JP2009086570A - 液晶装置の製造方法、及び液晶装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】液滴吐出法を用いて配向膜を形成する際のムラの発生を防止し輝度ムラを無くすことができる、液晶装置の製造方法、及び液晶装置を提供する。
【解決手段】基板25上に複数の画素領域Aを区画する隔壁45を形成する。そして、画素領域A内に凹形状のカラーフィルタ層22を形成する。隔壁45及びカラーフィルタ層22を覆うようにして透明電極23を形成する。液滴吐出法を用いて画素領域A毎に機能液を吐出し、機能液を乾燥させて透明電極23上に配向膜24を形成する液晶装置100の製造方法である。
【選択図】図1
【解決手段】基板25上に複数の画素領域Aを区画する隔壁45を形成する。そして、画素領域A内に凹形状のカラーフィルタ層22を形成する。隔壁45及びカラーフィルタ層22を覆うようにして透明電極23を形成する。液滴吐出法を用いて画素領域A毎に機能液を吐出し、機能液を乾燥させて透明電極23上に配向膜24を形成する液晶装置100の製造方法である。
【選択図】図1
Description
本発明は、液晶装置の製造方法、及び液晶装置に関するものである。
液滴吐出ヘッドによりインクを吐出するインクジェット法(液滴吐出法)を用いて、配向膜を形成することが提案されている(例えば、特許文献1を参照。)。一般にインクジェット法は、基板と液滴吐出ヘッドとを相対的に移動させながら、液滴吐出ヘッドに設けられた複数のノズルから吐出したインクを基板上に繰り返し着弾させて配向膜を形成することができる。
特開2001−42330号公報
ところで、配向膜を形成するための基板は、液滴吐出ヘッドに対して大きいことから配向膜形成時には例えば複数のヘッドから基板上にインクを吐出するようにしている。
しかしながら、複数のヘッドからインクを吐出する場合、同一ヘッドから吐出されたインク滴は時間差が少ない状態で交じり合うようになっている。一方、隣接するヘッドから吐出されたインク滴同士は時間差がある状態で混じり合うため、混じり方に差が生じてしまう。このようなインク滴の混じり方の差は配向膜にムラを生じさせる可能性がある。このようなムラが生じた配向膜を備えた液晶装置は輝度ムラが発生する可能性がある。
しかしながら、複数のヘッドからインクを吐出する場合、同一ヘッドから吐出されたインク滴は時間差が少ない状態で交じり合うようになっている。一方、隣接するヘッドから吐出されたインク滴同士は時間差がある状態で混じり合うため、混じり方に差が生じてしまう。このようなインク滴の混じり方の差は配向膜にムラを生じさせる可能性がある。このようなムラが生じた配向膜を備えた液晶装置は輝度ムラが発生する可能性がある。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、液滴吐出法を用いて配向膜を形成する際のムラの発生を防止し輝度ムラを無くすことができる、液晶装置の製造方法、及び液晶装置を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために、本発明の液晶装置は、基板上に画素領域を区画する隔壁を形成する工程と、前記画素領域内に凹形状のカラーフィルタ層を形成する工程と、前記隔壁及び前記カラーフィルタ層を覆うようにして透明電極を形成する工程と、液滴吐出法を用いて前記画素領域内に機能液を吐出し、該機能液を乾燥させて前記透明電極上に配向膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする。
本発明の液晶装置の製造方法によれば、凹形状のカラーフィルタ層上に形成される透明電極も凹形状となるので、透明電極上に吐出された機能液を隔壁内に良好に配置される。また、各画素領域内には例えば液滴吐出ヘッドから略同時に機能液が配置されるので、機能液全体が均一に交じり合って乾燥時にムラが生じることが防止される。したがって、ムラのない均一な配向膜のパターンを得ることができ、輝度ムラのない液晶装置を提供できる。
また、上記液晶装置の製造方法においては、液滴吐出法を用いて、前記カラーフィルタ層を形成するのが好ましい。
この構成によれば、液滴吐出法を用いて画素領域内にカラーフィルタ材料を含む機能液を吐出して乾燥させることで凹形状のカラーフィルタ層を良好に形成することができる。
この構成によれば、液滴吐出法を用いて画素領域内にカラーフィルタ材料を含む機能液を吐出して乾燥させることで凹形状のカラーフィルタ層を良好に形成することができる。
また、上記液晶装置の製造方法においては、前記隔壁として遮光層を形成するのが好ましい。
この構成によれば、隔壁が遮光層としての機能を兼ねることとなり、隣接する画素間の光漏れを防止することができる。
この構成によれば、隔壁が遮光層としての機能を兼ねることとなり、隣接する画素間の光漏れを防止することができる。
また、上記液晶装置の製造方法においては、前記隔壁をテーパー状に形成するのが好ましい。
この構成によれば、隔壁内側面に沿って透明電極を滑らかに形成することができ、これにより透明電極の断線を生じ難くさせることができる。
この構成によれば、隔壁内側面に沿って透明電極を滑らかに形成することができ、これにより透明電極の断線を生じ難くさせることができる。
本発明の液晶装置は、一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶装置において、前記基板の一方が、複数の画素領域を区画する隔壁と、該隔壁により区画される前記画素領域に配置されて凹形状からなるカラーフィルタ層と、前記隔壁及び前記カラーフィルタ層を覆う透明電極と、該透明電極上の前記画素領域毎に配置される配向膜と、を備えることを特徴とする。
本発明の液晶装置によれば、カラーフィルタ層及びこれを覆う透明電極が凹形状となっているので、例えば液滴吐出法を用いて配向膜を形成する場合、機能液を隔壁内に良好に配置させることができる。このとき、塗布後から乾燥するまでの間における機能液の移動が防止される。さらに、各画素領域内に機能液が略同時に配置されることで全体が均一に交じり合って乾燥時にムラが生じることが防止される。したがって、画素領域毎に、ムラがない均一なパターンからなる配向膜が形成されたものとなるので、輝度ムラのない表示が得られる液晶装置となる。
また、上記液晶装置においては、前記隔壁が遮光層を兼ねるのが好ましい。
この構成によれば、隔壁が遮光層としての機能を兼ねることとなり、隣接する画素間の光漏れを防止することができる。
この構成によれば、隔壁が遮光層としての機能を兼ねることとなり、隣接する画素間の光漏れを防止することができる。
また、上記液晶装置においては、前記隔壁がテーパー状に形成されるのが好ましい。
この構成によれば、隔壁内側面に沿って透明電極が滑らかに形成されたものとなり、これにより透明電極の断線が生じ難くなって導通信頼性が向上する。
この構成によれば、隔壁内側面に沿って透明電極が滑らかに形成されたものとなり、これにより透明電極の断線が生じ難くなって導通信頼性が向上する。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明するが、本発明の技術範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。また、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
まず、本発明の液晶装置の製造方法の一実施形態に基づいて製造された液晶装置の構成について説明する。
図1は液晶装置のうち、主にカラーフィルタ部を示す部分平面構成図であり、図1(b)は図1(a)に対応する液晶装置100の部分断面構成図である。図2はカラーフィルタ部Kを含む対向基板の構成を示す拡大図であり、図3は液晶装置100の全体構成を示す図であり、図4は液晶装置100の等価回路を示す図である。
図1は液晶装置のうち、主にカラーフィルタ部を示す部分平面構成図であり、図1(b)は図1(a)に対応する液晶装置100の部分断面構成図である。図2はカラーフィルタ部Kを含む対向基板の構成を示す拡大図であり、図3は液晶装置100の全体構成を示す図であり、図4は液晶装置100の等価回路を示す図である。
図1(a)に示されるようにカラーフィルタ部Kは、平面視略格子状に延在する遮光部(隔壁)45と、遮光部45の間隙に形成された複数の平面視略矩形状の各色が着色されたカラーフィルタ層22R,22G,22B(以下、カラーフィルタ層を総称して符号22を付す)とを備えている。この遮光部45によって区画される領域は、液晶装置100における各画素領域Aを構成している。なお、遮光部45は、隣接するカラーフィルタ層22R,22G,22Bからの光の混色を防ぐ機能を奏する。
図1(b)に示す断面構造をみると、液晶装置100は、TFTアレイ基板10と、これに対向配置される対向基板25とを備え、これら両基板10,25間に液晶層50が挟持されている。なお、上記カラーフィルタ部Kは、対向基板25の内面側(液晶層50側)に形成されている。液晶層50は基板面内でほぼ一定の層厚に形成されている。TFTアレイ基板10の外面側にあたる液晶パネルの背面側には、光源、リフレクタ、導光板などを有するバックライト60が配設されている。
TFTアレイ基板10は、石英、ガラス等の透光性材料からなる基板本体10Aを基体としてなり、基板本体10Aの内面側(液晶層50側)に、ITO(インジウム錫酸化物)等の透光性導電材料からなる画素電極9が各画素領域にそれぞれ形成されており、該画素電極9を覆うように配向膜14が形成されている。基板本体10Aの外面側には、位相差板16と偏光板17とが、基板本体10A側から順に積層されている。
対向基板25は、石英、ガラス等の透光性材料からなる基板本体25Aを基体として備え、基板本体25Aの内面側には、上述したように遮光部45によって区画された画素領域Aにカラーフィルタ層22が形成されている。この遮光部45は例えばカーボンブラックを含む導電性材料等から構成される。
図2に示すように、カラーフィルタ層22は遮光部45内に凹状に形成されている。このような凹形状は、詳細については後述するインクジェット工程によって形成されたことに起因するものである。
また、遮光部45及びカラーフィルタ層22を覆うようにしてITO(インジウム錫酸化物)等の透光性導電材料からなる共通電極(透明電極)23が形成されている。ここで、共通電極23は遮光部45及びカラーフィルタ層22の表面形状に倣うようにして形成されている。したがって、共通電極23は画素領域A内に凹状に形成されている。
上記遮光部45は、その上面がテーパー形状になっている。このような構成によって、遮光部45の内側面に沿って共通電極23が滑らかに形成されたものとなり、共通電極23に断線を生じさせ難くすることで導通信頼性を向上させている。
さらに、画素領域A内には、共通電極23を覆うようにしてポリイミドからなる配向膜24が形成されている。すなわち、本実施形態に係る液晶装置100の対向基板25は、配向膜24が画素領域A毎に形成されたものとなっている。この配向膜24は詳細については後述するインクジェット工程により形成される。
なお、これら配向膜14、24は初期配向状態において液晶層50の液晶分子に対し垂直配向を呈するようになっており、すなわち本実施形態に係る液晶装置100は垂直配向モードによって駆動されるものである。
共通電極23は遮光部45によって区画される画素領域A内に凹状に形成されるので、配向膜形成時のインクジェットプロセスにおいて吐出された機能液を良好に保持することが可能となっている。このように画素領域毎に機能液を塗布することで形成された配向膜24は、塗布後から乾燥するまでの間における機能液の移動が防止されたものとなっている。また、インクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド)から各画素領域A内に機能液が略同時に配置されることで全体が均一に交じり合って乾燥時のムラが防止されている。したがって、本実施形態においては、画素領域A毎にムラの無い均一なパターンからなる配向膜が形成されている。
基板本体25Aの外面側には、位相差板36と偏光板37とが基板本体25A側から順に積層されている。
上記偏光板17,37は、特定方向に振動する直線偏光のみを透過させる機能を有する。また位相差板16,36は、必要に応じて設けられ、例えば可視光の波長に対して略1/4波長の位相差を持つλ/4位相差板や、視角補償機能を有する位相差板が用いられる。
上記偏光板17,37は、特定方向に振動する直線偏光のみを透過させる機能を有する。また位相差板16,36は、必要に応じて設けられ、例えば可視光の波長に対して略1/4波長の位相差を持つλ/4位相差板や、視角補償機能を有する位相差板が用いられる。
次に、図3、図4を参照して本発明に係る液晶装置の具体的な構成例について説明する。なお、図3、図4において図1に示した液晶装置100と共通の構成要素には同一の符号を付してその説明を省略することとする。
図3に示すように、液晶装置100は、TFTアレイ基板10と、対向基板25とが、平面視略矩形枠状のシール材52を介して貼り合わされ、このシール材52によって区画された領域内に液晶層50が封入された構成を備える。シール材52の内側の領域には、遮光性材料からなる周辺見切部53が矩形枠状に形成されている。シール材52の外側の周辺回路領域には、データ線駆動回路201および外部回路実装端子202がTFTアレイ基板10の一辺に沿って配設されており、この一辺に隣接する2辺に沿って走査線駆動回路104,104が設けられている。TFTアレイ基板10の残る一辺には、表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路104,104間を接続する複数の配線105が形成されている。また、対向基板25の角部には、TFTアレイ基板10と対向基板25との間で電気的導通をとるための基板間導通材106が配設されている。
図4は、本実施形態の液晶装置100の透過回路図である。本実施の形態の液晶装置において、画像表示領域を構成するマトリクス状に配置された複数のドットには、画素電極9と当該画素電極9を制御するためのスイッチング素子であるTFT30がそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線6aが当該TFT30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線6aに対してグループ毎に供給される。また、走査線3aがTFT30のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線3aに対して走査信号G1、G2、…、Gmが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極9はTFT30のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT30を一定期間だけオンすることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。
画素電極9を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、共通電極23との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークするのを防止するために、画素電極9と共通電極23との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70が付加されている。尚、符号3bは容量線である。
本実施形態に係る液晶装置100によれば、対向基板25側における画素領域毎にムラがない均一なパターンからなる配向膜24が形成されているので、輝度ムラのない高品位な表示を得ることができる。
次に、上記液晶装置100を製造する工程を例に挙げて、本発明の液晶装置の製造方法の一実施形態について説明する。本発明に係る液晶装置の製造方法は、対向基板25におけるカラーフィルタ部Kを形成する工程に特徴を有している。そこで、以下の説明ではカラーフィルタ部Kを形成する工程について詳細に説明する。
本実施形態では、カラーフィルタ部Kのうち、カラーフィルタ層22と配向膜24とを液滴吐出法(インクジェット法)により形成している。図5(a)は、このようなインクジェットプロセスに用いられる液滴吐出装置IJを示す斜視図であり、図5(b)は液滴吐出装置IJに搭載される液滴吐出ヘッドHのインクの吐出動作を説明するため断面図である。
具体的に、この液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッドHと、X軸方向駆動軸11と、Y軸方向ガイド軸12と、制御装置13と、ステージ4と、クリーニング機構15と、基台6と、ヒータ7とを備えている。
ステージ4は、基板P(本実施形態では対向基板25を構成するための基板本体25Aに相当)を支持するものであり、この基板Pを基準位置に固定するための固定機構(図示せず。)を備えている。
ステージ4は、基板P(本実施形態では対向基板25を構成するための基板本体25Aに相当)を支持するものであり、この基板Pを基準位置に固定するための固定機構(図示せず。)を備えている。
液滴吐出ヘッドHは、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプであり、長手方向とY軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッドHの下面にY軸方向に並んで一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッドHの吐出ノズルからは、ステージ4に支持された基板Pに対してインク(機能液)が吐出される。
X軸方向駆動軸11には、X軸方向駆動モータ18が接続されている。X軸方向駆動モータ18は、ステッピングモータ等からなり、制御装置13からX軸方向の駆動信号が供給されると、X軸方向駆動軸11を回転させる。X軸方向駆動軸11が回転すると、液滴吐出ヘッドHはX軸方向に移動する。
Y軸方向ガイド軸12は、基台6に対して固定されている。ステージ4は、Y軸方向駆動モータ19を備えている。Y軸方向駆動モータ19は、ステッピングモータ等からなり、制御装置13からY軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ4をY軸方向に移動する。
制御装置13は、液滴吐出ヘッドHにインクの吐出制御用の電圧を供給する。また、X軸方向駆動モータ18に液滴吐出ヘッドHのX軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給し、Y軸方向駆動モータ19にステージ4のY軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
クリーニング機構15は、液滴吐出ヘッドHをクリーニングするものである。このクリーニング機構15には、Y軸方向の駆動モータ(図示せず。)が備えられている。このY軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構15は、Y軸方向ガイド軸12に沿って移動する。クリーニング機構15の移動も制御装置13により制御される。
ヒータ7は、ここではランプアニールにより基板Pを熱処理する手段であり、基板P上に塗布されたインクに含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。ランプアニールに使用する光の光源としては、特に限定されないが、赤外線ランプ、キセノンランプ、YAGレーザ、アルゴンレーザ、炭酸ガスレーザ、XeF、XeCl、XeBr、KrF、KrCl、ArF、ArClなどのエキシマレーザなどを光源として使用することができる。このヒータ7の電源の投入及び遮断も制御装置13により制御される。
液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッドHと基板Pを支持するステージ4とを相対的に走査しながら、基板Pに対してインクを吐出する。ここで、以下の説明において、X軸方向を走査方向、X軸方向と直交するY軸方向を非走査方向とする。液滴吐出ヘッドHの吐出ノズルは、非走査方向であるY軸方向に一定間隔で並んで設けられている。なお、図1に示す液滴吐出ヘッドHは、基板Pの進行方向に対し直角に配置されているが、液滴吐出ヘッドHの角度を調整し、基板Pの進行方向に対して交差させるようにしてもよい。このようにすれば、液滴吐出ヘッドHの角度を調整することで、ノズル間のピッチを調節することができる。また、基板Pとノズル面との距離を任意に調節するようにしてもよい。
図5(b)に示されるように液滴吐出ヘッドHは、ピエゾ方式を採用したものであり、このピエゾ方式による液滴吐出は、インクに熱を加えないため、インクの組成に影響を与えにくいという利点を有している。具体的に、液滴吐出ヘッドHには、インク(機能液)iを収容する液体室121に隣接してピエゾ素子122が設置されている。液体室121には、インクを収容するタンクを含むインク供給系123を介してインクが供給される。
ピエゾ素子122は、駆動回路124に接続されており、この駆動回路124を介してピエゾ素子122に電圧を印加すると、ピエゾ素子122が変形し、液体室121を押圧することによって、インクiをノズル125から吐出させる。この場合、印加する電圧値を変化させることにより、ピエゾ素子122の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子122の歪み速度が制御される。
また、インクの吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。
このうち、帯電制御方式は、インクに帯電電極で電荷を付与し、偏向電極でインクの飛翔方向を制御してノズルからインクを吐出させるものである。
一方、加圧振動方式は、インクに30kg/cm2程度の超高圧を印加して、ノズルの先端からインクを吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には、ノズルからインクが直進して吐出され、制御電圧をかけると、インク間に静電的な反発が起こり、インクが飛散してノズルから吐出されない。
一方、電気機械変換方式は、上述したように、ピエゾ素子(圧電素子)がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによってインクを貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間からインクを押し出してノズルからインクを吐出させるものである。
一方、電気熱変換方式は、インクを貯留した空間内に設けたヒータにより、インクを急激に気化させてバブル(泡)を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、インクを貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルにインクのメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてからインクを引き出すものである。
また、この他にも、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術もある。インクジェット法は、インクの使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量のインクを的確に配置できるという利点を有する。なお、インクジェット法により吐出されるインク(流動体)の一滴の量は、例えば1〜300ナノグラムである。
このうち、帯電制御方式は、インクに帯電電極で電荷を付与し、偏向電極でインクの飛翔方向を制御してノズルからインクを吐出させるものである。
一方、加圧振動方式は、インクに30kg/cm2程度の超高圧を印加して、ノズルの先端からインクを吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には、ノズルからインクが直進して吐出され、制御電圧をかけると、インク間に静電的な反発が起こり、インクが飛散してノズルから吐出されない。
一方、電気機械変換方式は、上述したように、ピエゾ素子(圧電素子)がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによってインクを貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間からインクを押し出してノズルからインクを吐出させるものである。
一方、電気熱変換方式は、インクを貯留した空間内に設けたヒータにより、インクを急激に気化させてバブル(泡)を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、インクを貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルにインクのメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてからインクを引き出すものである。
また、この他にも、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術もある。インクジェット法は、インクの使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量のインクを的確に配置できるという利点を有する。なお、インクジェット法により吐出されるインク(流動体)の一滴の量は、例えば1〜300ナノグラムである。
(対向基板の製造方法)
図6は、上記対向基板25の製造工程を示す断面図である。
図6(a)に示すように、基板本体25Aの一方の面に遮光部45を形成する。遮光部45は、上述したカラーフィルタ層22が配置される各画素領域Aを区画する隔壁として機能するものであり、基板本体25A上に格子状に形成される。
図6は、上記対向基板25の製造工程を示す断面図である。
図6(a)に示すように、基板本体25Aの一方の面に遮光部45を形成する。遮光部45は、上述したカラーフィルタ層22が配置される各画素領域Aを区画する隔壁として機能するものであり、基板本体25A上に格子状に形成される。
具体的に、この遮光部45には、例えばカーボンブラックを含む導電性材料等を用いることができる。また、遮光部45の形成方法としては、例えば、各種コート法やCVD法(化学的気相成長法)等を用いて基板本体25A上に遮光部45の形成材料を成膜した後エッチング等によりパターニングすることで、上記形状の遮光部45を形成することができる。なお、基板本体25Aとは別の部材上で遮光部45を形成した後に、これを基板本体25A上に転写して遮光部45を形成してもよい。
なお、この遮光部45によって各カラーフィルタ層22の形状が規定されることから、例えば隣接する遮光部45の間隔を狭くすることにより、各カラーフィルタ層22の微細化を図ることができる。
続いて、遮光部45には、必要に応じて撥液処理を施してもよい。撥液処理としては、CF4、SF6、CHF3等のフッ素成分を有するガス(フッ素含有ガス)を用いたプラズマ処理を用いることができる。また、撥液処理に代えて、遮光部45の素材自体に予め撥液成分(フッ素基等)を充填しておいてもよい。上記撥液処理は特に遮光部45の上面に行うのが好ましい。これにより、遮光部45の内側を相対的に親液化し、遮光部45の上面が撥液化することで遮光部45の内側の画素領域Aにのみ選択的にインクを配置し、遮光部45の上面に不要なインクが付着するのを防止できる。
次に、図6(b)に示すように、遮光部45によって区画された領域に、カラーフィルタ層22に対応するインク(機能液)iを配置する。
インクiを配置する方法としては、上述した液体吐出装置IJによるインクジェット法を用いた。このインクジェット法は、スピンコート法などの塗布技術に比べて、インクの消費に無駄が少なく、基板本体25A上に配置するインクの量や位置の制御を高精度に行うことができるといった利点を有している。
インクiを配置する方法としては、上述した液体吐出装置IJによるインクジェット法を用いた。このインクジェット法は、スピンコート法などの塗布技術に比べて、インクの消費に無駄が少なく、基板本体25A上に配置するインクの量や位置の制御を高精度に行うことができるといった利点を有している。
具体的に、上述した液体吐出装置IJのステージ4に基板本体25Aを設置し、液滴吐出ヘッドHとステージ4とを相対的に走査しながら、液滴吐出ヘッドHに設けられた複数のノズル125から吐出されたインクiを、遮光部45によって区画された画素領域A内に繰り返し塗布する。これにより、R(赤)の顔料を含むインク、G(緑)の顔料を含むインク、及びB(青)の顔料を含むインク滴22iを、それぞれ基板本体25A上の画素領域Aに選択的に配置する。ここで遮光部45の上面が撥液性となっているので、インク滴22iは遮光部45の上面で弾かれることで遮光部45により区画される画素領域A内から凸状に盛り上がった状態に保持される。
本発明では、インクiとして、極性をもった顔料を溶媒に分散させたものを用いている。このようなインクiとしては、例えば、予め界面活性剤で処理して帯電にさせた顔料を溶媒中に分散させたものや、ミセル電解法や電着法などによりカラーフィルタを形成する場合に使用される帯電した顔料を溶媒中に分散させたものなどを用いることができる。
インクiの溶媒としては、前記極性をもった顔料を分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されるものではなく、例えば、水や、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、n−ヘプタン、n−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、p−ジオキサンなどのエーテル系化合物、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を例示できる。これらのうち、顔料の分散性と液の安定性、インクジェット法への適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、より好ましくは、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。
インクiの表面張力は、0.02N/m〜0.07N/mの範囲内であることが好ましい。インクジェット法でインクを吐出する際、表面張力が0.02N/m未満であると、インクのノズルに対する濡れ性が増大するため、飛行曲りが生じやすくなり、0.07N/mを超えると、ノズル先端でのメニスカスの形状が安定しないため、吐出量や、吐出タイミングの制御が困難になる。表面張力を調整するため、前記溶媒には、基板Pとの接触角を大きく低下させない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調節剤を微量添加するとよい。ノニオン系表面張力調節剤は、インクiの基板Pへの濡れ性を向上させ、膜のレベリング性を改良し、膜の微細な凹凸の発生などの防止に役立つものである。表面張力調節剤は、必要に応じて、アルコール、エーテル、エステル、ケトン等の有機化合物を含んでもよい。
インクの粘度は、1mPa・s〜50mPa・sであることが好ましい。インクジェット法を用いてインクiを液滴として吐出する際、粘度が1mPa・sより小さい場合には、ノズル周辺部がインクiの流出により汚染されやすく、また粘度が50mPa・sより大きい場合は、ノズルの目詰まり頻度が高くなり、円滑な液滴の吐出が困難となる。
次に、図6(c)に示すように、この状態からインク滴22iを乾燥させてカラーフィルタ層22を形成する。
インク滴22iの乾燥処理は、液滴吐出装置IJに搭載されるヒータ7のランプアニールによって行うことができる。なお、乾燥処理としては例えば基板本体25Aを加熱する通常のホットプレートや、電気炉などによる加熱処理によって行うこともできる。処理条件は、例えば加熱温度が60℃、加熱時間が10分間程度である。
なお、このような熱処理又は光処理は、通常大気中で行うが、必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中で行うこともできる。
インク滴22iの乾燥処理は、液滴吐出装置IJに搭載されるヒータ7のランプアニールによって行うことができる。なお、乾燥処理としては例えば基板本体25Aを加熱する通常のホットプレートや、電気炉などによる加熱処理によって行うこともできる。処理条件は、例えば加熱温度が60℃、加熱時間が10分間程度である。
なお、このような熱処理又は光処理は、通常大気中で行うが、必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中で行うこともできる。
このような乾燥処理によりインク滴22i中の溶媒が蒸発すると、形成されるカラーフィルタ層22の体積が減少する。この場合、カラーフィルタ層22が十分な厚みが得られるまで、上述したインク吐出工程と乾燥工程とを繰り返す。以上のようなカラーフィルタ層22の形成をR(赤),G(緑),B(青)の色毎に行う。なお、各色のカラーフィルタ層22を形成する順番については、特に限定されず、何れの順序で行ってもよい。
このとき、カラーフィルタ層22は図6(c)に示されるように中央部が凹んだ状態に形成される。すなわち、本実施形態に係るカラーフィルタ層22は凹形状に形成される。
このとき、カラーフィルタ層22は図6(c)に示されるように中央部が凹んだ状態に形成される。すなわち、本実施形態に係るカラーフィルタ層22は凹形状に形成される。
次に、図7(a)に示すように、遮光部45及びカラーフィルタ層22を覆うようにして共通電極23を形成する。具体的にはITO(インジウム錫酸化物)等の透光性導電材料をスパッタ法により成膜する。ここで上述したようにカラーフィルタ層22が凹状に形成されているため、共通電極23はカラーフィルタ層22の表面形状に倣って凹状に形成されるようになる。また、上記遮光部45は上面がテーパー形状になっているので、遮光部45の内側面に沿って共通電極23を滑らかに形成することができる。よって、共通電極23に断線が生じ難くなり、高い導通信頼性を得ることができる。
次に、図7(b)に示すように、上述した液滴吐出ヘッドHに設けられた複数のノズルから吐出されるインクを、遮光部45によって区画された画素領域内に繰り返し塗布する。これにより、画素領域には配向膜24の形成材料であるポリイミドを含むインク滴24iが選択的に配置される。
画素領域に吐出されたインク滴24iは、共通電極23を構成するITO等の透明性導電材料に対する濡れ性が悪いので、塗布後から乾燥するまでの間に隣接するが祖間で移動することが防止される。よって、カラーフィルタ層22における混色の発生を防止できる。
また、同一の画素領域Aに配置されるインク滴24iは液滴吐出ヘッドHから略同時に吐出されるため、全体が均一に交じり合って乾燥ムラが生じることが防止される。
また、同一の画素領域Aに配置されるインク滴24iは液滴吐出ヘッドHから略同時に吐出されるため、全体が均一に交じり合って乾燥ムラが生じることが防止される。
次に、図7(c)に示すように、この状態からインク滴24iを乾燥させて配向膜24を形成する。インク滴24iの乾燥処理は、例えば基板本体25Aを加熱する通常のホットプレートや、電気炉などによる加熱処理によって行うことができる。処理条件は、例えば加熱温度が200〜230℃、加熱時間が60分間程度である。これにより、インク滴24i中の溶剤を蒸発させ、イミド化を進めることができ、各画素領域にはムラのない均一な配向膜24のパターンを形成できる。
以上の工程により、画素領域A毎に均一な配向膜24が形成されてなる対向基板25を形成することができる。
以上の工程により、画素領域A毎に均一な配向膜24が形成されてなる対向基板25を形成することができる。
このようにして形成した対向基板25と、従来公知の工程により製造したTFTアレイ基板10とをシール材52を介して貼りあわせるとともに、両基板10,25間に液晶層50を挟持することで本実施形態に係る液晶装置100を製造することができる。
以上述べたように、本実施形態によれば、インクジェット法によって画素領域Aを区画する遮光部45内にインクを吐出することで、塗布後から乾燥するまでの間に機能液が移動することが防止される。このとき、カラーフィルタ層22が凹形状となっているので、該カラーフィルタ層22の表面形状に倣って共通電極23も凹形状に形成される。これにより、配向膜24を形成するインク滴24iを画素領域A内に良好に配置させることができる。また、各画素領域A内に配置されるインク滴24iは液滴吐出ヘッドHのノズルから略同時に配置されるため、全体が均一に交じり合うことで乾燥時にムラが生じることが防止される。したがって、ムラのない均一な配向膜24を得ることができ、輝度ムラのない液晶装置100を製造できる。
(電子機器)
次に、本発明の液晶装置を適用した電子機器について説明する。
図8は、本発明を適用した電子機器の一例として示す携帯電話機1000の斜視図である。
図8に示す携帯電話機1000は、表示部1001と、複数の操作ボタン1002と、受話口1003と、送話口1004とを備え、表示部1001に、上述した液晶装置100を備えて構成されている。したがって、このような液晶装置100を備えた携帯電話機1000では、表示部1001において輝度ムラのない高品質のカラー表示を行うことができる。
次に、本発明の液晶装置を適用した電子機器について説明する。
図8は、本発明を適用した電子機器の一例として示す携帯電話機1000の斜視図である。
図8に示す携帯電話機1000は、表示部1001と、複数の操作ボタン1002と、受話口1003と、送話口1004とを備え、表示部1001に、上述した液晶装置100を備えて構成されている。したがって、このような液晶装置100を備えた携帯電話機1000では、表示部1001において輝度ムラのない高品質のカラー表示を行うことができる。
なお、本発明を適用した電子機器としては、このような携帯電話機1000に限らず、例えば、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器などを挙げることできる。すなわち、本発明は、画像表示手段を備えた電子機器に広く適用することができ、何れの電子機器においても、色特性に優れた高品質のカラー表示を行うことができる。
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
A…画素領域、10…TFTアレイ基板(基板)、22R,22G,22B…カラーフィルタ層、22…カラーフィルタ層、23…共通電極(透明電極)、24…配向膜、25…対向基板(基板)、25A…基板本体、45…遮光部(隔壁)、50…液晶層、100…液晶装置
Claims (7)
- 基板上に複数の画素領域を区画する隔壁を形成する工程と、
前記画素領域内に凹形状のカラーフィルタ層を形成する工程と、
前記隔壁及び前記カラーフィルタ層を覆うようにして透明電極を形成する工程と、
液滴吐出法を用いて前記画素領域毎に機能液を吐出し、該機能液を乾燥させて前記透明電極上に配向膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 液滴吐出法を用いて、前記カラーフィルタ層を形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記隔壁として遮光層を形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記隔壁をテーパー状に形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法。
- 一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶装置において、
前記基板の一方が、複数の画素領域を区画する隔壁と、該隔壁により区画される前記画素領域に配置されて凹形状からなるカラーフィルタ層と、前記隔壁及び前記カラーフィルタ層を覆う透明電極と、該透明電極上の前記画素領域毎に配置される配向膜と、を備えることを特徴とする液晶装置。 - 前記隔壁が遮光層を兼ねることを特徴とする請求項5に記載の液晶装置。
- 前記隔壁がテーパー状に形成されることを特徴とする請求項5又は6に記載の液晶装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2007259486A JP2009086570A (ja) | 2007-10-03 | 2007-10-03 | 液晶装置の製造方法、及び液晶装置 |
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-
2007
- 2007-10-03 JP JP2007259486A patent/JP2009086570A/ja not_active Withdrawn
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