JP5233231B2 - 液晶表示装置、及び液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置、及び液晶表示装置の製造方法に関するものである。

液滴吐出ヘッドによりインクを吐出するインクジェット法（液滴吐出法）を用いて、配向膜を形成することが提案されている（例えば、特許文献１、２参照。）。このようなインクジェット法では、複数の液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出ヘッド群を基板上に相対的に移動させながら、前記各液滴吐出ヘッドのノズルからインクを吐出することで基板の全面に配向膜を形成することができる。
特開平７−９２４６７号公報 特開平７−９２４６８号公報

このように複数の液滴吐出ヘッドを用いたインク吐出工程では、隣接するヘッド間におけるノズルピッチを近づけるべく、移動方向に対して液滴吐出ヘッドを前後に配置した構成が採用される。しかしながら、このような移動方向に対して液滴吐出ヘッドが前後に配置された構成を有する液滴吐出ヘッド群は、ヘッドの連結部において隣接するヘッドのノズルから吐出されるインクが基板上に時間差がある状態で着弾する。そのため、インクの混じり方に差が生じて均一な乾燥を行うことができず、膜厚ムラ（ムラ）が生じてしまう。すると、この膜厚ムラに起因して輝度ムラが生じ、表示品位が低下するといった問題がある。そこで、このような配向膜のムラに起因する表示品質の低下を抑制することのできる技術が望まれる。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、配向膜に生じるムラに起因する表示品位の低下を抑制することのできる、液晶表示装置、及び液晶表示装置の製造方法を提供することを目的としている。

上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置は、第１の基板及び第２の基板に挟持された液晶層を有する液晶表示装置であって、前記各基板における前記液晶層側には、それぞれ液滴吐出法によって形成された際のスジ状のムラを含む配向膜が設けられており、前記各基板は、前記各基板に設けられた配向膜の前記スジ状のムラが互いにスジ状に重ならないように配置されることを特徴とする。

本発明の液晶表示装置によれば、液滴吐出法によって形成した際のムラがスジ状に重なることがないので、スジ状に重なったムラが強調されてしまい、表示品位が低下するといった不具合が生じることが防止され、配向膜に生じるムラに起因する表示品位の低下を抑制できる。

また、上記液晶表示装置においては、前記各基板に設けられた前記配向膜の前記スジ状のムラがそれぞれ平行に配置されるのが好ましい。
この構成によれば、それぞれの基板におけるムラが平面視した状態で重なることがないので、ムラが分散されることで表示品位の低下を抑制することができ、結果的に表示品位の高いものを提供できる。

本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１の基板及び第２の基板に挟持された液晶層を有する液晶表示装置の製造方法であって、前記第１の基板と、液滴吐出ヘッドが複数配置されてなる液滴吐出ヘッド群とを相対的に走査し、前記第１の基板上に機能液を吐出することでスジ状のムラを含む第１の配向膜を形成する工程と、前記第２の基板と、前記液滴吐出ヘッド群とを相対的に走査し、前記第２の基板上に機能液を吐出することでスジ状のムラを含む第２の配向膜を形成する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせる工程と、を備え、前記第１の配向膜と前記第２の配向膜は、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせた時に、それぞれのスジ状のムラが互いにスジ状に重ならないように形成することを特徴とする。

本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、第１の基板に生じるムラと第２の基板に生じるムラとが基板貼り合せ時にスジ状に重なることがないので、スジ状に重なったムラが強調されてしまい、表示品位が低下するといった不具合が生じることが防止され、配向膜に生じるムラに起因する表示品位の低下を抑制できる。

また、上記液晶表示装置の製造方法においては、前記第１の配向膜及び前記第２の配向膜の前記スジ状のムラがそれぞれ平行となるように前記第１の基板と前記第２の基板を貼り合わせるのが好ましい。
この構成によれば、第１の基板、及び第２の基板におけるムラが平面視した状態で重なることがないので、ムラが分散されることで表示品位の低下を抑制することができ、より表示品位の高いものを提供できる。

また、上記液晶表示装置の製造方法においては、前記第２の配向膜を形成する工程においては、前記第１の配向膜を形成する工程における前記第１の基板と前記液滴吐出ヘッド群の相対位置を走査方向に交差する方向に前記液滴吐出ヘッドのノズル１ピッチ以上ずらした状態で走査するのが好ましい。
この構成によれば、第２の配向膜を形成する際に、基板に対する液滴吐出ヘッド群の相対位置をノズル１ピッチ以上ずらすことで、第１の配向膜のムラにスジ状に重ならない第２の配向膜を容易に形成することができる。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明するが、本発明の技術範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。また、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。

まず、本発明の液晶表示装置の製造方法の一実施形態に基づいて製造された液晶表示装置の構成について説明する。
図１（ａ）は液晶表示装置のうち、主に配向膜を示す部分平面構成図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）に対応する液晶表示装置１００の部分断面構成図である。図２は液晶表示装置１００の全体構成を示す図であり、図３は液晶表示装置１００の等価回路を示す図である。

図１（ｂ）に示す断面構造をみると、液晶表示装置１００は、ＴＦＴアレイ基板（第１の基板）１０と、これに対向配置される対向基板（第２の基板）２５とを備え、これら両基板１０，２５間に液晶層５０が挟持されている。液晶層５０は基板面内でほぼ一定の層厚に形成されている。ＴＦＴアレイ基板１０の外面側にあたる液晶パネルの背面側には、光源、リフレクタ、導光板などを有するバックライト６０が配設されている。

前記基板１０，２５の液晶層５０側には、配向膜（第１の配向膜）１４、及び配向膜（第２の配向膜）２４が設けられている。これら配向膜１４，２４は、詳細については後述するように液滴吐出法（インクジェット法）により形成されたものであって、ポリイミドから構成される。また、本実施形態では、複数の液滴吐出ヘッドを含む液滴吐出ヘッド群を基板上に移動させつつ、配向膜の形成材料を含んだインクを基板上に吐出することで配向膜１４，２４を形成している。

このような液滴吐出プロセスを用いた場合、配向膜１４，２４にはスジ状のムラ１４ａ，２４ａが形成されてしまう。すなわち、本実施形態に係る配向膜１４，２４は、スジ状のムラ１４ａ，２４ａを含んだものとなる。

図１（ａ）は液晶表示装置１００を対向基板２５側から視たものであり、図に示されるようにこれらムラ１４ａ，２４ａがスジ状に重ならないようになっている。具体的に本実施形態では、各配向膜１４，２４のムラ１４ａ，２４ａがそれぞれ平行となるように配置される。

ところで、ＴＦＴアレイ基板１０側における配向膜１４のムラ１４ａ、及び対向基板２５側における配向膜２４のムラ２４ａが平面視した状態で重なるとムラが強調されることで液晶表示装置１００における表示品位が低下するといった問題が発生してしまう。

一方、本実施形態に係る液晶表示装置１００では、上述したように各配向膜１４，２４のムラ１４ａ，２４ａがそれぞれ平行となっているので、表示領域内においてムラ１４ａ．２４ａ同士が重なる（交点）が生じることが防止される。したがって、表示領域全体にムラが分散されることで、ムラ１４ａ，２４ａに起因する表示品位の低下が抑制されたものとなる。

ＴＦＴアレイ基板１０は、石英、ガラス等の透光性材料からなる基板本体１０Ａを基体としてなり、基板本体１０Ａの内面側（液晶層５０側）に、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電材料からなる画素電極９が各画素領域にそれぞれ形成されており、該画素電極９を覆うように上記配向膜１４が形成されている。

なお、ＴＦＴアレイ基板１０には画素電極９を駆動するスイッチング素子としてのＴＦＴが形成されているが、本図ではその図示を省略している。また、基板本体１０Ａの外面側には、位相差板１６と偏光板１７とが、基板本体１０Ａ側から順に積層されている。

対向基板２５は、石英、ガラス等の透光性材料からなる基板本体２５Ａを基体として備え、基板本体２５Ａの内面側には、上述したように遮光部４５によって区画された領域にカラーフィルタ層２２が形成されている。

遮光部４５は例えばカーボンブラックを含む導電性材料等から構成される。また、カラーフィルタ層２２は、平面視略格子状に延在する遮光部４５と、遮光部４５の間隙に形成された複数の平面視略矩形状の各色が着色された着色層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂとを備えている。この遮光部４５によって区画される領域は、液晶表示装置１００における各画素領域を構成している。また、遮光部４５は、隣接する着色層２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂからの光の混色を防ぐ機能を奏する。

また、遮光部４５及びカラーフィルタ層２２を覆うようにしてＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電材料からなる共通電極２３が形成されている。さらに、共通電極２３を覆うようにして上記配向膜２４が形成されている。

基板本体２５Ａの外面側には、位相差板２６と偏光板２７とが基板本体２５Ａ側から順に積層されている。
上記偏光板１７，２７は、特定方向に振動する直線偏光のみを透過させる機能を有する。また位相差板１６，２６は、必要に応じて設けられ、例えば可視光の波長に対して略１／４波長の位相差を持つλ／４位相差板や、視角補償機能を有する位相差板が用いられる。

次に、図２、図３を参照して本発明に係る液晶表示装置の具体的な構成例について説明する。なお、図２、図３において図１に示した液晶表示装置１００と共通の構成要素には同一の符号を付してその説明を省略することとする。

図２に示すように、液晶表示装置１００は、ＴＦＴアレイ基板１０と、対向基板２５とが、平面視略矩形枠状のシール材５２を介して貼り合わされ、このシール材５２によって区画された領域内に液晶層５０が封入された構成を備える。シール材５２の内側の領域には、遮光性材料からなる周辺見切部５３が矩形枠状に形成されている。シール材５２の外側の周辺回路領域には、データ線駆動回路２０１および外部回路実装端子２０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って配設されており、この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路１０４，１０４が設けられている。ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺には、表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路１０４，１０４間を接続する複数の配線１０５が形成されている。また、対向基板２５の角部には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２５との間で電気的導通をとるための基板間導通材１０６が配設されている。

図３は、本実施形態の液晶表示装置１００の透過回路図である。本実施の形態の液晶表示装置において、画像表示領域を構成するマトリクス状に配置された複数のドットには、画素電極９と当該画素電極９を制御するためのスイッチング素子であるＴＦＴ３０がそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線６ａに対してグループ毎に供給される。また、走査線３ａがＴＦＴ３０のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線３ａに対して走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極９はＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけオンすることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。

画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、共通電極２３との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークするのを防止するために、画素電極９と共通電極２３との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。尚、符号３ｂは容量線である。

本実施形態に係る液晶表示装置１００によれば、液滴吐出法によって配向膜１４，２４を形成した際に配向膜１４，２４に生じるムラが重なることがないので、ムラが強調されてしまい、表示品位が低下するといった不具合が防止され、配向膜１４，２４に生じたムラに起因した表示品位の低下が抑制されたものとすることができる。

（液晶表示装置の製造方法）
次に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法の一実施形態として、上記液晶表示装置１００を製造する工程を例に説明する。本発明に係る製造方法は、ＴＦＴアレイ基板１０、対向基板２５の内面側（液晶層５０側）に液滴吐出法を用いて配向膜１４，２４を形成する工程に特徴を有している。以下の説明では液滴吐出法を用いた配向膜１４，２４の形成工程について詳細に説明する。

まず、配向膜１４，２４を形成するインクジェット（液滴吐出）プロセスに用いられる液滴吐出装置ＩＪの構成について説明する。図４は、液滴吐出装置ＩＪの概略構成を示す図である。

液滴吐出装置ＩＪは、図４に示すように、基材Ｚ上にインク（液状材料）を所定のパターンで供給可能な液滴吐出装置（インクジェット装置）であり、水平に設置されたベース１１２と、ベース１１２上に設けられて基材Ｚを支持するステージ１３８と、ベース１１２とステージ１３８との間に介在してステージ１３８を移動可能に支持する第１移動装置１３０と、ステージ１３８に支持されている基材Ｚに対して所定の材料を含むインク滴を定量的に吐出（滴下）可能な液滴吐出ヘッド群２０と、液滴吐出ヘッド群２０を移動可能に支持する第２移動装置１４０とを備える。

ここで、上記液滴吐出ヘッド群２０の構成について詳しく説明する。図５は液滴吐出ヘッド群２０の概略構成図である。図５に示されるように、液滴吐出ヘッド群２０は、インクを吐出するためのノズル１９が形成された液滴吐出ヘッド２０ａを複数備えており、その幅がインクを吐出するための基材Ｚ（本実施形態では、基板１０，２５に相当）の横幅よりも広くなっている。これにより、液滴吐出ヘッド群２０は基材Ｚ上を１度だけ走査することで基材Ｚの全面に所望の薄膜を形成可能となっている（本実施形態では、配向膜１４，２４を形成している）。

これら各液滴吐出ヘッド２０ａは基材Ｚに対する相対的な移動方向に対して前後にずれて配置（本実施形態では、千鳥状に配置）されている。
このような配置構成を採用することで、図５中波線で囲まれる領域内において隣接するヘッド２０ａ同士のノズル１９間のピッチを狭めることが可能となる。
また、液滴吐出ヘッド群２０は、２つの液滴吐出ヘッド２０ａを備えた第一ヘッド列２９と、３つの液滴吐出ヘッド２０ａを備えた第二ヘッド列２８とを含んでいる。したがって、第一ヘッド列２９のヘッド２０ａからインクが吐出されない領域を補間するように第二ヘッド列２８のヘッド２０ａからインクが吐出することで、基材Ｚの横幅全体に亘ってインクを吐出することが可能となる。

ところで、各液滴吐出ヘッド２０ａはピエゾ方式を採用したものであり、このピエゾ方式による液滴吐出は、インクに熱を加えないため、インクの組成に影響を与えにくいという利点を有している。具体的に、液滴吐出ヘッド２０ａには、図６に示されるようにインク（機能液）Ｉを収容する液体室１２１に隣接してピエゾ素子１２２が設置されている。液体室１２１には、インクを収容するタンクを含むインク供給系１２３を介してインクが供給される。

ピエゾ素子１２２は、駆動回路１２４に接続されており、この駆動回路１２４を介してピエゾ素子１２２に電圧を印加すると、ピエゾ素子１２２が変形し、液体室１２１を押圧することによって、インクＩをノズル１９から吐出させる。この場合、印加する電圧値を変化させることにより、ピエゾ素子１２２の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子１２２の歪み速度が制御される。

また、インクの吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気機械変換式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。このうち、帯電制御方式は、インクに帯電電極で電荷を付与し、偏向電極でインクの飛翔方向を制御してノズルからインクを吐出させるものである。一方、加圧振動方式は、インクに３０ｋｇ／ｃｍ２程度の超高圧を印加して、ノズルの先端からインクを吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には、ノズルからインクが直進して吐出され、制御電圧をかけると、インク間に静電的な反発が起こり、インクが飛散してノズルから吐出されない。
一方、電気機械変換方式は、上述したように、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによってインクを貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間からインクを押し出してノズルからインクを吐出させるものである。
一方、電気熱変換方式は、インクを貯留した空間内に設けたヒータにより、インクを急激に気化させてバブル（泡）を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、インクを貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルにインクのメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてからインクを引き出すものである。
また、この他にも、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術もある。インクジェット法は、インクの使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量のインクを的確に配置できるという利点を有する。なお、インクジェット法により吐出されるインク（流動体）の一滴の量は、例えば１〜３００ナノグラムである。

液滴吐出ヘッド群２０の吐出動作や第１移動装置１３０及び第２移動装置１４０の移動動作を含む液滴吐出装置ＩＪの動作等を制御する制御装置６１を備える。
なお、ベース１１２の前後方向に沿った方向をＹ方向、これに対してベース１１２の左右方向に沿った方向をＸ方向とする。また、Ｘ方向及びＹ方向に垂直な方向をＺ方向、Ｚ軸回りの回転方法をθｚ方向とする。

第１移動装置１３０は、ベース１１２の上に設置されたガイドレール１３２と、このガイドレール１３２に沿って移動可能に支持されたスライダー１３４と、スライダー１３４を移動させるリニアモータ等の駆動部（不図示）とから構成される。
そして、制御装置６１からの指示により、第１移動装置１３０を駆動することにより、スライダー１３４をガイドレール１３２に沿ってＹ方向に移動させて、基材Ｚの位置決めすることができる。

また、スライダー１３４上には、Ｚ軸回り（θｚ）用のモータ１３６を介してステージ１３８が支持される。モータ１３６は、例えばダイレクトドライブモータであり、モータ１３６を駆動することによりステージ１３８をスライダー１３４に対して微少にθｚ方向に回転させることができる。すなわち、第１移動装置１３０は、ステージ１３８をＹ方向及びθｚ方向に移動可能に支持する。ステージ１３８は基材Ｚを保持するものであり、上面に設けた不図示の吸着保持装置により、基材Ｚをステージ１３８上に吸着保持可能としている。

第２移動装置１４０は、ベース１１２の略中央に立設された２本の支柱７４と、支柱７４によりＸ方向に沿って固定されたコラム７６と、コラム７６に支持されたガイドレール１４２と、ガイドレール１４２に沿ってＸ方向に移動可能に支持されたスライダー１４４と、スライダー１４４を移動させるリニアモータ等の駆動部（不図示）とから構成される。
そして、制御装置６１からの指示により、第２移動装置１４０を駆動することにより、スライダー１４４をガイドレール１４２に沿ってＸ方向に移動させて、液滴吐出ヘッド群２０の位置決めすることができる。なお、第２移動装置１４０によるスライダー１４４の移動方向であるフィード方向は、第１移動装置１３０によるスライダー１３４の移動方向であるスキャン方向と直交する方向である。

また、スライダー１４４には、モータ１４６、４８を介して液滴吐出ヘッド群２０が支持される。そして、モータ１４６を作動することにより、液滴吐出ヘッド群２０をＺ方向に沿って微少に上下移動させて位置決めが可能となる。また、モータ１４８を作動することにより、液滴吐出ヘッド群２０をＺ軸回り（θｚ方向）に微少回転して位置決め可能である。

すなわち、第２移動装置１４０は、液滴吐出ヘッド群２０をＸ方向に移動可能に支持するとともに、液滴吐出ヘッド群２０をＺ方向、θｚ方向に微動可能に支持する。これにより、液滴吐出ヘッド群２０の液滴吐出面をステージ１３８上に戴置した基材Ｚに対して正確に位置合わせすることができる。なお、液滴吐出ヘッド群２０の液滴吐出面と基材Ｚの上面とを１ｍｍ以下に近接させることにより、吐出した液滴の飛行曲りを抑えて、液滴の配置精度の向上が図られる。

続いて、上記液滴吐出装置ＩＪを用いて配向膜を製造する工程について説明する。
図７（ａ）はＴＦＴアレイ基板１０上に配向膜１４を形成する工程を示す図であり、図７（ｂ）は対向基板２５上に配向膜２４を形成する工程を示す図である。なお、同図中においては両基板１０，２５の構成を簡略化した状態で図示している。

図７（ａ）に示される工程では、まず従来公知の方法によりＴＦＴ３０及び画素電極９等を形成した基板本体１０Ａを基材Ｚとして液滴吐出装置ＩＪのステージ１３８上に配置する。また、図７（ｂ）に示される工程においても同様に、従来公知の方法によりカラーフィルタ層２２及び共通電極２３を形成した基板本体２５Ａを基材Ｚとして液滴吐出装置ＩＪのステージ１３８上に配置する。

続いて、液滴吐出ヘッド群２０から配向膜形成材料を含むインクＩを吐出し、乾燥処理を施すことで基板本体１０Ａ，２５Ａ上に配向膜１４、２４を形成できる。
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インクＩの溶媒としては、凝集を起こさないものであれば特に限定されるものではなく、例えば、水や、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテル系化合物、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を例示できる。

インクＩの表面張力は、０．０２Ｎ／ｍ〜０．０７Ｎ／ｍの範囲内であることが好ましい。インクジェット法でインクを吐出する際、表面張力が０．０２Ｎ／ｍ未満であると、インクのノズルに対する濡れ性が増大するため、飛行曲りが生じやすくなり、０．０７Ｎ／ｍを超えると、ノズル先端でのメニスカスの形状が安定しないため、吐出量や、吐出タイミングの制御が困難になる。表面張力を調整するため、前記溶媒には、基材との接触角を大きく低下させず、かつ液晶の配向に影響のない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調節剤を微量添加するとよい。ノニオン系表面張力調節剤は、インクＩの基板への濡れ性を向上させ、膜のレベリング性を改良し、膜の微細な凹凸の発生などの防止に役立つものである。表面張力調節剤は、必要に応じて、アルコール、エーテル、エステル、ケトン等の有機化合物を含んでもよい。

インクＩの粘度は、１ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。インクジェット法を用いてインクＩを液滴として吐出する際、粘度が１ｍＰａ・ｓより小さい場合には、ノズル周辺部がインクＩの流出により汚染されやすく、また粘度が５０ｍＰａ・ｓより大きい場合は、ノズルの目詰まり頻度が高くなり、円滑な液滴の吐出が困難となる。

基板上に吐出したインクＩの乾燥処理としては、例えばホットプレートや、電気炉などによる加熱処理によって行うことができる。また、この乾燥処理は、ランプアニールによって行うこともできる。ランプアニールに使用する光の光源としては、特に限定されないが、赤外線ランプ、キセノンランプ、ＹＡＧレーザ、アルゴンレーザ、炭酸ガスレーザ、ＸｅＦ、ＸｅＣｌ、ＸｅＢｒ、ＫｒＦ、ＫｒＣｌ、ＡｒＦ、ＡｒＣｌなどのエキシマレーザなどを光源として使用することができる。なお、このような熱処理又は光処理は、通常大気中で行うが、必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中で行うこともできる。

ところで配向膜１４、２４には、スジ状のムラ１４ａ，２４ａがそれぞれ生じる。
以下、配向膜１４、２４にムラ１４ａ，２４ａが生じる理由について説明する。
図８は液滴吐出ヘッド群２０から基材Ｚ上にインクを吐出した状態を示す図である。液滴吐出工程では、まず基材Ｚ上に図８（ａ）に示されるように液滴吐出ヘッド群２０のうち、第一ヘッド列２９の液滴吐出ヘッド２０ａからインクＩが吐出される。これにより、第一ヘッド列２９の各液滴吐出ヘッド２０ａに対応する位置にインク滴ＩＡが形成される。液滴吐出ヘッド群２０の移動に伴って、図８（ｂ）に示すように、第二ヘッド列２８の液滴吐出ヘッド２０ａからインクＩが吐出される。これにより、第二ヘッド列２８の各液滴吐出ヘッド２０ａに対応する位置にインク滴ＩＢが形成される。

したがって、隣接する第一ヘッド列２９の液滴吐出ヘッド２０ａ及び第二ヘッド列２８の液滴吐出ヘッド２０ａから吐出されるインク滴ＩＡ，ＩＢは、それぞれ時間差が生じた状態で基材Ｚ上に着弾するようになる。そのため、インク滴ＩＡ，ＩＢの混じり方に差が生じることで乾燥工程において均一な乾燥が行われず、膜厚ムラとなる。すなわち、液滴吐出ヘッド群２０を用いて基板１０，２５上に配向膜１４，２４を形成した場合、第一ヘッド列２９及び第二ヘッド列２８の境界部に対応する位置において図７（ａ），（ｂ）に示されるようなムラ１４ａ，２４ａが生じることとなる。

本実施形態では、図７（ｂ）に示される対向基板２５における配向膜２４の形成時に、基板に対する液滴吐出ヘッド群２０の相対位置Ｘを液滴吐出ヘッド２０ａにおけるノズル１ピッチＰ以上ずらした状態で行っている。これにより、図７（ｂ）に示されるように配向膜２４に生じるムラ２４ａを図７（ａ）で形成された配向膜１４に生じるムラ１４ａに対して簡便且つ確実にずらすことができる。

このとき、液滴吐出ヘッド群２０は、基板１０Ａ，２５Ａに対して平行に移動する。そのため、上記ムラ１４ａ，２４ａはそれぞれ液滴吐出ヘッド群２０の移動方向に沿ってスジ状に形成される。

続いて、このようにして形成した基板１０，２５間に液晶層５０を挟持するとともに、シール材５２を介して互いに貼り合わせる。
このとき、前記ムラ１４ａ，２４ａがそれぞれ平行となるように両方の基板１０，２５を貼り合わせる。これにより、ＴＦＴアレイ基板１０、及び対向基板２５におけるムラ１４ａ，２４ａが平面視した状態で重なることがなくなり、ムラが分散されることで表示品位の低下が抑制された表示品位の高い液晶表示装置１００を製造することができる。

（変形例）
上記実施形態では、複数の液滴吐出ヘッド２０ａを備えた液滴吐出ヘッド群２０を移動させることで基板上に配向膜を形成している。しかしながら、配向膜を形成する基板の幅に対して液滴吐出ヘッドの吐出面積が小さい、すなわち図９に示されるように１個の液滴吐出ヘッド２０ａを用いて基板上に配向膜を形成する場合、同図中−Ｙ軸方向に沿ってインクを吐出しながら液滴吐出ヘッド２０ａを基板の一端側に到達させた後、基板の他端側に液滴吐出ヘッド２０ａを戻しつつ同図中＋Ｘ軸方向に移動させる。そして、再度基板上にインクを吐出する。このように液滴吐出ヘッド２０ａを改行させつつ、インク吐出を行うことによっても基板全面に配向膜を形成することが可能となる。図９に示されるように液滴吐出ヘッドを改行する部分において上述したようなムラが形成される。このような場合においても、本発明は有効である。

この場合、ＴＦＴアレイ基板１０の配向膜形成時と、対向基板２５の配向膜形成時とにおいて、基板に対する液滴吐出ヘッド２０ａの吐出開始位置（相対位置）をそれぞれ異ならせることで配向膜１４，２４に形成されるムラの位置を異ならせるようにすればよい。これにより、ムラが少なくともスジ状に重ならないように基板１０，２５を貼り合せることができ、ムラが分散されることで表示品位の低下が抑制された表示品位の高い液晶表示装置を製造することができる。

（電子機器）
次に、本発明の液晶表示装置を適用した電子機器について説明する。
図１０は、本発明を適用した電子機器の一例として示す携帯電話機１０００の斜視図である。
図１０に示す携帯電話機１０００は、表示部１００１と、複数の操作ボタン１００２と、受話口１００３と、送話口１００４とを備え、表示部１００１に、上述した液晶表示装置１００を備えて構成されている。したがって、このような液晶表示装置１００を備えた携帯電話機１０００では、表示部１００１において輝度ムラのない高品質のカラー表示を行うことができる。

なお、本発明を適用した電子機器としては、このような携帯電話機１０００に限らず、例えば、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器などを挙げることできる。すなわち、本発明は、画像表示手段を備えた電子機器に広く適用することができ、何れの電子機器においても、色特性に優れた高品質のカラー表示を行うことができる。

なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。

（ａ）は配向膜を示す部分平面構成図、（ｂ）は断面構成図である。 液晶表示装置の全体構成を示す図である。 液晶表示装置の等価回路を示す図である。 液滴吐出装置の概略構成を示す図である。 液滴吐出ヘッド群の概略構成を示す図である。 インク吐出動作の説明図である。 （ａ）、（ｂ）は配向膜の形成工程を説明するための図である。 （ａ）、（ｂ）は配向膜に生じるムラを説明するための図である。 本発明に係る変形例を示す図である。 電子機器の一実施形態である携帯電話の構成図である。

符号の説明

１０…ＴＦＴアレイ基板（第１の基板）、１４…配向膜（第１の配向膜）、２０…液滴吐出ヘッド群、２０ａ…液滴吐出ヘッド、２４…配向膜（第２の配向膜）、２４ａ…ムラ、２５…対向基板（第２の基板）、２５ａ…ムラ、５０…液晶層、１００…液晶表示装置、Ｉ…インク（機能液）

Claims (6)

1. 第１の基板及び第２の基板に挟持された液晶層を有する液晶表示装置であって、
   前記第１の基板における前記液晶層側にはスジ状のムラを含む配向膜が設けられ、前記第２の基板における前記液晶層側にはスジ状のムラを含む配向膜が設けられており、
   前記第１の基板の配向膜に設けられたスジ状のムラと、前記第２の基板の配向膜に設けられたスジ状のムラが互いに重ならないように配置されることを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記第１の基板の配向膜に設けられたスジ状のムラと、前記第２の基板の配向膜に設けられたスジ状のムラが平行に配置されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 第１の基板及び第２の基板に挟持された液晶層を有する液晶表示装置の製造方法であって、
   前記第１の基板上にスジ状のムラを含む第１の配向膜を形成する工程と、
   前記第２の基板上にスジ状のムラを含む第２の配向膜を形成する工程と、
   前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせる工程と、を備え、
   前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせた時に、前記第１の配向膜のスジ状のムラと前記第２の配向膜のスジ状のムラは、互いに重ならないことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
4. 前記第１の配向膜のスジ状のムラ及び前記第２の配向膜のスジ状のムラが平行となるように前記第１の基板と前記第２の基板を貼り合わせることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法。
5. 前記第１の配向膜を形成する工程及び前記第２の配向膜を形成する工程は、前記第１の基板又は前記第２の基板と、複数の液滴吐出ヘッドとを相対的に走査し、前記第１の基板上又は前記第２の基板上に機能液を吐出することを特徴とする請求項３又は４に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. 前記第２の配向膜を形成する工程においては、前記第１の配向膜を形成する工程における前記第１の基板と前記複数の液滴吐出ヘッドの相対位置を走査方向と交差する方向に前記液滴吐出ヘッドのノズル１ピッチ以上ずらした状態で走査することを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。

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