JP2009098560A - レーザ走査光学装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】二つの半導体レーザ3a,3bと、1/2波長板4a,4bと、ビームスプリッタ5と、コリメータレンズ6とからなる光源部2Aを備えたレーザ走査光学装置。1/2波長板4a,4bはその回転角度(位相角)を調整することでビームα,βの透過率をそれぞれ均一化するように補正する。ビームスプリッタ5はその接合面5aに偏光膜を有し、所定の直線偏光のみを透過/反射する。
【選択図】図2
Description
少なくとも二つの半導体レーザから射出されたビームを、合成素子にてほぼ同じ方向に合成するとともに、集光素子にて集光し、被走査面上を一方向に走査するレーザ走査光学装置において、
前記半導体レーザと前記合成素子との間に、ビームの透過率を調整するための1/2波長板を配置し、
前記合成素子はその接合面に偏光膜を有していること、
を特徴とする。
図1に第1実施例であるレーザ走査光学装置1の概略構成を示す。この装置1は、光源部2Aと、所定の速度で回転駆動されるポリゴンミラー10と、fθ機能などを有する走査レンズ11,12と、水平同期センサ14と、該センサ14にビームを集光させる集光レンズ15とで構成され、ハウジング20に収容されている。
図8に第2実施例であるレーザ走査光学装置の光源部2Bを示す。この光源部2Bは、NDフィルタ9をビームスプリッタ5のビーム進行方向xの下流側に配置したものである。具体的には、NDフィルタ9はアパーチャ7の下流側に配置されている。レーザ走査光学装置としての他の構成は図1に示した前記第1実施例と同様である。
図10に第3実施例であるレーザ走査光学装置の光源部2Cを示す。この光源部2Cは、コリメータレンズ6a,6bを半導体レーザ3a,3bの直後に配置したもので、他の構成は図1に示した前記第1実施例と同様である。
図11に第4実施例であるレーザ走査光学装置の光源部2Dを示す。この光源部2Dは、二つの半導体レーザ3a,3bやビームスプリッタ5、コリメータレンズ6を含む前述の光源ブロックに加えて、二つの半導体レーザ3c,3d、1/2波長板4c,4dやビームスプリッタ5、コリメータレンズ6を含む光源ブロックを設けたものである。さらに、各コリメータレンズ6の下流側に、接合面に偏光膜を有していないビームスプリッタ50が配置されている。
なお、本発明に係るレーザ走査光学装置は前記実施例に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更できる。
2A,2B,2C,2D…光源部
3a,3b,3c,3d…半導体レーザ
4a,4b,4c,4d…1/2波長板
5,50…ビームスプリッタ
5a…接合面
6,6a,6b…コリメータレンズ
9…NDフィルタ
20…ハウジング
23…保持部
41…ホルダ
91…ビーム強度測定用センサ
α,β,β’…ビーム
Claims (10)
- 少なくとも二つの半導体レーザから射出されたビームを、合成素子にてほぼ同じ方向に合成するとともに、集光素子にて集光し、被走査面上を一方向に走査するレーザ走査光学装置において、
前記半導体レーザと前記合成素子との間に、ビームの透過率を調整するための1/2波長板を配置し、
前記合成素子はその接合面に偏光膜を有していること、
を特徴とするレーザ走査光学装置。 - 前記1/2波長板の一つは位相角がほぼ45°で、いま一つは位相角がほぼ0°に設定され、いずれか一方の1/2波長板が回転調整可能であること、を特徴とする請求項1に記載のレーザ走査光学装置。
- 回転しないように設定された他方の1/2波長板は所定の回転角度に設定されていることを特徴とする請求項2に記載のレーザ走査光学装置。
- 前記1/2波長板の一つは位相角がほぼ45°で、いま一つは位相角がほぼ0°に設定され、双方の1/2波長板が回転調整可能であること、を特徴とする請求項1に記載のレーザ走査光学装置。
- 前記1/2波長板の一つは位相角がほぼ45°に、いま一つは位相角がほぼ0°に初期設定されており、いずれか一方を初期設定角度から所定角度に回転させた後に固定し、他方を回転調整すること、を特徴とする請求項1に記載のレーザ走査光学装置。
- 前記1/2波長板は外周がほぼ円形をなすホルダに固定されており、該ホルダは光軸に対して回転可能に設定されていること、を特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。
- 前記合成素子から射出されるビームは、楕円形状の長軸方向がほぼ一致していること、を特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。
- 2×N個(但し、Nは整数)の半導体レーザを備えるとともに2個の半導体レーザごとに一つの前記合成素子を備え、さらに、該合成素子から射出したビームを接合面に偏光膜を有していない第2の合成素子にてほぼ同じ方向に合成すること、を特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。
- NDフィルタが前記合成素子よりもビーム進行方向の下流側に配置されていることを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。
- 前記合成素子と前記NDフィルタとの間にビーム強度測定用センサが着脱される保持部を備えていることを特徴とする請求項9に記載のレーザ走査光学装置。
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