JP2009081238A - 基板の液処理装置及び液処理方法並びにフラットディスプレイ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】現像ステージSt1の内部に長さ寸法が基板1の幅方向の全長より長い寸法を有する排液ノズル11が設置されており、その噴射通路13は搬送される基板1に対して45度以下となり、噴射口13aは基板1に対して平行な整流化面15に開口しており、整流化面15と基板1の表面1aとの間には、均一な隙間Gを有するスリット状の通路が形成され、噴射口13aより前方側の部位には噴射通路13の傾斜角より小さい角度の空気呼び込み壁16が形成されており、噴射通路13から噴射された加圧空気が噴射口13aから噴射する際に、コアンダ効果により整流化面15への密着性が高くなり、スリット状の通路内でほぼ確実に基板1の表面と平行な流れにとなる。
【選択図】図5
Description
2 ローラコンベア
3 現像液シャワー
4 水置換シャワー
10 処理液回収手段
11 排液ノズル
13 噴射通路
13a 噴射口
14 裏面噴射ノズル
15 整流化面
16 空気呼び込み壁
St1 現像ステージ
St2 水置換ステージ
Claims (12)
- 基板を搬送する間に、この基板の表面に処理液を供給して所定の液処理を行う液処理ステージと、この処理液による処理を終了させる処理停止ステージとを備えた基板の液処理装置であって、
前記液処理ステージで前記基板の表面に滞留している処理液のうち、この基板の全面が濡れた状態を保つ液膜を残して余剰の処理液を前記液処理ステージに戻すために、基板搬送方向の後方側に向けて、この基板表面に対して平行な液回収用の空気流を形成する処理液回収手段を前記液処理ステージに設ける
構成としたことを特徴とする基板の液処理装置。 - 前記処理液回収手段は、基板搬送方向と直交する方向の全長に及ぶように配置した排液ノズルから構成され、この排液ノズルは基板搬送方向の後方側に向けて斜め上方から加圧空気を噴射させる噴射通路を備え、この加圧空気の噴射角は前記基板の表面に対して45度以下の角度となし、かつ前記噴射通路を形成した位置より基板搬送方向の後方側の位置に、この基板の表面と平行な整流化面を形成して、前記噴射通路から噴射させた空気をこの整流化面に沿って前記基板と平行な方向に向けて流すように構成したことを特徴とする請求項1記載の基板の液処理装置。
- 前記噴射通路の基板搬送方向の前方側には、前記噴射通路から噴射された空気の流れを前記整流化面に沿う方向にガイドするために、前記噴射通路の前記基板の表面への傾斜角より小さい角度となった空気呼び込み壁を設ける構成としたことを特徴とする請求項1または2記載の基板の液処理装置。
- 前記基板の裏面側に対して、基板搬送方向の後方側に向けて処理液を排除するように加圧空気を噴射するための裏面噴射ノズルが前記基板を挟んで前記排液ノズルと対向する位置に設ける構成としたことを特徴とする請求項1乃至3記載の基板の液処理装置。
- 前記液処理ステージは基板に現像液を供給して現像処理を行う現像ステージであり、また前記処理停止ステージは、現像液を水置換させる水置換ステージであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の基板の液処理装置。
- 前記請求項5の基板はフラットディスプレイ用のパネルであって、このパネルを用いて製造したフラットディスプレイ装置。
- 基板を搬送する間に、その表面に処理液を供給して所定の液処理を行う液処理工程と、
前記液処理工程において、基板搬送方向より後方側に向けて、前記基板の表面と平行な方向の空気流を形成することによって、前記基板の表面に滞留している処理液を、この基板の全面が濡れた状態を保つ液膜を残し、余剰の処理液を前記液処理工程側に戻す処理液回収工程と、
前記基板の表面に残留している処理液を除去して、水と置換することによって、この処理液による処理を終了させる処理停止工程と
からなる基板の液処理方法。 - 前記処理液回収工程では、前記基板と平行であって、この基板搬送方向の後方側に向けて整流状態で空気を流すようにしたことを特徴とする請求項7記載の基板の液処理方法。
- 前記基板に対して、基板搬送方向と直交する方向の全長にわたって基板搬送方向の後方側に向けて斜め方向から45度以下の角度で空気を噴射させて、この搬送基板の表面と平行な空気流を形成し、かつこの噴射空気流による負圧領域に向けて、前記噴射空気流の前記基板への傾斜角より小さい角度で、この負圧領域に向けて空気を呼び込むようにしたことを特徴とする請求項8記載の基板の液処理方法。
- 前記処理液回収工程では、前記基板の裏面側にも、基板搬送方向の後方側に向けて処理液を排除する空気流を形成するようにしたことを特徴とする請求項8記載の液処理方法。
- 前記液処理工程では、上方から前記基板に向けて現像液を供給して現像処理を行うものであることを特徴とする請求項7乃至請求項10のいずれかに記載の基板の液処理方法。
- 前記請求項11の基板はフラットディスプレイ用のパネルであって、このパネルを用いて製造したフラットディスプレイ装置。
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CN106325008A (zh) * | 2015-06-18 | 2017-01-11 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种瀑布式显影喷嘴 |
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CN106325008B (zh) * | 2015-06-18 | 2019-06-11 | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 | 一种瀑布式显影喷嘴 |
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