも第1の位置調整用マークを検出し、第2の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき、前記少なくとも第1のマークの第1の位置を算出する段階と、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき、前記少なくとも第1のマークの別の第1の位置を算出する段階とを含む、リソグラフィ装置での位置調整測定方法。 - 前記第1及び別の第1の位置を組み合わせて、前記少なくとも第1のマークの計算した第1の位置を算出する段階を含む請求項25に記載された位置調整測定方法。
- 前記第1及び別の第1の位置を組み合わせて、前記少なくとも第1のマークの計算した第1の位置を算出する段階と、
前記アクチュエータを制御して、少なくとも第2及び第3のマークが連続して前記第1の位置調整ビームを受けるように前記対象物を移動させる段階と、
前記第1、第2、及び第3のマークに関する位置情報とともに前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき前記第2のマークの第2の位置及び前記第3のマークの第3の位置も算出する段階と、
前記アクチュエータを制御して、前記少なくとも第2及び第3のマークが前記第2の位置調整ビームを受けるように前記対象物を移動させる段階と、
前記第1、第2、及び第3のマークに関する別の位置情報とともに前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき前記第2のマークの別の第2の位置及び前記第3のマークの別の第3の位置も算出する段階と、
前記第2及び別の第2の位置を組み合わせて、前記少なくとも第2のマークの計算した第2の位置を算出し、前記第3及び別の第3の位置を組み合わせて、前記少なくとも第3のマークの計算した第3の位置を算出する段階と、
前記計算した第1の位置、前記計算した第2の位置、及び前記計算した第3の位置に基づき座標系を算出する段階とを含む請求項25に記載された位置調整測定方法。 - 前記対象物が基板であり、前記方法が、前記第2の位置調整信号に基づき、前記少なくとも第1のマークの別の第1の位置を算出する前記動作の後に、
前記対象物の目標部分にパターンを付与した放射ビームを与える段階と、
前記対象物からデバイスを作製する段階とを含む請求項25に記載された位置調整測定方法。 - 第1の検出器によって対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出して、第1の位置調整信号を生成する段階と、
第2の検出器によって前記対象物に配置された第2のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき前記第1のマークの第1の位置を算出する段階と、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき前記第2のマークの第2の位置を算出する段階と、
前記第1又は第2の位置調整装置のいずれかを選択して、品質インジケータに基づき別の位置調整測定を行うために、前記第1及び第2の位置を評価する段階とを含む、リソグラフィ装置での位置調整測定方法。 - 前記対象物が基板であり、前記方法が、前記第1又は第2の位置調整装置のいずれかを選択して品質インジケータに基づき別の位置調整測定を行うために前記第1及び第2の位置を評価する前記動作の後に、
前記対象物の目標部分にパターンを付与した放射ビームを与える段階と、
前記対象物からデバイスを作製する段階とを含む請求項29に記載された位置調整測定方法。 - 第1の検出器によって対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成する段階と、
第2の検出器によって前記対象物に配置された第2のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき前記第1のマークの第1の位置を算出する段階と、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき前記第2のマークの第2の位置を算出する段階と、
インジケータによって決まる前記第1又は第2の位置の何れかに関する少なくとも1つの重み係数を使用しながら、前記第1及び第2の位置を組み合わせて、計算された位置を算出する段階とを含む、リソグラフィ装置での位置調整測定方法。 - 前記対象物が基板であり、前記方法が、前記第1又は第2の位置の何れかに関する少なくとも1つの重み係数を使用しながら、前記第1及び第2の位置を組み合わせて、計算された位置を算出する前記動作の後に、
前記対象物の目標部分にパターンを付与した放射ビームを与える段階と、
前記対象物からデバイスを作製する段階とを含む請求項31に記載された位置調整測定方法。 - リソグラフィ装置のプロセッサによってロードされるデータ及び指示を含むコンピュータ・プログラム製品において、前記リソグラフィ装置が、
第1の検出器によって、対象物に配置された少なくとも第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器とは異なる方法の位置調整測定を使用して、前記と同じの少なくとも第1の位置調整用マークを検出し、第2の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき、前記少なくとも第1のマークの第1の位置を算出する段階と、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき、前記少なくとも第1のマークの別の第1の位置を算出する段階とを含む位置調整測定方法を行うことが可能になるように構成されたコンピュータ・プログラム製品。 - リソグラフィ装置のプロセッサによってロードされるデータ及び指示を含むコンピュータ・プログラム製品において、前記リソグラフィ装置が、
第1の検出器によって対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出して、第1の位置調整信号を生成する段階と、
第2の検出器によって前記対象物に配置された第2のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき前記第1のマークの第1の位置を算出する段階と、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき前記第2のマークの第2の位置を算出する段階と、
前記第1又は第2の位置調整装置のいずれかを選択して、品質インジケータに基づき別の位置調整測定を行うために、前記第1及び第2の位置を評価する段階とを含む位置調整測定方法を行うことが可能になるように構成されたコンピュータ・プログラム製品。 - リソグラフィ装置のプロセッサによってロードされるデータ及び指示を含むコンピュータ・プログラム製品において、前記リソグラフィ装置が、
第1の検出器によって対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成する段階と、
第2の検出器によって前記対象物に配置された第2のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき前記第1のマークの第1の位置を算出する段階と、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき前記第2のマークの第2の位置を算出する段階と、
インジケータによって決まる前記第1又は第2の位置の何れかに関する少なくとも1つの重み係数を使用しながら、前記第1及び第2の位置を組み合わせて、計算された位置を算出する段階とを含む位置調整測定方法を行うことが可能になるように構成されたコンピュータ・プログラム製品。 - リソグラフィ装置のプロセッサによってロードされるデータ及び指示を含むコンピュータ・プログラム製品を含むデータ媒体において、前記リソグラフィ装置が、
第1の検出器によって、対象物に配置された少なくとも第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器とは異なる方法の位置調整測定を使用して、前記同じ少なくとも第1の位置調整用マークを検出し、第2の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき、前記少なくとも第1のマークの第1の位置を算出する段階と、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき、前記少なくとも第1のマークの別の第1の位置を算出する段階とを含む位置調整測定方法を行うことが可能になるように構成されたコンピュータ・プログラム製品を含むデータ媒体。 - リソグラフィ装置のプロセッサによってロードされるデータ及び指示を含むコンピュータ・プログラム製品を含むデータ媒体において、前記リソグラフィ装置が、
第1の検出器によって対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出して、第1の位置調整信号を生成する段階と、
第2の検出器によって前記対象物に配置された第2のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき前記第1のマークの第1の位置を算出する段階と、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき前記第2のマークの第2の位置を算出する段階と、
前記第1又は第2の位置調整装置のいずれかを選択して、品質インジケータに基づき別の位置調整測定を行うために、前記第1及び第2の位置を評価する段階とを含む位置調整測定方法を行うことが可能になるように構成されたコンピュータ・プログラム製品を含むデータ媒体。 - リソグラフィ装置のプロセッサによってロードされるデータ及び指示を含むコンピュータ・プログラム製品を含むデータ媒体において、前記リソグラフィ装置が、
第1の検出器によって対象物に配置された第1の位置調整用マークを検出し、第1の位置調整信号を生成する段階と、
第2の検出器によって前記対象物に配置された第2のマークを検出し、第2の位置調整信号を生成する段階と、
前記第1の検出器から前記第1の位置調整信号を受信する段階と、
前記第1の位置調整信号に基づき前記第1のマークの第1の位置を算出する段階と、
前記第2の検出器から前記第2の位置調整信号を受信する段階と、
前記第2の位置調整信号に基づき前記第2のマークの第2の位置を算出する段階と、
インジケータによって決まる前記第1又は第2の位置の何れかに関する少なくとも1つの重み係数を使用しながら、前記第1及び第2の位置を組み合わせて、計算された位置を算出する段階とを含む位置調整測定方法を行うことが可能になるように構成されたコンピュータ・プログラム製品を含むデータ媒体。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017516138A (ja) * | 2014-05-13 | 2017-06-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | メトロロジーに用いられる基板及びパターニングデバイス、メトロロジー方法、及びデバイス製造方法 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7626701B2 (en) | 2004-12-27 | 2009-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with multiple alignment arrangements and alignment measuring method |
US8411271B2 (en) * | 2005-12-28 | 2013-04-02 | Nikon Corporation | Pattern forming method, pattern forming apparatus, and device manufacturing method |
JP2007208081A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Oki Electric Ind Co Ltd | アラインメントマーク、合わせマーク及び半導体装置の製造方法 |
NL2003414A (en) * | 2008-10-07 | 2010-04-08 | Asml Netherlands Bv | Substrate measurement method and apparatus. |
NL2008111A (en) * | 2011-02-18 | 2012-08-21 | Asml Netherlands Bv | Optical apparatus, method of scanning, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
CN103048885B (zh) * | 2011-10-11 | 2015-02-25 | 中山新诺科技股份有限公司 | 无掩膜曝光系统及方法 |
KR101326107B1 (ko) * | 2011-12-20 | 2013-11-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 가공장치 및 그 제어방법 |
CN103365107B (zh) * | 2012-04-11 | 2015-05-13 | 上海微电子装备有限公司 | 一种多离轴对准系统匹配测校方法 |
WO2014064290A1 (en) * | 2012-10-26 | 2014-05-01 | Mapper Lithography Ip B.V. | Determining a position of a substrate in lithography |
US9304403B2 (en) * | 2013-01-02 | 2016-04-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | System and method for lithography alignment |
CN104111594B (zh) * | 2013-04-16 | 2016-09-28 | 上海微电子装备有限公司 | 基于信号频率的二维自参考干涉对准系统及对准方法 |
JP2014220263A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-20 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 |
US9547241B2 (en) | 2013-05-07 | 2017-01-17 | Asml Netherlands B.V. | Alignment sensor, lithographic apparatus and alignment method |
NL2013923A (en) | 2014-01-24 | 2015-07-29 | Asml Netherlands Bv | Apparatus operable to perform a measurement operation on a substrate, lithographic apparatus, and method of performing a measurement operation on a substrate. |
JP6470528B2 (ja) * | 2014-09-05 | 2019-02-13 | キヤノン株式会社 | 検出装置、計測装置、露光装置、物品の製造方法、および計測方法 |
US9841299B2 (en) | 2014-11-28 | 2017-12-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Position determining device, position determining method, lithographic apparatus, and method for manufacturing object |
JP6590599B2 (ja) * | 2014-11-28 | 2019-10-16 | キヤノン株式会社 | 位置決定装置、位置決定方法、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
TWI579662B (zh) * | 2015-10-05 | 2017-04-21 | A multi-channel alignment system based on spectrum processing, an alignment signal processing method and a photolithography apparatus | |
KR102170147B1 (ko) | 2015-12-28 | 2020-10-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 모듈레이션 기술을 이용한 메트롤로지를 위한 대체 타겟 디자인 |
TWI780741B (zh) * | 2016-02-24 | 2022-10-11 | 美商克萊譚克公司 | 光學計量之準確度提升 |
CN110308620A (zh) * | 2019-06-20 | 2019-10-08 | 合肥芯碁微电子装备有限公司 | 一种激光直接成像设备对准相机位置关系自动标定方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05304077A (ja) * | 1992-01-23 | 1993-11-16 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JPH06232028A (ja) * | 1993-02-08 | 1994-08-19 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JPH06331400A (ja) * | 1993-05-24 | 1994-12-02 | Sanyo Electric Co Ltd | センサフュージョン手法 |
JPH08162392A (ja) * | 1994-12-08 | 1996-06-21 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JPH1073436A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-03-17 | Hitachi Cable Ltd | 方位センサ |
JP2002215236A (ja) * | 2001-01-22 | 2002-07-31 | Komatsu Ltd | 無人車両の走行制御装置 |
JP2003297743A (ja) * | 2002-03-01 | 2003-10-17 | Asml Netherlands Bv | 較正方法、較正基板、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2004312402A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Hitachi Ltd | 道路監視システム,道路監視装置 |
JP2004343124A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィック装置較正方法、整列方法、コンピュータ・プログラム、リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2773147B2 (ja) * | 1988-08-19 | 1998-07-09 | 株式会社ニコン | 露光装置の位置合わせ装置及び方法 |
US5151750A (en) * | 1989-04-14 | 1992-09-29 | Nikon Corporation | Alignment apparatus |
JP3033135B2 (ja) * | 1990-06-13 | 2000-04-17 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び方法 |
US5525808A (en) * | 1992-01-23 | 1996-06-11 | Nikon Corporaton | Alignment method and alignment apparatus with a statistic calculation using a plurality of weighted coordinate positions |
JP3448778B2 (ja) | 1992-01-31 | 2003-09-22 | 株式会社ニコン | マーク検知装置、及びその検知装置を備えた露光装置、及びその露光装置により製造されたデバイス、並びにマーク検知方法、及びその検知方法を含む露光方法、及びその露光方法を含むデバイス製造方法 |
JPH0634707A (ja) * | 1992-07-16 | 1994-02-10 | Fujitsu Ltd | デバイスの測定方法 |
US5521036A (en) * | 1992-07-27 | 1996-05-28 | Nikon Corporation | Positioning method and apparatus |
US6278957B1 (en) | 1993-01-21 | 2001-08-21 | Nikon Corporation | Alignment method and apparatus therefor |
US5808910A (en) | 1993-04-06 | 1998-09-15 | Nikon Corporation | Alignment method |
JPH06349707A (ja) * | 1993-06-14 | 1994-12-22 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
US5721605A (en) * | 1994-03-29 | 1998-02-24 | Nikon Corporation | Alignment device and method with focus detection system |
US5907405A (en) * | 1995-09-01 | 1999-05-25 | Nikon Corporation | Alignment method and exposure system |
JPH09320921A (ja) | 1996-05-24 | 1997-12-12 | Nikon Corp | ベースライン量の測定方法及び投影露光装置 |
US5825043A (en) * | 1996-10-07 | 1998-10-20 | Nikon Precision Inc. | Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus |
JPH11329934A (ja) | 1998-05-18 | 1999-11-30 | Nikon Corp | 位置合わせ方法およびその方法を用いた露光装置 |
US6528219B1 (en) * | 2000-07-27 | 2003-03-04 | International Business Machines Corporation | Dynamic alignment scheme for a photolithography system |
US6525805B2 (en) * | 2001-05-14 | 2003-02-25 | Ultratech Stepper, Inc. | Backside alignment system and method |
JP4222926B2 (ja) * | 2002-09-20 | 2009-02-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | デバイス検査 |
SG115621A1 (en) * | 2003-02-24 | 2005-10-28 | Asml Netherlands Bv | Method and device for measuring contamination of a surface of a component of a lithographic apparatus |
DE10315086B4 (de) | 2003-04-02 | 2006-08-24 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten von Halbleiterwafern bei der Halbleiterherstellung |
SG112969A1 (en) * | 2003-12-22 | 2005-07-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and methods for use thereof |
US7626701B2 (en) * | 2004-12-27 | 2009-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus with multiple alignment arrangements and alignment measuring method |
US7414722B2 (en) * | 2005-08-16 | 2008-08-19 | Asml Netherlands B.V. | Alignment measurement arrangement and alignment measurement method |
-
2004
- 2004-12-27 US US11/020,644 patent/US7626701B2/en active Active
-
2005
- 2005-12-13 EP EP05112067A patent/EP1674938B1/en not_active Not-in-force
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2009
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-
2011
- 2011-09-21 US US13/239,166 patent/US8345245B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05304077A (ja) * | 1992-01-23 | 1993-11-16 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JPH06232028A (ja) * | 1993-02-08 | 1994-08-19 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JPH06331400A (ja) * | 1993-05-24 | 1994-12-02 | Sanyo Electric Co Ltd | センサフュージョン手法 |
JPH08162392A (ja) * | 1994-12-08 | 1996-06-21 | Nikon Corp | 位置合わせ方法 |
JPH1073436A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-03-17 | Hitachi Cable Ltd | 方位センサ |
JP2002215236A (ja) * | 2001-01-22 | 2002-07-31 | Komatsu Ltd | 無人車両の走行制御装置 |
JP2003297743A (ja) * | 2002-03-01 | 2003-10-17 | Asml Netherlands Bv | 較正方法、較正基板、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2004312402A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Hitachi Ltd | 道路監視システム,道路監視装置 |
JP2004343124A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィック装置較正方法、整列方法、コンピュータ・プログラム、リソグラフィック装置及びデバイス製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017516138A (ja) * | 2014-05-13 | 2017-06-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | メトロロジーに用いられる基板及びパターニングデバイス、メトロロジー方法、及びデバイス製造方法 |
US9915879B2 (en) | 2014-05-13 | 2018-03-13 | Asml Netherlands B.V. | Substrate and patterning device for use in metrology, metrology method and device manufacturing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120008126A1 (en) | 2012-01-12 |
SG158187A1 (en) | 2010-01-29 |
KR20060074873A (ko) | 2006-07-03 |
TWI314672B (en) | 2009-09-11 |
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US8345245B2 (en) | 2013-01-01 |
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US8018594B2 (en) | 2011-09-13 |
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EP1674938A1 (en) | 2006-06-28 |
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