JP2009146538A - 磁気再生ヘッド、磁気ヘッドおよび磁気記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気再生ヘッド10は、下部磁気シールド層4と、上部磁気シールド層2と、下部磁気シールド層と上部磁気シールド層の間に形成された磁気抵抗効果膜30と、磁気抵抗効果膜の浮上面とは反対側の面に接するように配された素子高さ方向リフィル膜6と、磁気抵抗効果膜30の側壁面に配置されたトラック幅方向のリフィル膜1とを有する。磁気抵抗効果膜30は自由層36、絶縁障壁層34、固定層32を備えるトンネル磁気抵抗効果膜であり、絶縁障壁層34は窒素とシリコンの少なくとも一方を含有するマグネシウム酸化膜、アルミニウム酸化膜、チタン酸化膜のいずれかである。
【選択図】図5
Description
上記、絶縁障壁層の窒素またはシリコンの含有率は、1at.%以上であることが望ましい。
<実施例1>
図5は、実施例1による磁気再生ヘッドのセンサ部分を示す素子高さ方向断面図である。図6(a)〜図6(g)はその製造方法を説明する図であり、各工程における素子高さ方向の断面を示している。
図5に示す本実施例における磁気再生ヘッド10は、図3(a)のように、素子高さの形成工程をトラック幅の形成工程よりも先に行う方法によって作成されるものである。図6(a)〜図6(g)を参照して磁気再生ヘッド10の製造方法を説明する。まず、アルミナチタンカーバイド等などからなる基板表面(図示省略)にAl2O3等の絶縁体を被膜し、化学的機械研磨法(Chemical Mechanical Polishing, CMP)などによる精密研磨を施した後に、下部磁気シールド層4を形成する。これは、例えばスパッタリング法、イオンビームスパッタリング法、あるいはめっき法で作製したNi−Fe系合金からなる膜を、所定の形状にパターニングすることによって形成される。この上にAl2O3を成長させてCMPを施すことによって、基板表面は下部磁気シールド層4とAl2O3が平坦化された面となる。更に、後の工程において磁気抵抗効果膜30を形成する場所から離れた部分に引き出し電極膜(図示せず)を形成する。これは例えば、TaとAuとTaの積層膜によって構成される。
実施例2の磁気再生ヘッド10′の構造を図10に示す。実施例1(図5)との違いは、絶縁障壁層34が2層構造になっている点である。この2層のうち、少なくとも1層は、窒素とシリコンのうちの少なくとも一方を添加元素として含有するマグネシウム酸化膜、アルミニウム酸化膜、チタン酸化膜のいずれかである。これによって酸素欠損が低減され、検知電流のリークが低減されることは、実施例1の場合と同様である。
図11、図12は、上記実施例1あるいは実施例2の磁気再生ヘッド10,10′と磁気記録ヘッドとを組み合わせた磁気ヘッドの概略断面図である。図11は面内磁気記録方式の磁気ヘッド100、図12は垂直磁気記録方式の磁気ヘッド100′を示している。図11に示すように、面内磁気記録方式の磁気ヘッド100の場合、磁気記録ヘッドは下部磁極180、上部磁極先端部190、上部磁極192、コイル200、コイル絶縁膜210、ギャップ220から構成される磁気誘導型ヘッドである。また図12に示すように、垂直磁気記録方式の磁気ヘッド100′の場合、磁気記録ヘッドとしては補助磁極230、主磁極240、ヨーク242、コイル200、コイル絶縁膜210から構成される単磁極ヘッドが用いられる。
次に、実施例1あるいは実施例2の磁気再生ヘッド、あるいは実施例3の磁気ヘッドを搭載した磁気記憶装置の概要図を図13、図14に示す。本実施例の磁気記憶装置250は、磁気記録媒体270と、これを回転駆動する駆動部290と、磁気ヘッド100′と、その駆動手段であるボイスコイルモータ280と、磁気ヘッドの記録再生信号処理手段300を備えた構成となっている。ここで、磁気ヘッド100′は、実施例1あるいは実施例2の磁気再生ヘッド、あるいは実施例3の磁気ヘッド100であっても良い。磁気ヘッド100′はジンバル260の先端に装着され、ボイスコイルモータ280によって磁気記録媒体270に対して相対的に駆動されて所望のトラック上に位置決めされる。ホストから送信されてきた記録信号は、信号処理回路300を介して磁気ヘッド100′の磁気記録ヘッドに送られ、磁気記録媒体270に磁化反転を生じさせて記録される。また、磁気記録媒体270の記録磁化による漏洩磁界は磁気ヘッド100′の磁気再生ヘッドによって検出され、検出された信号は信号処理回路300で処理された後、再生信号としてホストに送信される。
10,10′…磁気再生ヘッド、30…磁気抵抗効果膜、32…固定層、
34…絶縁障壁層、36…自由層、100…面内記録用磁気ヘッド、
100′…垂直記録用磁気ヘッド、180…下部磁極、190…上部磁極先端部、192…上部磁極、200…コイル、210…コイル絶縁膜、220…ギャップ、230…補助磁極、240…主磁極、242…ヨーク、250…磁気記録再生装置、260:ジンバル、270:記録媒体、280:ボイスコイルモータ、290:モータ、300:信号処理回路。
Claims (10)
- 下部磁気シールド層と、上部磁気シールド層と、前記下部磁気シールド層と上部磁気シールド層の間に形成された磁気抵抗効果膜と、前記磁気抵抗効果膜の浮上面とは反対側の壁面に接するように配置された素子高さ方向の第1リフィル膜と、前記磁気抵抗効果膜のトラック幅方向の両壁面に接するように配置された第2リフィル膜と、を備え、
前記磁気抵抗効果膜は自由層と、固定層と、前記自由層と固定層の間に形成された絶縁障壁層とを備えるトンネル磁気抵抗効果膜であり、前記絶縁障壁層は窒素とシリコンの少なくとも一方を含有するマグネシウム酸化膜、アルミニウム酸化膜及びチタン酸化膜のいずれかの酸化膜を含むことを特徴とする磁気再生ヘッド。 - 請求項1記載の磁気再生ヘッドにおいて、前記酸化膜は、窒素とシリコンの少なくとも一方を1at.%以上含有することを特徴とする磁気再生ヘッド。
- 請求項1記載の磁気再生ヘッドにおいて、前記酸化膜は、窒素とシリコンの両方を1at.%以上含有することを特徴とする磁気再生ヘッド。
- 請求項1記載の磁気再生ヘッドにおいて、前記絶縁障壁層は2層以上で構成され、少なくとも1層は窒素とシリコンの少なくとも一方を含有するマグネシウム酸化膜、アルミニウム酸化膜及びチタン酸化膜のいずれかの酸化膜であるであることを特徴とする磁気再生ヘッド。
- 請求項4記載の磁気再生ヘッドにおいて、前記酸化膜は、窒素とシリコンの少なくとも一方を1at.%以上含有することを特徴とする磁気再生ヘッド。
- 請求項4記載の磁気再生ヘッドにおいて、前記酸化膜は、窒素とシリコンの両方を1at.%以上含有することを特徴とする磁気再生ヘッド。
- 請求項1から請求項6のいずれかに記載の磁気再生ヘッドと、磁気記録ヘッドとを備えることを特徴とする磁気ヘッド。
- 請求項7記載の磁気ヘッドにおいて、前記磁気記録ヘッドは垂直記録用の単磁極ヘッドであることを特徴とする磁気ヘッド。
- 請求項7記載の磁気ヘッドにおいて、前記磁気記録ヘッドは磁気誘導型ヘッドであることを特徴とする磁気ヘッド。
- 磁気記憶媒体を記録方向に駆動する駆動部と、
請求項7記載の磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記磁気記憶媒体に対して相対運動させる手段と、
前記磁気ヘッドの信号入力と前記磁気ヘッドからの出力信号再生を行うための記録再生処理手段を備えた磁気記憶装置。
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