JP2009130093A - 超音波を利用した平板状物体の非接触支持方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】平板状物体を支持機構の下側で非接触支持することができ、また、支持機構と平板状物体との位置ずれを自動的に補正することができる平板状物体の非接触支持方法を提供する。
【解決手段】空気中において、超音波で励振される平坦な振動面２６の鉛直下方に、振動面２６の外形と略等しい外形の平坦面を有する平板状物体３０を、当該平坦面が振動面２６に平行するように配置し、振動面２６を超音波で面に垂直方向に励振して、振動面２６の近接位置に平板状物体３０を非接触状態で支持する。振動面２６の超音波振動により平板状物体３０に引力が働き、振動面２６の鉛直下方で平板状物体３０が非接触状態で支持される。振動面２６と平板状物体３０との中心位置がずれていても平板状物体３０に復元力が作用し、ずれが自動的に解消される。
【選択図】図２

Description

本発明は、半導体ウエハ等の平板状物体を非接触支持する方法と、その装置に関し、特に、平板状物体の非接触支持を、超音波を利用して実現したものである。

近年、半導体の薄型化が進み、現在では５０μｍ以下の薄さのウエハまで製造が可能になっている。しかし、こうしたウエハを製造ラインに乗せるためには、ウエハを拾い上げて所定位置まで搬送し、そこで解放する移送手段が必要になるが、現状では、それに適した手段が見つかっていない。
部品等の搬送には、従来から、部品等をノズルで真空吸着して搬送する方法が広く用いられている。しかし、この方法では、図１７に示すように、ノズル１００と部品１０１との水平方向の位置がずれていると（ａ）、ノズル１００を部品１０１の高さまで降下させて真空吸引を開始したときに（ｂ）、ノズル１００の吸着口が部品１０１により完全に塞がれず、そのため部品１０１の真空吸着に失敗する（ｃ）。
また、この方法では、ノズル１００の先端が搬送物に接触するため、機械的強度が弱い搬送物は、割れたり欠けたりする危険がある。

また、従来から、超音波を利用し、物体を浮揚させた状態で搬送する方法も検討されている。この方法は、超音波振動している振動面の上に物体を載せると、物体が振動面上で浮揚し、振動面と非接触の状態で物体が支持される現象を利用している。
しかし、この方法では、振動面の振動を止めたときに、物体が振動面の上に載ることになるため、搬送先で物体を振動面から下ろす作業が必要になる。

これに対して、下記特許文献１には、超音波で励振される振動面の下側で物体を支持することが可能な超音波吸引装置が記載されている。
この装置は、図１８（ａ）に示すように、電源１４と、超音波を発生する超音波発生ユニット１２と、超音波を放射する放射部材１３とを有し、放射部材１３の放射面（振動面）１３ａには凹部１３ｂが形成されている。一方、図１８（ｂ）に示すように、この装置１１で吸引される吸引対象物１５の中央には凸部１５ａが形成されている。
この放射部材１３の放射面１３ａを鉛直下方に向け、放射面１３ａの凹部１３ｂに吸引対象物１５の凸部１５ａが入り込むように吸引対象物１５を配置して、超音波発生ユニット１２から超音波を出力すると、吸引対象物１５は、放射部材１３に対して非接触状態で安定的に静止した、と特許文献１には報告されている。
特開２００３−２２６４２８号公報

特許文献１の装置は、超音波の吸引作用を利用して、吸引対象物を空気中で非接触支持することはできるが、しかし、この吸引対象物には、中央に凸部を設ける必要があるため、半導体ウエハ等の平板状物体の支持、搬送には使用できない。
また、この装置の場合、吸引対象物と放射部材との水平方向の位置がずれて、吸引対象物の凸部が放射部材の放射面に形成されている凹部の縁に掛かる状態であると、吸引対象物の吸引や安定した支持が期待できない。

本発明は、こうした状況を考慮して創案したものであり、平板状物体を支持機構の下側で非接触支持することができ、また、支持機構と平板状物体との位置ずれを自動的に補正することができる平板状物体の非接触支持方法を提供し、また、その装置を提供することを目的としている。

本発明の平板状物体の非接触支持方法は、空気中において、超音波で励振される平坦な振動面の鉛直下方に、前記振動面の外形と略等しい外形の平坦面を有する平板状物体を、当該平坦面が前記振動面に平行するように配置し、前記振動面を超音波で面に垂直方向に励振して、前記振動面の近接位置に前記平板状物体を非接触状態で支持することを特徴としている。
本発明者の実験に依れば、超音波で励振される振動面と平板状物体との距離が約２５μｍ以下では、平板状物体に対して斥力が働き、その距離が約３０μｍ〜２００μｍの範囲では平板状物体に引力が働き、２００μｍを超えると、平板状物体に作用する力が略ゼロになる。そのため、平板状物体は、超音波振動する振動面の鉛直下方で、振動面との間に引力が作用する距離を保ちながら、振動面に接触せずに支持される。

また、本発明の平板状物体の非接触支持方法は、前記平板状物体を非接触状態で支持することにより、前記振動面と前記平板状物体との水平方向の位置ずれを自動的に補正することを特徴としている。
平板状物体と振動面とが初期段階で水平方向にずれていても、超音波で吸引される平板状物体には、音響粘性力により、平板状物体の輪郭と振動面の輪郭とを一致させる復元力が働く。そのため、平板状物体が非接触支持された時点では、水平方向のずれが自動的に解消している（セルフセンタリング効果）。

また、本発明の平板状物体の非接触支持方法では、さらに、前記振動面と前記平板状物体との間に静電気による吸着力を作用させるようにしても良い。
この静電気の吸着力は、平板状物体への引力を増加させる。但し、平板状物体と振動面との接触は、超音波振動による斥力のために回避される。

この場合、振動面を帯電させて、平板状物体に逆極性の電荷を誘起させるようにしても良いし、あるいは、平板状物体を帯電させて、振動面に逆極性の電荷を誘起させるようにしても良い。
また、本発明の平板状物体の非接触支持方法は、剛性を有する物体や柔軟性を有する物体、あるいは、導体、半導体、絶縁体等の非接触支持に用いることができる。

また、本発明の非接触支持装置は、空気中で平板状物体を非接触支持する支持装置であって、交流電圧が印加されたときに超音波を発生する超音波発生手段と、前記超音波発生手段から発生される超音波で平坦な振動面が励振され、当該振動面の垂直方向に超音波を放射する超音波放射体と、前記超音波発生手段に印加される前記交流電圧の周波数を前記超音波発生手段の共振周波数に維持する共振周波数追従手段と、前記超音波発生手段から超音波が発生されていないとき、前記超音波放射体の振動面の外形と略等しい外形の平坦面を有する平板状物体を、前記振動面の鉛直下方で、前記平坦面が前記振動面と平行するように保持する保持体とを備え、前記超音波発生手段から超音波が発生されている間だけ、前記超音波放射体の振動面の近接位置に前記平板状物体を非接触状態で支持することを特徴としている。
この装置は、超音波振動する振動面の鉛直下方で平板状物体を安定的に非接触支持することができ、また、超音波の発生を停止すれば、平板状物体を支持から解放することができる。従って、この装置では、平板状物体の着脱が容易である。

また、本発明の非接触支持装置では、前記超音波放射体に静電吸着用の電極を設け、前記電極への電圧の印加により、前記超音波放射体と前記平板状物体との間で静電吸着力が作用するように構成しても良い。
こうすることで、平板状物体への引力を増やすことができ、より大きい質量の平板状物体の非接触支持が可能になる。

本発明によれば、空気中において、支持機構の下側で平板状物体を非接触支持することができ、また、支持機構と平板状物体との位置ずれを自動的に補正することができる（セルフセンタリング効果）。
この平板状物体の支持機構への着脱は、超音波の出力開始及び停止のタイミングで発生するため、本発明を搬送装置に適用すれば、平板状物体を所望の位置から指定された搬送先まで的確に搬送することが可能である。

本発明の実施形態について図面を基に説明する。
図１は、平板状物体の非接触支持装置の構成を示す模式図である。図２は、超音波振動が励起された振動面で平板状物体が非接触支持される様子を示す説明図であり、図３は、平板状物体が振動面の中心位置からずれている場合の説明図である。図４、図５及び図６は、この装置で実施した平板状物体の非接触支持の様子を示しており、図４は、非接触支持を開始する前の状態、図５は、非接触支持を実行中の状態、図６は、非接触支持開始前の状態であって、平板状物体が振動面の中心位置からずれている状態を示している。また図７は、超音波振動の共振周波数追従機能を備えた交流電源のブロック図である。

この装置は、図１に示すように、超音波発生ユニット２０から成る支持機構と、超音波振動子の共振周波数の交流電圧を出力する交流電源４０と、支持機構の非接触支持が開始されるまでの間、被支持物体である平板状物体３０を水平に保持するＺ軸ステージ３１とを有している。このＺ軸ステージ３１は、図の上下方向に平板状物体３０を移動することができる。
超音波発生ユニット２０は、２枚の環状圧電体２１、２２を金属ブロック２３でボルト締めしたボルト締めランジュバン型振動子に、固定用のフランジ２４と、先端にφ３ｍｍの振動面２６を有するホーン２５とを取付けたものであり、振動の節となる位置にフランジ２４が固定されている。
平板状物体３０には、外形がホーン２５の振動面２６と同じφ３ｍｍ、厚さが０．０５ｍｍ、質量が約１０ｍｇのＳＵＳ３０４製の円盤を用いている。
交流電源４０は、圧電体２１、２２に挟まれた電極、及び各圧電体２１、２２の外側に配置された電極に対して、振動子（圧電体２１、２２）の共振周波数に等しい周波数の交流電圧を印加する。この電圧が印加された圧電体２１、２２は縦振動モードで振動し、ホーン２５先端の振動面２６には、面に垂直な方向の超音波振動が励起される。

超音波発生ユニット２０で平板状物体を吸引すると、振動子（圧電体２１、２２）と一体のホーン先端の境界条件が変わるため、振動子の共振周波数が変化する。ホーン２５先端の振動面２６の振動振幅を保つためには、振動子の駆動周波数を振動子の共振周波数に一致させる必要がある。
交流電源４０は、振動子２１、２２を駆動する駆動周波数を振動子２１、２２の共振周波数に追従させるため、図７の構成を有している。
この回路は「振動子の印加電圧」と「振動子に流れる電流」との位相差に着目して、実際の振動子２１、２２の共振周波数と駆動周波数とのずれを検出する。即ち、駆動周波数が振動子の共振周波数に一致するときは、「振動子の印加電圧」に対する「振動子に流れる電流」の位相が定数であり、駆動周波数が共振周波数より低くなると、この位相が進み、逆に、駆動周波数が共振周波数より高くなると、この位相が遅れる。

図７の交流電源４０の回路は、駆動時の振動子２１、２２の印加電圧及び振動子２１、２２に流れる電流を矩形波に変換するコンパレータ４１と、変換された２つの矩形波の位相差から次回の周波数を決定するマイコン４２と、決定された周波数の駆動電圧を発振するダイレクトデジタルシンセサイザ(Direct digital synthesizer：ＤＤＳ)４３と、ＤＤＳ４３から出力された駆動電圧を増幅して振動子２１、２２に印加する増幅器４４とを備えている。

マイコン４２は、振動子２１、２２に印加された電圧と電流との矩形波のエッジ間の時間を計測して位相差φを求め、その位相差φから、次式により次回の駆動周波数を決定する。
ｆ_n+1 ＝ ｆ_n−Ｋ_p（φ_r−φ）
ここで、ｆ_nは現在の発振周波数、ｆ_n+1は次回の発振周波数であり、φ_rは駆動周波数が振動子の共振周波数に一致するときの位相差、Ｋ_pは比例ゲインである。
決定された周波数はＤＤＳ４３に送信され、この周波数がＤＤＳ４３から発振され、増幅器４４で増幅されて振動子２１、２２に印加される。この動作を駆動信号のあらかじめ設定された周期ごとに繰り返すことで、振動子２１、２２には、常に共振周波数に一致する周波数の交流が印加される。
この装置の共振周波数は、２１ＫＨｚ程度である。図８は、この装置において、振動子の駆動周波数が共振周波数に維持されているときの入力電圧（ピーク・ツー・ピーク電圧:Ｖ_p-p）と、振動子の振動振幅（ピーク・ツー・ピーク振幅:Ａ_p-p）との関係を示している。

超音波発生ユニット２０のホーン２５先端の振動面２６に、面に垂直な方向の超音波振動が励起されると、図２に示すように、振動面２６の鉛直下方には、平板状物体３０を引き付ける引力が発生し、この引力によって平板状物体３０が超音波発生ユニット２０に支持される。
図４は、超音波発生ユニット２０のホーン２５の真下に、振動面２６と平行になるように平板状物体３０を置き、超音波振動する振動面２６と平板状物体３０との距離を徐々に近付けたときの様子を示している。図４の状態は、平板状物体３０の非接触支持が開始する直前の状態、従って、平板状物体３０は未だＺ軸ステージ３１の上に載っている状態を示している。
この平板状物体３０と振動面２６との距離をさらに近付けると、平板状物体３０が振動面２６に吸込まれ、図５に示すように、平板状物体３０が非接触支持される。

図９は、振動子への入力電圧（Ｖ_p-p）に対する、非接触支持された平板状物体３０と振動面２６との距離（ギャップ）の関係を図示している。入力電圧が６０Ｖ_p-p、即ち、振動振幅が４μｍ_p-pに達すると、平板状物体３０が振動面２６に引き込まれる。このときの平板状物体３０と振動面２６とのギャップは４０μｍである。また、入力電圧（Ｖ_p-p）を更に増加させても、このギャップに変化は無い。このことから、非接触支持の場合の浮上距離（平板状物体３０と振動面２６とのギャップ）は、振動振幅に拠らないと言える。

また、図１０は、非接触支持されている平板状物体３０（円盤）の軸方向の時間的変位を示している。この変位はレーザ変位計を用いて測定した。図１０の横軸の１目盛は５ｍｓを表し、縦軸の１目盛は０．５μｍを表している。この図から、変位幅は凡そ３μｍであることが分かる。平板状物体３０と振動面２６とのギャップは４０μｍであるから、平板状物体３０は、軸方向の変位があっても、振動面２６に触れること無く、安定的に非接触支持される。

また、図１１は、振動面２６及び平板状物体３０間のギャップと、平板状物体３０に作用する力との関係を示している。また、図１２は、図１１の一部（ギャップが０から１００μmまでの範囲）を拡大して示している。この測定は、振動子の振動振幅（Ａ_p-p）を６．８μｍ及び９．８μｍに設定して実施している。
振動面２６及び平板状物体３０間のギャップが凡そ２５μｍ以下では、平板状物体３０に斥力が働き、そのギャップが凡そ３０μｍ〜２００μｍの範囲では平板状物体３０に引力が働き、２００μｍを超えると、平板状物体３０に作用する力が略ゼロになる。引力−斥力の境界点は、振動子の振動振幅（Ａ_p-p）が変わってもほぼ変化しない。また、引力が最大になるギャップは、凡そ４０μｍであり、これも振動子の振動振幅（Ａ_p-p）が変わっても変化しない。

このように、平板状物体３０に対し、４０μｍ前後のギャップで引力が作用し、このギャップが更に短くなると斥力が作用するため、平板状物体３０は、超音波振動する振動面２６の鉛直下方で、振動面２６との間に引力が作用する距離を保ちながら、振動面２６に接触すること無く、安定的に支持される。また、振動面２６の超音波振動が停止すると、平板状物体３０の非接触支持は直ちに解除され、平板状物体３０は、超音波発生ユニット２０の下方に離脱する。

また、図３に示すように、超音波発生ユニット２０のホーン２５先端の振動面２６と平板状物体３０とが水平方向にずれているときは、平板状物体３０の輪郭と振動面２６の輪郭とを一致させる復元力が働き、水平方向のずれが自動的に解消される。
この復元力は、超音波浮揚において解明されている音響粘性力に起因するものと考えられる。
実際に、図６に示すように、振動面２６と平板状物体３０との中心位置がずれた状態で平板状物体３０と振動面２６との距離を近付けると、平板状物体３０が振動面２６の中心に引き込まれて、図５の非接触支持の状態に移行する。

この「セルフセンタリング効果」の振動振幅への依存性を知るため、図１３に示すように、図１の装置を用いて、ホーン２５先端の振動面２６の中心位置と平板状物体３０の中心位置との水平方向の初期変位量を可変し、また、振動面２６の振動振幅を種々に設定して、平板状物体３０が振動面２６の中心に引き込まれるか否かを測定した。振動面２６及び平板状物体３０の外形はφ３ｍｍの円形である。
図１４は、この測定結果を示している。横軸は、初期設定した振動面２６及び平板状物体３０の水平方向の変位量（ｍｍ）、縦軸は振動面２６の振動振幅（μｍ_p-p）を示し、図中の○は、平板状物体３０が振動面２６の中心に引き込まれたことを表し、×は、引き込まれなかったことを表している。
図１４から、振動面２６と平板状物体３０との水平方向の初期変位量が１．４ｍｍ（平板状物体３０の直径の４７％）以内であれば、振動振幅の大きさに関わらず、自動的にずれが解消されることが分かる。

このように、この装置は、支持機構の下側で平板状物体を非接触支持することができ、その支持と支持解除とを迅速に切り換えることができる。また、セルフセンタリング効果により、支持機構と平板状物体との水平方向のずれを自動的に補正することができる。
そのため、この装置を搬送装置に適用すれば、半導体ウエハのような平板状物体を所定位置まで搬送し、指定された治具等の上に平板状物体を正確に載置することができる。
また、超音波発生ユニット２０の方は動かさずに、超音波発生ユニット２０で平板状物体を支持している間に、治具側の方を超音波発生ユニット２０の真下に移動し、次いで、超音波発生ユニット２０の超音波出力を停止して平板状物体を治具上に載置させる搬送方法を採ることもできる。

なお、ここで示した装置や方法は、一例であり、本発明は、それだけに限るものでは無い。
本発明の装置及び方法は、金属薄板や半導体ウエハだけでなく、紙やガラス薄板などの非接触支持にも使用することができる。図１５は、超音波発生ユニットのホーン２５の先端で紙５０を非接触支持している様子を示している。
このように本発明は、ＳＵＳ３０４のように剛性を有する平板状物体でも、紙のように柔軟性を有する平板状物体（薄膜にすることで柔軟性を持つガラス箔や金属箔を含む。）でも、非接触支持することができ、また、導体、半導体及び絶縁体のいずれの平板状物体でも、非接触支持することができる。
また、本発明は、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）技術で薄膜デバイスを作成したり、軽薄な紙やガラス箔、金属箔等を扱ったりする場合に、有効な支持、搬送手段として利用することができる。

また、半導体や絶縁体から成る平板状物体を非接触支持する場合には、振動面と平板状物体との間に、超音波振動による吸着力だけでなく、静電気による吸着力を併せて作用させるようにしても良い。
図１６は、振動面２６を帯電させて、平板状物体３０に逆極性の電荷を誘起させる例を示しており、絶縁体で形成したホーン２５に電極２７を配置して、この電極２７に直流電圧を印加し、平板状物体３０に逆極性の電荷を誘起して振動面２６及び平板状物体３０間に静電吸着力を生じさせている。
こうすることで、より大きい質量の平板状物体３０の非接触支持が可能になる。この場合も、平板状物体３０と振動面２６とのギャップが凡そ２５μｍ以下になると、超音波振動による斥力が平板状物体３０に働くため、平板状物体３０は、非接触で支持される。
また、振動面及び平板状物体間に静電吸着力を生じさせるため、平板状物体を帯電させて、振動面に逆極性の電荷を誘起させるようにしても良い。

本発明により、平板状物体を非接触状態で支持、搬送することが可能になる。そのため本発明は、半導体ウエハや薄膜デバイス、紙、ガラス箔、金属箔等、軽薄な平板状物体を取り扱う分野において広く用いることができる。

本発明の実施形態に係る平板状物体支持装置の構成を示す模式図 図１の装置での平板状物体の非接触支持を説明する説明図 平板状物体が振動面の中心位置からずれている場合の説明図 図１の装置で平板状物体の非接触支持を開始する前の状態を示す図 図１の装置で平板状物体の非接触支持を実行中の状態を示す図 図１の装置で振動面の中心位置からずれている平板状物体の非接触支持開始前の状態を示す図 図１の装置における共振周波数追従機能を備えた交流電源のブロック図 図１の装置の振動子への入力電圧（Ｖ_p-p）と振動振幅（Ａ_p-p）との関係を示す図 図１の装置の振動子への入力電圧（Ｖ_p-p）と平板状物体及び振動面間のギャップとの関係を示す図 非接触支持されている平板状物体（円盤）の軸方向の時間的変位を示す図 平板状物体及び振動面間のギャップと平板状物体に作用する力との関係を示す図 図１１の一部の範囲を拡大して示す図 セルフセンタリング効果の測定方法を説明する図 セルフセンタリング効果の測定結果を示す図 図１の装置で紙を非接触支持している状態を示す図 本発明の平板状物体支持装置の他の実施形態を示す図 従来の真空吸着法での部品搬送を説明する図 従来の超音波吸引装置を示す図

符号の説明

１１ 超音波吸引装置
１２ 超音波発生ユニット
１３ 放射部材
１３ａ 放射面
１３ｂ 凹部
１４ 電源
１５ 吸引対象物
１５ａ 凸部
２０ 超音波発生ユニット
２１ 振動子（圧電体）
２２ 振動子（圧電体）
２３ 金属ブロック
２４ フランジ
２５ ホーン
２６ 振動面
２７ 電極
３０ 平板状物体
３１ Ｚ軸ステージ
４０ 交流電源
４１ コンパレータ
４２ マイコン
４３ ＤＤＳ
４４ 増幅器
１００ ノズル
１０１ 部品

Claims (12)

1. 空気中において、超音波で励振される平坦な振動面の鉛直下方に、前記振動面の外形と略等しい外形の平坦面を有する平板状物体を、当該平坦面が前記振動面に平行するように配置し、前記振動面を超音波で面に垂直方向に励振して、前記振動面の近接位置に前記平板状物体を非接触状態で支持することを特徴とする超音波を利用した平板状物体の非接触支持方法。
2. 請求項1に記載の平板状物体の非接触支持方法であって、前記平板状物体を非接触状態で支持することにより、前記振動面と前記平板状物体との水平方向の位置ずれを自動的に補正することを特徴とする平板状物体の非接触支持方法。
3. 請求項1または２に記載の平板状物体の非接触支持方法であって、さらに、前記振動面と前記平板状物体との間に静電気による吸着力を作用させることを特徴とする平板状物体の非接触支持方法。
4. 請求項３に記載の平板状物体の非接触支持方法であって、前記振動面を帯電させて、前記平板状物体に逆極性の電荷を誘起させることを特徴とする平板状物体の非接触支持方法。
5. 請求項３に記載の平板状物体の非接触支持方法であって、前記平板状物体を帯電させて、前記振動面に逆極性の電荷を誘起させることを特徴とする平板状物体の非接触支持方法。
6. 請求項1から５のいずれかに記載の平板状物体の非接触支持方法であって、前記平板状物体が剛性を有する物体であることを特徴とする平板状物体の非接触支持方法。
7. 請求項1から５のいずれかに記載の平板状物体の非接触支持方法であって、前記平板状物体が柔軟性を有する物体であることを特徴とする平板状物体の非接触支持方法。
8. 請求項1から５のいずれかに記載の平板状物体の非接触支持方法であって、前記平板状物体が導体であることを特徴とする平板状物体の非接触支持方法。
9. 請求項1から５のいずれかに記載の平板状物体の非接触支持方法であって、前記平板状物体が半導体であることを特徴とする平板状物体の非接触支持方法。
10. 請求項1から５のいずれかに記載の平板状物体の非接触支持方法であって、前記平板状物体が絶縁体であることを特徴とする平板状物体の非接触支持方法。
11. 空気中で平板状物体を非接触支持する支持装置であって、
    交流電圧が印加されたときに超音波を発生する超音波発生手段と、
    前記超音波発生手段から発生される超音波で平坦な振動面が励振され、当該振動面の垂直方向に超音波を放射する超音波放射体と、
    前記超音波発生手段に印加される前記交流電圧の周波数を前記超音波発生手段の共振周波数に維持する共振周波数追従手段と、
    前記超音波発生手段から超音波が発生されていないとき、前記超音波放射体の振動面の外形と略等しい外形の平坦面を有する平板状物体を、前記振動面の鉛直下方で、前記平坦面が前記振動面と平行するように保持する保持体と、
    を備え、前記超音波発生手段から超音波が発生されている間だけ、前記超音波放射体の振動面の近接位置に前記平板状物体を非接触状態で支持することを特徴とする超音波を利用した平板状物体の支持装置。
12. 請求項１１に記載の平板状物体の支持装置であって、前記超音波放射体が静電吸着用の電極を有し、前記電極への電圧の印加により、前記超音波放射体と前記平板状物体との間で静電吸着力が作用することを特徴とする超音波を利用した平板状物体の支持装置。