JP2009129943A - 窒化物半導体装置とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体装置、特にレーザダイオードの作成に使用される窒化物半導体装置において、プロセスの煩雑化や歩留まりの低下を抑えつつ、電極剥がれを抑制することを目的としている。
【解決手段】本発明に係る窒化物半導体装置は、表面にリッジ2を有するP型窒化物半導体層1、少なくともリッジ2の側面を被覆するSiO2膜3、SiO2膜3の表面に形成されたシリコンを主成分とする密着層4、リッジ2の上面および密着層4の表面に形成されたP型電極5を備えて構成される。
【選択図】 図1
【解決手段】本発明に係る窒化物半導体装置は、表面にリッジ2を有するP型窒化物半導体層1、少なくともリッジ2の側面を被覆するSiO2膜3、SiO2膜3の表面に形成されたシリコンを主成分とする密着層4、リッジ2の上面および密着層4の表面に形成されたP型電極5を備えて構成される。
【選択図】 図1
Description
この発明は、窒化物半導体装置とその製造方法に関する。
従来の半導体装置、特にレーザダイオードの作製に使用される窒化物半導体装置においていわゆるリッジ型構造が多くの場合に採用されており、リッジ側壁に絶縁膜を形成した場合、該絶縁膜を介して電極を形成していた。しかし、絶縁膜と電極材料との密着性が十分に得られないため、絶縁膜上での電極の剥離が生じ、さらに半導体層と電極の剥離を引き起こす可能性があった。また、この電極の剥離によりレーザダイオードを動作させるための動作電圧の増加や動作時の発熱による特性バラツキを生じてしまい、規定の温度範囲内で安定した動作出力を得ることが難しいという問題点があった。
上述の問題点に対して、例えば特許文献1では、リッジ側面の絶縁膜と電極の間に熱処理された白金族系金属などからなる密着層を形成することにより、電極の密着性を得る方法が示されている。また特許文献2では、リッジ側面と電極の間に一定の基準を満たす密度あるいは表面の粗さを有する、酸化ジルコニウムなどからなる保護膜を形成する方法が示されている。
しかしながら、特許文献1の方法においては、絶縁膜と密着層の材質が大きく異なる事により、デバイス作製上のプロセスが煩雑化し、またデバイスの光学的特性に影響を与え、歩留まり低下の原因となるといった問題点があった。特許文献2の方法においても、デバイス作製上のプロセスが煩雑化するといった問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされたものであり、プロセスの煩雑化や歩留まりの低下を抑えた、電極剥がれのない窒化物半導体装置を得ることを目的としている。
本発明に係る窒化物半導体装置は、表面にリッジを有するP型半導体層、少なくともリッジの側面を被覆する絶縁膜、絶縁膜の表面に形成されたシリコンを主成分とする密着層、リッジの上面および密着層の表面に形成された電極を備えて構成される。
この発明によれば、リッジ側壁の絶縁膜の表面に密着層が形成された構成にしたことにより、電極剥がれを抑制し、安定して低抵抗な電極を形成することが可能であり、レーザダイオードなどの半導体装置の動作電圧を低くすることが可能である。また、これにより動作時の発熱も減少させることが可能になり、高出力で安定した動作が可能になる。
また、密着層はシリコンを主成分とすることにより、絶縁膜と密着層の材質が大きく異なる事を回避することが可能であり、作製プロセス的およびデバイス形状的に大きな変更無く特性を維持したままリッジ上の電極の剥がれが抑制でき、プロセスの煩雑化や歩留まりの低下を抑えることが可能である。
以下、この発明をその実施の形態を示す図面に基づいて具体的に説明する。
<実施の形態1>
(構成)
図1は、本実施の形態に係る窒化物半導体装置の要部を示す断面図である。P型の窒化物半導体からなるP型窒化物半導体層(P型半導体層)1の上部表面にリッジ2が形成され、リッジ2の側面から該側面下部と繋がるP型窒化物半導体層1の上面にかけて、SiO2膜(絶縁膜)3、シリコンからなるSi密着層(密着層)4が被覆するように順次設けられ、さらにリッジ2の上面およびリッジ2側面のSi密着層4表面を覆うようにP型電極(電極)5が設けられている。
(構成)
図1は、本実施の形態に係る窒化物半導体装置の要部を示す断面図である。P型の窒化物半導体からなるP型窒化物半導体層(P型半導体層)1の上部表面にリッジ2が形成され、リッジ2の側面から該側面下部と繋がるP型窒化物半導体層1の上面にかけて、SiO2膜(絶縁膜)3、シリコンからなるSi密着層(密着層)4が被覆するように順次設けられ、さらにリッジ2の上面およびリッジ2側面のSi密着層4表面を覆うようにP型電極(電極)5が設けられている。
また、図2は図1に示した窒化物半導体装置の全体の一例を示す、光発光窒化物半導体装置の断面図である。下層から順にn電極8、n−GaN基板9、n−AlGaNクラッド層10、n−GaNガイド層11、活性層12、P−GaNガイド層13、P−AlGaNクラッド層14、P−GaNコンタクト層15が積層されている。P−AlGaNクラッド層14、P−GaNコンタクト層15において、リッジ2が形成されており、リッジ2の側面から該側面下部と繋がるP−AlGaNクラッド層14の上面にかけてSiO2膜3、Si密着層4が順次設けられ、さらにリッジ2の上面およびリッジ2側面のSi密着層4表面を覆うようにP電極5が設けられている。
(製法)
次に図1に示した、本実施の形態に係る窒化半導体装置の要部の製法を示す。図3〜図6は製造方法を示す断面図である。
次に図1に示した、本実施の形態に係る窒化半導体装置の要部の製法を示す。図3〜図6は製造方法を示す断面図である。
まず、図3に示すP型窒化物半導体層1表面に、転写技術を用いてレジストパターン(図示せず)を形成し、このレジストパターンをマスク材としてP型窒化物半導体層1をエッチングして、図4に示すようなリッジ2を形成する。リッジ2形成のためのエッチングはドライエッチングが用いられる。ドライエッチングには、ICP(高周波誘導結合プラズマ)やRIE(反応性イオンエッチング)、ECR(電子サイクロン共鳴)等によるエッチングを用いることが可能である。このときのエッチングガスとしては塩素(Cl)系のガスが用いられる。エッチング深さもデバイスの特性に応じて変化するが、およそ0.5μm程度必要となる。また、リッジ2のエッチングには、レジストマスクではなく、絶縁膜等の材料を用いても同様のリッジ加工が可能である。
リッジ2形成後、図5に示すようにリッジ2の側面から該側面下部と繋がるP型窒化物半導体層1の上面にかけて、SiO2膜3とSi密着層4を順次この順番で形成する。
SiO2膜3の形成法としては、蒸着法、スパッタ法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法等を用いることが出来る。SiO2膜3の膜厚はデバイスの光学特性により決定されるもので、例えば200nm程度の膜厚が必要となる。また、デバイス作製上はSiO2(酸化珪素)が望ましいが、Si3N4(窒化珪素)やSiON(酸窒化珪素)、その他の絶縁膜で光学特性を満たせる材料であれば良い。
同様にSi密着層4もこのSiO2膜3上に蒸着法、スパッタ法、CVD法を用いて形成することが可能である。SiO2膜3と同様の方法による成膜であれば一度の処理で連続的に形成することも可能であるし、別々の方法を用いて形成することも可能である。このSi密着層4の膜厚としては、デバイス特性に影響を与えず、密着性が向上できる膜厚であればよく、例えば50nm以下が望ましい。さらに25nm以下の膜厚とすることで、デバイス特性へ影響を与えないだけでなく、プロセス的にも影響を与えずデバイスを作製することが可能となる。
また、このSi密着層4はP型電極5とSiO2膜3との密着性向上のために用いるものであるので、Si密着層4の膜厚は均一に形成されても良いし、密着性が得られる範囲内で不均一に形成されても良い。またSi密着層4は単結晶シリコンでも良くアモルファスシリコンでも良い。さらに、プロセス的に許せば、シリコンの代わりにTi,Al等のメタルを形成しても同様の効果を得ることが可能である。このように成膜したSiO2膜3とSi密着層4を、リフトオフ法やエッチバック法を用いて選択的に除去しリッジ2の側面から該側面下部と繋がるP型窒化物半導体層1の上面に形成する。
SiO2膜3、Si密着層4を形成後、図6に示すようにリッジ2上面およびリッジ2側面のSi密着層4表面を覆うように、P型電極5を形成する。
P型電極5の形成法としては、蒸着法、スパッタ法等により電極材料を成膜し、リフトオフ法により選択的にリッジ2上部とリッジ2側面のSi密着層4表面に形成する。P型電極5の材料としては、P型窒化物半導体層1とオーミック特性が得られる材料であれば良い。たとえばパラジウム(Pd)を含む材料により構成されていることが好ましく、さらにはパラジウム(Pd)、タンタル(Ta)を含む材料により構成されていることがより好ましい。また、このP型電極材料の形成前処理としてシリコンを含む塗布系の有機材料を塗布することでも密着性の向上が図れる。たとえばヘキサメチルジシラザン(HMDS)のような材料を用いれば、SiO2膜3上に選択的に形成することが可能であり、P型電極5の特性を劣化させることなく密着性をさらに向上させることが可能となる。さらに、P型電極5形成後、酸素を含む雰囲気中で熱処理を行うことでオーミック特性を得ることが可能となる。
(効果)
この発明によれば、リッジ2側面のSiO2膜3上にSi密着層4を介してP型電極5を形成したことにより、電極剥がれを抑制し、安定して低抵抗な電極を形成することが可能であり、半導体装置の動作電圧を低くすることが可能である。また、これにより動作時の発熱も減少させることが可能になり、高出力で安定した動作が可能になる。さらに、絶縁膜と密着層の材質が大きく異なる事を回避することが可能であり、作製プロセス的およびデバイス形状的に大きな変更無く特性を維持したままリッジ2上の電極の剥がれが抑制でき、プロセスの煩雑化や歩留まりの低下を抑えることが可能である。
この発明によれば、リッジ2側面のSiO2膜3上にSi密着層4を介してP型電極5を形成したことにより、電極剥がれを抑制し、安定して低抵抗な電極を形成することが可能であり、半導体装置の動作電圧を低くすることが可能である。また、これにより動作時の発熱も減少させることが可能になり、高出力で安定した動作が可能になる。さらに、絶縁膜と密着層の材質が大きく異なる事を回避することが可能であり、作製プロセス的およびデバイス形状的に大きな変更無く特性を維持したままリッジ2上の電極の剥がれが抑制でき、プロセスの煩雑化や歩留まりの低下を抑えることが可能である。
<実施の形態2>
(構成)
図7は、本実施の形態に係る窒化物半導体装置の要部を示す断面図である。P型の窒化物半導体からなるP型窒化物半導体層1の上部表面にリッジ2が形成され、リッジ2側面から該側面下部と繋がるP型窒化物半導体層1の上面にかけてSiO2膜16が設けられている。また、リッジ2の上面およびリッジ2側面のSiO2膜16表面を覆うようにP電極5が設けられている。
(構成)
図7は、本実施の形態に係る窒化物半導体装置の要部を示す断面図である。P型の窒化物半導体からなるP型窒化物半導体層1の上部表面にリッジ2が形成され、リッジ2側面から該側面下部と繋がるP型窒化物半導体層1の上面にかけてSiO2膜16が設けられている。また、リッジ2の上面およびリッジ2側面のSiO2膜16表面を覆うようにP電極5が設けられている。
ここで、SiO2膜16のシリコン組成は膜厚方向において不均一になるようコントロールされている。図8は、SiO2膜16の組成を示す図である。SiO2膜16のシリコン組成はSiO2膜16の表面側へ向かって多くなるように形成されている。
(製法)
次に図7に示した窒化物半導体装置についての製法を示す。リッジ2が形成された半導体において、リッジ2の側面から該側面下部と繋がるP型窒化物半導体層1の上面にかけてSiO2膜16を形成し、リッジ2上面およびリッジ2側面のSiO2膜16表面を覆うようにP電極5を形成する。
次に図7に示した窒化物半導体装置についての製法を示す。リッジ2が形成された半導体において、リッジ2の側面から該側面下部と繋がるP型窒化物半導体層1の上面にかけてSiO2膜16を形成し、リッジ2上面およびリッジ2側面のSiO2膜16表面を覆うようにP電極5を形成する。
SiO2膜16の形成方法としては、例えばスパッタ法によりシリコンをターゲットとし、アルゴンガスと酸素ガスとの混合比を酸素ガス比が多い状態から少ない状態に変化させることで膜中の酸素濃度が変化し、成膜される膜中の組成をコントロールすることが可能である。その他の、リッジ2やP型電極5の形成法等は実施の形態1と同様であるため、ここでの詳細な説明は省略する。
(効果)
この発明によれば、SiO2膜16のシリコン組成はSiO2膜16の表面側へ向かって多くなるように形成したことにより、電極剥がれを抑制し、安定して低抵抗な電極を形成することが可能であり、半導体装置の動作電圧を低くすることが可能である。また、これにより動作時の発熱も減少させることが可能になり、高出力で安定した動作が可能になる。
この発明によれば、SiO2膜16のシリコン組成はSiO2膜16の表面側へ向かって多くなるように形成したことにより、電極剥がれを抑制し、安定して低抵抗な電極を形成することが可能であり、半導体装置の動作電圧を低くすることが可能である。また、これにより動作時の発熱も減少させることが可能になり、高出力で安定した動作が可能になる。
1 P型窒化物半導体層、2 リッジ、3,16 SiO2膜、4 Si密着層、5 P型電極、8 n電極、9 n−GaN基板、10 n−AlGaNクラッド層、11 n−GaNガイド層、12 活性層、13 P−GaNガイド層、14 P−AlGaNクラッド層、15 P−GaNコンタクト層。
Claims (12)
- 表面にリッジを有するP型半導体層と、
少なくとも前記リッジの側面を被覆する絶縁膜と、
前記絶縁膜の表面に形成されたシリコンを主成分とする密着層と、
前記リッジの上面および前記密着層の表面に形成された電極と
を備える窒化物半導体装置。 - 前記密着層は単結晶シリコンまたはアモルファスシリコンを主成分とする、請求項1に記載の窒化物半導体装置。
- 前記密着層はシリコンを含む有機材料を主成分とする、請求項1に記載の窒化物半導体装置。
- 前記有機材料はヘキサメチルジシラザンを主成分とする、請求項3に記載の窒化物半導体装置。
- 表面にリッジを有するP型半導体層と、
少なくとも前記リッジの側面を被覆する絶縁膜と、
前記絶縁膜の表面に形成されたTiまたはAlを主成分とする密着層と、
前記リッジの上面および前記密着層の表面に形成された電極と
を備える窒化物半導体装置。 - 前記密着層の膜厚は50nm以下である、請求項1から請求項5のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
- 前記絶縁膜は酸化珪素または窒化珪素または酸窒化珪素を主成分とする、請求項1から請求項6のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
- 表面にリッジを有するP型半導体層と、
少なくとも前記リッジの側面を被覆する、シリコン組成が膜厚方向において不均一なシリコン酸化膜からなる絶縁膜と、
前記リッジの上面および前記絶縁膜の表面に形成された電極と
を備えた窒化物半導体装置。 - 前記絶縁膜のシリコン組成は前記絶縁膜の表面側へ向かって多くなる、請求項8に記載の窒化物半導体装置。
- 請求項9に記載の窒化物半導体装置を製造する方法であって、
スパッタ法によりシリコンをターゲットとしアルゴンガスと酸素ガスとの混合比を酸素ガス比が多い状態から少ない状態に変化させて前記絶縁膜を形成する工程を備える、窒化物半導体装置の製造方法。 - 前記電極が少なくともパラジウム(Pd)を主成分とする、請求項1から請求項9のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
- 前記電極が少なくともパラジウム(Pd)、タンタル(Ta)を主成分とする、請求項1から請求項9のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
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