JP2009115844A - ＯＰＣ（光近接効果補正：ＯｐｔｉｃａｌＰｒｏｘｉｍｉｔｙＣｏｒｒｅｃｔｉｏｎ）モデル作成方法、ＯＰＣモデル作成プログラム、ＯＰＣモデル作成装置、露光装置調整方法、露光装置調整プログラム、露光装置調整装置、半導体装置製造方法、半導体装置製造プログラムおよび半導体装置製造装置 - Google Patents

ＯＰＣ（光近接効果補正：ＯｐｔｉｃａｌＰｒｏｘｉｍｉｔｙＣｏｒｒｅｃｔｉｏｎ）モデル作成方法、ＯＰＣモデル作成プログラム、ＯＰＣモデル作成装置、露光装置調整方法、露光装置調整プログラム、露光装置調整装置、半導体装置製造方法、半導体装置製造プログラムおよび半導体装置製造装置 Download PDF

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