JP2009113274A - 化粧シート - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の課題は、化粧シートに種々の機能性層が設けられているとしても、当該機能性を何ら損なうことなく、優れた立体的意匠性が付与されてなる化粧シートを提供することである。
【解決手段】前記課題は、印刷基材４上に少なくともベタのコート層３を具備した化粧シートであって、前記コート層２は、意匠性を付与する凹部２１と凸部２２とを有し、前記凹部２１の光沢値が、前記凸部２２の光沢値より低いことを特徴とする化粧シートにより解決される。
【選択図】図１
【解決手段】前記課題は、印刷基材４上に少なくともベタのコート層３を具備した化粧シートであって、前記コート層２は、意匠性を付与する凹部２１と凸部２２とを有し、前記凹部２１の光沢値が、前記凸部２２の光沢値より低いことを特徴とする化粧シートにより解決される。
【選択図】図１
Description
本発明は、建築の内外装、家具、調度品等、木目や抽象柄等を中心とする建装材に有用な化粧シートに関するものである。
近年、種々の高機能化されている建装材の分野においても、意匠性は、古くから重要な付加価値とされてきている。
高機能性、高耐久性という点では、表面のハードコート性や防汚機能、高耐候性等々が求められ、次々と新機能が付与されている。
意匠性という点では、単純な柄から柄の同調、ハイグロス、ハイマット、盛り上げ、絞りといった従来の方法を用い、さらにそれらは、各々の加工工程によって付与されることが多く、同時に付与することは難しかった。また、新機能を付与することにより、他機能や意匠性を犠牲にしなければならないことも珍しくなかった。
高機能性、高耐久性という点では、表面のハードコート性や防汚機能、高耐候性等々が求められ、次々と新機能が付与されている。
意匠性という点では、単純な柄から柄の同調、ハイグロス、ハイマット、盛り上げ、絞りといった従来の方法を用い、さらにそれらは、各々の加工工程によって付与されることが多く、同時に付与することは難しかった。また、新機能を付与することにより、他機能や意匠性を犠牲にしなければならないことも珍しくなかった。
特許文献１〜３などに開示されているように、従来、化粧紙の表面の樹脂に意匠性を持たせるには、エンボス版や賦形シートにより凹凸形状に賦形する手段がある。
特に柄に同調した凹凸と言う点では、特許文献４にも記載されているように、版胴ローラーでエンボスすることが多く、そのエンボス加工により、凹凸意匠は形成されるが、表面ツヤに関しての効果はなく、木目による表面意匠性を凹凸とツヤの両方で制御することが難しかった。
また、特公昭49-28264に代表されるような、電離放射線硬化型樹脂を半硬化させた状態で、表面タックを切り、その後にエンボスをかけ意匠性を持たせる手法があるが、電離放射線硬化型樹脂を半硬化の状態で維持することは、不安定で困難である。
さらに、視覚的なツヤ変化により意匠性を付与する技術としては、特許文献５〜６などにあるように、低ツヤ絵柄インキ層に同調させた低ツヤ領域を形成し、最終的には表面保護層をベタで塗布し、保護層越しに低ツヤ部を出し、視覚的効果により、凹凸感を表現する手法がある。物理的凹凸感やそのシャープさ、緻密さ、凹凸間隔、深さ等を自由にコントロールできるが、賦形によるエンボスに比べれば、意匠性が劣る。
特開平５−１６２２５６号公報
特開平６−９１８１８号公報
特開２０００−２２５６６５号公報
国際公開ＷＯ００／０３８７４号パンフレット
特開２００５−１７８３２９号公報
特開２００６−９５９７３号公報
特に柄に同調した凹凸と言う点では、特許文献４にも記載されているように、版胴ローラーでエンボスすることが多く、そのエンボス加工により、凹凸意匠は形成されるが、表面ツヤに関しての効果はなく、木目による表面意匠性を凹凸とツヤの両方で制御することが難しかった。
また、特公昭49-28264に代表されるような、電離放射線硬化型樹脂を半硬化させた状態で、表面タックを切り、その後にエンボスをかけ意匠性を持たせる手法があるが、電離放射線硬化型樹脂を半硬化の状態で維持することは、不安定で困難である。
さらに、視覚的なツヤ変化により意匠性を付与する技術としては、特許文献５〜６などにあるように、低ツヤ絵柄インキ層に同調させた低ツヤ領域を形成し、最終的には表面保護層をベタで塗布し、保護層越しに低ツヤ部を出し、視覚的効果により、凹凸感を表現する手法がある。物理的凹凸感やそのシャープさ、緻密さ、凹凸間隔、深さ等を自由にコントロールできるが、賦形によるエンボスに比べれば、意匠性が劣る。
本発明は、化粧シートに種々の機能性層が設けられているとしても、当該機能性を何ら損なうことなく、優れた立体的意匠性が付与されてなる化粧シートを提供することにある。
請求項１に記載の発明は、印刷基材上に少なくともベタのコート層を具備した化粧シートであって、
前記コート層は、意匠性を付与する凹部と凸部とを有し、
前記凹部の光沢値が、前記凸部の光沢値より低いことを特徴とする化粧シートである。
前記コート層は、意匠性を付与する凹部と凸部とを有し、
前記凹部の光沢値が、前記凸部の光沢値より低いことを特徴とする化粧シートである。
請求項２に記載の発明は、前記コート層が、電離放射線硬化型樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の化粧シートである。
請求項３に記載の発明は、前記コート層が、熱硬化型成分を含むことを特徴とする請求項１に記載の化粧シートである。
請求項４に記載の発明は、前記コート層における意匠性を付与する凹部と凸部が、前記印刷基材の柄と同調していることを特徴としている請求項１〜３のいずれかに記載の化粧シートである。
請求項５に記載の発明は、前記凹部の光沢値と、前記凸部の光沢値との差が、１０以上（６０°反射）であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の化粧シートである。
請求項６に記載の発明は、前記コート層が、１種以上のフィラーを含むことを特徴する請求項１〜５のいずれかに記載の化粧シートである。
請求項７に記載の発明は、前記コート層が、シリコーン系添加剤、アマイド系添加剤、アクリル系ポリマー添加剤、フッ素系添加剤、ワックス系添加剤、無機系滑剤のいずれか１種以上を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の化粧シートである。
本発明の化粧シートは、印刷基材上に少なくともベタのコート層を具備し、前記コート層は、意匠性を付与する凹部と凸部とを有し、前記凹部の光沢値が、前記凸部の光沢値より低いことを特徴としている。例えば凹部を鏡面調、凸部をマット調にすることにより、化粧シートの表面ツヤ変化による視覚的意匠感と物理的意匠感が同時に増大する。すなわち、広い視野角でグロス、マット調の視覚的意匠性が得られ、奥行き立体感も得られる。また前記凹凸部は、下記で説明するように意匠形成用の版を用いるエンボス加工で形成することができ、化粧シート製造における工程数を減少することができ、コスト的に優れ、かつ意匠性のコントロールも容易である。また、従来技術では高意匠性を付与するために、ベタのマット層上にグロス意匠層を設ける構成（あるいは積層順番を逆にした構成）を採用することがある。この場合、表面から数えて２番目の層の耐汚染性や耐セロハンテープリリース性を付与するために、各種添加剤が併用されるが、これが化粧シートの最表面上にブリードするという問題点があった。しかし本発明では、マット層およびグロス意匠層を別々に設ける構成ではないため、ブリードの問題も解決される。
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
図１は、本発明の化粧シートの一実施形態の断面図である。本発明の化粧シートは、基材４上に印刷層３を設けた印刷基材上に少なくともベタのコート層２を具備し、コート層２は、意匠性を付与する凹部と凸部とを有する。なお印刷層３はベタであってもなくてもよい。図１の形態において、コート層２における凹部は、エンボスによる凹部２１であり、凸部は、エンボスによる凹部２１以外の平面をなすフラット部２２である。またコート層２は、必要に応じてフィラー類２３を含有することができる。
図１は、本発明の化粧シートの一実施形態の断面図である。本発明の化粧シートは、基材４上に印刷層３を設けた印刷基材上に少なくともベタのコート層２を具備し、コート層２は、意匠性を付与する凹部と凸部とを有する。なお印刷層３はベタであってもなくてもよい。図１の形態において、コート層２における凹部は、エンボスによる凹部２１であり、凸部は、エンボスによる凹部２１以外の平面をなすフラット部２２である。またコート層２は、必要に応じてフィラー類２３を含有することができる。
印刷基材としては、基本的には紙であるが、プラスチック基材、不織布、ガラス、金属、木材等を使用することもできる。
例えば、紙としては、晒し、未晒し、坪量等、使用される部位の必要物性によって適宜選択してよく、必要に応じて、特に指定されるものではなく、従来から使用しているものでもよく、また、樹脂含浸してあってもよい。また、坪量などは、取り扱い性やコスト、風合いなどを考慮し、適宜選択するとよい。
その場合の含浸樹脂は、下記のプラスチック基材に使用されるような樹脂を用いてもよい。
その場合の含浸樹脂は、下記のプラスチック基材に使用されるような樹脂を用いてもよい。
プラスチック基材としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン系樹脂、金属アイオノマー、酸変性ポリオレフィン樹脂、エチレン−メタクリル共重合体（ＥＭＡＡ）、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル系樹脂、ウレア系樹脂、メラミン系樹脂、共重合系樹脂、アセテート系樹脂、シリカ系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）などのエンジニアリングプラスチック又はスーパーエンジニアリングプラスチックや硬化性樹脂（電離放射線硬化型、熱硬化型、湿気硬化型等）も挙げることができる。基材は、単独か2種以上を組み合わせてもよい。また、厚み、表面処理等は限定されるものではなく、透明性や賦形性などを加味して、適宜選定するとよい。
さらに、不織布や金属、木材等、使用しようとする用途に必要な物性に応じ、印刷が可能であれば、その材質、厚み、表面処理等を適宜選択してもよい。
印刷は、その基材材料によって、インキを選択する必要がある。
特に基材とインキとの密着性やインキ硬化性向上等のために、シーラー層なる層を一層具備してもよい。
また、その場合、シーラー層に硬化剤を混合してもよく、さらに、その硬化剤量を当量以上に混合し、上部インキ層と反応させ密着性をさらに高めることもできる。なお、インキのリユース性を考慮し、インキ側には、硬化剤を入れなくてもよい。また、インキのバインダーの選定や硬化剤の選定はシーラー層あるいは上部コート層に合わせ適宜行うとよい。
その観点から、シーラー層あるいはインキには、2液硬化型のウレタン系樹脂、塩素化ＰＰ系樹脂、硝化綿系樹脂、場合によっては水系樹脂を用いることが多い。
特に基材とインキとの密着性やインキ硬化性向上等のために、シーラー層なる層を一層具備してもよい。
また、その場合、シーラー層に硬化剤を混合してもよく、さらに、その硬化剤量を当量以上に混合し、上部インキ層と反応させ密着性をさらに高めることもできる。なお、インキのリユース性を考慮し、インキ側には、硬化剤を入れなくてもよい。また、インキのバインダーの選定や硬化剤の選定はシーラー層あるいは上部コート層に合わせ適宜行うとよい。
その観点から、シーラー層あるいはインキには、2液硬化型のウレタン系樹脂、塩素化ＰＰ系樹脂、硝化綿系樹脂、場合によっては水系樹脂を用いることが多い。
その塗工法としては、バーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビア、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング、グラビアオフセット、グラビアリバース法等の方法を用いることができ、塗工方法と塗液は塗膜厚、塗工速度、乾燥能力等に合わせ、固形分、粘度等を適宜選択するとよい。また、厚みが厚い場合は、ルーダー（押し出し）ラミネートなどでの積層も考慮できる。
シーラー層としては、選定した基材とインキとを密着させることが最大の効果である。
但し、基材とインキとの密着や諸物性などが十分であれば、必ずしも設ける必要はない。
そのため、基材への濡れや塗膜の柔軟性等を考慮して、適宜選択するとよい。
例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、エンジニアリングプラスチック類、スーパーエンジニアリングプラスチック類、ウレア系樹脂、メラミン系樹脂、共重合系樹脂、アセテート系樹脂、シリコーン系樹脂、シリカ系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などが挙げられ、できれば、表面は平滑であり透明性の高い方が好ましい。
さらに、上記樹脂も硬化剤を用いた樹脂系であると、さらにその樹脂耐性が向上し、その硬化剤の効果で密着性も向上する場合もある。
但し、基材とインキとの密着や諸物性などが十分であれば、必ずしも設ける必要はない。
そのため、基材への濡れや塗膜の柔軟性等を考慮して、適宜選択するとよい。
例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、エンジニアリングプラスチック類、スーパーエンジニアリングプラスチック類、ウレア系樹脂、メラミン系樹脂、共重合系樹脂、アセテート系樹脂、シリコーン系樹脂、シリカ系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などが挙げられ、できれば、表面は平滑であり透明性の高い方が好ましい。
さらに、上記樹脂も硬化剤を用いた樹脂系であると、さらにその樹脂耐性が向上し、その硬化剤の効果で密着性も向上する場合もある。
例えば、２液硬化型のウレタン樹脂の場合、ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。出来るうれば、無黄変、難黄変タイプのイソシアネートを使用することが好ましいが、物性、コストその他必要に応じて、芳香族系のイソシアネートを選択してもよく。加工上の理由から、ブロックイソシアネートの使用も可能である。
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。出来るうれば、無黄変、難黄変タイプのイソシアネートを使用することが好ましいが、物性、コストその他必要に応じて、芳香族系のイソシアネートを選択してもよく。加工上の理由から、ブロックイソシアネートの使用も可能である。
またその塗液は、無溶剤系、単独あるいは、溶剤、水等で希釈してあってもよく、基材への濡れ性も考慮し選択するよい。
ベタのコート層は、電離放射線硬化型樹脂を含むのが好ましい。なお、それ以外にも、以下の硬化性樹脂や、非電離放射線硬化性樹脂を混合してもよい。例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、エンジニアリングプラスチック類、スーパーエンジニアリングプラスチック類、ウレア系樹脂、メラミン系樹脂、共重合系樹脂、アセテート系樹脂、シリコーン系樹脂、シリカ系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などが挙げられ、できれば、表面は平滑であり透明性の高い方が好ましい。
中でも本発明では特に、紫外線硬化型、電子線硬化型、熱硬化型等の樹脂を用いることができるが、それらの作成方法は特に制限を受けない。例えば、種々の（メタ）アクリレート類、光重合開始剤及び必要に応じて有機溶剤を主成分とするコート剤により形成することができる。種々の（メタ）アクリレート類としては、ポリウレタン（メタ）アクリレートやエポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート、あるいは他の多官能（メタ）アクリレート類を好適に使用することができる。
エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を（メタ）アクリル酸でエステル化し官能基を（メタ）アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールＡ型（Ｆ型）エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物等がある。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリオールとポリソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることができる。あるいは、ポリオールとポリソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることもできる。
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
ポリソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられ、できれば、無黄変あるいは難黄変タイプのイソシアネートであることが好ましい。
水酸基をもつ（メタ）アクリレート類としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリテート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
ポリソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられ、できれば、無黄変あるいは難黄変タイプのイソシアネートであることが好ましい。
水酸基をもつ（メタ）アクリレート類としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリテート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
その他の多官能の（メタ）アクリレート類は、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するものであり、分子内に３個以上のアクリロイル基を有するものが好ましい。具体的にはトリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロイルキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロイルキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及びこれら２種以上の混合物が挙げられる。
また上記塗液は、単独あるいは、溶剤、水等で希釈してあってもよく、基材への濡れ性も考慮し選択するよい。
また上記塗液は、単独あるいは、溶剤、水等で希釈してあってもよく、基材への濡れ性も考慮し選択するよい。
また、紫外線硬化型を選定した場合の光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ゲンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ミフィラーズケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられ、これらの光重合開始剤は２種以上を適宜併用することもできる。
また、希釈する場合の溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸−ｉｓｏ−プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸−ｉｓｏ−ブチル等のエステル類、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンシクロヘキサノン等のケトン類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキエタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル等のエーテル類、２−メトキシエチルアセタート、２−エトキシエチルアセタート、２−ブトキシエチルアセタート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のエーテルエステル類が挙げられ、さらには、水系が可能であればなおよく、またこれらの単独あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
また、上記成分の他、耐摩耗性向上、耐表面硬度向上のため、コロイド状金属酸化物、あるいはシリカゾル、無機系あるいは有機系フィラー等を加えることもできる。下記するスリップ剤との併用することが可能である。
さらに、塗料自体にマット感や乾燥後のタック感を減少させるため、あるいは塗膜硬度をあげるために、シリカ、炭酸カルシウム、タルク、アルミナ、炭化ケイ素、のような無機フィラーや、アクリル、ウレタン、メラミン、スチレン等共重合の架橋樹脂からなる、いわゆる樹脂フィラーと言った有機フィラーであるが、それらを単一あるいは複数組み合わせて使用することも可能である。
但し、塗料の粘度が上昇したり、長期保存の安定性が悪くなったり、塗布量と平均粒子径によっては、コート層を塗布すると、フィラー粒子が塗膜の表面に出て、耐汚染性、耐溶剤性、耐表面硬度性を落としたり、凹部のマット部との光沢差が小さくなり意匠性が劣ることもあり、使用の際には、塗布量や塗工方法、フィラーの平均粒子径等に、注意し適宜設定必要である。
但し、塗料の粘度が上昇したり、長期保存の安定性が悪くなったり、塗布量と平均粒子径によっては、コート層を塗布すると、フィラー粒子が塗膜の表面に出て、耐汚染性、耐溶剤性、耐表面硬度性を落としたり、凹部のマット部との光沢差が小さくなり意匠性が劣ることもあり、使用の際には、塗布量や塗工方法、フィラーの平均粒子径等に、注意し適宜設定必要である。
また帯電防止機能も付与することもできる。
導電性の帯電防止剤としては、五酸化アンチモン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムなどの金属化合物や、アンチモン含有複合酸化物やＩｎ−Ｓｎ複合酸化物、リン系化合物などの複合金属化合物、第四級アンモニウム塩、アミンオサイド等のアミン誘導体、ポリアニリン等の導電性ポリマーなども用いることができる。これについても、粒子での混合である場合、上記問題が生じる恐れがあるので、適宜選択するとよい。
導電性の帯電防止剤としては、五酸化アンチモン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムなどの金属化合物や、アンチモン含有複合酸化物やＩｎ−Ｓｎ複合酸化物、リン系化合物などの複合金属化合物、第四級アンモニウム塩、アミンオサイド等のアミン誘導体、ポリアニリン等の導電性ポリマーなども用いることができる。これについても、粒子での混合である場合、上記問題が生じる恐れがあるので、適宜選択するとよい。
防汚機能も付与することができ、防汚機能付与する材料としては、フッ素系、珪素系化合物やフッ素含有珪素化合物、アクリル系樹脂、光触媒機能物質などの防汚性材料を当該層に混入しても構わない。
前述の防汚機能と類似するが、表面スリップ性を付与するために、フッ素系、シリコーン系（珪素系化合物）やフッ素含有珪素化化合物アミン系共重合物、無機質滑材剤等のスリップ剤を、単独あるいは組み合わせて使用してもよい。この場合、粒子での混合の場合、上記のような問題が生じる恐れがあるため、適宜選択するとよい。
但し、ここで、従来高意匠性を得るためには、マット層上に意匠性のある光沢層（あるいはその逆）を積層する場合が多いが、その場合、上層塗布材の場合のリコート性や密着性や意匠再現性についてが特に懸念され、高意匠性を維持しながら、添加剤を使用することにより、塗膜の物性を向上させている。
前述の防汚機能と類似するが、表面スリップ性を付与するために、フッ素系、シリコーン系（珪素系化合物）やフッ素含有珪素化化合物アミン系共重合物、無機質滑材剤等のスリップ剤を、単独あるいは組み合わせて使用してもよい。この場合、粒子での混合の場合、上記のような問題が生じる恐れがあるため、適宜選択するとよい。
但し、ここで、従来高意匠性を得るためには、マット層上に意匠性のある光沢層（あるいはその逆）を積層する場合が多いが、その場合、上層塗布材の場合のリコート性や密着性や意匠再現性についてが特に懸念され、高意匠性を維持しながら、添加剤を使用することにより、塗膜の物性を向上させている。
また、紫外線吸収機能としては、４００ｎｍ以下の波長の紫外線を効率よく吸収できるものであり、３５０ｎｍの波長を８０％以上吸収できるものが好ましく、紫外線吸収剤を樹脂バインダー中に混入したものなどが挙げられる。
紫外線吸収剤としては、無機系あるいは有機系のいずれも使用できるが、有機系の紫外線吸収剤が実用的である。有機系の紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よく吸収ものであり、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、オギザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、また、光安定剤として、ヒンダードアミン系等の光安定剤も併用することができる。これらは、単独で用いてもよいが、数種類組み合わせて用いることがより好ましい。また、上記紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤、あるいは酸化防止剤をブレンドすることで安定化が向上できる。
紫外線吸収剤としては、無機系あるいは有機系のいずれも使用できるが、有機系の紫外線吸収剤が実用的である。有機系の紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よく吸収ものであり、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、オギザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、また、光安定剤として、ヒンダードアミン系等の光安定剤も併用することができる。これらは、単独で用いてもよいが、数種類組み合わせて用いることがより好ましい。また、上記紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤、あるいは酸化防止剤をブレンドすることで安定化が向上できる。
また、塗工法としては、バーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、グラビアオフセット、グラビアリバース、マイクログラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法等の方法を用いることができる。また、厚みが厚い場合は、ルーダー（押し出し）ラミネートなどでの積層も考慮できる。
コート層は、凹凸部が形成された後は、早めに硬化させることが好ましい。そのためコート層を塗布、乾燥後は、インラインでエンボスを行うのがよい。
その理由は、エンボスし、凹部を形成した直後に硬化させることができれば、よりその意匠性を表現することができるからである。なお、エンボス直後に硬化させることができない場合は、その保管条件や使用樹脂により、エンボスにより形成した凹凸部の形状が長時間保たれることが望ましい。したがって、賦形直後に硬化可能な、電離放射線硬化型樹脂の使用が望ましい。
その理由は、エンボスし、凹部を形成した直後に硬化させることができれば、よりその意匠性を表現することができるからである。なお、エンボス直後に硬化させることができない場合は、その保管条件や使用樹脂により、エンボスにより形成した凹凸部の形状が長時間保たれることが望ましい。したがって、賦形直後に硬化可能な、電離放射線硬化型樹脂の使用が望ましい。
具体的には、コート層は塗工の後、希釈成分含有の場合はそれを乾燥させ、コート層を架橋硬化せしめることによって形成される。架橋硬化はコート層が紫外線、電子線等の電離放射線硬化型樹脂を含有する場合であれば、電離放射線性を照射することにより達成される。
電離放射線としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源から発せられる紫外線あるいは、通常２０〜２０００ＫｅＶの電子線加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることができる。
但し、基材によっては、高照度での照射が基材に悪影響を与える場合もあるので（例えば、基材が紙の場合、電子線を高加速電圧で照射するとセルロース成分破壊をする恐れがある）、注意が必要で、適宜選択するとよい。このようにして形成されるコート層は、通常１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍの厚みとする。
また、電離放射線硬化と熱硬化型との併用型の場合は、電離放射線照射ののちに、熱硬化させるほうが好ましい。その理由としては、賦形された形状を維持しつつ最終硬化可能であるからである。
電離放射線としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源から発せられる紫外線あるいは、通常２０〜２０００ＫｅＶの電子線加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることができる。
但し、基材によっては、高照度での照射が基材に悪影響を与える場合もあるので（例えば、基材が紙の場合、電子線を高加速電圧で照射するとセルロース成分破壊をする恐れがある）、注意が必要で、適宜選択するとよい。このようにして形成されるコート層は、通常１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍの厚みとする。
また、電離放射線硬化と熱硬化型との併用型の場合は、電離放射線照射ののちに、熱硬化させるほうが好ましい。その理由としては、賦形された形状を維持しつつ最終硬化可能であるからである。
エンボス加工の際に使用する版は、求める仕上がりの光沢を左右する重要なファクターである。
版の作製例としては、まず、所望の形状となるように、フォトリソ法により版を作製する。続いて、版全体を物理研磨や化学研磨して、光沢（グロス状態）とする。当該版によるエンボスでは、版の形状が逆転されて化粧シートの意匠を形成する。すなわち、版の凸部がコート層の凹部となり、版の凹部（あるいはフラット部）がコート層の凸部（あるいはフラット部）となる。本発明の化粧シートにおいて、コート層の凹部の光沢値が、凸部の光沢値より低くなるようにするためには、例えば、版の凸部をマット化する手法が挙げられる。さらに具体的には、フォトリソ法により版を作製した後、版の凸部以外の部分をマスクし、凸部をサンドブラストして粗面マット化する方法がある。粗面マット化条件（ブラストの粒子や時間等）によって、コート層の凹部の光沢値と凸部の光沢値との差を適宜調整することができる。
版の作製例としては、まず、所望の形状となるように、フォトリソ法により版を作製する。続いて、版全体を物理研磨や化学研磨して、光沢（グロス状態）とする。当該版によるエンボスでは、版の形状が逆転されて化粧シートの意匠を形成する。すなわち、版の凸部がコート層の凹部となり、版の凹部（あるいはフラット部）がコート層の凸部（あるいはフラット部）となる。本発明の化粧シートにおいて、コート層の凹部の光沢値が、凸部の光沢値より低くなるようにするためには、例えば、版の凸部をマット化する手法が挙げられる。さらに具体的には、フォトリソ法により版を作製した後、版の凸部以外の部分をマスクし、凸部をサンドブラストして粗面マット化する方法がある。粗面マット化条件（ブラストの粒子や時間等）によって、コート層の凹部の光沢値と凸部の光沢値との差を適宜調整することができる。
また、電離放射線照射による硬化は、コート層に希釈成分がない（ノンソルベント）場合は、版に抱いたまま、あるいは離版直後に行うとよい。
版に抱いたままの照射の場合、より版の形状が反映されて良い。この場合、裏面すなわち印刷してある基材側からの照射となり、不透明な場合は、電子線を用いたほうがより好ましい。
照射に関しては、特に制限はないが、電離放射線照射は樹脂を硬化せしめられれば、どちらの面からでも可能である。但し、コート層に希釈成分（揮発成分）がある場合は、その希釈成分乾燥後に照射する。乾燥が必要な場合は、乾燥性を優先するが、出来る限り低温、短時間で済ませタックフリーとし賦形することが好ましい。
また、エンボスの深さは、深すぎると、賦形し難かったり、最終的な印刷面からの膜厚が薄くなり、耐光（候）性に劣ったり、耐溶剤性等物性が劣る可能性があるが、フィラーが入っている場合、その平均粒子径と残膜厚によっては、よりマット化する。また、逆にエンボスが浅すぎると、凹凸の意匠性に乏しくなる可能性があるので適宜選択するとよい。
版に抱いたままの照射の場合、より版の形状が反映されて良い。この場合、裏面すなわち印刷してある基材側からの照射となり、不透明な場合は、電子線を用いたほうがより好ましい。
照射に関しては、特に制限はないが、電離放射線照射は樹脂を硬化せしめられれば、どちらの面からでも可能である。但し、コート層に希釈成分（揮発成分）がある場合は、その希釈成分乾燥後に照射する。乾燥が必要な場合は、乾燥性を優先するが、出来る限り低温、短時間で済ませタックフリーとし賦形することが好ましい。
また、エンボスの深さは、深すぎると、賦形し難かったり、最終的な印刷面からの膜厚が薄くなり、耐光（候）性に劣ったり、耐溶剤性等物性が劣る可能性があるが、フィラーが入っている場合、その平均粒子径と残膜厚によっては、よりマット化する。また、逆にエンボスが浅すぎると、凹凸の意匠性に乏しくなる可能性があるので適宜選択するとよい。
本発明において、光沢値は、ＪＩＳ Ｚ８７４１−１９９７に準じた６０°での反応光沢の測定方法で測定することができる。本発明において、コート層の凹部の光沢値と、凸部の光沢値との差は、１０以上（６０°反射）であることが、意匠性の観点から望ましい。
また、コート層における意匠性を付与する凹部と凸部が、印刷基材の柄と同調していることが、意匠性の観点から望ましい。
また、コート層における意匠性を付与する凹部と凸部が、印刷基材の柄と同調していることが、意匠性の観点から望ましい。
以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明する。なお、以下の例において、部とあるのは質量基準である。
実施例１
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、高分子光安定剤（HALS）1部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
木目の印刷部に対応した箇所が凸部となる銅版を作製し、全体にケミポリッシュ処理をし表面光沢をハイグロス化し、該凸部が露出するマスク（逆版）を作製し銅版に密着させ、凸部のみをサンドブラストしハイマット調とし、最終的にクロムメッキを掛けエンボス版を作製した。エンボス版の凸部と凹部（フラット部）の高低差は４μｍであった。
そのエンボス版を使用し、前述のコート層を60℃に加温し、エンボス版で押し、木目調のエンボス柄をつけ、その直後に、30KGyの電子線を照射し、即硬化させ、木目調のエンボスがかかり、且つ、表面物性（耐汚染性、耐スチールウール性など）があり、木目調の光沢差のある高意匠性のある化粧紙を得た。
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、高分子光安定剤（HALS）1部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
木目の印刷部に対応した箇所が凸部となる銅版を作製し、全体にケミポリッシュ処理をし表面光沢をハイグロス化し、該凸部が露出するマスク（逆版）を作製し銅版に密着させ、凸部のみをサンドブラストしハイマット調とし、最終的にクロムメッキを掛けエンボス版を作製した。エンボス版の凸部と凹部（フラット部）の高低差は４μｍであった。
そのエンボス版を使用し、前述のコート層を60℃に加温し、エンボス版で押し、木目調のエンボス柄をつけ、その直後に、30KGyの電子線を照射し、即硬化させ、木目調のエンボスがかかり、且つ、表面物性（耐汚染性、耐スチールウール性など）があり、木目調の光沢差のある高意匠性のある化粧紙を得た。
実施例２
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、平均粒子径３μｍの不定形シリカ粒子２０部（アクリルポリマー分散剤による分散液）、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、HALS 1部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
木目の印刷部に対応した箇所が凸部となる銅版を作製し、全体にケミポリッシュ処理をし表面光沢をハイグロス化し、該凸部が露出するマスク（逆版）を作製し銅版に密着させ、凸部のみをサンドブラストしハイマット調とし、最終的にクロムメッキを掛けエンボス版を作製した。エンボス版の凸部と凹部（フラット部）の高低差は４μｍであった。
そのエンボス版を使用し、前述のコート層を60℃に加温し、エンボス版で押し、木目調のエンボス柄をつけ、その直後に、30KGyの電子線を照射し、即硬化させ、木目調のエンボスがかかり、且つ、表面物性（耐汚染性、耐スチールウール性など）があり、木目調の光沢差のある高意匠性のある化粧紙を得た。
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、平均粒子径３μｍの不定形シリカ粒子２０部（アクリルポリマー分散剤による分散液）、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、HALS 1部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
木目の印刷部に対応した箇所が凸部となる銅版を作製し、全体にケミポリッシュ処理をし表面光沢をハイグロス化し、該凸部が露出するマスク（逆版）を作製し銅版に密着させ、凸部のみをサンドブラストしハイマット調とし、最終的にクロムメッキを掛けエンボス版を作製した。エンボス版の凸部と凹部（フラット部）の高低差は４μｍであった。
そのエンボス版を使用し、前述のコート層を60℃に加温し、エンボス版で押し、木目調のエンボス柄をつけ、その直後に、30KGyの電子線を照射し、即硬化させ、木目調のエンボスがかかり、且つ、表面物性（耐汚染性、耐スチールウール性など）があり、木目調の光沢差のある高意匠性のある化粧紙を得た。
実施例３
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、アクリルポリマーのエマルジョン（ライトエステル）60部、高分子量ポリウレタンポリオール40部、ポリイソシアネート（HMDI）10部、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、HALS 1部を混合した樹脂熱硬化性塗料をグラビア塗工方式で塗布し乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
木目の印刷部が凸部となるような銅版を作製し、全体にケミポリッシュ処理をし表面光沢をハイグロス化し、木目印刷部の凸部になる部分が出るようなマスク（逆版）を作製し、その部分をサンドブラストをかけハイマット調とし、最終的にクロムメッキを掛けエンボス版を作製した。その時の凸部、凹部に当たる部分の差が４μｍであった。
そのエンボス版を使用し、前述のコート層を60℃に加温し、エンボス版で押し、木目調のエンボス柄をつけ、そのまま巻き取り、40℃で5日の養生を行った。そのように温乾硬化させ、木目調のエンボスのかかり、且つ、表面物性（耐汚染性、耐スチールウール性など）があり、さらに木目調の光沢差のある高意匠性のある化粧紙を得た。
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、アクリルポリマーのエマルジョン（ライトエステル）60部、高分子量ポリウレタンポリオール40部、ポリイソシアネート（HMDI）10部、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、HALS 1部を混合した樹脂熱硬化性塗料をグラビア塗工方式で塗布し乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
木目の印刷部が凸部となるような銅版を作製し、全体にケミポリッシュ処理をし表面光沢をハイグロス化し、木目印刷部の凸部になる部分が出るようなマスク（逆版）を作製し、その部分をサンドブラストをかけハイマット調とし、最終的にクロムメッキを掛けエンボス版を作製した。その時の凸部、凹部に当たる部分の差が４μｍであった。
そのエンボス版を使用し、前述のコート層を60℃に加温し、エンボス版で押し、木目調のエンボス柄をつけ、そのまま巻き取り、40℃で5日の養生を行った。そのように温乾硬化させ、木目調のエンボスのかかり、且つ、表面物性（耐汚染性、耐スチールウール性など）があり、さらに木目調の光沢差のある高意匠性のある化粧紙を得た。
比較例１
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、高分子光安定剤（HALS）1部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
木目の印刷部に対応した箇所が凸部となる銅版を作製し、全体にケミポリッシュ処理をし表面光沢をハイグロス化し、クロムメッキを掛けエンボス版を作製した。エンボス版の凸部と凹部（フラット部）の高低差は４μｍであった。
そのエンボス版を使用し、前述のコート層を60℃に加温し、エンボス版で押し、木目調のエンボス柄をつけ、その直後に、30KGyの電子線を照射し、即硬化させ、木目調のエンボスを有する化粧紙を得た。
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、高分子光安定剤（HALS）1部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
木目の印刷部に対応した箇所が凸部となる銅版を作製し、全体にケミポリッシュ処理をし表面光沢をハイグロス化し、クロムメッキを掛けエンボス版を作製した。エンボス版の凸部と凹部（フラット部）の高低差は４μｍであった。
そのエンボス版を使用し、前述のコート層を60℃に加温し、エンボス版で押し、木目調のエンボス柄をつけ、その直後に、30KGyの電子線を照射し、即硬化させ、木目調のエンボスを有する化粧紙を得た。
比較例２
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、HALS 1部、平均粒子径３μｍの不定形シリカ粒子を20部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
そこに、木目でない部分が凹部となるような意匠層用版を作製し、クロムメッキを掛け塗布版を作製した。その版を用い、意匠層として、上記コート層の上にノンソルベントのクリア（ハイグロス）の電子線硬化型樹脂(EB104：東洋インキ製造（株）製)＋ポリジメチルシロキサンのスリップ剤（BYK3500）を、上記版にて塗布し、その厚みは、約４μｍ（dry）とし、意匠性のある化粧紙を得た。
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、HALS 1部、平均粒子径３μｍの不定形シリカ粒子を20部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
そこに、木目でない部分が凹部となるような意匠層用版を作製し、クロムメッキを掛け塗布版を作製した。その版を用い、意匠層として、上記コート層の上にノンソルベントのクリア（ハイグロス）の電子線硬化型樹脂(EB104：東洋インキ製造（株）製)＋ポリジメチルシロキサンのスリップ剤（BYK3500）を、上記版にて塗布し、その厚みは、約４μｍ（dry）とし、意匠性のある化粧紙を得た。
比較例３
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、HALS 1部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
そこに、木目でない部分が凹部となるような意匠層用版を作製し、クロムメッキを掛け塗布版を作製した。その版を用い、意匠層として、上記ベタ層の上にノンソルベントのクリア（ハイグロス）の電子線硬化型樹脂(EB104：東洋インキ製造（株）製)＋ポリジメチルシロキサンのスリップ剤（BYK3500）を、ベタ版でグラビア塗工し、そのｄｒｙ厚みが６μｍとなるようにした後、上記意匠版で賦形し、そのままＥＢ照射し硬化させ、意匠性のある化粧紙を得た。
坪量30g/m2の原紙に木目様の印刷を施し、その上にコート層として、電子線硬化する多官能ウレタンポリマーと6官能モノマーを含む水系ディスパージョン塗料（UCECOAT7655：ダイセル・サイテック社製）100部、電子線硬化型のポリエーテル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンのスリップ剤5部（BYKUV3500）、トリアジン系およびベンゾトリアゾール系UVA 2部、HALS 1部を混合した樹脂をグラビア塗工方式で塗布し、乾燥させ、6μｍ（dry）となるようにした。
そこに、木目でない部分が凹部となるような意匠層用版を作製し、クロムメッキを掛け塗布版を作製した。その版を用い、意匠層として、上記ベタ層の上にノンソルベントのクリア（ハイグロス）の電子線硬化型樹脂(EB104：東洋インキ製造（株）製)＋ポリジメチルシロキサンのスリップ剤（BYK3500）を、ベタ版でグラビア塗工し、そのｄｒｙ厚みが６μｍとなるようにした後、上記意匠版で賦形し、そのままＥＢ照射し硬化させ、意匠性のある化粧紙を得た。
評価項目と評価方法
（１）化粧紙の凸部（木目以外）と凹部（木目部）の光沢値差（度数）を測定した。光沢値は、60°反射光沢値とした。
（２）耐汚染性として、凹部のマジック拭き取り性を調べた。具体的には、赤クレヨンをコート層に描き、それをワイパー（ベンコット）で拭き取り、以下の評価を行った。
○：導管まで拭き取り可能 △：導管部若干拭き取り残りあり ×：全く拭き取れない
（３）耐スチールウール擦傷性として、#0000のスチールウールを100g荷重にて化粧紙上を100回往復させ、表面の傷を目視評価した。
○：傷なし △：若干傷あり（傷線２０本未満） ×：傷多数（傷線２０本以上）
（４）意匠性外観（木目、非木目部分の外観目視）
○：導管部の意匠がはっきり確認できる ×：導管部の意匠がはっきり確認できない（はじいたり、ながれたり、ダレたり）
（５）化粧紙上セロハンテープリリース性（同一箇所をニチバン製セロテープ(登録商標)（24mm幅）で剥離させ、塗膜密着性を確認した
○：塗膜変化なし ×：塗膜剥がれあり
結果を表１に示す。
（１）化粧紙の凸部（木目以外）と凹部（木目部）の光沢値差（度数）を測定した。光沢値は、60°反射光沢値とした。
（２）耐汚染性として、凹部のマジック拭き取り性を調べた。具体的には、赤クレヨンをコート層に描き、それをワイパー（ベンコット）で拭き取り、以下の評価を行った。
○：導管まで拭き取り可能 △：導管部若干拭き取り残りあり ×：全く拭き取れない
（３）耐スチールウール擦傷性として、#0000のスチールウールを100g荷重にて化粧紙上を100回往復させ、表面の傷を目視評価した。
○：傷なし △：若干傷あり（傷線２０本未満） ×：傷多数（傷線２０本以上）
（４）意匠性外観（木目、非木目部分の外観目視）
○：導管部の意匠がはっきり確認できる ×：導管部の意匠がはっきり確認できない（はじいたり、ながれたり、ダレたり）
（５）化粧紙上セロハンテープリリース性（同一箇所をニチバン製セロテープ(登録商標)（24mm幅）で剥離させ、塗膜密着性を確認した
○：塗膜変化なし ×：塗膜剥がれあり
結果を表１に示す。
[表１]
２ コート層
２１ エンボスによる凹部
２２ フラット部
２３ フィラー類
３ 印刷層
４ 基材
２１ エンボスによる凹部
２２ フラット部
２３ フィラー類
３ 印刷層
４ 基材
Claims (7)
- 印刷基材上に少なくともベタのコート層を具備した化粧シートであって、
前記コート層は、意匠性を付与する凹部と凸部とを有し、
前記凹部の光沢値が、前記凸部の光沢値より低いことを特徴とする化粧シート。 - 前記コート層が、電離放射線硬化型樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の化粧シート。
- 前記コート層が、熱硬化型成分を含むことを特徴とする請求項１に記載の化粧シート。
- 前記コート層における意匠性を付与する凹部と凸部が、前記印刷基材の柄と同調していることを特徴としている請求項１〜３のいずれかに記載の化粧シート。
- 前記凹部の光沢値と、前記凸部の光沢値との差が、１０以上（６０°反射）であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の化粧シート。
- 前記コート層が、１種以上のフィラーを含むことを特徴する請求項１〜５のいずれかに記載の化粧シート。
- 前記コート層が、シリコーン系添加剤、アマイド系添加剤、アクリル系ポリマー添加剤、フッ素系添加剤、ワックス系添加剤、無機系滑剤のいずれか１種以上を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の化粧シート。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2007287261A Pending JP2009113274A (ja) | 2007-11-05 | 2007-11-05 | 化粧シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2009113274A (ja) |
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2007
- 2007-11-05 JP JP2007287261A patent/JP2009113274A/ja active Pending
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Legal Events
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| A621 | Written request for application examination |
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| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111020 |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120227 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130515 |
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| A02 | Decision of refusal |
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