JP2005191566A - 位置決定方法、重ね合わせの最適化方法、デバイスの製造方法、及びリソグラフィ投影装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この方法は、基板のターゲット部分10に放射ビームを投影する段階と、このターゲット部分から放出される複数の回折信号を測定する段階とを含む。この方法は、これら複数の回折信号のそれぞれの分散を計算して、これらの回折信号の複数の分散を求める段階と、これら複数の分散の分析に基づいてリソグラフィ投影装置の位置合わせ条件を調整する段階とをさらに含む。
【選択図】図2
Description
var(ri−rj)=var(ri)+var(rj)−2cov(ri,rj)、∀i≠j、i,j=1,…,n(式1)
ここで、nは検査している信号の数であり、ri及びrjはn個の測定信号の値である。var(rj)は信号rjの分散を示し、cov(ri,rj)は、信号ri及びrjの共分散を示す。分散は、正の実数又はゼロであることに留意されたい。これは、var(x)≧0という条件式で表すことができる。このような条件は、式1で表す連立方程式を解くときに利用できる。
になる。
個の共分散を含む。このような完全な連立方程式では、未知変数の数が、既知変数の数よりもn項多い。そのため、この連立方程式を解くことが不可能なことがある。したがって、この連立方程式を解くために、この連立方程式が求められるまで、この連立方程式の変数の数を減少させることが望ましい。
は、n個の(測定された)回折次数のそれぞれについての、位置合わせ/重ね合わせ偏差に対する基板の処理の影響を含む。前記で説明したモデル化手法では、分散Var(rip)の最小になる信号riが、位置合わせ/重ね合わせが最も安定に行われたことを示す。本発明の実施例による方法では、この最も安定な信号riを選択して、位置合わせ/重ね合わせの質を求める。
に等しい連立方程式の係数行列Aを考える。n個の共分散をゼロにする場合、行列Aは、未知変数としての分散だけを含むn個の行を有する。これらのn個の行により、行列Aが従属になり、その結果、この連立方程式について無限個の解が得られることがある。したがって、最大階数の(すなわち、列又は行がすべて独立の)係数行列Aが必要とされる。n個の回折次数では、
得られた係数行列が最大階数を有する。
解ができるだけ厳密解に近い(すなわち、従来の方法によって求めた信頼性の高い解に最も近い)ことが望ましい。
10 マーカ、ウエハ格子
17 フロッピー(登録商標)・ディスク
18 記憶装置、ハード・ディスク
19 記憶装置、テープ装置
20 CD ROM、DVD
21 ホスト・プロセッサ
22 記憶装置、RAM
23 記憶装置、(E)EPROM
24 記憶装置、ROM
26 キーボード
27 マウス
28 モニタ
29 プリンタ
30 読取り装置
AM 調節構造体
BD ビーム送達装置
C ターゲット部分
CO コンデンサ光学系
Covar 共分散データベース
DB1 第1データベース
DB2 第2データベース
IF 干渉測定構造体
IL 照明装置、照明器
ILS 照明源
IN 統合器
LA、SO 放射源
L1 第1レンズ
L2 第2レンズ
MA マスク
MT 第1物体テーブル、マスク・テーブル
M1、M2 マスク位置合わせマーク
ODS 光検出装置
PB 投影ビーム
PL 投影装置、レンズ
PM 第1位置決め構造体
PP 瞳孔板
PW 第2位置決め構造体
P1、P2 基板位置合わせマーク
RPD 基準グレーティング検出器
RS 放射装置
S1 位置合わせ/重ね合わせ測定信号
S2 出力制御信号
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (31)
- 基板の位置合わせフィーチャの影響を受けた光に基づく複数の信号を得る段階と、
前記複数の信号のそれぞれの分散を決定する段階と、
前記分散を決定する段階の結果に基づいて、前記複数の信号のうちから少なくとも1つの信号を選択する段階とを含む位置決定方法。 - 前記複数の信号を得る段階が、前記基板の位置合わせフィーチャによって回折された光に基づく複数の信号を得る請求項1に記載された位置決定方法。
- 少なくとも1つの選択された信号に基づいて、前記位置合わせフィーチャの位置を求める段階をさらに含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 前記選択する段階が、信号の分散が他の信号の分散よりも小さいことを判定することに基づいて、前記複数の信号のうちから1つの信号を選択する段階を含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 少なくとも1つの選択された信号に基づく補正を求める段階と、前記補正に基づいて前記位置合わせフィーチャの位置を求める段階とをさらに含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 放射感受性材料で少なくとも部分的に覆われた前記基板のターゲット部分に、パターン化された放射ビームを投影する段階をさらに含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 位置合わせフィーチャの位置を求める段階に続いて、基板のターゲット部分にパターン化された放射ビームを投影する段階をさらに含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 前記選択する段階が、前記分散の差を計算する段階を含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 前記選択する段階が、複数の信号対の間の共分散を計算する段階を含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 前記選択する段階が、少なくとも2つの異なる値iおよびjについて、
var(ri−rj)=var(ri)+var(rj)−2cov(ri,rj)
の式の値を求める段階を含み、nは測定された回折信号の全数を示し、ri及びrjは、前記複数の信号のうちi及びj番目の2つの信号の値を示し、varは分散を示し、covは共分散を示す、請求項1に記載された位置決定方法。 - 前記選択する段階が、最小自乗法及び特異値分解法のうちの少なくとも1つを用いて前記連立方程式を解く段階を含む請求項11に記載された位置決定方法。
- 前記選択する段階が、前記複数の信号のうちの少なくとも1つの信号を、定数と変数部分とに分解する段階を含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 前記選択する段階が、複数の回折信号のうちの少なくとも1つの信号の分散と、前記基板上の前記位置合わせフィーチャの位置とを相関させる段階を含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 基板の位置合わせフィーチャに位置合わせビームを投影するように構成された位置合わせ装置と、
前記位置合わせフィーチャの影響を受けた光に基づく複数の信号を得るように構成された検出装置と、
前記複数の信号のそれぞれの分散を計算し、計算された分散に基づいて前記複数の信号のうちから少なくとも1つの信号を選択するように構成されたプロセッサとを含むリソグラフィ投影装置。 - 少なくとも1つの選択された信号に基づいて、前記基板を位置決めするように構成された制御装置をさらに含む請求項15に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出装置が、前記基板の位置合わせフィーチャによって回折された光に基づく複数の信号を得るように構成されている請求項15に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記プロセッサが、少なくとも1つの選択された信号に基づいて、前記位置合わせフィーチャの位置を求めるように構成されている請求項15に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記プロセッサが、少なくとも1つの選択された信号に基づく補正を求め、前記補正に基づいて前記位置合わせフィーチャの位置を求めるように構成されている請求項15に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記プロセッサが、前記分散の差を計算するように構成されている請求項15に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記プロセッサが、複数の信号対の間の共分散を計算するように構成されている請求項15に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記プロセッサに電気的に接続された複数の記憶装置をさらに含む請求項15に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記プロセッサをネットワークに接続するように構成されたネットワーク・インターフェースをさらに含む請求項15に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 放射感受性材料で少なくとも部分的に覆われた前記基板のターゲット部分に、パターン化された放射ビームを投影するように構成された投影装置をさらに含む請求項15に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 位置決定方法を記述した命令を含むデータ記憶媒体であって、前記位置決定方法が、
基板の位置合わせフィーチャの影響を受けた光に基づく複数の信号を得る段階と、
前記複数の信号のそれぞれの分散を求める段階と、
前記分散を求める段階の結果に基づいて、前記複数の信号のうちから少なくとも1つの信号を選択する段階とを含むデータ記憶媒体。 - 前記複数の信号を得る段階が、前記基板の位置合わせフィーチャによって回折された光に基づく複数の信号を得る請求項25に記載されたデータ記憶媒体。
- 前記位置決定方法が、少なくとも1つの選択された信号に基づいて、前記位置合わせフィーチャの位置を求める段階をさらに含む請求項25に記載されたデータ記憶媒体。
- 前記位置決定方法が、少なくとも1つの選択された信号に基づく補正を求める段階と、前記補正に基づいて前記位置合わせフィーチャの位置を求める段階とをさらに含む請求項25に記載されたデータ記憶媒体。
- 前記選択する段階が、前記分散の差を計算する段階を含む請求項25に記載されたデータ記憶媒体。
- 前記選択する段階が、複数の信号対の間の共分散を計算する段階を含む請求項25に記載されたデータ記憶媒体。
- 位置決定方法を実施するように構成され配置されたプロセッサであって、前記位置決定方法が、
基板の位置合わせフィーチャの影響を受けた光に基づく複数の信号を得る段階と、
前記複数の信号のそれぞれの分散を求める段階と、
前記分散を求める段階の結果に基づいて、前記複数の信号のうちから少なくとも1つの信号を選択する段階とを含むプロセッサ。
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