JP2009145816A - 光変調器 - Google Patents
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Abstract
【課題】光変調器において、電極のパターニング精度を向上させて歩留りを向上させるのと共に、電極を厚くして電極損失を減少させることである。
【解決手段】光変調器は、電気光学材料からなる基板5、基板5上に設けられた変調用電極2A、3A、2B、および基板5に設けられた光導波路1cを備えている。変調用電極に変調電圧を印加することによって、光導波路1cを伝搬する光を変調する。変調用電極の少なくとも一部が、基板5上に設けられている基部2a、3aと、この基部よりも幅の狭い突出部2b、3bとを備えている。
【選択図】 図3
【解決手段】光変調器は、電気光学材料からなる基板5、基板5上に設けられた変調用電極2A、3A、2B、および基板5に設けられた光導波路1cを備えている。変調用電極に変調電圧を印加することによって、光導波路1cを伝搬する光を変調する。変調用電極の少なくとも一部が、基板5上に設けられている基部2a、3aと、この基部よりも幅の狭い突出部2b、3bとを備えている。
【選択図】 図3
Description
本発明は、光変調器に関するものである。
マルチメディアの発展に伴い、通信のブロードバンド化の需要が高まり、10Gb/sを超える光伝送システムが実用化され、さらに高速化が期待されている。10Gb/s以上の電気信号(マイクロ波信号)を光に変調するデバイスとしてLN光変調器が使用されている。
光導波路基板を薄くする構造において速度整合条件を満足するためには、光導波路部周辺の基板厚みを例えば10μm程度にする必要がある。この際、光モードフィールドパターンの偏平化を防止し、基板薄型および溝加工による表面ラフネス、ダメージの影響で発生する光の伝搬損失を抑制するために2段裏溝構造を特許文献1で出願した。
特開2002−169133号公報
また、特許文献2においては、平板状の保持基体と光導波路基板とを接着した光導波路デバイスを開示した。
WO 03/ 042749
しかし、電極の特性インピーダンスの整合、速度整合、駆動電圧特性、電極損失をすべて満足するような設計を行うことは、一般に困難であった。例えば、所定の速度整合条件を満足するためには、一般に電極厚さを大きくする必要がある。しかし、電極厚さが大きいと、レジスト厚を厚くする必要があり、パターニング精度が落ちる。すると、電極の位置が変化するので、駆動電圧、特性インピーダンスが変化し、また速度整合条件も変化するために、仕様を満足しない光変調器が多く発生し、製造歩留りが低下する。
本発明の課題は、光変調器において、電極のパターニング精度を向上させて歩留りを向上させるのと共に、電極を厚くして電極損失を減少させることである。
本発明は、電気光学材料からなる基板、
基板上に設けられた変調用電極、および
基板に設けられた光導波路
を備えており、変調用電極に変調電圧を印加することによって、光導波路を伝搬する光を変調する光変調器であって、
変調用電極の少なくとも一部が、基板上に設けられている基部と、この基部よりも幅の狭い突出部とを備えていることを特徴とする。
基板上に設けられた変調用電極、および
基板に設けられた光導波路
を備えており、変調用電極に変調電圧を印加することによって、光導波路を伝搬する光を変調する光変調器であって、
変調用電極の少なくとも一部が、基板上に設けられている基部と、この基部よりも幅の狭い突出部とを備えていることを特徴とする。
本発明によれば、光変調器の変調用電極の少なくとも一部が、基板上に設けられている基部と、この基部よりも幅の狭い突出部とを備えている。この結果、変調用電極のパターニング精度は、相対的に幅広の基部の厚さによって定まる。電極全体の厚さが一定であるとすると、電極幅が一定の場合には、電極厚さが大きいとパターニング精度が大きく低下する。しかし、本発明では、基部より相対的に小さい電極幅である突出部を設けることにより、基部の厚さを薄くでき、従ってパターニング精度は高くすることができる。この一方、突出部を設けることによって、電極損失はほとんど低下しないことを見いだし、本発明に到達した。
本発明の光変調器は、光の特性に変調を加えるものであれば限定されず、光強度変調器、光位相変調器であってよい。光強度変調器は、マッハツェンダー型光導波路を利用した光振幅変調器であってよい。光位相変調器とは、入射光に対して位相変調を加え、出射光から位相変調信号を取り出すものを意味する。その種類は特に限定されず、DQPSK、SSB等の各種位相変調方式を利用できる。
好適な実施形態においては、光位相変調器が、複数の光位相変調部を備えている。この実施形態においては、好ましくは、一つの光位相変調部の第一の接地電極または第二の接地電極が、隣接する光位相変調部の第一の接地電極または第二の接地電極と共通接地電極を構成している。このような共通接地電極を形成することによって、光変調部に必要な寸法を小さくし、チップの小型化に資することができる。
複数の位相変調部を用いた場合の位相変調方式は特に限定されず、DQPSK(Differential Quadrature Phase Shift Keying)、SSB(Single Side Band amplitude modulation)、DPSK「Differential
Phase Shift Keying:差動位相偏移変調」など、種々の位相変調方式を採用できる。各変調方式それ自体は公知である。
Phase Shift Keying:差動位相偏移変調」など、種々の位相変調方式を採用できる。各変調方式それ自体は公知である。
光導波路基板を構成する電気光学材料は特に限定されないが、強誘電性の電気光学材料、好ましくは単結晶からなる。こうした結晶は、光の変調が可能であれば特に限定されないが、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム−タンタル酸リチウム固溶体、ニオブ酸カリウムリチウム、KTP、GaAs及び水晶などを例示することができる。
基板上に設けられた変調用電極の種類は、光を変調可能である限り、特に限定されない。好適な実施形態においては、変調用電極は、信号電極および接地電極である。
また、本発明は、信号電極、接地電極のうち相互作用部に適用することができる。相互作用部とは、光導波路を伝搬する光に対して変調作用を直接及ぼす部分である。この場合には、信号電極の相互作用部に適用することが特に有効である。
また、本発明を、信号電極、接地電極の各フィードスルー部に適用することができる。この場合には、フィードスルー部のパターニング精度を向上させるのと共に、フィードスルー部における電極損失を同時に低減することが可能である。
制御用電極の材質は、低抵抗でインピーダンス特性に優れる材料であれば特に限定されるものではなく、金、銀、銅などの材料から構成することができる。
光導波路は、基板に形成されており、好ましくは基板の表面側に形成されている。光導波路は、基板の表面に直接形成されたリッジ型の光導波路であってよく、基板の表面上に他の層を介して形成されたリッジ型の光導波路であってよく、また基板の内部に内拡散法やイオン交換法によって形成された光導波路、例えばチタン拡散光導波路、プロトン交換光導波路であってよい。電極は、基板表面側に設けられているが、基板表面に直接形成されていてよく、バッファ層の上に形成されていてよい。
光導波路基板と支持基体とを接着する接着剤の種類は特に限定されないが、厚さ300μm以下が適当である。また、低誘電率層として用いる好適な低誘電体材料としては、高周波変調信号の伝搬損失を低減する観点から低誘電体損(低tanδ)を有する材料を用いることが望ましい。このような低誘電率、低誘電体損の材質としてはテフロン(登録商標)、アクリル系接着剤が例示できる。また、他の低誘電率材料としては、ガラス系接着剤、エポキシ系接着剤、半導体製造用層間絶縁体、ポリイミド樹脂を例示できる。
図1は、本発明に係る光変調器20を概略的に示す平面図であり、図2は、図1の光変調器の部分拡大図であり、図3は、図1の光変調器の概略断面図である。
本例の光変調器20は、DQPSK型のものである。例えば平板形状の光導波路基板5の表面5a上に、二系統のマッハツェンダー型光導波路1A、1Bが形成されている。各光導波路は、それぞれ、独立した光変調部を形成する。各光導波路は、入射部1a、分岐部1b、1d、相互作用部1c、出射部1eを備えている。1f、1gは湾曲点である。この結果、4列の相互作用部1cが基板5上に形成されている。
各相互作用部1cに対応して、それぞれ、一対の信号電極3Aあるいは3Bと、接地電極2Aあるいは2Bとが形成されている。隣接する信号電極と接地電極との間にそれぞれギャップ9が形成されており(図2、図3)、平面的に見て各ギャップ内に相互作用部1cが配置されている。Aは相互作用部の範囲であり、Bはフィードスルー部である。
ここで、本例では、信号電極3A(3B)が、相対的に幅広の基部3aと、基部3a上に形成された相対的に幅の狭い突出部3bとを備えている。また、各接地電極2A(2B)が、相対的に幅広の基部2aと、基部2a上に形成された相対的に幅の狭い突出部2bとを備えている。この場合は、幅広の基部2a、3aと、幅の狭い突出部2b、3bとは、別個のマスクを用いて別々にパターニングする必要がある。
基部2a、3aは、突出部2b、3bを設けることにより薄くすることが可能であり、厚さが小さいことからパターニング時のレジストの厚さも小さくできる。レジスト厚が薄いと、パターニングの際の寸法精度は高くすることが可能であり、寸法の仕様からのズレを著しく小さくすることができる。
一方、突出部2b、3bを設けることによって、電極損失を著しく低減することが可能である。また、信号電極、接地電極に本発明を適用した場合には、電極を厚くできることから速度整合、特性インピーダンスの点で有利であり、全体の幅が一定の場合に比べて速度整合、特性インピーダンスがほとんど劣化しないという顕著な作用効果を奏する。
支持基板8の表面には導電性膜(シールド膜)7が形成されている。光導波路基板5の底面は、接着層(低誘電率層)6を介して、支持基板8上の導電層7に対して接着されている。
基部2a、3aの幅Wgnd、W(図3、図4参照)と、対応する突出部2b、3bの幅Wgup、Wupとの差は、本発明の観点からは、2μm以上が好ましく、5μm以上が更に好ましい。また、基部2a、3aの幅Wgnd、Wと、対応する突出部2b、3bの幅Wgup、Wupとの差が小さくなり過ぎると、本発明による電極損失低減の作用効果が減少してくるので、この観点からは、30μm以下が好ましく、20μm以下が更に好ましい。
基部2a、3aの厚さTmlは、パターニング精度向上という観点からは、15μm以下が好ましく、10μm以下が更に好ましい。また、 基部2a、3aの厚さTmlは、導電性の確保という観点からは、1μm以上が好ましい。
突出部2b、3bの厚さTmupは、電極損失の低減という観点からは、10μm以上が好ましく、15μm以上が更に好ましい。また、Tmupの上限も特に限定されず、必要とされる速度整合、特性インピーダンスによって決定されるが,例えば100μm以下が好ましい場合がある。
光導波路が配置されているギャップの幅G1は特に限定されないが、5〜100μmが好ましく、10〜20μmが更に好ましい。
光導波路基板5の厚さTsubは特に限定されないが、速度整合の観点からは、20μm以下が好ましく、10μm以下が更に好ましい。また、基板強度の観点からは、1μm以上が好ましい。
以下、本発明の光変調器の好適な製造プロセスについて述べる。
図5(a)に示すように、導波路が形成された電気光学材料からなる基板材料11を準備する。図5(b)に示すように、基板11の表面11aに金属下地膜12を設ける。こうした金属下地膜の種類は、特に限定されないが、Au膜、下地をCrとし、その上にAuを積層した多層膜、下地をTiとし、その上にAuを積層した多層膜を例示できる。成膜方法は特に限定されず、スパッタリング、蒸着を例示できる。
図5(a)に示すように、導波路が形成された電気光学材料からなる基板材料11を準備する。図5(b)に示すように、基板11の表面11aに金属下地膜12を設ける。こうした金属下地膜の種類は、特に限定されないが、Au膜、下地をCrとし、その上にAuを積層した多層膜、下地をTiとし、その上にAuを積層した多層膜を例示できる。成膜方法は特に限定されず、スパッタリング、蒸着を例示できる。
次いで、図5(c)に示すように、金属下地膜12上に、フォトリソグラフィ法によってレジスト23を形成する(図5(c))。
次いで、図6(a)に示すように、レジスト23の間に電極基部2a、3aを形成する。この形成方法は限定はされないが、めっき法が好ましい。次いで、レジスト23を剥離させ、図6(b)の状態とする。次いで、図6(c)に示すように、基部2a、3aおよび金属膜12上にレジスト13を形成する。ここで、基部2a、3a上にも突出13aを形成することによって、レジスト13の開口幅がレジスト23の開口幅よりも狭くなるようにする。
次いで、レジストパターン13の開口部に突出部2b、3bを形成する(図7(a))。この形成方法は限定されないが、めっき法が好ましい。次いで、レジストパターン13を除去し、図7(b)に示すように、基部2a、3aおよび突出部2b、3bを形成する。不要な金属下地膜12を除いて電極2、3を形成する。
レジストのパターニングは、通常の露光方法によって実施できる。露光時にはコンタクトアライナーを使用することができる。
レジストの材質は特に限定はされず、ノボラック樹脂系ポジ型レジスト、主鎖切断(崩壊)型ポジ型レジスト、環化ポリイソプレン−アジド化合物系ネガ型レジスト、フェノール樹脂−アジド化合物系ネガ型レジスト、溶解抑制型電子線ポジ型レジスト、架橋型電子線ネガレジストを例示できる。
(実施例1)
図5〜図7を参照しつつ説明した製造方法に従い、図1、2、3、4に示す光変調器20を作製した。ただし、光導波路基板5および支持基板8の材質としては、ニオブ酸リチウム(LN)単結晶を用いた。電極2、3は金によって形成した。低誘電率層兼接着層6は有機系接着剤によって形成した。
図5〜図7を参照しつつ説明した製造方法に従い、図1、2、3、4に示す光変調器20を作製した。ただし、光導波路基板5および支持基板8の材質としては、ニオブ酸リチウム(LN)単結晶を用いた。電極2、3は金によって形成した。低誘電率層兼接着層6は有機系接着剤によって形成した。
Ti拡散で導波路を形成したLNウェハ11にAu膜12を蒸着した後、一般的なフォトリソグラフィで所望のレジスト23を形成し、そこに電極基部2a、3aを金めっきした。一旦レジスト23を剥離してから、再度レジストを塗布し、2段目の電極のためレジスト13をフォトリソグラフィで形成し、突出部2b、3bを金めっきによって形成し、不要となった下地膜を除去した。この基板11を有機系接着剤でベース基板8と接着した。さらに、この接着体をダイシングソーにて所望のサイズの素子形状に切り出し、各種の素子特性を測定した。
作製した光変調器の寸法を述べる。光導波路基板5の厚さTsubは7μmであり、ギャップ幅G1は16.5μmであり、ギャップ幅G2は90μmであり、接地電極幅Wgndは100μmであり、基部3aの幅Wは60μmである。基部3aの厚さTmlは2、4、6、8μmとし、突出部3aの幅Wupは、図8に示すように変更し、突出部3bの厚さTmupは、図8に示すように変更した。
(実施例2)
実施例1と同様の光変調器について、突出部3bの厚さTmupはそれぞれのWupに対し図8に示す速度整合条件を満たす厚みとした。基部3aの厚さTmlは2、4、6、8μmとし、突出部3bの幅Wupは、図9に示すように変更した。各変調器について、駆動電圧VπLを測定した。この結果、突出部の幅Wupが変化しても、駆動電圧への影響はほとんどないことを確認した。
実施例1と同様の光変調器について、突出部3bの厚さTmupはそれぞれのWupに対し図8に示す速度整合条件を満たす厚みとした。基部3aの厚さTmlは2、4、6、8μmとし、突出部3bの幅Wupは、図9に示すように変更した。各変調器について、駆動電圧VπLを測定した。この結果、突出部の幅Wupが変化しても、駆動電圧への影響はほとんどないことを確認した。
(実施例3)
実施例1と同様の光変調器について、突出部3bの厚さTmupはそれぞれのWupの対し図8に示す速度整合条件を満たす厚みとした。基部3aの厚さTmlは2、4、6、8μmとし、突出部3aの幅Wupは、図10に示すように変更した。各変調器について、1GHzにおける電極損失(減衰定数)αを測定した。この結果、突出部の幅Wupが60μm(比較例)では、αは相対的には大きくなるが、突出部幅Wupが小さくなるのにつれて,電極損失は低下することがわかった。
実施例1と同様の光変調器について、突出部3bの厚さTmupはそれぞれのWupの対し図8に示す速度整合条件を満たす厚みとした。基部3aの厚さTmlは2、4、6、8μmとし、突出部3aの幅Wupは、図10に示すように変更した。各変調器について、1GHzにおける電極損失(減衰定数)αを測定した。この結果、突出部の幅Wupが60μm(比較例)では、αは相対的には大きくなるが、突出部幅Wupが小さくなるのにつれて,電極損失は低下することがわかった。
(実施例4)
実施例1において、G2は90μmとし,突出部3bの厚さTmupは24μmとし、基部3aの厚さTmlは4μmとし、突出部3aの幅Wupは40μmとした。ここで、突出部をパターニングする際、意図的に、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらした。この変位をdelWupとする(図4参照)。図11に駆動電圧VπLの測定結果を示す。
実施例1において、G2は90μmとし,突出部3bの厚さTmupは24μmとし、基部3aの厚さTmlは4μmとし、突出部3aの幅Wupは40μmとした。ここで、突出部をパターニングする際、意図的に、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらした。この変位をdelWupとする(図4参照)。図11に駆動電圧VπLの測定結果を示す。
この結果、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらしても、駆動電圧VπLにはほとんど変化はないことを確認した。これは、厚さの大きい突出部をパターニングする際に、パターニンク位置が変位しても、VπLに対する影響が非常に少ないことを意味している。
(実施例5)
実施例1において、G2は90μmとし,突出部3bの厚さTmupは24μmとし、基部3aの厚さTmlは4μmとし、突出部3aの幅Wupは40μmとした。ここで、突出部をパターニングする際、意図的に、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらした。この変位をdelWupとする(図4参照)。図12に特性インピーダンスZの測定結果を示す。
実施例1において、G2は90μmとし,突出部3bの厚さTmupは24μmとし、基部3aの厚さTmlは4μmとし、突出部3aの幅Wupは40μmとした。ここで、突出部をパターニングする際、意図的に、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらした。この変位をdelWupとする(図4参照)。図12に特性インピーダンスZの測定結果を示す。
この結果、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらしても、特性インピーダンスZにはほとんど変化はないことを確認した。これは、厚さの大きい突出部をパターニングする際に、パターニング位置が変位しても、特性インピーダンスZに対する影響が非常に少ないことを意味している。
(実施例6)
実施例1において、G2は90μmとし,突出部3bの厚さTmupは24μmとし、基部3aの厚さTmlは4μmとし、突出部3aの幅Wupは40μmとした。ここで、突出部をパターニングする際、意図的に、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらした。この変位をdelWupとする(図4参照)。図13にマイクロ波屈折率nmの測定結果を示す。
実施例1において、G2は90μmとし,突出部3bの厚さTmupは24μmとし、基部3aの厚さTmlは4μmとし、突出部3aの幅Wupは40μmとした。ここで、突出部をパターニングする際、意図的に、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらした。この変位をdelWupとする(図4参照)。図13にマイクロ波屈折率nmの測定結果を示す。
この結果、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらしても、マイクロ波屈折率にはほとんど変化はないことを確認した。これは、厚さの大きい突出部をパターニングする際に、パターニング位置が変位しても、マイクロ波屈折率nmに対する影響が非常に少ないことを意味している。
(実施例7)
実施例1において、G2は90μmとし,突出部3bの厚さTmupは24μmとし、基部3aの厚さTmlは4μmとし、突出部3aの幅Wupは40μmとした。ここで、突出部をパターニングする際、意図的に、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらした。この変位をdelWupとする(図4参照)。図14に電極損失(減衰定数)αの測定結果を示す。この結果、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらしても、電極損失にはほとんど変化はないことを確認した。これは、厚さの大きい突出部をパターニングする際に、パターニング位置が変位しても、電極損失αに対する影響が非常に少ないことを意味している。
実施例1において、G2は90μmとし,突出部3bの厚さTmupは24μmとし、基部3aの厚さTmlは4μmとし、突出部3aの幅Wupは40μmとした。ここで、突出部をパターニングする際、意図的に、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらした。この変位をdelWupとする(図4参照)。図14に電極損失(減衰定数)αの測定結果を示す。この結果、突出部の中心位置を基部の中心位置から±10μmの範囲でずらしても、電極損失にはほとんど変化はないことを確認した。これは、厚さの大きい突出部をパターニングする際に、パターニング位置が変位しても、電極損失αに対する影響が非常に少ないことを意味している。
以上の実施例では、電極として非対称コプレーナストリップ線路(A-CPS:Asymmetric Coplanar StripもしくはA-CPW:Asymmetric
Coplanar Waveguide)を用いた場合について述べた。同様に、例えばコプレーナ線路CPW(Coplanar Waveguide)を用いた変調電極に対しても、特性インピーダンスを適切な値になるようにして、速度整合条件を満たす基板厚や電極寸法を採用すれば本発明の効果を同様に実現できる。
Coplanar Waveguide)を用いた場合について述べた。同様に、例えばコプレーナ線路CPW(Coplanar Waveguide)を用いた変調電極に対しても、特性インピーダンスを適切な値になるようにして、速度整合条件を満たす基板厚や電極寸法を採用すれば本発明の効果を同様に実現できる。
以上の実施例では、光導波路基板5にXカット−ニオブ酸リチウムを使用した場合を例示した。これ以外に例えば光導波路基板5にZカット−ニオブ酸リチウムを使用した場合、通常、基板厚Tsubは0.1−1mmで、信号電極幅Wは5−20μm程度、信号電極と接地導体とのギャップ幅Gは10−100μm程度の寸法が採られる。この時、基部の電極厚Tm1は1−15μm程度に設定し、Wgnd,Wと、対応する突出部の幅Wgup,Wupとの差を2−30μm程度に設定し、かつ速度整合条件を満たすように突出部電極厚Tmupを設定することにより電極損失を小さくできる。ここで、突出部の厚さTmupはGが大きい時100μm程度が好ましい場合がある。同様に、本発明を以上の進行波形電極やあるいは集中定数形電極を用いた光変調器に利用できることは自明である。
1A、1B 光導波路 2A、2B 接地電極 2a、3a 基部 2b、3b 突出部 3A、3B 信号電極 5 光導波路基板 6 接着剤層 7 導電層 8 支持基板 9、10 ギャップ 11 基板材料 13、23 レジスト 20 光変調器 A 相互作用部 B フィードスルー部 G1 ギャップ9の寸法 G2 ギャップ10の寸法 Tm 電極の全厚 Tml 基部の厚さ Tmup 突出部の厚さ W 基部3aの幅 Wup 突出部3bの幅 Wgnd 基部2aの幅 Wgup 突出部2bの幅
Claims (4)
- 電気光学材料からなる基板、
前記基板上に設けられた変調用電極、および
前記基板に設けられた光導波路
を備えており、前記変調用電極に変調電圧を印加することによって、前記光導波路を伝搬する光を変調する光変調器であって、
前記変調用電極の少なくとも一部が、前記基板上に設けられている基部と、この基部よりも幅の狭い突出部とを備えていることを特徴とする、光変調器。 - 前記制御用電極が信号電極および接地電極を備えており、前記信号電極と前記接地電極との間にギャップが形成されており、前記光導波路が前記ギャップ内に配置されていることを特徴とする、請求項1記載の光変調器。
- 前記信号電極が前記基部と前記突出部とを備えていることを特徴とする、請求項2記載の光変調器。
- 前記突出部が前記基部よりも厚いことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つの請求項に記載の光変調器。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014157361A1 (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-02 | 住友大阪セメント株式会社 | 光制御デバイス |
JP2015075568A (ja) * | 2013-10-08 | 2015-04-20 | 日本碍子株式会社 | 光学部品 |
JP2015127826A (ja) * | 2015-03-05 | 2015-07-09 | 住友大阪セメント株式会社 | 光制御デバイス |
WO2016152528A1 (ja) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | 住友大阪セメント株式会社 | 導波路型光素子 |
CN108693664A (zh) * | 2017-03-31 | 2018-10-23 | 住友大阪水泥股份有限公司 | 光调制器 |
CN112859389A (zh) * | 2021-01-14 | 2021-05-28 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种薄膜铌酸锂电光开关 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008108154A1 (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-12 | Ngk Insulators, Ltd. | 光位相変調器 |
JP5983256B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-08-31 | 住友大阪セメント株式会社 | 光変調器 |
JP7056236B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2022-04-19 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 光変調器、及びこれを用いた光トランシーバモジュール |
JP7087555B2 (ja) * | 2018-03-29 | 2022-06-21 | 住友大阪セメント株式会社 | 光変調器 |
US10901245B2 (en) * | 2018-12-03 | 2021-01-26 | The Boeing Company | Electro-optic modulator with electrode interface region to improve signal propagation characteristics |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH103065A (ja) * | 1996-06-14 | 1998-01-06 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 導波路型光変調器 |
EP1258772A1 (en) * | 2001-05-14 | 2002-11-20 | Corning O.T.I. S.p.A. | Electro-optic modulator having high bandwith and low drive voltage |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09297288A (ja) * | 1996-04-30 | 1997-11-18 | Fujitsu Ltd | 光導波路デバイス |
EP0813092B1 (en) * | 1996-06-14 | 2007-03-07 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Optical waveguide modulator with travelling-wave type electrodes |
JP2873203B2 (ja) * | 1996-06-14 | 1999-03-24 | 住友大阪セメント株式会社 | 導波路型光デバイス |
GB0002277D0 (en) * | 2000-02-01 | 2000-03-22 | Sdl Integrated Optics Ltd | Intergrated optical components |
JP2002090702A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-27 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 導波路型光変調器およびその製造方法 |
JP4471520B2 (ja) | 2000-09-22 | 2010-06-02 | 日本碍子株式会社 | 進行波形光変調器 |
JP2002250905A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-09-06 | Nec Corp | 光導波路デバイス及びその製造方法 |
JP4309571B2 (ja) * | 2000-12-27 | 2009-08-05 | 住友大阪セメント株式会社 | 光導波路素子 |
JP4375597B2 (ja) * | 2001-11-16 | 2009-12-02 | 日本碍子株式会社 | 光導波路デバイスおよび進行波形光変調器 |
US7522783B2 (en) * | 2006-06-05 | 2009-04-21 | Fujitsu Limited | Optical interconnect apparatuses and electro-optic modulators for processing systems |
-
2007
- 2007-12-18 JP JP2007325744A patent/JP2009145816A/ja active Pending
-
2008
- 2008-12-17 EP EP08171962A patent/EP2073053A1/en not_active Ceased
- 2008-12-17 US US12/336,640 patent/US7809218B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH103065A (ja) * | 1996-06-14 | 1998-01-06 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 導波路型光変調器 |
EP1258772A1 (en) * | 2001-05-14 | 2002-11-20 | Corning O.T.I. S.p.A. | Electro-optic modulator having high bandwith and low drive voltage |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014157361A1 (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-02 | 住友大阪セメント株式会社 | 光制御デバイス |
JP2014191097A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 光制御デバイス |
US9519200B2 (en) | 2013-03-26 | 2016-12-13 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Optical control device |
JP2015075568A (ja) * | 2013-10-08 | 2015-04-20 | 日本碍子株式会社 | 光学部品 |
US9298025B2 (en) | 2013-10-08 | 2016-03-29 | Ngk Insulators, Ltd. | Electrode structure for an optical waveguide substrate |
JP2015127826A (ja) * | 2015-03-05 | 2015-07-09 | 住友大阪セメント株式会社 | 光制御デバイス |
JP2016180949A (ja) * | 2015-03-25 | 2016-10-13 | 住友大阪セメント株式会社 | 導波路型光素子 |
WO2016152528A1 (ja) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | 住友大阪セメント株式会社 | 導波路型光素子 |
US10088734B2 (en) | 2015-03-25 | 2018-10-02 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Waveguide-type optical element |
CN108693664A (zh) * | 2017-03-31 | 2018-10-23 | 住友大阪水泥股份有限公司 | 光调制器 |
JP2018173450A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 住友大阪セメント株式会社 | 導波路型光素子 |
US10228605B2 (en) | 2017-03-31 | 2019-03-12 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Waveguide optical element |
CN112859389A (zh) * | 2021-01-14 | 2021-05-28 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种薄膜铌酸锂电光开关 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090154867A1 (en) | 2009-06-18 |
US7809218B2 (en) | 2010-10-05 |
EP2073053A1 (en) | 2009-06-24 |
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