JP4448770B2 - 位置決定方法、重ね合わせの最適化方法、デバイスの製造方法、及びリソグラフィ投影装置 - Google Patents
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- G03F7/70605—Workpiece metrology
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Description
var(ri−rj)=var(ri)+var(rj)−2cov(ri,rj)、∀i≠j、i,j=1,…,n(式1)
ここで、nは検査している信号の数であり、ri及びrjはn個の測定信号の値である。var(rj)は信号rjの分散を示し、cov(ri,rj)は、信号ri及びrjの共分散を示す。分散は、正の実数又はゼロであることに留意されたい。これは、var(x)≧0という条件式で表すことができる。このような条件は、式1で表す連立方程式を解くときに利用できる。
になる。
個の共分散を含む。このような完全な連立方程式では、未知変数の数が、既知変数の数よりもn項多い。そのため、この連立方程式を解くことが不可能なことがある。したがって、この連立方程式を解くために、この連立方程式が求められるまで、この連立方程式の変数の数を減少させることが望ましい。
は、n個の(測定された)回折次数のそれぞれについての、位置合わせ/重ね合わせ偏差に対する基板の処理の影響を含む。前記で説明したモデル化手法では、分散Var(rip)の最小になる信号riが、位置合わせ/重ね合わせが最も安定に行われたことを示す。本発明の実施例による方法では、この最も安定な信号riを選択して、位置合わせ/重ね合わせの質を求める。
に等しい連立方程式の係数行列Aを考える。n個の共分散をゼロにする場合、行列Aは、未知変数としての分散だけを含むn個の行を有する。これらのn個の行により、行列Aが従属になり、その結果、この連立方程式について無限個の解が得られることがある。したがって、最大階数の(すなわち、列又は行がすべて独立の)係数行列Aが必要とされる。n個の回折次数では、
得られた係数行列が最大階数を有する。
解ができるだけ厳密解に近い(すなわち、従来の方法によって求めた信頼性の高い解に最も近い)ことが望ましい。
10 マーカ、ウエハ格子
17 フロッピー(登録商標)・ディスク
18 記憶装置、ハード・ディスク
19 記憶装置、テープ装置
20 CD ROM、DVD
21 ホスト・プロセッサ
22 記憶装置、RAM
23 記憶装置、(E)EPROM
24 記憶装置、ROM
26 キーボード
27 マウス
28 モニタ
29 プリンタ
30 読取り装置
AM 調節構造体
BD ビーム送達装置
C ターゲット部分
CO コンデンサ光学系
Covar 共分散データベース
DB1 第1データベース
DB2 第2データベース
IF 干渉測定構造体
IL 照明装置、照明器
ILS 照明源
IN 統合器
LA、SO 放射源
L1 第1レンズ
L2 第2レンズ
MA マスク
MT 第1物体テーブル、マスク・テーブル
M1、M2 マスク位置合わせマーク
ODS 光検出装置
PB 投影ビーム
PL 投影装置、レンズ
PM 第1位置決め構造体
PP 瞳孔板
PW 第2位置決め構造体
P1、P2 基板位置合わせマーク
RPD 基準グレーティング検出器
RS 放射装置
S1 位置合わせ/重ね合わせ測定信号
S2 出力制御信号
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (15)
- 第1の組の信号を取得する段階であって、前記第1の組の信号の各々は検出器によって受け取られた光の複数の成分に対応しており、前記第1の組の信号は基板の位置合わせフィーチャの影響を受けた第1の光ビームを検出することによって生成されたものである、段階と、
1つ又は複数の追加の組の信号を取得する段階であって、前記1つ又は複数の組の内の各信号が前記光の複数の成分に対応し、各組が前記基板の位置合わせフィーチャの影響を受けた1つ又は複数の光ビームを検出することによって生成されるように信号を取得する段階と、
光の各成分に対して、前記第1の組の信号の内の対応する1つの信号と、前記1つ又は複数の組の内の対応する1つ又は複数の信号との間の分散を決定する段階と、
前記分散を決定する段階の結果に基づいて、前記複数の成分のうちの少なくとも1つの成分を選択する段階と、
を含む位置決定方法。 - 前記選択する段階が、前記分散の差を計算することを含む請求項1に記載された位置決定方法。
- 前記分散を決定する段階が、複数の信号対の間の共分散を計算することを含む請求項1又は2に記載された位置決定方法。
- 前記分散を決定する段階が、少なくとも2つの異なる値iおよびjについて、
var(ri−rj)=var(ri)+var(rj)−2cov(ri,rj)
の式の値を求めることを含み、ri及びrjは、前記複数の信号のうちi及びj番目の2つの信号の値を示し、varは分散を示し、covは共分散を示す、請求項1〜3のいずれか1項に記載された位置決定方法。 - 前記分散を決定する段階が、前記信号を、定数と変数部分とに分解する段階を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載された位置決定方法。
- 基板の位置合わせフィーチャに位置合わせビームを投影するように構成された位置合わせ装置と、
前記位置合わせフィーチャの影響を受けた第1の光ビームを検出することにより第1の組の信号を生成するように構成された検出システムであって、前記第1の組の信号の各々は前記第1の光ビームからの複数の光成分のそれぞれ1つに対応しており、前記検出システムは前記位置合わせフィーチャの影響を受けた1つ又は複数の追加の光ビームの検出することにより1つ又は複数の追加の組の信号を生成するように構成されており、前記1つ又は複数の追加の光ビームの各々は前記追加の組のそれぞれ1つに対応しており、前記1つ又は複数の追加の組の内の各信号は前記複数の成分のそれぞれ1つに対応している、検出システムと、
光の各成分に対して、前記第1の組の信号の内の対応する1つの信号と、前記1つ又は複数の追加の組の内の対応する1つ又は複数の信号との間の分散を計算し、計算された分散に基づいて、前記複数の成分のうちから少なくとも1つの成分を選択するように構成されたプロセッサと、
を含むリソグラフィ投影装置。 - 前記プロセッサが、前記分散の差を計算するように構成されている請求項7に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記プロセッサが、複数の信号対の間の共分散を計算するように構成されている請求項7又は8に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記プロセッサが、少なくとも2つの異なる値iおよびjについて、
var(r i −r j )=var(r i )+var(r j )−2cov(r i ,r j )
の式の値を求めるように構成されており、r i 及びr j は、前記複数の信号のうちi及びj番目の2つの信号の値を示し、varは分散を示し、covは共分散を示す、請求項7〜9のいずれか1項に記載されたリソグラフィ投影装置。 - 前記プロセッサが、前記信号を、定数と変数部分とに分解するように構成されている請求項7〜9のいずれか1項に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載された位置決定方法を記述したコンピュータプログラム。
- 請求項13に記載されたコンピュータプログラムを含むデータ記憶媒体。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載された位置決定方法を実施するように構成され配置されたプロセッサ。
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