JP2009139157A - Temperature heightening/lowering unit and temperature heightening/lowering test handler - Google Patents

Temperature heightening/lowering unit and temperature heightening/lowering test handler Download PDF

Info

Publication number
JP2009139157A
JP2009139157A JP2007314084A JP2007314084A JP2009139157A JP 2009139157 A JP2009139157 A JP 2009139157A JP 2007314084 A JP2007314084 A JP 2007314084A JP 2007314084 A JP2007314084 A JP 2007314084A JP 2009139157 A JP2009139157 A JP 2009139157A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
drum
unit
turntable
high temperature
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007314084A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4941988B2 (en
Inventor
Hideo Minami
日出夫 南
Hiroyuki Kimura
浩之 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ueno Seiki Co Ltd
Original Assignee
Ueno Seiki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ueno Seiki Co Ltd filed Critical Ueno Seiki Co Ltd
Priority to JP2007314084A priority Critical patent/JP4941988B2/en
Publication of JP2009139157A publication Critical patent/JP2009139157A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4941988B2 publication Critical patent/JP4941988B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a temperature heightening/lowering unit and a temperature heightening/lowering test handler, that increase or decrease temperatures of a large amount of semiconductor devices at a time, and achieve a high-speed processing as the whole system. <P>SOLUTION: In the handler for carrying out a high-temperature test and a low-temperature test, the temperature heightening/lowering unit 1 is composed of a temperature increasing unit 11 and a temperature decreasing unit 12 each being a portion of a process performing apparatus arranged on a circumferentially equally disposed position of the test handler H which applies various treatment processes on devices such as an electronic component, a semiconductor device and the like. The temperature increasing/decreasing unit 1 includes: a drum 2 which is applied with a rotational force by a motor M1 through a belt and rotates around a rotation axis O; and a separation table 3. The drum 2 is made up by arranging cylindrical container rails 21 annularly each comprising a carrying path for the devices therein and an opening in the outer circumferential direction of the drum 2. The separation table 3 is disposed in a chamber shared by the drum 2 and configured to rotate a device discharged from the drum 2, through 90°. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品や半導体装置等のデバイスに対して各種の工程処理を施すテストハンドラの改良に係り、特に、一度に大量のデバイスの高低温化を可能とするデバイスの高低温化ユニット及び高低温化テストハンドラに関する。   The present invention relates to an improvement in a test handler that performs various process processes on devices such as electronic components and semiconductor devices, and in particular, a high temperature reduction unit for a device that enables high temperature reduction of a large number of devices at once, and Related to high temperature test handler.

従来、デバイスの用途はオーディオ、テレビ、パソコン等、屋内で使用する機器が主体であったが、近年、自動車のIT化に伴い自動車用として多種多用な用途で用いられるようになっている。そのため、自動車の使用する環境、極端な例では、砂漠地帯や北極圏等、主に高温下や低温下での使用に対応する性能が求められている。   Conventionally, devices are mainly used indoors, such as audio, television, and personal computers. However, in recent years, with the introduction of IT in automobiles, they have been used in various applications for automobiles. For this reason, the environment used by automobiles, in extreme cases, is required to have performance that can be used mainly in high temperatures and low temperatures, such as desert areas and the Arctic Circle.

デバイスの構造は、シリコン基板上にアルミ配線等により構成されているペレット、それを搭載している基板(銅やガラエポ等)、それらを接続する配線(金、アルミ、半田等)、そして全体を保護する樹脂で構成されている。   The device structure consists of a pellet made of aluminum wiring on a silicon substrate, a board (copper, glass epoxy, etc.) on which it is mounted, wiring to connect them (gold, aluminum, solder, etc.), and the whole It is composed of a protective resin.

上述のようにデバイスはさまざまな物質で構成されているが、それぞれ熱膨張係数、熱抵抗が異なり、常温時の特性と例えば砂漠などの高温下、北極圏などの低温下での特性が異なり、最悪の場合、高低温環境下において動作しない場合がある。そのため、デバイスの特性検査を行うに際しては、このような高低温下での使用を想定して行う必要がある。   As mentioned above, the device is composed of various substances, but the thermal expansion coefficient and thermal resistance are different, respectively, the characteristics at normal temperature and the characteristics at high temperatures such as deserts and low temperatures such as the Arctic Circle, In the worst case, it may not operate in a high and low temperature environment. Therefore, when performing device characteristic inspection, it is necessary to assume the use under such high temperature and low temperature conditions.

また、デバイスは、上記の通り、積層される部品の性質により、熱膨張係数が異なるため、常温において組み立てた時点からの温度変化により、部品に含まれる物質がそれぞれ膨張し、最悪の場合には部品全体にクラック(ひび)が発生し機能しなくなることが考えられる。熱抵抗も部品を構成する物質の性質により異なるため、常温時に得た電気的特性が高低温下では得られなくなる場合がある。   In addition, as described above, since the device has a different coefficient of thermal expansion depending on the properties of the stacked components, the substances contained in the components expand due to temperature changes from the time of assembly at room temperature. It is conceivable that cracks (cracks) occur in the entire part and it will not function. Since the thermal resistance also varies depending on the properties of the materials constituting the part, the electrical characteristics obtained at room temperature may not be obtained at high and low temperatures.

そこで、例えば低温下での使用を想定して、ICをチャンバ内において低温環境下においてICの品質検査を行うIC用低温ハンドラが提案されている(特許文献1参照)。この文献によれば、装置を大型化することなく、チャンバ内を正圧に保ち湿分を含んだ外気がチャンバ内に混入しないように構成し、チャンバ内を低温環境下に保ちつつ、かつチャンバ内に流入する空気全体の湿分による装置の冷却部等への着霜を防止したものである。   Thus, for example, a low temperature handler for IC has been proposed that performs IC quality inspection in a low temperature environment in a chamber assuming use at a low temperature (see Patent Document 1). According to this document, it is configured so that the inside of the chamber is kept at a positive pressure and outside air containing moisture is not mixed in the chamber without increasing the size of the apparatus, and the chamber is kept in a low temperature environment while being kept in the low temperature environment. This prevents frosting on the cooling unit of the apparatus due to moisture in the entire air flowing into the inside.

また、高温下での使用を想定し、リードフレームに装着されたデバイスのテスト位置に搬送するまでの間に、レール状のヒータを設け、このレール状のヒータ上にテスト待ちのデバイスを複数個並べることによって、ヒータの熱でデバイスを所望の温度に加熱することを可能とした技術が提案されている(特許文献2参照)。   Also, assuming use under high temperatures, a rail-shaped heater is provided before the device mounted on the lead frame is transported to the test position, and a plurality of devices waiting for testing are placed on the rail-shaped heater. A technique has been proposed in which the devices can be heated to a desired temperature with the heat of the heater by arranging them (see Patent Document 2).

また、搬送経路の途中に加熱手段を備えた搬送レールを複数列設け、この搬送レール上をリードフレームが移動して、レール上でデバイスを加熱してテストを行う装置も提案されている(特許文献3参照)。
特開平6−148268号公報 特開2004−219226号公報 特開2005−62090号公報
There is also proposed an apparatus in which a plurality of rows of conveyance rails provided with heating means are provided in the middle of the conveyance path, a lead frame moves on the conveyance rails, and a device is heated on the rails to perform a test (patent) Reference 3).
JP-A-6-148268 JP 2004-219226 A JP 2005-62090 A

ところで、高低温下を想定してデバイスのテストを行う場合、そのテスト温度は、高温テストで120℃前後、低温テストの場合で−40℃程度である。   By the way, when testing a device under the assumption of high and low temperatures, the test temperature is around 120 ° C. in the high temperature test and about −40 ° C. in the low temperature test.

高温環境への昇温方法としては、デバイスを例えば常温から125℃まで昇温するような場合、急激な温度変化はデバイスに与えるダメージが大きい。また、デバイス表面が所定温度に達していても、デバイス内部が所定温度に達していない場合もある。したがって、少なくとも90秒程度の時間を費やしてデバイスをゆっくり加熱する必要がある。この点は、低温環境下におく場合にも同様である。   As a method for raising the temperature to a high temperature environment, for example, when the temperature of the device is raised from room temperature to 125 ° C., a sudden temperature change causes a large damage to the device. Moreover, even if the device surface has reached a predetermined temperature, the inside of the device may not have reached the predetermined temperature. Therefore, it is necessary to spend at least about 90 seconds to heat the device slowly. This also applies to the case of being placed in a low temperature environment.

この点、特許文献1及び2におけるテスト装置では、デバイスを一列に整列し、順次加熱又は冷却して1個ずつテストする処理を行っているため、デバイスを高温又は低温化させるソーク時間が、テスト時間に対して長いため、全体としての処理時間も長くなってしまっており、処理時間を短くするためには大量のデバイスを一度に温める必要があった。   In this regard, in the test apparatuses in Patent Documents 1 and 2, since the devices are aligned in a row, and the test is performed one by one by sequentially heating or cooling, the soak time for raising or lowering the temperature of the device is tested. Since it is long with respect to time, the processing time as a whole also becomes long, and in order to shorten processing time, it was necessary to heat a lot of devices at once.

また、従来より用いられているDIP/SIP(ピン挿入タイプ)のようなデバイスであれば、特許文献2及び3のように搬送レール内に電気ヒータを入れて印加する方法が主であったが、近年のSMD(表面実装タイプ)のデバイスでは、製品搬送を搬送アーム等で行うため、測定部内を高温エアーブロー等で高温槽化して測定するほうが好ましい。   Moreover, if it is a device like DIP / SIP (pin insertion type) conventionally used, the method of putting and applying an electric heater in a conveyance rail like patent documents 2 and 3 was main. In recent SMD (surface mount type) devices, since the product is transported by a transport arm or the like, it is preferable to measure by making the inside of the measuring section into a high-temperature tank by high-temperature air blow or the like.

さらに、特許文献3のようにレールを複数並列に設けた場合には、レールの数を増やして同時に大量のデバイスの処理を行う場合には、装置構成上スペースが必要となる。   Furthermore, when a plurality of rails are provided in parallel as in Patent Document 3, a space is required for the apparatus configuration when a large number of devices are processed at the same time by increasing the number of rails.

また、特許文献3に示されるレールに対してデバイスを挿入する場合、レールの軸又は挿入方向に対して、電極部分が左右方向言い換えれば挿入方向と垂直方向に向くように挿入するのが一般的である。一方で、回転搬送テーブルを備えたテストハンドラにおけるテスト、特にデバイスの電極に接触して、電圧、電流、抵抗又は周波数等を測定する電気特性検査(以下、単に「電気テスト」ともいう。)においては、省スペースの問題から、接触子であるコンタクトを搬送テーブルの半径方向に向けて配置する構成が好ましい。   In addition, when a device is inserted into the rail shown in Patent Document 3, it is common to insert the electrode portion in the left-right direction, in other words, in the direction perpendicular to the insertion direction with respect to the axis or the insertion direction of the rail. It is. On the other hand, in a test in a test handler equipped with a rotary transfer table, particularly an electrical characteristic inspection (hereinafter also simply referred to as “electric test”) in which voltage, current, resistance, frequency, etc. are measured by contacting an electrode of a device. In view of space saving, a configuration in which the contact, which is a contact, is arranged in the radial direction of the transfer table is preferable.

このような状況下、レールにデバイスを挿入して加熱する方式を、搬送テーブルを備えたテストハンドラの一処理工程として採用した場合、レールから排出されるデバイスをそのままの向きでピックアップしたとすると、デバイスの電極の向きは、前記コンタクトの向きとは90°異なるものとなる。すなわち、この場合には、レールから排出されたデバイスの向きを反転させる処理が必要となる。   Under such circumstances, when the method of inserting and heating the device into the rail is adopted as one processing step of the test handler equipped with the transfer table, if the device ejected from the rail is picked up in the same direction, The direction of the electrode of the device is 90 ° different from the direction of the contact. That is, in this case, it is necessary to reverse the direction of the device ejected from the rail.

しかしながら、上記のように高温又は低温化におけるテストを前提とした場合、加熱処理と電気テストの間に他の処理を挟むことは、加熱又は冷却したデバイスの設定温度より冷めるか温まるかという事態につながり、精度の高いテストの実現を妨げるものである。そのため、レールから排出したデバイスを、設定温度に保ったまま電気テスト等の他の処理を行うことのできる技術の実現が望まれていた。   However, assuming a test at a high temperature or low temperature as described above, putting another process between the heat process and the electrical test will result in a situation where the temperature is lower or higher than the set temperature of the heated or cooled device. Connected and hinders the realization of highly accurate testing. Therefore, it has been desired to realize a technique capable of performing other processing such as an electrical test while keeping the device discharged from the rail at a set temperature.

本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり、その目的は、高温テスト及び低温テストを実施するハンドラにおいて、一度に大量のデバイスの高温化又は低温化を可能とし、装置全体としての高速処理を実現した電子部品や半導体装置等のデバイスの高低温化ユニット及び高低温化テストハンドラを提供することにある。   The present invention has been proposed in order to solve the above-described problems of the prior art. The object of the present invention is to increase or decrease the temperature of a large number of devices at a time in a handler that performs a high temperature test and a low temperature test. An object of the present invention is to provide a high temperature reduction unit and a high temperature reduction test handler for a device such as an electronic component or a semiconductor device that realizes high-speed processing as a whole apparatus.

上記の目的を達成するため、請求項1の発明は、電子部品や半導体装置等のデバイスを、各種工程処理を施す工程処理装置を備えた搬送装置から受け取り、当該デバイスを所定の加熱又は冷却手段により加熱又は冷却して、前記搬送装置へ順次受け渡す高低温化ユニットであって、前記搬送装置からデバイスを受け取る受取り位置と、受け取ったデバイスを搬送して複数収納する搬送路と、前記搬送装置へデバイスを受け渡す受渡し位置と、を備えた収納レールと、前記収納レールを複数所定間隔で円環状に配置し保持する支持部と、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段と、を備えたドラムと、前記ドラムの受渡し位置から、前記搬送装置へ受け渡されたデバイスを受取り、デバイスの向きを変える方向変更装置と、を備えたことを特徴とする。   In order to achieve the above-mentioned object, the invention of claim 1 receives a device such as an electronic component or a semiconductor device from a transfer device provided with a process processing apparatus for performing various process processes, and the device is subjected to predetermined heating or cooling means. A high-temperature reduction unit that sequentially heats or cools and delivers the device to the transport device, a receiving position for receiving devices from the transport device, a transport path for transporting and storing a plurality of received devices, and the transport device A storage rail provided with a delivery position for delivering the device to the device, a support portion for arranging and holding the storage rail in an annular shape at predetermined intervals, and a plurality of the storage rails arranged in the annular shape to the support portion. A drum provided with a driving means for intermittently rotating via a drum, and a device delivered to the transport device from a delivery position of the drum; Characterized in that and a direction changing device for changing the orientation.

請求項6の発明は、請求項1の高低温装置を備えた高低温化テストハンドラに関するものであって、半導体装置又は電子部品等のデバイスを保持する保持部を円周等配位置に備えたターンテーブルと、前記ターンテーブルの円周等配位置にデバイスの外観検査、電気特性検査、テーピング梱包等の各種処理工程を行う工程処理部とを備え、前記ターンテーブルを間欠回転させて前記保持部を、各工程処理部を停止位置として搬送する高低温化テストハンドラであって、前記搬送装置に設けられた保持部からデバイスを受け取り、このデバイスを加熱又は冷却して前記保持機構へ順次受け渡す高温化又は低温化あるいはその両方の機能を備えた高低温化ユニットを、前記一工程処理部として備え、前記高低温化ユニットは、前記搬送装置からデバイスを受け取る位置と、受け取ったデバイスを搬送して複数収納する搬送路と、前記搬送装置へデバイスを受け渡す位置と、を備えた収納レールと、前記収納レールを複数所定間隔で円環状に配置し保持する支持部と、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段と、を備えたドラムと、前記ドラムの受渡し位置から、前記搬送装置へ受け渡されたデバイスを受取り、所定の中心から回転してデバイスの向きを変える方向変更装置と、を備えたことを特徴とする。   The invention of claim 6 relates to a high temperature test handler having the high temperature apparatus of claim 1, wherein a holding unit for holding a device such as a semiconductor device or an electronic component is provided at a circumferentially equidistant position. A turntable; and a process processing unit that performs various processing steps such as device appearance inspection, electrical property inspection, taping packing, and the like at circumferentially equidistant positions of the turntable, and the holding unit by intermittently rotating the turntable Is a high temperature reduction test handler that transports each process processing unit as a stop position, receives a device from a holding unit provided in the transport apparatus, and heats or cools the device and sequentially transfers it to the holding mechanism. A high temperature reduction unit having a function of high temperature and / or low temperature is provided as the one-process processing unit, and the high temperature reduction unit is removed from the transfer device. A storage rail having a position for receiving a chair, a transport path for transporting and storing a plurality of received devices, and a position for delivering the device to the transport device, and a plurality of the storage rails arranged in an annular shape at predetermined intervals A drum comprising: a support portion that holds and holds; and a driving means that intermittently rotates the plurality of storage rails arranged in an annular shape via the support portion; and the transfer device from the delivery position of the drum And a direction changing device that receives the device delivered to the device and rotates the device from a predetermined center to change the direction of the device.

以上の態様によれば、テストハンドラに用いられる高低温化ユニットを、内部にデバイスを複数個収納可能な収納レールを複数円環状に設け、これを支持部を介して回転可能に構成したことにより、この収納レール全体に、数多くのデバイスを同時に収納することが可能である。したがって、同時に多数のデバイスを保持し、加熱又は冷却することができ、別途設けたテストハンドラへデバイスを一つずつ受け渡すことが可能である。これにより、テストハンドラへの受渡しタイミングを遅らせることなく、かつ、高低温化ユニットにおいてデバイスに対するソーク時間、すなわち、含浸状態に置く加熱又は冷却時間を十分に確保することが可能となる。   According to the above aspect, the high temperature reduction unit used for the test handler is provided with a plurality of storage rails that can store a plurality of devices therein in an annular shape and is configured to be rotatable via the support portion. A large number of devices can be simultaneously stored in the entire storage rail. Therefore, a large number of devices can be held at the same time, heated or cooled, and devices can be transferred one by one to a separately provided test handler. As a result, the soaking time for the device, that is, the heating or cooling time in the impregnated state can be sufficiently secured in the high temperature reduction unit without delaying the delivery timing to the test handler.

また、収納レールを円環状に配置したことにより、平面状に収納レールを並列に並べて構成する場合に比べ、省スペース化が可能である。また、回転させるという簡単な作用により、1周する間にデバイスのソーク時間を十分確保することが可能である。   Further, by arranging the storage rails in an annular shape, it is possible to save space compared to the case where the storage rails are arranged in parallel in a planar shape. Moreover, it is possible to ensure a sufficient soak time of the device during one round by a simple action of rotating.

請求項2の発明は、請求項1の発明において、前記加熱手段は、前記ドラム又はドラム近傍にヒータを備えるか、又は前記ユニット全体を高温雰囲気のチャンバ内に設けてなることを特徴とする。
また、請求項7の発明は、請求項6の発明において、前記デバイスを加熱する手段は、前記ドラム又はドラム近傍にヒータを備えるか、又は前記ユニット全体を高温雰囲気のチャンバ内に設けてなることを特徴とする。
The invention of claim 2 is characterized in that, in the invention of claim 1, the heating means is provided with a heater in the drum or in the vicinity of the drum, or the whole unit is provided in a chamber in a high temperature atmosphere.
The invention according to claim 7 is the invention according to claim 6, wherein the means for heating the device is provided with a heater in the drum or in the vicinity of the drum, or the entire unit is provided in a chamber in a high temperature atmosphere. It is characterized by.

請求項3の発明は、請求項1又は2記載の発明において、前記冷却手段は、前記ドラム又はドラム近傍に冷却素子を備えるか、又は前記ユニット全体を冷却雰囲気のチャンバ内に設けてなることを特徴とする。
請求項8の発明は、請求項6又は7記載の発明において、前記デバイスを冷却する手段は、前記ドラム又はドラム近傍に冷却素子を備えるか、又は前記ユニット全体を冷却雰囲気のチャンバ内に設けてなることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the cooling means is provided with a cooling element in the drum or in the vicinity of the drum, or the entire unit is provided in a chamber of a cooling atmosphere. Features.
The invention of claim 8 is the invention of claim 6 or 7, wherein the means for cooling the device is provided with a cooling element in the drum or in the vicinity of the drum, or the entire unit is provided in a chamber of a cooling atmosphere. It is characterized by becoming.

以上のような態様では、高温化ユニットにおいては、ドラム内部又は近傍にヒータ等の加熱手段を備え、赤外線を放射し、この放射される赤外線が直接的に又は収納レールを介して間接的にデバイスに伝導し、近い位置からデバイスを加熱することができる。この場合、収納レールは、熱伝導率の高い材料によって構成されるのが好ましい。また、ユニット全体をチャンバで覆い、チャンバ内を高温雰囲気にして加熱手段とすることも可能である。一方、低温化ユニットにおいては、ヒータに代えて冷却手段としてペルチェ素子を用いたり、チャンバ内を冷却雰囲気にして冷却手段とすることで、デバイスを冷却することが可能となる。   In the above-described aspect, the high temperature unit is provided with heating means such as a heater in or near the drum, and radiates infrared rays, and the emitted infrared rays are directly or indirectly via a storage rail. The device can be heated from a close position. In this case, the storage rail is preferably made of a material having high thermal conductivity. It is also possible to cover the entire unit with a chamber and to make the inside of the chamber a high temperature atmosphere as a heating means. On the other hand, in the low temperature unit, the device can be cooled by using a Peltier element as a cooling means instead of the heater, or by using a cooling atmosphere in the chamber as a cooling atmosphere.

請求項4の発明は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明において、前記支持部材は、前記円環状に配置された収納レールを両端において内周面から保持する円盤からなり、前記円盤の中心に回転軸が設けられ、前記駆動手段は、前記回転軸を回転させるものであることを特徴とする。   The invention according to claim 4 is the invention according to any one of claims 1 to 3, wherein the support member is a disk that holds the storage rails arranged in an annular shape from the inner peripheral surface at both ends, A rotating shaft is provided at the center of the disk, and the driving means rotates the rotating shaft.

請求項5の発明は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明において、前記支持部材は、プーリーとこのプーリーに掛けられるベルトとからなり、前記収納レールは、前記ベルトに所定間隔で配置され、前記駆動手段は、前記プーリーの回転軸を回転させるものであることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the support member includes a pulley and a belt hung on the pulley, and the storage rail is spaced from the belt at a predetermined interval. The drive means rotates the rotating shaft of the pulley.

以上のような態様によれば、収納レールを円環状に配置するに際し、目的や用途、装置の配置スペースに応じて様々な構成を採用することが可能となる。   According to the above aspect, when the storage rails are arranged in an annular shape, various configurations can be employed depending on the purpose, application, and arrangement space of the apparatus.

請求項9の発明は、請求項6〜8のいずれか1項に記載の発明において、前記方向変更装置は、前記ターンテーブルの隣り合う保持部の位置と一致する位置に、前記保持部からデバイスを受け取る受取位置と、受け渡す受渡位置をそれぞれ備え、さらに、前記受取位置と受渡位置とが前記方向変更装置の中心に対して成す角と、前記ターンテーブルの隣り合う保持部の前記ターンテーブル中心に対して成す角の和が、前記デバイスの向きを変える方向変更角度であることを特徴とする。   The invention according to claim 9 is the invention according to any one of claims 6 to 8, wherein the direction changing device is configured to move the device from the holding unit to a position that coincides with the position of the adjacent holding unit of the turntable. A receiving position for receiving the transfer and a transfer position for transferring, and an angle formed by the receiving position and the transfer position with respect to the center of the direction changing device, and the center of the turntable of the holding portion adjacent to the turntable. The sum of angles formed with respect to is a direction change angle that changes the orientation of the device.

請求項10の発明は、請求項6〜9のいずれか1項に記載の発明において、前記高低温化ユニットでは、デバイスの電極を前記ターンテーブルの接線方向に平行に向けて前記収納レールに挿入するように構成され、前記ターンテーブルにおける、前記高低温化ユニットの下流側で隣合う位置に、デバイスの電気特性を検査する電気特性検査装置が設けられ、この電気特性検査装置では、前記電極を前記ターンテーブルの半径方向に水平に向けて検査するように構成され、前記方向変更装置は、前記高低温化ユニットから前記搬送装置へ受け渡されたデバイスを受取り、このデバイスの方向を90°変更して、前記搬送装置へ受渡すことを特徴とする。   The invention of claim 10 is the invention according to any one of claims 6 to 9, wherein in the high temperature reduction unit, the device electrode is inserted into the storage rail so as to be parallel to a tangential direction of the turntable. An electrical property inspection device for inspecting the electrical property of the device is provided in a position adjacent to the turntable on the downstream side of the high temperature reduction unit, and in the electrical property inspection device, the electrode is connected to the turntable. The turntable is configured to inspect horizontally in the radial direction of the turntable, and the direction changing device receives a device transferred from the high temperature reducing unit to the transfer device, and changes the direction of the device by 90 °. And it delivers to the said conveying apparatus, It is characterized by the above-mentioned.

また、請求項11の発明は、請求項6〜10のいずれか1項に記載の発明において、前記保持部は、前記ターンテーブルに対して10°置きに36箇所設けられ、前記受取位置と受渡位置とが前記方向変更装置の中心に対して成す角が80°であることを特徴とする。   The invention according to claim 11 is the invention according to any one of claims 6 to 10, wherein the holding portion is provided at 36 positions at intervals of 10 ° with respect to the turntable. An angle between the position and the center of the direction changing device is 80 °.

以上のような態様では、搬送装置側から、収納レールにデバイスを受け取り収納し、再度、搬送装置へデバイスを受け渡すことにより、搬送装置の一処理工程処理装置として構成することができるので、従来のレールにデバイスを保持し、これを順次加熱し、受け渡すような構成に比較し、高温テストのために新たにテストハンドラ用意するような必要もなく、装置設置の省スペース化とともに、装置コストを安価に抑えることができるようになる。   In the above-described aspect, since the device is received and stored on the storage rail from the transfer device side, and the device is transferred again to the transfer device, it can be configured as one processing step processing device of the transfer device. Compared to a configuration in which devices are held on rails and heated and delivered sequentially, there is no need to prepare a new test handler for high-temperature testing. Can be suppressed at low cost.

また、方向変更装置において、受取位置と受渡位置とが前記方向変更装置の中心に対して成す角と、前記ターンテーブルの隣り合う保持部の前記ターンテーブル中心に対して成す角の和が、デバイスの向きを変える方向変更角度としたことにより、ターンテーブルの保持部の位置と、方向変更装置のデバイスの載置位置とを組み合わせるという、より簡易な構成で、デバイスの向きを所望の角度に変更することができる。   Further, in the direction changing device, the sum of the angle formed by the receiving position and the delivery position with respect to the center of the direction changing device and the angle formed by the holding table adjacent to the turntable with respect to the center of the turntable is a device. By changing the orientation of the device, the orientation of the device can be changed to the desired angle with a simpler configuration that combines the position of the holding part of the turntable and the placement position of the device of the orientation change device. can do.

特に、本発明のようなターンテーブルを備えた搬送装置における電気特性検査では、隣り合う工程処理部の幅方向のスペースの問題から、デバイスの電極に接触してデバイスの電気特性を測定する接触子であるコンタクトを、ターンテーブルの接線方向ではなく、半径方向に平行に向けて配置することとしている。   In particular, in the electrical property inspection in the transfer apparatus having the turntable as in the present invention, the contactor that measures the electrical property of the device in contact with the electrode of the device due to the problem of the space in the width direction of the adjacent process processing unit. Are arranged so as to be parallel to the radial direction, not to the tangential direction of the turntable.

一方で、高低温化ユニットの収納レールに対しては、デバイスの電極をターンテーブルの接線方向に平行に向けて挿入する必要がある。そこで、本発明では、高温又は低温雰囲気のチャンバ内に設けられた方向変更装置において、高低温化ユニットから出てきたデバイスの向きを、90°変更することによって、そのまま電気特性検査に移行することができる。また、従来であれば、チャンバの外に反転装置を設け、反転させており、チャンバ外での時間の経過により、デバイスが所定の温度より上下してしまっていたが、本発明によれば、そのようなことがなく、デバイスを所定の温度に保ったまま、精度の高い電気テストを行うことが可能となる。   On the other hand, it is necessary to insert the electrode of the device in parallel to the tangential direction of the turntable with respect to the storage rail of the high temperature reduction unit. Therefore, in the present invention, in the direction changing device provided in the chamber of the high temperature or low temperature atmosphere, the direction of the device coming out of the high temperature reduction unit is changed by 90 °, thereby proceeding directly to the electrical characteristic inspection. Can do. Further, conventionally, a reversing device is provided outside the chamber and reversed, and the device has moved up and down from a predetermined temperature over time, but according to the present invention, Without such a situation, it is possible to perform a highly accurate electrical test while keeping the device at a predetermined temperature.

以上のような本発明によれば、高温テスト及び低温テストを実施するハンドラにおいて、一度に大量のデバイスの高温化又は低温化を可能とし、装置全体としての高速処理を実現した電子部品や半導体装置等のデバイスの高低温化ユニット及び高低温化テストハンドラを提供することができる。   According to the present invention as described above, in a handler that performs a high temperature test and a low temperature test, an electronic component or a semiconductor device that enables high temperature or low temperature of a large number of devices at a time and realizes high-speed processing as the entire apparatus. It is possible to provide a high temperature reduction unit and a high temperature reduction test handler for the devices.

次に、本発明を実施するための最良の形態(以下、本実施形態とする)を、図1〜図4を参照して説明する。   Next, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as the present embodiment) will be described with reference to FIGS.

(1)本実施形態の構成
本実施形態における高低温化テストハンドラは、高低温化ユニットを、テストハンドラにおける外観検査工程や電気特性検査工程あるいはテーピング工程等と同様の位置づけの一工程を構成する工程処理装置として、テストハンドラの円周等配位置に設けたものである。
(1) Configuration of the present embodiment The high temperature reduction test handler in this embodiment constitutes one process in which the high temperature reduction unit is positioned in the same manner as the appearance inspection process, electrical property inspection process, taping process, etc. in the test handler. As the process processing apparatus, it is provided at a circumferentially equidistant position of the test handler.

[1.高低温化テストハンドラの全体構成]
本実施形態の高低温化テストハンドラの全体構成について、図1を参照して説明する。図1は、本実施形態の高低温化ユニットをその一工程処理装置として含む高低温化テストハンドラの平面図(a)と側面模式図(b)である。なお、本実施形態では、1つのテストハンドラの工程処理装置として、電子部品や半導体装置等のデバイスを高温化する高温化ユニット11と、デバイスを低温化、又は高温化されたデバイスを常温化する低温化ユニット12とを異なる位置に設けている。ただし、本実施形態は最適な実施態様を示すものであり、ここで示すほか、高温化ユニット11又は低温化ユニット12のいずれかのみを工程処理装置として設けることも可能である。
[1. Overall configuration of high temperature test handler]
The overall configuration of the low temperature test handler of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a plan view (a) and a schematic side view (b) of a high temperature test handler including the high temperature unit of this embodiment as a one-step processing apparatus. In the present embodiment, as a process processing apparatus of one test handler, a high temperature unit 11 that increases the temperature of a device such as an electronic component or a semiconductor device, and a device whose temperature is increased or a temperature increased device is increased. The low temperature unit 12 is provided at a different position. However, this embodiment shows an optimum embodiment. In addition to the embodiment, only one of the high temperature unit 11 and the low temperature unit 12 can be provided as a process processing apparatus.

図1に示すように、本実施形態の高低温化ユニット1は、電子部品や半導体装置等のデバイスに対して各種工程処理を施すテストハンドラHの円周等配位置に設けられた工程処理装置の一部をなす高温化ユニット11と、低温化ユニット12とからなる。   As shown in FIG. 1, the high temperature reduction unit 1 of the present embodiment is a process processing apparatus provided at a circumferentially equidistant position of a test handler H that performs various process processes on devices such as electronic components and semiconductor devices. Are formed of a high temperature unit 11 and a low temperature unit 12.

より具体的には、図1の位置1において、パーツフィーダから整列搬送されるデバイスを、ターンテーブルTの下方に伸びるように、円周等配位置に複数(ここでは、10度間隔で36個)設けられた吸着保持機構のノズルNによってピックアップされる。このターンテーブルTは、図中時計回り方向に、10°ずつ間欠回転するものであり、位置2においてデバイスの電極の極性チェックを外観カメラ等によってなされる外観検査装置が設けられ、位置3において極性の修正を行う反転装置が設けられている。   More specifically, at position 1 in FIG. 1, a plurality of devices aligned and conveyed from the parts feeder are arranged at equal circumferential positions so as to extend below the turntable T (here, 36 at 10 degree intervals). ) Picked up by the nozzle N of the suction holding mechanism provided. This turntable T is intermittently rotated by 10 ° in the clockwise direction in the figure, and is provided with an appearance inspection device in which the polarity of the electrode of the device is checked by an appearance camera or the like at position 2, and the polarity at position 3 A reversing device for correcting the above is provided.

なお、本実施形態では、ターンテーブルTへのデバイスの供給手段をパーツフィーダとしているが、これは部品供給手段の一例を示すに過ぎず、その他、例えばリードフレームでの供給、チューブ(スティック)供給、ウェーハ供給等、周知のあらゆる供給手段に代替可能である。   In the present embodiment, the device supply means to the turntable T is a parts feeder. However, this is merely an example of the component supply means. In addition, for example, supply in a lead frame, tube (stick) supply Any known supply means such as wafer supply can be substituted.

そして、位置4に本実施形態に係る高温化ユニット11が設けられ、ここにおいて、ノズルNに保持されたデバイスが、所定の温度に加熱される。加熱されたデバイスは、再びノズルNに保持され、位置5の高温テスト装置において、加熱されたデバイスの電気テスト処理がなされる。また、位置6には、後述する高温テスト装置におけるデバイスの向きの構成から、高温テスト装置から排出されたデバイスの向きを90°変更する反転装置が設けられている。   And the high temperature unit 11 which concerns on this embodiment is provided in the position 4, and the device hold | maintained at the nozzle N here is heated by predetermined temperature. The heated device is again held by the nozzle N, and the heated device is subjected to an electrical test process in the high-temperature test apparatus at position 5. Further, at position 6, a reversing device is provided that changes the orientation of the device discharged from the high-temperature test apparatus by 90 ° from the configuration of the device orientation in the high-temperature test apparatus described later.

位置7には、本実施形態に係る低温化ユニット12が設けられ、ここにおいて、ノズルNに保持され搬送されたデバイスが、加熱された温度から常温にまで冷却される。そして、常温のデバイスが、位置8において、低温テスト装置によって電気テストがなされる。なお、この低温化ユニット12では、デバイスを常温より冷却し冷却された状態で位置8の電気テスト工程を施しても構わない。   At the position 7, the low temperature unit 12 according to the present embodiment is provided, and the device held and transported by the nozzle N is cooled from the heated temperature to the normal temperature. The room temperature device is then subjected to an electrical test at position 8 by a low temperature test apparatus. In the low temperature unit 12, the electrical test process at position 8 may be performed in a state where the device is cooled from room temperature and cooled.

以上のような電気テスト工程までを終えたデバイスは、そのままノズルNに保持された状態で、反転装置(位置9)、不良品を判別する外観検査装置(位置10)、不良品と良品とを複数分類しそのレベルに応じて分類してシュートする分類ソート装置(位置11,12)、良品を順次テープに梱包するテーピング装置(位置13,14)、テーピング梱包されなかったデバイスを廃棄する強制排出装置(位置15)を経るようになっている。なお、位置1〜15までにおける工程処理装置の配置は、本実施形態における例示であり、高低温化ユニット1及び高低温テスト装置以外の工程処理装置の配置は、デバイスの品種やユーザの目的に応じて、変更可能なものである。   The device that has completed the electrical test process as described above is held in the nozzle N as it is, and the reversing device (position 9), the appearance inspection device (position 10) for discriminating defective products, defective products and non-defective products. Sorting and sorting device (positions 11 and 12) that classifies and shoots according to the level, taping devices (positions 13 and 14) that sequentially pack non-defective products on tape, and forced discharge that discards devices that have not been taped and packed It goes through the device (position 15). In addition, arrangement | positioning of the process processing apparatus in the position 1-15 is the illustration in this embodiment, and arrangement | positioning of process processing apparatuses other than the high temperature reduction unit 1 and a high temperature test apparatus is for the kind of device, and the objective of a user. It can be changed accordingly.

[2.高低温化ユニットの構成]
次に、高低温化ユニット1の構成について、図2〜6を参照して説明する。図2は、図1の平面図で表した全体構成から、位置5及び6並びに位置7及び8における高低温化ユニット1についてのみ抽出した斜視図(a)及び平面図(b)である。
[2. Configuration of high temperature reduction unit]
Next, the structure of the high temperature reduction unit 1 is demonstrated with reference to FIGS. FIG. 2 is a perspective view (a) and a plan view (b) extracted from only the high temperature reduction unit 1 at positions 5 and 6 and positions 7 and 8 from the overall configuration shown in the plan view of FIG.

なお、高温化ユニット11と低温化ユニット12の構成は、後述するように、加熱手段を備えるか、冷却手段を備えるかの相違である。そこで、以下では、これらを区別なく、高低温化ユニット1として説明する。   In addition, the structure of the high temperature unit 11 and the low temperature unit 12 is a difference of whether a heating means is provided or a cooling means is provided so that it may mention later. Therefore, in the following, these will be described as the high temperature reduction unit 1 without distinction.

[2−1.ドラムの構成]
図2に示すように、高低温化ユニット1は、モータM1によりベルトを介して回転力を付与され、回転軸Oを中心として回転するドラム2を備える。
[2-1. Drum configuration]
As illustrated in FIG. 2, the high temperature reduction unit 1 includes a drum 2 that is rotated about a rotation axis O and is given a rotational force by a motor M <b> 1 via a belt.

このドラム2は、図2(a)及び図3にその断面図を示すように、筒状で内部にデバイスの搬送路とドラム2外周面方向に開口部とを備えた収納レール21を、複数円環状に配置してなる。ドラム2はまた、この収納レール21を円環状に維持する支持部材22を収納レール21の両端部に備える。この支持部材22は、円盤状に構成され、ドラム2両端部において収納レール21を内周面側から支持している。そして、この支持部材22がその中心部においてドラム2の中心軸に設けられた回転軸Oと連結している。   2A and 3, the drum 2 has a cylindrical shape and includes a plurality of storage rails 21 that are internally provided with a device conveyance path and an opening in the outer peripheral surface of the drum 2. It is arranged in an annular shape. The drum 2 also includes support members 22 that maintain the storage rail 21 in an annular shape at both ends of the storage rail 21. The support member 22 is formed in a disk shape, and supports the storage rail 21 from the inner peripheral surface side at both ends of the drum 2. And this support member 22 is connected with the rotating shaft O provided in the center axis | shaft of the drum 2 in the center part.

ここで、高低温化ユニット1の加熱又は冷却手段について説明する。高温化ユニット11においては、ドラム2内部又は近傍にヒータ等の加熱手段を備え、赤外線を放射し、この放射される赤外線が直接的に又は収納レールを介して間接的にデバイスに伝導し、近い位置からデバイスを加熱する。この場合、収納レール21は、熱伝導率の高い材料によって構成されるのが好ましい。また、ユニット全体をチャンバで覆い、チャンバ内を高温雰囲気にして加熱手段とすることも可能である。一方、低温化ユニット12においては、ヒータに代えて冷却手段としてペルチェ素子を用いたり、チャンバ内を冷却雰囲気にして冷却手段とするものである。なお、チャンバ内の雰囲気を高温化又は低温化する場合には、加熱又は冷却手段として、図2の一点鎖線にて示すように、高温エアーブロー等によりなる高低温化部4にて、高温又は低温環境にする。この場合、具体的には、高温の場合にはチャンバ内を120℃前後に、低温の場合には−40℃程度にするものである。   Here, the heating or cooling means of the high temperature reduction unit 1 will be described. In the high temperature unit 11, heating means such as a heater is provided in or near the drum 2 to radiate infrared rays, and the emitted infrared rays are conducted directly or indirectly to the device through the storage rail and close to the device. Heat the device from position. In this case, the storage rail 21 is preferably made of a material having high thermal conductivity. It is also possible to cover the entire unit with a chamber and to make the inside of the chamber a high temperature atmosphere as a heating means. On the other hand, in the low temperature unit 12, a Peltier element is used as a cooling means instead of a heater, or the inside of the chamber is used as a cooling means as a cooling means. In the case where the atmosphere in the chamber is increased or decreased in temperature, as a heating or cooling means, as shown by a one-dot chain line in FIG. Use a low temperature environment. In this case, specifically, the inside of the chamber is set to around 120 ° C. when the temperature is high, and about −40 ° C. when the temperature is low.

本実施形態では、図3(a)に示すように、このドラム2は、この収納レール21を45度間隔で8個配置し、回転軸OがモータM1の駆動により回転され、収納レール21の間隔、すなわち45°間隔で間欠的に回転するようになっている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 3A, the drum 2 has eight storage rails 21 arranged at intervals of 45 degrees, and the rotation shaft O is rotated by the drive of the motor M1. It rotates intermittently at intervals, that is, 45 ° intervals.

図3(b)に示すように、一つの収納レール21の形状は、断面が方形で縦長に構成され、筒型の一つの面であってドラム2を構成した場合に外周に位置する面に、細溝を備えている。また、収納レール21の搬送路を形成する内周面の大きさは、処理対象となる半導体装置の大きさによって設計されるものであり、搬送される半導体装置が詰まったり側面と接触しないで搬送可能な程度の大きさに適宜設計されるものである。   As shown in FIG. 3 (b), the shape of one storage rail 21 is a surface that is square and has a vertically long shape and is a cylindrical surface that is located on the outer periphery when the drum 2 is configured. , With a narrow groove. Further, the size of the inner peripheral surface forming the transport path of the storage rail 21 is designed according to the size of the semiconductor device to be processed, and the transported semiconductor device is transported without being clogged or in contact with the side surface. It is appropriately designed to have a possible size.

また、ドラム2及び収納レール21の軸方向の長さについては、収納レール21の搬送路内に待機させる半導体装置の数、一括処理するための所望の半導体装置数によって決定される。この半導体装置の待機数は、テストハンドラHに対する受け渡し時間間隔(テストハンドラHの間欠回転1回あたりの搬送時間と一工程における処理時間との和)と、半導体装置を所定の温度にするための加熱又は冷却時間とを考慮される。例えば、デバイスの加熱時間が90秒であるとすると、ターンテーブルTの間欠回転のタイミングが0.2〜0.3秒であるから、一つの収納レール21に対して、約50個のデバイスが収納されるように構成している。   Further, the axial lengths of the drum 2 and the storage rail 21 are determined by the number of semiconductor devices waiting in the conveyance path of the storage rail 21 and the desired number of semiconductor devices for batch processing. The waiting number of the semiconductor device is such that the delivery time interval to the test handler H (the sum of the transport time per intermittent rotation of the test handler H and the processing time in one process) and the semiconductor device to a predetermined temperature. Heating or cooling time is considered. For example, if the heating time of the device is 90 seconds, the intermittent rotation timing of the turntable T is 0.2 to 0.3 seconds, so that about 50 devices are provided for one storage rail 21. It is configured to be stored.

また、図2に示すように、ドラム2は、テストハンドラHからデバイスを受け取る収納レール21に挿入する挿入位置Xと、収納レール21から排出する排出位置Yとを同一の方向に備える。すなわち、ターンテーブルT側に、デバイスをテストハンドラHから受け取り、収納レール21に挿入する挿入位置Xと、デバイスを収納レール21から排出する排出位置Yをともに備える。挿入位置Xは、円環状の最頂部の収納レール21aに設けられ、排出位置Yは、この挿入位置XよりもターンテーブルTの回転方向上流側であって、ドラム2の回転方向下流側の収納レール21bに設けられている。   Further, as shown in FIG. 2, the drum 2 includes an insertion position X for insertion into the storage rail 21 that receives a device from the test handler H and a discharge position Y for discharging from the storage rail 21 in the same direction. That is, on the turntable T side, both the insertion position X for receiving the device from the test handler H and inserting it into the storage rail 21 and the discharge position Y for discharging the device from the storage rail 21 are provided. The insertion position X is provided on the storage rail 21a at the top of the annular shape, and the discharge position Y is stored upstream of the insertion position X in the rotation direction of the turntable T and downstream of the drum 2 in the rotation direction. It is provided on the rail 21b.

この挿入位置Xには、図4(a)及び(b)にその詳細拡大図を示すように、ノズルNの下降動作(Z軸移動)により、受け取ったデバイスCを一時載置するステージ23aが設けられ、このステージ23aに置かれたデバイスを一つずつ収納レール21bに向かって挿入する押入れ部材23bが設けられている。この押入れ部材23bは、ステージ23a上をターンテーブルT側から、収納レール21b側に向かってテストハンドラHのターンテーブルTの回転タイミングに合わせて往復移動するように構成されている。   At this insertion position X, as shown in detail enlarged views in FIGS. 4A and 4B, a stage 23a on which the received device C is temporarily placed by the lowering operation (Z-axis movement) of the nozzle N is provided. A push-in member 23b is provided for inserting devices placed on the stage 23a one by one toward the storage rail 21b. The pushing member 23b is configured to reciprocate on the stage 23a from the turntable T side toward the storage rail 21b in accordance with the rotation timing of the turntable T of the test handler H.

一方、排出位置Yは、円環状の最頂部に位置する収納レール21aの、ターンテーブルT側端部に設けられている。この排出位置Yには、図4(a)及び(c)にその詳細拡大図を示すように、収納レール21aの側端部にあるデバイスCを収納レールから分離し、テストハンドラHのノズルNによってピックアップするための位置に移動させるエスケープ24aが設けられている。また、このエスケープ24aに対して、収納レール21a内のデバイスを順次送り出すための送り部材24bが設けられている。   On the other hand, the discharge position Y is provided at the turntable T side end of the storage rail 21a located at the top of the annular shape. At this discharge position Y, as shown in detail enlarged views in FIGS. 4A and 4C, the device C at the side end of the storage rail 21a is separated from the storage rail, and the nozzle N of the test handler H is separated. Is provided with an escape 24a that is moved to a position for pickup. Further, a feed member 24b for sequentially feeding the devices in the storage rail 21a is provided for the escape 24a.

この送り部材24bは、収納レール21bの開口部から挿入され、収納レール21a軸方向に、テストハンドラHの反対側からターンテーブルT側に向けて、移動するものである。その駆動機構は、ドラム2の側方に設けられ、図示しないモータの回転によりボールネジBが回転し、これに連結した支持部24cが移動することにより実現するものである。   The feed member 24b is inserted from the opening of the storage rail 21b and moves in the axial direction of the storage rail 21a from the opposite side of the test handler H toward the turntable T side. The drive mechanism is provided on the side of the drum 2 and is realized by the ball screw B being rotated by the rotation of a motor (not shown) and the support portion 24c connected thereto being moved.

この送り部材24bの移動タイミングも、テストハンドラHにおけるターンテーブルTの間欠回転のタイミングと同期しており、ノズルNの移動に伴って、収納レール21a内に収納されたデバイスを一つずつエスケープ24aに向かって排出するようになっている。この送り部材24bはまた、収納レール21aの溝に挿入される位置から退避レール21cに退避し、収納レール21aに干渉しない位置に移動するように構成されており、収納レール21aに収納された一群のデバイスをすべてターンテーブルT側に搬送した後は、溝に干渉しない位置であるテストハンドラHとは反対の端部にの退避レール21cに移動するようになっている。   The movement timing of the feed member 24b is also synchronized with the timing of intermittent rotation of the turntable T in the test handler H. As the nozzle N moves, the devices stored in the storage rail 21a are escaped one by one. It is supposed to be discharged towards. The feeding member 24b is also configured to retract from the position where it is inserted into the groove of the storage rail 21a to the retraction rail 21c and move to a position where it does not interfere with the storage rail 21a. After all the devices are transported to the turntable T side, they are moved to the retreat rail 21c at the end opposite to the test handler H, which is a position that does not interfere with the groove.

また、エスケープ24aは、デバイスCを収納レール21bから受け取った後、収納レール21aの搬送路と平行な面、すなわち、図中矢印方向に45°回転し挿入位置Xまで移動して、ノズルNに当該加熱されたデバイスを受け渡すようになっている(回転後を図中に二点鎖線で示す。)。   Further, the escape 24a receives the device C from the storage rail 21b, and then moves to a surface parallel to the conveyance path of the storage rail 21a, that is, 45 ° in the direction of the arrow in the drawing to the insertion position X, and moves to the nozzle N. The heated device is delivered (after the rotation is indicated by a two-dot chain line in the figure).

なお、収納レールの溝内に載置されたデバイスを、搬送させる機構は、振動やエアを搬送方向に向けて作用させる構成など、公知の直線状の部品移送手段のいずれの構成を用いることもできる。この点、本実施形態では、図に一例として示す送り部材24bのように、搬送路の溝と略同一の形状からなり、この溝内を収納レール21a方向に移動するように構成することとしている。   The mechanism for transporting the device placed in the groove of the storage rail may use any configuration of known linear component transfer means, such as a configuration in which vibration and air act in the transport direction. it can. In this regard, in the present embodiment, like a feed member 24b shown as an example in the figure, it has substantially the same shape as the groove of the conveyance path, and is configured to move in the groove toward the storage rail 21a. .

[2−2.分離テーブルの構成]
本実施形態の高低温化ユニット1は、図2に示すように、ドラム2の下流側に隣接して分離テーブル3を備える。ここで、この分離テーブル3の高低温化ユニット1における役割を説明する。
[2-2. Configuration of isolation table]
The high temperature reduction unit 1 of this embodiment is provided with the separation table 3 adjacent to the downstream side of the drum 2, as shown in FIG. Here, the role of the separation table 3 in the high temperature reduction unit 1 will be described.

図1における本実施形態のテストハンドラHにおいて、位置1においてパーツフィーダ等の部品供給装置からは、ターンテーブルTの接線方向に平行な向きに電極を向けてピックアップされ、その後の位置2〜4の工程においては、そのまま電極の向きを変更せずに処理が行われる。   In the test handler H of the present embodiment in FIG. 1, at a position 1, an electrode is picked up from a parts supply device such as a parts feeder with the electrodes facing in a direction parallel to the tangential direction of the turntable T, and thereafter at positions 2 to 4. In the process, the process is performed without changing the direction of the electrodes.

これに対して、位置5又は位置8において実施される高低温テスト装置においては、ターンテーブルTの一工程処理として配置する関係上、ターンテーブルTの接線方向の幅スペースを抑えることが必要となる。   On the other hand, in the high / low temperature test apparatus implemented at the position 5 or the position 8, it is necessary to suppress the width space in the tangential direction of the turntable T because of the arrangement as one process of the turntable T. .

そのため、高低温テスト装置において、幅方向のスペースを必要とする接触子であるコンタクト電極の向きを、ターンテーブルTの接線方向ではなく、半径方向に向けて配置することとしている。   For this reason, in the high / low temperature test apparatus, the contact electrode, which is a contact that requires space in the width direction, is arranged not in the tangential direction of the turntable T but in the radial direction.

一方、本実施形態における高低温化ユニット1は、デバイスを収納レール21に挿入するものであるが、このレールに対しては、上述のように、デバイスの電極を挿入方向に対して90°にして行う必要がある。そして、その収納レール21は、ターンテーブルTの半径方向に向かって配置されている。   On the other hand, the high temperature reduction unit 1 in the present embodiment is for inserting a device into the storage rail 21. For this rail, the electrode of the device is set to 90 ° with respect to the insertion direction as described above. Need to be done. The storage rail 21 is arranged in the radial direction of the turntable T.

このような事情においては、高低温化ユニット1から排出されたデバイスを、電気テストを行う前に、90°反転させる必要がある。しかし、例えば、高低温化ユニット1の下流側の位置に、図1の位置6又は位置9に配置したような従来からある反転装置を設けたのでは、時間を掛けて加熱又は冷却したデバイスが、時間の経過により、所定の温度より上下してしまい、電気テストにおいて、所望の温度によるテストが行えない結果となる。   Under such circumstances, it is necessary to invert the device discharged from the high temperature reduction unit 1 by 90 ° before conducting an electrical test. However, for example, if a conventional reversing device such as the one disposed at the position 6 or 9 in FIG. 1 is provided at the downstream side of the high temperature reduction unit 1, a device heated or cooled over time can be obtained. As time elapses, the temperature rises or falls below a predetermined temperature, resulting in an electrical test that cannot be performed at a desired temperature.

そこで、本実施形態においては、ドラム2と同一のチャンバ内に配置した分離テーブル3により、チャンバ内のドラム2における状態と同様の高低温雰囲気中にてデバイスを90°回転させることとしたものである。   Therefore, in the present embodiment, the device is rotated 90 ° in a high and low temperature atmosphere similar to the state in the drum 2 in the chamber by the separation table 3 disposed in the same chamber as the drum 2. is there.

分離テーブル3の具体的な構成を図5に示す。図5(a)は本実施形態における分離テーブル3の構成を示す模式図であり、図5(b)は従来の分離テーブル(又は衛星テーブル)の構成を示す模式図である。   A specific configuration of the separation table 3 is shown in FIG. FIG. 5A is a schematic diagram showing a configuration of the separation table 3 in the present embodiment, and FIG. 5B is a schematic diagram showing a configuration of a conventional separation table (or satellite table).

図5(b)に示す従来の分離テーブル30は、ターンテーブルTからの受取りポジション及び受渡しポジションを共通の位置Rとし、ターンテーブルTの中心Pと、分離テーブル30の中心Qとを結んだ線上に当該位置Rの中心が位置するように構成される。そのため、分離テーブル30に搭載されるデバイスの電極の向きは、ターンテーブルT及び分離テーブル30の接線lと平行となる。そのため、分離テーブル30の回転によっても、デバイスの向きは変わらない。   The conventional separation table 30 shown in FIG. 5B is a line connecting the center P of the turntable T and the center Q of the separation table 30 with the receiving position from the turntable T and the delivery position being a common position R. Is configured such that the center of the position R is located at the center. Therefore, the direction of the electrode of the device mounted on the separation table 30 is parallel to the tangent l of the turntable T and the separation table 30. Therefore, the orientation of the device does not change even when the separation table 30 rotates.

一方、図5(a)に示す本実施形態の分離テーブル3では、受取りポジションR1と受渡しポジションR2を中心にから80°の角度を以って別々に設けている。さらに、ターンテーブルTの中心位置Pと、分離テーブル3の中心位置Qとを結んだ直線がこれらポジションR1とR2との中点を通るように、分離テーブル3をターンテーブルに対して配置した。   On the other hand, in the separation table 3 of the present embodiment shown in FIG. 5A, the separation table 3 is provided separately at an angle of 80 ° from the reception position R1 and the delivery position R2. Further, the separation table 3 is arranged with respect to the turntable so that a straight line connecting the center position P of the turntable T and the center position Q of the separation table 3 passes through the midpoint between these positions R1 and R2.

ここで、従来は、ターンテーブルTから分離テーブル30同一のポジションから受け取り、同一のポジションにおいて受け渡すことで、デバイスの向きは変わらなかったが、本実施形態の分離テーブル3では、異なるポジションで受け取り受渡しを行うため、受け取り時と受渡し時において、デバイスの向きが変更する。   Here, conventionally, the separation table 30 is received from the turntable T from the same position and delivered at the same position, so that the orientation of the device is not changed. However, in the separation table 3 of this embodiment, the separation table 30 is received at a different position. Since the delivery is performed, the orientation of the device is changed at the time of receipt and delivery.

より具体的には、分離テーブル3では、ポジションR1とポジションR2が上記の通り、80°の角度を設けて設けられているため、分離テーブル3のR1に搭載されたデバイスが分離テーブルの回転によってR2まで移動することで、デバイスの向きは、80°変わる。また、ターンテーブルTにおいて、ノズルが、受取り位置R1でデバイスを分離テーブル3に受渡し、10°回転した受渡し位置R2でデバイスを分離テーブル3より受け取ることにより、デバイスを渡した際よりも、10°異なった角度で、受け取ることとなる。したがって、分離テーブル3におけるデバイスにおける向きの変更80°と、ターンテーブルTにおける向きの変更10°とにより、全体として、ノズルNに保持されたデバイスは、R1からR2の移動によって、向きが90°変更されることとなる。   More specifically, in the separation table 3, since the positions R1 and R2 are provided at an angle of 80 ° as described above, the device mounted on R1 of the separation table 3 is rotated by the rotation of the separation table. By moving to R2, the orientation of the device changes by 80 °. Further, in the turntable T, the nozzle delivers the device to the separation table 3 at the receiving position R1, and receives the device from the separation table 3 at the delivery position R2 rotated by 10 °. You will receive it at a different angle. Therefore, the device held by the nozzle N as a whole has a 90 ° orientation due to the movement from R1 to R2 due to the orientation change 80 ° in the device on the separation table 3 and the orientation change 10 ° in the turntable T. Will be changed.

なお、上記のターンテーブルTにおいて10°としたノズルの配置角度と、分離テーブル3において80°とした位置R1とR2との配置角度は、例示であり、分離テーブル3のR1とR2の角度は、ターンテーブルTにおけるノズルの配置角度に応じて、適宜変更可能である。この配置角度は、デバイスの向きの変更角度θ1が、ターンテーブルTのノズルの配置角度θ2と、分離テーブル3における載置角度θ3の和となるように設定するように構成すればよい。すなわち、[変更角度θ1]=[ノズルの配置角度θ2]+[載置角度θ3]となるように構成する。   In addition, the arrangement angle of the nozzle set to 10 ° on the turntable T and the arrangement angle between the positions R1 and R2 set to 80 ° on the separation table 3 are examples, and the angles of R1 and R2 of the separation table 3 are Depending on the arrangement angle of the nozzles on the turntable T, it can be changed as appropriate. The arrangement angle may be set so that the device orientation change angle θ1 is the sum of the nozzle arrangement angle θ2 of the turntable T and the placement angle θ3 of the separation table 3. That is, the configuration is such that [change angle θ1] = [nozzle arrangement angle θ2] + [mounting angle θ3].

また、分離テーブル3は、図2に示すモータM2の回転力をベルトを介して受けることにより、R1とR2の80°の角度を、ターンテーブルTにおける間欠回転のタイミングとあわせ、往復動するものである。   Further, the separation table 3 reciprocates by receiving the rotational force of the motor M2 shown in FIG. 2 through a belt, and matching the 80 ° angle of R1 and R2 with the timing of intermittent rotation in the turntable T. It is.

(2)本実施形態の作用
以上のように構成される本実施形態の高低温化ユニット1の作用について、図6の作用を示した模式図を用いて説明する。なお、以下では、図2の位置4における高温化ユニット11及び位置5の高温テスト装置14の実施例について説明し、位置7及び位置8の低温化ユニット及び低温テスト装置の場合についは省略するが、低温化ユニット12及び低温テスト装置14における処理の内容は高温化ユニット11及び高温テスト装置13における処理と同様である。
(2) Operation of the present embodiment The operation of the high-temperature reduction unit 1 of the present embodiment configured as described above will be described with reference to a schematic diagram showing the operation of FIG. In the following, embodiments of the high temperature unit 11 at the position 4 in FIG. 2 and the high temperature test apparatus 14 at the position 5 will be described, but the case of the low temperature unit and the low temperature test apparatus at the positions 7 and 8 will be omitted. The contents of the processes in the low temperature unit 12 and the low temperature test apparatus 14 are the same as the processes in the high temperature unit 11 and the high temperature test apparatus 13.

本実施形態において、位置1におけるパーツフィーダからは、テストハンドラHの36個のノズルNにデバイスが受け渡される。ノズルNに保持されたデバイスは、順次位置1〜位置3を移動し、位置4の高低温化ユニットに搬送されてくる。   In the present embodiment, the device is delivered from the parts feeder at position 1 to the 36 nozzles N of the test handler H. The device held by the nozzle N sequentially moves from position 1 to position 3 and is conveyed to the high temperature reduction unit at position 4.

ノズルNに保持された加熱前のデバイスCは、位置4の高温化ユニット11の挿入位置Xにおいて、ノズルN1のZ軸方向の下降動作によりステージ23aに受け渡される。ステージ23aに載置されたデバイスC1は、押入れ部材23bによって、収納レール21aに順次挿入される(図4(a)参照)。   The pre-heating device C held by the nozzle N is transferred to the stage 23a by the lowering operation of the nozzle N1 in the Z-axis direction at the insertion position X of the high temperature unit 11 at position 4. The device C1 placed on the stage 23a is sequentially inserted into the storage rail 21a by the push-in member 23b (see FIG. 4A).

ここで、上記の通り、収納レール21は、デバイスの品種や収納レール21の長さ設定などの実施態様により、挿入可能なデバイスの数は適宜設定可能であるが、ここでは、25個とする。したがって、収納レール21aに25個のデバイスが挿入されると、ドラム2は、収納レール一つ分である45°回転する。また、テストハンドラHへの受渡し時間からみると、上述のとおり、本実施形態においては一列の収納レールに約25個のデバイスが収納されるように構成しており、これを0.2〜0.3秒の間隔で間欠回転するテストハンドラHのノズルに受け渡すとすると、収納レール21一列のデバイスがすべて受け渡される時間は、10〜15秒程度である。すなわち、ドラム2は、10〜15秒間隔で間欠回転を行うことになるから、収納レール21bの挿入位置XにおけるノズルNから収納レールへのデバイスの挿入作業も10〜15秒程度で行われるようにする。   Here, as described above, the number of devices that can be inserted in the storage rail 21 can be set as appropriate depending on the type of device, the length of the storage rail 21, and the like. . Therefore, when 25 devices are inserted into the storage rail 21a, the drum 2 rotates 45 °, which is one storage rail. Further, when viewed from the delivery time to the test handler H, as described above, in the present embodiment, about 25 devices are accommodated in a row of storage rails. When passing to the nozzles of the test handler H that rotates intermittently at intervals of 3 seconds, the time for transferring all the devices in one row of the storage rail 21 is about 10 to 15 seconds. That is, since the drum 2 is intermittently rotated at intervals of 10 to 15 seconds, the device insertion operation from the nozzle N to the storage rail at the insertion position X of the storage rail 21b is also performed in about 10 to 15 seconds. To.

一方、収納レール21bでは、収納レール21aでのデバイスの収納作業が完了し、図2又は図3に示す矢印方向に1回転(ここでは、挿入位置Xの位置から排出位置Yまでの315°の回転)し、十分に加熱されたデバイスが収納された状態となっている。この収納レール21bに対して、図4に示す押出し部材24bが、ターンテーブルTと反対側の端部より収納レール21b内に挿入され、デバイスをエスケープ24aに対して一つずつ押し出す。デバイスが載置されたエスケープ24aは、図4(a)の矢印方向又は(c)の二点鎖線にて示す位置に45°回転して移動し、挿入位置Xにエスケープ24a上のデバイスを運び、このデバイスをノズルNが受け取る。   On the other hand, in the storage rail 21b, the storage operation of the device in the storage rail 21a is completed, and one rotation (here, 315 ° from the insertion position X to the discharge position Y is performed in the direction of the arrow shown in FIG. 2 or FIG. 3). Rotated) and a fully heated device is housed. 4 is inserted into the storage rail 21b from the end opposite to the turntable T, and the devices are pushed out one by one against the escape 24a. The escape 24a on which the device is placed rotates by 45 ° in the direction indicated by the arrow in FIG. 4A or indicated by the two-dot chain line in FIG. 4C, and carries the device on the escape 24a to the insertion position X. The nozzle N receives this device.

ノズルNは加熱済みのデバイスを保持した状態で、ターンテーブルTは10°回転し、ノズルNは、分離テーブル3の受取り位置R1に位置する。このポジションにおいて、ノズルNは、加熱済みのデバイスを、分離テーブル3の受取り位置R1において、分離テーブル3に受け渡す。   The nozzle N holds the heated device, the turntable T rotates 10 °, and the nozzle N is positioned at the receiving position R1 of the separation table 3. In this position, the nozzle N delivers the heated device to the separation table 3 at the receiving position R1 of the separation table 3.

ノズルNは、ターンテーブルTの10°の回転に伴って、分離テーブル3の受渡し位置R2に位置し、加熱済みでさらに分離テーブル3により80°回転したデバイスを受取る。ここで、このデバイスは、ノズルNが、受渡し際のノズル位置より10°ずれた位置であるR2で受け取るため、分離テーブル3による回転角度80°と、このノズル位置の回転角度10°を加算して、デバイスは、90°回転した状態でノズルNに受け取られることとなる。   The nozzle N is positioned at the delivery position R2 of the separation table 3 with the rotation of the turntable T by 10 °, and receives the heated device further rotated by 80 ° by the separation table 3. Here, since this device receives the nozzle N at R2 which is shifted by 10 ° from the nozzle position at the time of delivery, the rotation angle 80 ° by the separation table 3 and the rotation angle 10 ° of this nozzle position are added. Thus, the device is received by the nozzle N while being rotated by 90 °.

次に、ターンテーブルTはさらに10°回転し、ノズルNは、高温テスト装置13上に位置し、ノズルNのZ軸方向の下降動作により、デバイスの電極を高温テスト装置13のコンタクトに接触させ、電気テストを実行する。電気テスト後、ターンテーブルTはさらに10°回転し、ノズルNは、位置9の反転装置上に位置し、ノズルNのZ軸方向の下降動作により、加熱及びテスト済みのデバイスを90°回転させる。なお、この反転装置は、例えば、本出願人が先に提案した特開2004−186328号公報に開示される装置のほか、従来からある機構を用いることができる。   Next, the turntable T is further rotated by 10 °, the nozzle N is positioned on the high temperature test apparatus 13, and the electrode of the device is brought into contact with the contact of the high temperature test apparatus 13 by the lowering operation of the nozzle N in the Z-axis direction. Perform electrical tests. After the electrical test, the turntable T is further rotated by 10 °, the nozzle N is positioned on the reversing device at position 9, and the heated and tested device is rotated by 90 ° by the downward movement of the nozzle N in the Z-axis direction. . Note that, for example, a conventional mechanism can be used as the reversing device in addition to the device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-186328 previously proposed by the present applicant.

本実施形態の高低温化ユニット1においては、以上のような処理がターンテーブルTの円周等配位置に設けられた36個の各ノズルにおいて、順次行われるものである。   In the high temperature reduction unit 1 of the present embodiment, the processing as described above is sequentially performed in each of the 36 nozzles provided at the circumferentially equidistant positions of the turntable T.

(3)本実施形態の効果
以上のように作用する本実施形態の高低温化テストハンドラHによれば、高温又は低温雰囲気のチャンバ内に配置された高低温化ユニット1を、回転軸Oを中心として回転可能に構成されたドラム2により構成し、このドラム2に、縦長で内部に搬送路を備えデバイスを複数個収納可能な収納レール21を複数円環状に設けたことにより、この収納レール21並びにドラム2全体に、数多くのデバイスを同時に収納することが可能である。
(3) Effects of the present embodiment According to the high temperature reduction test handler H of the present embodiment that operates as described above, the high temperature reduction unit 1 disposed in a chamber of a high temperature or low temperature atmosphere is connected to the rotary shaft O. The drum 2 is configured to be rotatable at the center, and the drum 2 is provided with a plurality of annular storage rails 21 that are vertically long and have a conveyance path inside and can store a plurality of devices. 21 and the entire drum 2 can accommodate a large number of devices simultaneously.

したがって、本実施形態の高低温化ユニット1においては、同時に多数のデバイスを保持し、加熱又は冷却することができ、さらに、ドラム2からは、テストハンドラHへデバイスを一つずつ受け渡すことが可能である。これにより、テストハンドラHへの受渡しタイミングを遅らせることなく、かつ、ドラム2においてデバイスに対するソーク時間、すなわち、含浸状態に置く加熱又は冷却時間を十分に確保することが可能である。   Therefore, in the high temperature reduction unit 1 of the present embodiment, a large number of devices can be simultaneously held and heated or cooled, and further, devices can be transferred from the drum 2 to the test handler H one by one. Is possible. Thereby, it is possible to sufficiently ensure the soak time for the device in the drum 2, that is, the heating or cooling time in the impregnated state without delaying the delivery timing to the test handler H.

また、収納レール21を円環状に配置し、この収納レール21の挿入位置XにてターンテーブルTのノズルNからデバイスを受け渡した後、これを1回転させてからテストハンドラHにデバイスを受け渡す、という構成を採用することにより、例えば、平面状に収納レールを並列に並べて構成する場合に比べ、省スペース化が可能である。また、回転させるという簡単な作用により、1周する間にデバイスのソーク時間を十分確保することが可能である。   Further, the storage rail 21 is arranged in an annular shape, the device is delivered from the nozzle N of the turntable T at the insertion position X of the storage rail 21, and then the device is delivered to the test handler H after one rotation. By adopting the configuration, for example, space can be saved as compared with the case where the storage rails are arranged in parallel in a planar shape. Moreover, it is possible to ensure a sufficient soak time of the device during one round by a simple action of rotating.

さらに、テストハンドラHからのデバイスの挿入位置Xと、テストハンドラHへのデバイスの排出位置Yとを、同一の収納レール21の位置に設けず、隣り合う位置で設けることにより、収納レールへのデバイスの入替えがスムーズに行えるようになる。特に、ターンテーブルT側から、収納レールにデバイスを受け取り収納し、再度ターンテーブルT側からデバイスを受け渡すことにより、テストハンドラHの一処理工程処理装置として構成することができるので、従来のレールにデバイスを保持し、これを順次加熱し、受け渡すような構成に比較し、高温テストのために新たにテストハンドラ用意するような必要もなく、装置設置の省スペース化とともに、装置コストを安価に抑えることができるようになる。   Furthermore, the device insertion position X from the test handler H and the device discharge position Y to the test handler H are not provided at the same storage rail 21 position but at adjacent positions, so that Devices can be switched smoothly. In particular, since the device is received and stored in the storage rail from the turntable T side, and the device is transferred again from the turntable T side, it can be configured as one processing step processing apparatus of the test handler H. Compared to a configuration in which the device is held and heated and delivered sequentially, there is no need to prepare a new test handler for the high-temperature test, and the installation cost is reduced and the equipment cost is low. Can be suppressed.

また、分離テーブル3を、ドラム2と同一の高温又は低温雰囲気のチャンバ内に配置し、この分離テーブル3により、後続の処理工程である電気テストのために、デバイスの向きを90°変更することができる。この点、従来であれば、チャンバの外に反転装置を設け、反転させており、チャンバ外での時間の経過により、デバイスが所定の温度より上下してしまっていた。本実施形態によれば、そのようなことがなく、デバイスを所定の温度に保ったまま、精度の高い電気テストを行うことが可能となる。   Further, the separation table 3 is disposed in the same high-temperature or low-temperature atmosphere chamber as the drum 2, and the device orientation is changed by 90 ° for an electrical test as a subsequent processing step. Can do. In this regard, conventionally, a reversing device is provided outside the chamber and the reversing is performed, and the device has moved up and down from a predetermined temperature with the passage of time outside the chamber. According to the present embodiment, it is possible to perform an electrical test with high accuracy while keeping the device at a predetermined temperature without such a situation.

また、分離テーブル3に、デバイスの受取り位置R1と受渡し位置のR2とを二つ設け、さらにこれらの位置の中点を、ターンテーブルTと分離テーブル3との中心を結んだ線上に位置させた。また、電気テストのためのデバイスの向きの変更角度を、受取り位置R1と受渡し位置R2との、ターンテーブルTの中心に対する配置角度と、分離テーブル3の中心に対する配置角度との和とした。これにより、ターンテーブルTのノズル位置と、分離テーブル3の載置位置とを組み合わせるという、より簡易な構成で、デバイスの向きを所望の角度に変更することができる。   Further, the separation table 3 is provided with two device receiving positions R1 and delivery positions R2, and the midpoint of these positions is positioned on a line connecting the centers of the turntable T and the separation table 3. . In addition, the change angle of the orientation of the device for the electrical test is the sum of the arrangement angle of the receiving position R1 and the delivery position R2 with respect to the center of the turntable T and the arrangement angle with respect to the center of the separation table 3. Thereby, the direction of the device can be changed to a desired angle with a simpler configuration in which the nozzle position of the turntable T and the mounting position of the separation table 3 are combined.

(4)他の実施形態
本発明は、第1の実施形態において示した態様に限られるものではなく、例えば次のような態様も含むものである。上記実施形態においては、ドラム2において、収納レール21を円環状として略真円形に配置しているが、本発明においては、例えば、収納レールを楕円状に配置するなど、収納レールを回転させてソーク時間を確保するような構成であれば、円環状配置の意義は真円に限られるものではない。また、配置する収納レールの長さ及び数は、設計事項であり、テストハンドラの処理時間や、デバイスの加熱又は冷却時間に応じて適宜変更可能である。
(4) Other Embodiments The present invention is not limited to the aspect shown in the first embodiment, and includes, for example, the following aspects. In the above embodiment, in the drum 2, the storage rail 21 is arranged in a substantially true circle as an annular shape. However, in the present invention, for example, the storage rail is arranged in an elliptical shape, and the storage rail is rotated. As long as the soak time is ensured, the significance of the annular arrangement is not limited to a perfect circle. Further, the length and number of storage rails to be arranged are design matters, and can be appropriately changed according to the processing time of the test handler and the heating or cooling time of the device.

また、ドラムの収納レールを円環状に保持する支持部材については、上記実施形態のような構成に限られず、例えば、図6に示すドラム20のように、プーリーにベルトを配しこのベルト上に収納レールを固定した構成など、やはり収納レールを回転させてソーク時間を確保できる構成であれば、いかなる構成を採用することも本発明の範囲に含まれる。このように、本発明では、収納レールを円環状に配置するに際し、目的や用途、装置の配置スペースに応じて様々な構成を採用することが可能となる。   Further, the support member for holding the drum storage rail in an annular shape is not limited to the configuration as in the above-described embodiment. For example, as in the drum 20 shown in FIG. Any configuration that can secure the soak time by rotating the storage rail, such as a configuration in which the storage rail is fixed, is also included in the scope of the present invention. As described above, in the present invention, when the storage rails are arranged in an annular shape, various configurations can be adopted according to the purpose, application, and arrangement space of the apparatus.

本実施形態においては、収納レールへのデバイスの挿入及び排出を押入れ部材23b又は押出し部材24bとより行っているが、本発明はこれに限らず、エアシュートや振動搬送など公知のあらゆる搬送方法を採用可能である。例えば、収納レールからのデバイスの排出は、ターンテーブルT側に傾け、デバイスの自重によって、テストハンドラHの排出位置Y方向に移動するように構成することも可能である。   In this embodiment, the device is inserted into and discharged from the storage rail by the push-in member 23b or the push-out member 24b. However, the present invention is not limited to this, and any known transfer method such as air chute or vibration transfer can be used. It can be adopted. For example, the device can be discharged from the storage rail by tilting toward the turntable T and moving in the discharge position Y direction of the test handler H by the weight of the device.

本発明の実施形態における高低温化テストハンドラの全体構成を示す平面模式図(a)及び側面模式図(b)。The plane schematic diagram (a) and side surface schematic diagram (b) which show the whole structure of the low temperature test handler in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における高低温化ユニットの全体構成を示す斜視図(a)及び平面図(b)。The perspective view (a) and top view (b) which show the whole structure of the high temperature reduction unit in embodiment of this invention. 本発明の実施形態におけるドラムの構成を示す側断面図(a)及び斜視図(b)。The side sectional view (a) and perspective view (b) which show the composition of the drum in the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態におけるドラムの構成部材を示す斜視図。The perspective view which shows the structural member of the drum in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における分離テーブルの構成を示す部分拡大図(a)及び従来の分離テーブルを示す部分拡大図(b)。The partial enlarged view (a) which shows the structure of the separation table in embodiment of this invention, and the partial enlarged view (b) which show the conventional separation table. 本発明の他の実施形態におけるドラムの構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of the drum in other embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…高低温化ユニット
2…ドラム
3…分離テーブル
4…高低温化部
11…高温化ユニット
12…低温化ユニット
13…高温テスト装置
14…高温テスト装置
21…収納レール
21a…収納レール
21b…収納レール
21c…退避レール
22…支持部材
23a…ステージ
23b…押入れ部材
24a…エスケープ
24b…押出し部材
24c…支持部
30…分離テーブル
B…ボールネジ
C…デバイス
H…(高低温)テストハンドラ
M1,M2…モータ
N…ノズル
O…回転軸
R1…受取り位置
R2…受渡し位置
T…ターンテーブル
X…受取り位置
Y…受渡し位置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... High temperature reduction unit 2 ... Drum 3 ... Separation table 4 ... High temperature reduction part 11 ... High temperature unit 12 ... Low temperature unit 13 ... High temperature test device 14 ... High temperature test device 21 ... Storage rail 21a ... Storage rail 21b ... Storage Rail 21c ... Retraction rail 22 ... Support member 23a ... Stage 23b ... Pushing member 24a ... Escape 24b ... Pushing member 24c ... Supporting part 30 ... Separating table B ... Ball screw C ... Device H ... (High / low temperature) Test handlers M1, M2 ... Motor N ... Nozzle O ... Rotating shaft R1 ... Receiving position R2 ... Delivery position T ... Turntable X ... Receiving position Y ... Delivery position

Claims (11)

電子部品や半導体装置等のデバイスを、各種工程処理を施す工程処理装置を備えた搬送装置から受け取り、当該デバイスを所定の加熱又は冷却手段により加熱又は冷却して、前記搬送装置へ順次受け渡す高低温化ユニットであって、
前記搬送装置からデバイスを受け取る受取り位置と、受け取ったデバイスを搬送して複数収納する搬送路と、前記搬送装置へデバイスを受け渡す受渡し位置と、を備えた収納レールと、前記収納レールを複数所定間隔で円環状に配置し保持する支持部と、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段と、を備えたドラムと、
前記ドラムの受渡し位置から、前記搬送装置へ受け渡されたデバイスを受取り、デバイスの向きを変える方向変更装置と、
を備えたことを特徴とする高低温化ユニット。
A device such as an electronic component or a semiconductor device is received from a transport apparatus equipped with a process processing apparatus that performs various process processes, and the device is heated or cooled by a predetermined heating or cooling means, and sequentially transferred to the transport apparatus. A low temperature unit,
A receiving rail that receives a device from the transfer device, a transfer path that transfers and stores a plurality of received devices, a delivery position that delivers the device to the transfer device, and a plurality of the storage rails A drum provided with a support portion arranged and held in an annular shape at intervals, and a driving means for intermittently rotating the plurality of storage rails arranged in an annular shape via the support portion;
A direction changing device for receiving a device delivered to the transport device from a delivery position of the drum and changing a direction of the device;
A low temperature reduction unit characterized by comprising
前記加熱手段は、前記ドラム又はドラム近傍にヒータを備えるか、又は前記ユニット全体を高温雰囲気のチャンバ内に設けてなることを特徴とする請求項1に記載の高低温化ユニット。   The high-temperature reduction unit according to claim 1, wherein the heating unit includes a heater in the drum or in the vicinity of the drum, or the entire unit is provided in a chamber in a high-temperature atmosphere. 前記冷却手段は、前記ドラム又はドラム近傍に冷却素子を備えるか、又は前記ユニット全体を冷却雰囲気のチャンバ内に設けてなることを特徴とする請求項1又は2記載の高低温化ユニット。   The high temperature reduction unit according to claim 1 or 2, wherein the cooling means includes a cooling element in the drum or in the vicinity of the drum, or the entire unit is provided in a cooling atmosphere chamber. 前記支持部材は、前記円環状に配置された収納レールを両端において内周面において保持する円盤からなり、
前記円盤の中心に回転軸が設けられ、
前記駆動手段は、前記回転軸を回転させるものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の高低温化ユニット。
The support member is a disk that holds the storage rails arranged in an annular shape on the inner peripheral surface at both ends,
A rotation axis is provided at the center of the disk;
The high temperature reduction unit according to any one of claims 1 to 3, wherein the driving means rotates the rotating shaft.
前記支持部材は、プーリーとこのプーリーに掛けられるベルトとからなり、
前記収納レールは、前記ベルトに所定間隔で配置され、
前記駆動手段は、前記プーリーの回転軸を回転させるものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の高低温化ユニット。
The support member includes a pulley and a belt hung on the pulley,
The storage rails are arranged at predetermined intervals on the belt,
The high temperature reduction unit according to any one of claims 1 to 3, wherein the driving unit rotates a rotation shaft of the pulley.
半導体装置又は電子部品等のデバイスを保持する保持部を円周等配位置に備えたターンテーブルと、前記ターンテーブルの円周等配位置にデバイスの外観検査、電気特性検査、テーピング梱包等の各種処理工程を行う工程処理部とを備え、前記ターンテーブルを間欠回転させて前記保持部を、各工程処理部を停止位置として搬送する高低温化テストハンドラであって、
前記搬送装置に設けられた保持部からデバイスを受け取り、このデバイスを加熱又は冷却して前記保持機構へ順次受け渡す高温化又は低温化あるいはその両方の機能を備えた高低温化ユニットを、前記一工程処理部として備え、
前記高低温化ユニットは、
前記搬送装置からデバイスを受け取る位置と、受け取ったデバイスを搬送して複数収納する搬送路と、前記搬送装置へデバイスを受け渡す位置と、を備えた収納レールと、前記収納レールを複数所定間隔で円環状に配置し保持する支持部と、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段と、を備えたドラムと、
前記ドラムの受渡し位置から、前記搬送装置へ受け渡されたデバイスを受取り、所定の中心から回転してデバイスの向きを変える方向変更装置と、
を備えたことを特徴とする高低温化テストハンドラ。
A turntable having a holding portion for holding a device such as a semiconductor device or an electronic component at a circumferentially equidistant position, and various types of device inspection, electrical characteristic inspection, taping packaging, etc. at the circumferentially equidistant position of the turntable. A high temperature test handler that includes a process processing unit that performs a processing process, intermittently rotates the turntable and conveys the holding unit with each process processing unit as a stop position,
A high temperature reduction unit having a function of increasing temperature or decreasing temperature or receiving both of the devices from a holding unit provided in the transfer device and sequentially transferring the devices to the holding mechanism. As a process processing unit,
The high temperature reduction unit is
A storage rail comprising a position for receiving a device from the transport apparatus, a transport path for transporting and storing a plurality of received devices, and a position for delivering the device to the transport apparatus, and a plurality of the storage rails at predetermined intervals. A drum comprising: a support part arranged and held in an annular shape; and a driving means for intermittently rotating the plurality of storage rails arranged in an annular shape via the support part;
A direction changing device that receives the device delivered to the transport device from the delivery position of the drum and rotates the device from a predetermined center to change the orientation of the device;
A low temperature test handler characterized by comprising
前記デバイスを加熱する手段は、前記ドラム又はドラム近傍にヒータを備えるか、又は前記ユニット全体を高温雰囲気のチャンバ内に設けてなることを特徴とする請求項6に記載の高低温化テストハンドラ。   7. The low temperature test handler according to claim 6, wherein the means for heating the device includes a heater near the drum or the drum, or the entire unit is provided in a chamber of a high temperature atmosphere. 前記デバイスを冷却する手段は、前記ドラム又はドラム近傍に冷却素子を備えるか、又は前記ユニット全体を冷却雰囲気のチャンバ内に設けてなることを特徴とする請求項6又は7記載の高低温化テストハンドラ。   8. The low temperature test according to claim 6, wherein the means for cooling the device includes a cooling element in the drum or in the vicinity of the drum, or the entire unit is provided in a chamber of a cooling atmosphere. handler. 前記方向変更装置は、前記ターンテーブルの隣り合う保持部の位置と一致する位置に、前記保持部からデバイスを受け取る受取位置と、受け渡す受渡位置をそれぞれ備え、さらに、前記受取位置と受渡位置とが前記方向変更装置の中心に対して成す角と、前記ターンテーブルの隣り合う保持部の前記ターンテーブル中心に対して成す角の和が、前記デバイスの向きを変える方向変更角度であることを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に記載の高低温化テストハンドラ。   The direction changing device includes a receiving position for receiving a device from the holding unit and a delivery position for delivering at a position that coincides with a position of an adjacent holding unit of the turntable, and the receiving position and the receiving position. The sum of the angle formed with respect to the center of the direction changing device and the angle formed with respect to the center of the turntable of adjacent holding portions of the turntable is a direction changing angle that changes the orientation of the device. The high temperature reduction test handler according to any one of claims 6 to 8. 前記高低温化ユニットでは、デバイスの電極を前記ターンテーブルの接線方向に平行に向けて前記収納レールに挿入するように構成され、
前記ターンテーブルにおける、前記高低温化ユニットの下流側で隣合う位置に、デバイスの電気特性を検査する電気特性検査装置が設けられ、この電気特性検査装置では、前記電極を前記ターンテーブルの半径方向に水平に向けて検査するように構成され、
前記方向変更装置は、前記高低温化ユニットから前記搬送装置へ受け渡されたデバイスを受取り、このデバイスの方向を90°変更して、前記搬送装置へ受渡すことを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項に記載の高低温化テストハンドラ。
In the high temperature reduction unit, the device electrode is configured to be inserted into the storage rail in a direction parallel to the tangential direction of the turntable,
In the turntable, an electrical property inspection device for inspecting the electrical property of the device is provided at a position adjacent to the downstream side of the high temperature reduction unit, and in this electrical property inspection device, the electrode is disposed in the radial direction of the turntable. Configured to inspect horizontally
The said direction change apparatus receives the device delivered to the said conveying apparatus from the said high temperature reduction unit, changes the direction of this device 90 degrees, and delivers to the said conveying apparatus. 10. The low temperature test handler according to any one of 9 above.
前記保持部は、前記ターンテーブルに対して10°置きに36箇所設けられ、
前記受取位置と受渡位置とが前記方向変更装置の中心に対して成す角が80°であることを特徴とする請求項6〜10のいずれか1項に記載の高低温化テストハンドラ。
The holding portion is provided at 36 places every 10 ° with respect to the turntable,
11. The low temperature test handler according to claim 6, wherein an angle formed by the receiving position and the delivery position with respect to the center of the direction changing device is 80 degrees.
JP2007314084A 2007-12-04 2007-12-04 Cryogenic unit and Cryogenic test handler Expired - Fee Related JP4941988B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007314084A JP4941988B2 (en) 2007-12-04 2007-12-04 Cryogenic unit and Cryogenic test handler

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007314084A JP4941988B2 (en) 2007-12-04 2007-12-04 Cryogenic unit and Cryogenic test handler

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009139157A true JP2009139157A (en) 2009-06-25
JP4941988B2 JP4941988B2 (en) 2012-05-30

Family

ID=40869917

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007314084A Expired - Fee Related JP4941988B2 (en) 2007-12-04 2007-12-04 Cryogenic unit and Cryogenic test handler

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4941988B2 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012078135A (en) * 2010-09-30 2012-04-19 Sharp Corp Conveyance inspection device, taping device, and conveyance inspection method
JP2012116621A (en) * 2010-11-30 2012-06-21 Ueno Seiki Kk Transport mechanism of electronic component, and electronic component inspection device including the same
JP2013217749A (en) * 2012-04-09 2013-10-24 Akim Kk Temperature characteristic measuring apparatus and temperature characteristic measuring method
JP5404899B1 (en) * 2012-12-06 2014-02-05 株式会社上野精機長野 Parts inspection device
KR101523749B1 (en) * 2014-03-31 2015-05-29 (주)에이티테크놀러지 Apparatus for Electric Inspecting PCB in High Temperature
JP5865470B1 (en) * 2014-11-28 2016-02-17 上野精機株式会社 Electronic component conveyor
CN109865675A (en) * 2019-03-23 2019-06-11 江西师范大学 A kind of electronic component surface detection apparatus
CN110328161A (en) * 2019-08-07 2019-10-15 深圳市诺泰自动化设备有限公司 A kind of the high and low temperature test integrated machine for sorting
CN113655087A (en) * 2021-08-18 2021-11-16 雄芯光电科技有限责任公司 Conductive adhesive testing device
CN115754652A (en) * 2022-11-14 2023-03-07 惠州深科达半导体科技有限公司 Test equipment and material test method

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59225542A (en) * 1983-05-23 1984-12-18 デイマ−ク・コ−ポレイシヨン Storage device for integrated circuit testing equipment
JPH03155146A (en) * 1989-11-14 1991-07-03 Kuwano Denki Kk Pool apparatus for electronic components
JPH05160244A (en) * 1991-05-13 1993-06-25 Goldstar Electron Co Ltd Preheater for semiconductor element
JPH05180898A (en) * 1991-12-27 1993-07-23 Hitachi Electron Eng Co Ltd Temperature control method for low temperature handler
JPH06118130A (en) * 1992-10-01 1994-04-28 Hitachi Electron Eng Co Ltd Ic handler device
JPH09263326A (en) * 1996-03-27 1997-10-07 Advantest Corp Ic carrying device for testing ic
JPH1073626A (en) * 1996-08-29 1998-03-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Inspection system
JP2002214283A (en) * 2001-01-19 2002-07-31 Murata Mfg Co Ltd Electronic component characteristics measuring device and selecting device
JP2008164595A (en) * 2006-12-05 2008-07-17 Ueno Seiki Kk Apparatus for raising/lowering temperature, and high and low temperature test handler

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59225542A (en) * 1983-05-23 1984-12-18 デイマ−ク・コ−ポレイシヨン Storage device for integrated circuit testing equipment
JPH03155146A (en) * 1989-11-14 1991-07-03 Kuwano Denki Kk Pool apparatus for electronic components
JPH05160244A (en) * 1991-05-13 1993-06-25 Goldstar Electron Co Ltd Preheater for semiconductor element
JPH05180898A (en) * 1991-12-27 1993-07-23 Hitachi Electron Eng Co Ltd Temperature control method for low temperature handler
JPH06118130A (en) * 1992-10-01 1994-04-28 Hitachi Electron Eng Co Ltd Ic handler device
JPH09263326A (en) * 1996-03-27 1997-10-07 Advantest Corp Ic carrying device for testing ic
JPH1073626A (en) * 1996-08-29 1998-03-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Inspection system
JP2002214283A (en) * 2001-01-19 2002-07-31 Murata Mfg Co Ltd Electronic component characteristics measuring device and selecting device
JP2008164595A (en) * 2006-12-05 2008-07-17 Ueno Seiki Kk Apparatus for raising/lowering temperature, and high and low temperature test handler

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012078135A (en) * 2010-09-30 2012-04-19 Sharp Corp Conveyance inspection device, taping device, and conveyance inspection method
JP2012116621A (en) * 2010-11-30 2012-06-21 Ueno Seiki Kk Transport mechanism of electronic component, and electronic component inspection device including the same
JP2013217749A (en) * 2012-04-09 2013-10-24 Akim Kk Temperature characteristic measuring apparatus and temperature characteristic measuring method
JP5404899B1 (en) * 2012-12-06 2014-02-05 株式会社上野精機長野 Parts inspection device
KR101523749B1 (en) * 2014-03-31 2015-05-29 (주)에이티테크놀러지 Apparatus for Electric Inspecting PCB in High Temperature
JP5865470B1 (en) * 2014-11-28 2016-02-17 上野精機株式会社 Electronic component conveyor
CN109865675A (en) * 2019-03-23 2019-06-11 江西师范大学 A kind of electronic component surface detection apparatus
CN109865675B (en) * 2019-03-23 2023-06-13 江西师范大学 Electronic component surface detection device
CN110328161A (en) * 2019-08-07 2019-10-15 深圳市诺泰自动化设备有限公司 A kind of the high and low temperature test integrated machine for sorting
CN113655087A (en) * 2021-08-18 2021-11-16 雄芯光电科技有限责任公司 Conductive adhesive testing device
CN115754652A (en) * 2022-11-14 2023-03-07 惠州深科达半导体科技有限公司 Test equipment and material test method

Also Published As

Publication number Publication date
JP4941988B2 (en) 2012-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4941988B2 (en) Cryogenic unit and Cryogenic test handler
JP4999002B2 (en) High temperature reduction device and test handler equipped with high temperature reduction device
JP2008164595A (en) Apparatus for raising/lowering temperature, and high and low temperature test handler
JP5288465B2 (en) High temperature reduction device and test handler equipped with high temperature reduction device
TWI480560B (en) Handling system for testing electronic components and method for testing electronic components
TW201026584A (en) Transfer apparatus for handling electronic components
TWI534437B (en) Electronic device testing equipment for integrated high and low temperature test and its detection method
TWI260755B (en) System for processing electronic devices
US6967475B2 (en) Device transfer mechanism for a test handler
TWI555687B (en) Electronic component handling device
US20170010323A1 (en) Semiconductor Wafer Inspection Apparatus And Semiconductor Wafer Inspection Method
TWI605004B (en) Electronic component transporting device
JP2006317346A (en) Probing system and prober
WO2014045803A1 (en) Bonding system, bonding method, and computer storage medium
CN112394207A (en) Probe apparatus and method for pre-cooling probe card
JP5916025B1 (en) Electrical property test equipment
KR20200050053A (en) Apparatus for processing a semiconductor device
JP2010175287A (en) Apparatus and method for inspecting electronic device
JP5339396B1 (en) Electronic component conveyor
JP2015105932A (en) Electronic component conveyance device and electronic component measuring device
JP5382688B2 (en) High / low temperature test unit, test handler with high / low temperature test unit, and control method and control program for high / low temperature test unit
WO2013186838A1 (en) Temperature regulating device and electronic component transport device
JP2003292150A (en) Device and method for handling electronic component
JP7007677B1 (en) Electronic component inspection equipment
JP2022068992A (en) Inspection device and probe polishing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101126

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120209

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120214

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120222

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4941988

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150309

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150309

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150309

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees