JP2009135521A - バルク化学物質供給システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも1つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターを含み、各マニホールド・ボックスが少なくとも2つの流出ラインを有し、各流出ラインが二次キャニスターと接続している、バルク化学物質供給システム。代表的な実施例においては、バルク化学物質キャニスターは200リットルの容量を有するが、これに限定されるものではない。また、キャニスターおよび輸送/格納カートから化学物質を供給するのに使用するための新規なマニホールドが開示される。
【選択図】図1
Description
(態様1) 少なくとも1つのマニホールド・ボックスに接続されたバルク化学物質キャニスターを有して成る、バルク化学物質の供給システムであって、各マニホールド・ボックスは、少なくとも2つの流出ラインを有し、少なくとも1つの流出ラインは2次キャニスターにつながる供給システム。
(態様2) 各2次キャニスターは、プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっているラインにつながる態様1に記載のシステム。
(態様3) システムを通過する化学物質の流れをコントロールするプログラム可能なコントローラーを更に有して成る態様1に記載のシステム。
(態様4) 各2次キャニスターは、キャビネット内に収容され、2またはそれ以上のキャニスターが適宜キャビネット内に収容されていてよい態様1に記載のシステム。
(態様5) バルク・キャニスターは、少なくとも約200リットルの容量を有する態様1に記載のシステム。
(態様6) バルク・キャニスターは、輸送カート内に収容されている態様1に記載のシステム。
(態様7) 少なくとも1つの2次キャニスターは、プロセス・ツールに接続される態様1に記載のシステム。
(態様8) システムは、微量金属を含まない、99.9999%またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケートである化学物質を含む態様1に記載のシステム。
(態様9) システムは、微量金属を含まない、99.9999%またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である化学物質を含む態様1に記載のシステム。
(態様10) 第1バルク・キャニスターが化学物質を供給しない時、少なくとも1つのバルブ・マニホールド・ボックスに化学物質を供給する第2バルク・キャニスターを更に有して成る態様1に記載のシステム。
(態様11) バルク・キャニスターおよびマニホールド・ボックスにつながる第1供給マニホールドを更に有して成り、バルク・キャニスターおよび第1供給マニホールドはキャビネット内に収容されている態様1に記載のシステム。
(態様12) バルク・キャニスターは、少なくとも1つのプロセス・ツール、2次キャニスターまたはこれらの組み合わせにも直接つながっている態様1に記載のシステム。
(態様13) バルク・キャニスターは、キャビネット内に収容されている輸送および格納カート内に収容される態様1に記載のシステム。
(態様14) 分配マニホールドに接続されるバルク化学物質キャニスターを収容するキャビネット;少なくとも1つの分配マニホールドにつながる少なくとも1つのマニホールド・ボックスを有して成り、マニホールド・ボックスは少なくとも2つの流出ラインを含み、少なくとも1つの流出ラインは、第2分配マニホールドに接続され、かつ、2次キャビネット内に収容される2次キャニスターに接続される、バルク化学物質供給システム。
(態様15) 少なくとも1つの2次キャニスターは、プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっているラインにつながる態様14に記載のシステム。
(態様16) システムを通過する化学物質の流れをコントロールするプログラム可能なコントローラーを更に有して成る態様14に記載のシステム。
(態様17) バルク・キャニスターは、少なくとも約200リットルの容量を有する態様14に記載のシステム。
(態様18) バルク・キャニスターは、輸送カート内に収容されている態様14に記載のシステム。
(態様19) 少なくとも1つの2次キャニスターは、プロセス・ツールに接続されている態様14に記載のシステム。
(態様20) システムは、微量金属を含まない、99.9999%またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケートである化学物質を含む態様14に記載のシステム。
(態様21) システムは、微量金属を含まない、99.9999%またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である化学物質を含む態様14に記載のシステム。
(態様22) 電子デバイスの製造に用いるプロセス・ツールに化学物質を供給するのに有用である方法であって、
バルク・キャニスターにより化学物質を供給するバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質を供給する2次キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含む方法。
(態様23) バルク・キャニスターは、約200リットルの容量を有し、2次キャニスターはバルク・キャニスターより小さい容量を有する態様22に記載の方法。
(態様24) 化学物質は、テトラエチルオルトシリケートである態様22に記載の方法。
(態様25) 第2バルク・キャニスターが、バルブ・マニホールド・ボックスに化学物質を適宜供給する態様23に記載の方法。
(態様26) 第1バルク・キャニスターを供給し(または提供し、もしくは設け)、それぞれが少なくとも2つの出口(または流出口)を有する少なくとも2つのバルブ・マニホールド・ボックスに第1バルク・キャニスターを接続すること;
プロセス・ツールに化学物質を供給するようになっている2次キャニスターに少なくとも1つの出口を接続すること
を含むバルク化学物質を供給するシステムを製造する方法。
(態様27) バルク・キャニスターから化学物質が供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質が供給される第2キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含む、電子デバイスの製造方法。
(態様28) 分配マニホールドを介してバルク・キャニスターからバルブマニホールド・ボックスに化学物質が供給され、第2分配マニホールドを介して第2キャニスターからプロセス・ツールに化学物質が供給される態様27に記載の方法。
(態様29) 化学物質は、微量金属を含まない、99.9999%またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である態様27に記載の方法。
(態様30) 化学物質は、微量金属を含まない、99.9999%またはそれ以上のテトラエチルオルトシリケート、トリエチルホスフェート、トリメチルフォスファイト、トリメチルボレート、チタニウムテトラクロライドまたはタンタル化合物である態様28に記載の方法。
(態様31) 態様27に記載の方法により製造される電子デバイス。
(態様32) 態様28に記載の方法により製造される電子デバイス。
(態様33) 態様29に記載の方法により製造される電子デバイス。
(態様34) 態様30に記載の方法により製造される電子デバイス。
(態様35) 化学物質を含むキャニスターの補充に使用するマニホールドであって、
(1)真空供給バルブ;
(2)真空発生器;
(3)圧力ベント・バルブ;
(4)キャリヤーガス遮断バルブ;
(5)バイパス・バルブ;
(6)プロセス・ライン遮断バルブ;
(7)コントロール・バルブ;
(8)キャニスター入口バルブ;
(9)キャニスター出口バルブ
を有して成り、
真空供給バルブは真空発生器に接続され、
真空発生器は、圧力ベント・バルブおよびコントロール・バルブに接続され、
キャリヤーガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、
バイパス・バルブは、遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続されているマニホールド。
(態様36) バルブは空気により作動する態様35に記載のマニホールド。
(態様37) バルブはステンレススチール配管により接続され、バルブはステンレススチール製である態様35に記載のマニホールド。
(態様38) キャリヤーガス遮断バルブは、不活性ガス源にも接続されている態様35に記載のマニホールド。
(態様39) キャニスター入口バルブおよびキャニスター出口バルブは空気により作動するバルブである態様35に記載のマニホールド。
(態様40) 真空供給バルブは真空発生器に接続されている態様35に記載のマニホールド。
(態様41) 液体化学物質を含む2つのキャニスターを再充填可能に接続するのに有用なマニホールドであって、
真空発生器に接続される真空供給バルブ、
真空発生器およびガス入口バルブに接続される圧力ベント・バルブ、
真空発生器に接続されるコントロール・バルブ、
キャリヤーガス遮断バルブはバイパス・バルブにも接続されており、
キャニスター出口バルブおよびバイパス・バルブに接続されるプロセス・ライン遮断バルブ、ならびに
バイパス・バルブ、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続されるキャニスター入口バルブ
を含んで成るマニホールド。
(態様42) バルブは空気により作動する態様41に記載のマニホールド。
(態様43) バルブはステンレススチール配管により接続され、バルブはステンレススチール製である態様41に記載のマニホールド。
(態様44) 真空供給バルブは真空源に接続される態様41に記載のマニホールド。
(態様45) キャリヤーガス遮断バルブは、不活性ガス源に更に接続される態様41に記載のマニホールド。
(態様46) 真空供給バルブは第2マニホールドに更に接続される態様41に記載のマニホールド。
(態様47) マニホールドは、圧力ベント・バルブ、真空発生器およびコントロール・バルブを接続する第1T字継手を含む態様41に記載のマニホールド。
(態様48) 第2T字管が、キャニスター入口バルブおよびキャニスター出口バルブに直接的にまたは間接的に接続される態様41に記載のマニホールド。
(態様49) マニホールドにキャニスターを接続する方法であって、
キャニスターの取付部品(または取付部)をマニホールドの取付部品(または取付部)に接続し、それによって供給システムを提供すること、および供給システムから空気および水を除去(またはパージ)することを含んで成り、マニホールドは、
真空供給バルブ;
真空発生器;
圧力ベント・バルブ;
キャリヤーガス遮断バルブ;
バイパス・バルブ;
プロセス・ライン遮断バルブ;
コントロール・バルブ;
キャニスター入口バルブ;
キャニスター出口バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは、真空発生器に接続され、
真空発生器は、圧力ベント・バルブおよびコントロール・バルブに接続され、
ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、
バイパス・バルブは、プロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続される方法。
(態様50) マニホールドを製造する方法であって、
真空供給バルブ、真空発生器、圧力ベント・バルブ、キャリヤーガス遮断バルブ、バイパス・バルブ、プロセス・ライン遮断バルブ、コントロール・バルブ、およびキャニスター入口バルブを供給(または提供し、もしくは設け)すること、
真空供給バルブは、真空発生器に接続され、真空発生器は、圧力ベント・バルブおよびコントロール・バルブに接続され、ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、バイパス・バルブは、プロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され、遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され、キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続されるように、バルブをラインと接続すること
を含んで成る方法。
(態様51) 化学物質を含むキャニスターをリフィルする場合に使用するマニホールドであって、
(1)真空供給バルブ;
(2)真空発生器;
(3)キャリヤーガス遮断バルブ;
(4)バイパス・バルブ;
(5)プロセス・ライン遮断バルブ;
(6)コントロール・バルブ;
(7)キャニスター入口バルブ;
(8)キャニスター出口バルブ
を有して成り;
真空供給バルブは、真空発生器に接続され;
真空発生器は、コントロール・バルブに接続され;
キャリヤーガス遮断バルブは、バイパス・バルブに接続され;
バイパス・バルブは、プロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続され;
プロセスライン遮断バルブは、キャニスター出口バルブにも接続され;
キャニスター入口バルブは、コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続される;
マニホールド。
(態様52) 化学物質を含むキャニスターのリフィルに使用するマニホールドの製造方法であって、
(1)真空供給バルブを供給する(または提供する、もしくは設ける、以下本態様において同様)こと;
(2)真空発生器を供給すること;
(3)キャリヤーガス遮断バルブを供給すること;
(4)バイパス・バルブを供給すること;
(5)プロセス・ライン遮断バルブを供給すること;
(6)コントロール・バルブを供給すること;
(7)キャニスター入口バルブを供給すること;
(8)キャニスター出口バルブを供給すること;
真空供給バルブを真空発生器に接続すること;
真空発生器をコントロール・バルブに接続すること;
キャリヤーガス遮断バブルをバイパス・バルブに接続すること;
バイパス・バルブをプロセス・ライン遮断バルブおよびキャニスター入口バルブに更に接続すること;
遮断バルブをキャニスター出口バルブに更に接続すること;
キャニスター入口バルブをコントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブに接続すること;
を含んで成る方法。
Claims (11)
- バルク・キャニスターから化学物質が供給されるバルブ・マニホールド・ボックスから化学物質が供給される第2キャニスターからプロセス・ツールに化学物質を供給することを含む、電子デバイスの製造方法。
- プロセス・ツールに化学物質を供給するように構成されたバルク化学物質供給システムであって、該システムはリフィル・キャニスターおよび他のキャニスターを含んで成り、
第1操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターは、該他のキャニスターに化学物質を供給するように構成されており、かつ該他のキャニスターは、該プロセス・ツールに化学物質を供給するように構成されており、および
第2操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターは、該他のキャニスターを通じることなく、該プロセス・ツールに化学物質を送給するように構成されている、システム。 - プロセス・ツールに化学物質を、リフィル・キャニスターからおよび他のキャニスターから交互に供給するのに有用な方法であって:
第1操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターから該他のキャニスターに、そして該他のキャニスターから該プロセス・ツールに化学物質を供給すること;および
第2操作モードにおいて、該リフィル・キャニスターから、該他のキャニスターを通じることなく直接にプロセス・ツールに化学物質を供給すること
を含む方法。 - 化学物質を含むキャニスターの補充に使用するマニホールドであって、該マニホールドは、
(a)真空供給バルブ;
(b)真空源;
(c)圧力ベント・バルブ;
(d)キャリヤーガス遮断バルブ;
(e)キャニスター・バイパス・バルブ;
(f)プロセス・ライン遮断バルブ;
(g)第1コントロール・バルブ;
(h)キャニスター入口バルブ;
(i)キャニスター出口バルブ;
(j)第2コントロール・バルブ;および
(k)第3コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、
真空源は、圧力ベント・バルブおよび第1コントロール・バルブに接続され、
第1コントロール・バルブは第2コントロール・バルブにつながり、
キャリヤーガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブおよびキャニスター・バイパス・バルブに接続され、
キャニスター・バイパス・バルブは、キャリヤーガス遮断バルブおよび第2コントロール・バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは、第3コントロール・バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、第2コントロール・バルブおよび第3コントロール・バルブに接続され、および
キャニスター出口バルブは、第3コントロール・バルブに更に接続される、マニホールド。 - 化学物質を含むキャニスターの補充に使用するマニホールドであって、該マニホールドは、
(a)真空供給バルブ;
(b)真空源;
(c)圧力ベント・バルブ;
(d)ガス入口バルブ;
(e)バイパス・バルブ;
(f)遮断バルブ;
(g)第1コントロール・バルブ;
(h)キャニスター入口バルブ;
(i)キャニスター出口バルブ;
(j)第2コントロール・バルブ;および
(k)第3コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、
真空源は、圧力ベント・バルブおよび第1コントロール・バルブに接続され、
第1コントロール・バルブは第2コントロール・バルブにつながり、
ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、
バイパス・バルブは、遮断バルブおよび第2コントロール・バルブに更に接続され、
遮断バルブは、第3コントロール・バルブにも接続され、
キャニスター入口バルブは、第2コントロール・バルブおよび第3コントロール・バルブに接続され、および
キャニスター出口バルブは、第3コントロール・バルブに更に接続される、マニホールド。 - 液体化学物質を含む2つのキャニスターを再充填可能に接続するのに有用なマニホールドであって、該マニホールドは、
真空源に接続される真空供給バルブ;
真空源およびガス入口バルブに接続される圧力ベント・バルブ;および
真空源に接続される第1コントロール・バルブ
を含んで成り、
ガス入口バルブは、バイパス・バルブにも接続され、
第2コントロール・バルブが、第1コントロール・バルブおよびバイパス・バルブならびにキャニスター入口バルブに接続され、
遮断バルブが、(a)第3コントロール・バルブおよびキャニスター出口バルブを含んで成るデュアル・アクチベーター・バルブに、および(b)バイパス・バルブに接続され、および
キャニスター入口バルブは、デュアル・アクチベーター・バルブに接続される、マニホールド。 - 真空供給バルブ、真空源、圧力ベント・バルブ、ガス入口バルブ、バイパス・バルブ、遮断バルブ、第1コントロール・バルブ、キャニスター入口バルブ、キャニスター出口バルブ、第2コントロール・バルブおよび第3コントロール・バルブを含んで成るマニホールドを製造する方法であって、
真空供給バルブは真空源に接続されるように、真空源は、圧力ベント・バルブおよび第1コントロール・バルブに接続されるように、第1コントロール・バルブは第2コントロール・バルブにつながるように、ガス遮断バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続されるように、バイパス・バルブは、遮断バルブおよび第2コントロール・バルブに更に接続されるように、遮断バルブは、第3コントロール・バルブにも接続されるように、キャニスター入口バルブは、第2コントロール・バルブおよび第3コントロール・バルブに接続されるように、およびキャニスター出口バルブは、第3コントロール・バルブに更に接続されるように、バルブをラインと接続することを含む方法。 - 少なくとも1つのマニホールド・ボックスに接続されるバルク化学物質キャニスターを含んで成る、バルク化学物質供給システムであって、各マニホールド・ボックスは、少なくとも2つの流出ラインを有し、少なくとも1つの流出ラインは2次キャニスターにつながり、バルク化学物質キャニスターは、キャビネット内に収容される輸送および格納カート内に収容され、2次キャニスターはバルク・キャニスターより小さい容量を有し、第1供給マニホールドがバルク・キャニスターおよびマニホールド・ボックスにつながり、バルク・キャニスターおよび第1供給マニホールドがキャビネットに収容される、システム。
- 半導体製造に使用するために化学物質をマニホールドからデバイスに提供するのに有用な方法であって、以下の工程(i)および(ii)を含む方法:
(i)キャニスターの取付部をマニホールドの取付部に接続し、これによって供給システムを提供することであって、該マニホールドは、
真空供給バルブ;
真空源;
圧力ベント・バルブ;
ガス入口バルブ;
キャニスター・バイパス・バルブ;
プロセスライン遮断バルブ;
第1コントロール・バルブ;
キャニスター入口バルブ;
キャニスター出口バルブ;
第2コントロール・バルブ;および
第3コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、真空源は、圧力ベント・バルブおよび第1コントロール・バルブに接続され、第1コントロール・バルブは第2コントロール・バルブにつながり、ガス入口バルブは、圧力ベント・バルブおよびバイパス・バルブに接続され、バイパス・バルブは、遮断バルブおよび第2コントロール・バルブに更に接続され、遮断バルブは、第3コントロール・バルブにも接続され、キャニスター入口バルブは、第2コントロール・バルブおよび第3コントロール・バルブに接続され、およびキャニスター出口バルブは、第3コントロール・バルブに更に接続され、キャニスター内の浸漬管がキャニスター出口バルブにつながり、ラインがプロセスライン遮断バルブをデバイスにつなげ、およびバルブ間の接続部がラインを含んで成ること;および
(ii)キャニスター内の圧力により化学物質の流れが生じて、化学物質が浸漬管を通ってキャニスターから出て、キャニスター出口バルブ、第3コントロール・バルブ、プロセスライン遮断バルブおよびラインを通ってデバイスへと流れるように、キャニスター内へ加圧ガスをキャニスター入口バルブを通じて導入すること。 - 1〜4つのマニホールド・ボックスに接続される第1バルク化学物質キャニスターを含んで成る、バルク化学物質供給システムであって、各マニホールド・ボックスは、少なくとも2つの流出ラインを有し、少なくとも1つの流出ラインは2次キャニスターにつながり、バルク・キャニスターが、キャビネット内に収容される輸送および格納カート内に収容され、2次キャニスターはバルク・キャニスターより小さい容量を有し、第1供給マニホールドがバルク・キャニスターおよびマニホールド・ボックスにつながり、バルク・キャニスターおよび第1供給マニホールドがキャビネットに収容されることを特徴とする、システム。
- 化学物質を含むキャニスターの補充に使用するためのマニホールドシステムであって、第1マニホールドを含んで成り、該第1マニホールドは、
真空供給バルブ;
真空源;
キャリヤーガス遮断バルブ;
キャニスター・バイパス・バルブ;
プロセス・ライン遮断バルブ;
第1コントロール・バルブ;
キャニスター入口バルブ;
キャニスター出口バルブ;
第2コントロール・バルブ;および
第3コントロール・バルブ
を含んで成り、
真空供給バルブは真空源に接続され、
真空源は第1コントロール・バルブに接続され、
第1コントロール・バルブは第2コントロール・バルブに接続され、
キャリヤーガス遮断バルブはキャニスター・バイパス・バルブに接続され、
キャニスター・バイパス・バルブは、キャリヤーガス遮断バルブおよび第2コントロール・バルブに更に接続され、
プロセス・ライン遮断バルブは第3コントロール・バルブに接続され、
キャニスター入口バルブは、第2コントロール・バルブおよび第3コントロール・バルブに接続され、および
キャニスター出口バルブは、第3コントロール・バルブに接続される、マニホールドシステム。
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