JP2009134025A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5640549B2 (ja) * 2010-08-19 2014-12-17 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルターの製造方法および光機器
JP5640659B2 (ja) * 2010-11-02 2014-12-17 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルターの製造方法、及び光機器
JP5630227B2 (ja) 2010-11-15 2014-11-26 セイコーエプソン株式会社 光フィルターおよび光フィルターの製造方法
JP5545190B2 (ja) * 2010-11-26 2014-07-09 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルターの製造方法
JP2012145675A (ja) * 2011-01-11 2012-08-02 Seiko Epson Corp 光フィルター、光フィルターの製造方法および光機器
JP5923912B2 (ja) * 2011-09-27 2016-05-25 セイコーエプソン株式会社 干渉フィルターの製造方法
JP6119325B2 (ja) * 2013-03-14 2017-04-26 セイコーエプソン株式会社 干渉フィルター、干渉フィルターの製造方法、光学モジュール、電子機器、及び接合基板
JP6264356B2 (ja) * 2015-11-02 2018-01-24 セイコーエプソン株式会社 光フィルター、光フィルターモジュール、分析機器及び光機器

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4185409B2 (ja) * 2002-06-27 2008-11-26 松下電器産業株式会社 光導波路の製造方法
JP3714338B2 (ja) * 2003-04-23 2005-11-09 ウシオ電機株式会社 接合方法
JP4742503B2 (ja) * 2004-02-27 2011-08-10 セイコーエプソン株式会社 成膜方法
JP4548245B2 (ja) * 2005-06-27 2010-09-22 セイコーエプソン株式会社 波長可変フィルタ

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