JP2009076538A - 電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法及びそれを用いたディスプレイ - Google Patents

Abstract

【課題】前面フィルターに電極を形成しなくとも前面フィルターからアース電極を取り出すことができる方法、及び上記前面フィルターのアース電極取り出し方法を用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】基材上に導電性メッシュと前記導電性メッシュを被覆する機能性表面層を有する電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法であって、前記前面フィルターの機能性表面層側の端縁部の少なくとも一部に、機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触することが可能な形状または手段を備えたガスケットを配置し、該ガスケットの一部を導電性メッシュと接触させることを特徴とする電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法。
【選択図】図５

Description

本発明は、電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法、及びそれを用いたディスプレイに関する。

液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（以下、ＰＤＰ）などのディスプレイは、明瞭なフルカラー表示が可能な表示装置である。ディスプレイには、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的とした前面フィルターがディスプレイの視認側に配置される。特にＰＤＰはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念されており、電磁波遮蔽機能と反射防止機能等の機能性表面層を有する電磁波シールド性前面フィルター（以降、単に前面フィルターと称す）が通常用いられている。

一般的な前面フィルターは、反射防止機能、色調整機能、近赤外線遮断機能等を有する機能性フィルムと導電層（導電性メッシュや導電性金属薄膜からなる電磁波遮蔽層）が設けられたプラスチックフィルム（電磁波遮蔽フィルム）とを接着層を介して積層して形成されている。

近年、ディスプレイの低価格化に伴って前面フィルターも低価格化を余儀なくされている。上記したような２枚のフィルムからなる前面フィルターに対して、プラスチックフィルムを１枚のみにすることによって低価格化が可能となる。このような１枚のプラスチックフィルムからなる前面フィルターとして、例えば、プラスチックフィルムの一方の面に反射防止層を有し、他方の面に導電層を有する前面フィルター、あるいはプラスチックフィルム上に導電層を設け更にその上に反射防止層を積層した前面フィルター（特許文献１〜３）が提案されている。但し、特許文献２〜４の導電層は導電性メッシュを意図していないので、構成上本発明とは異なるものである。

一方、前面フィルターをディスプレイに装着したときに、前面フィルターの導電層とディスプレイ筐体（外部電極）とを電気的に接続するためのアース電極（以降、単に電極と称す）が前面フィルターに設けられている。従来から広く採用されている電極は、前面フィルターの外周端縁部に機能性フィルムを被覆しない部分を設け、外周端縁部の導電層を剥き出しにすることによって形成されている。この導電層の剥き出し部（露出部）が前面フィルターの電極となり、この電極はガスケットを介在してディスプレイ筐体（外部電極）と電気的に接続されアースされる。

図１１は、従来のディスプレイの要部の模式断面図である。前面フィルター１は表示パネル２に粘着層（図示せず）を介して貼り付けられている。前面フィルター１はプラスチックフィルム上に導電層が設けられた電磁波遮蔽フィルム１１とプラスチックフィルム上に反射防止層が設けられた機能性フィルム１２が積層されたもので、外周端縁部には、機能性フィルム１２が被覆されず、導電層を剥き出しにした電極（剥き出し電極）５が形成されている。表示パネル２の表示領域の外周は、筐体（外枠体）３が前面フィルター１を表示パネル２に押圧するように組み立てられており、剥き出し電極５と筐体３はガスケット４を介して電気的に接続され、アースされている。ここで、従来から一般的に採用されているガスケットは、弾性体、例えばスポンジやゴム等の弾性部材の周囲を導電性繊維で織った布を巻き付けたものである。

前面フィルターに電極を形成する方法として、上述したように導電層の外周端縁部を剥き出しにする方法が従来から行われている。この導電層の剥き出し部分（以降、剥き出し電極という）の形成は、前述した２枚のフィルムから成る前面フィルターの場合は、導電層を有する電磁波遮蔽フィルムより小さいサイズの機能性フィルムを積層することによって形成され、後者の導電層上に反射防止層等の機能性表面層をコーティング等によって積層した１枚のフィルムから成る前面フィルターの場合は、導電層の端部が露出するように反射防止層をコーティングすることによって形成することができる。

十分な電磁波遮蔽性能を確保するためには、長方形状の前面フィルターの４辺に電極を設けることが好ましいが、上記した剥き出し電極を４辺に設けるためには、前者のフィルターの場合は電磁波遮蔽フィルムと機能性フィルムとをシート同士で積層（シート・ツー・シート積層方式）する必要がある。しかしながら、このシート・ツー・シート積層方式は生産性に劣るという欠点がある。

一方、後者のプラスチックフィルム上に予め形成された導電層の上に更にコーティング等によって反射防止層を積層する場合は、一般的なコーティング生産ラインにおいて４辺に剥き出し電極を形成することは困難である。一般的なコーティング生産ラインでは、ロール・ツー・ロール方式で連続塗布が行われており、反射防止層の塗布幅を調整し、導電層の幅方向両端部に未塗布部を設けることによって２辺に剥き出し電極を形成することはできるが、コーティングの流れ方向に対して直交する方向については、シート状に切断した後に電極を形成する必要がある。

連続生産ラインで製造したロール状フィルターを最終仕様サイズにシートカットした後に電極を形成する方法が知られている。例えば、レーザー等で切り込み線を入れ、その切り込み線に沿って透明フィルムと接着層を剥離除去して端縁部に剥き出し電極を形成する方法（特許文献４）、レーザー等で５〜２０ｍｍの間隔の２本の切り込み線を入れ、透明フィルムと接着材を帯状に剥離して導電層を露出させる方法、及び露出した部分に粘着材が残留して粘着性が残るのを防止するために露出部分に導電塗料を薄く塗布する方法が提案されている（特許文献５）。

上述したように、前面フィルターに電極を形成することは、生産工程増による生産性の低下、電極形成のための設備の増設、及び上記特許文献４、５では安定的に電極を形成することが難しいというような問題がある。従って、前面フィルターに電極を形成しなくとも前面フィルターからアース電極を取り出すことができる方法は極めて有益である。
特開２０００−２１４３２１号公報 特開２００１−２５３００８号公報 特開２００６−５４３７７号公報 特開２００２−４３７９１号公報 特開２００４−３２７７２０号公報

従って、本発明の目的は、前面フィルターに電極を形成しなくとも前面フィルターからアース電極を取り出すことができる方法を提供することにある。本発明の他の目的は、上記前面フィルターのアース電極取り出し方法を用いたディスプレイを提供することにある。

本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。つまり本発明は以下の（１）、（２）である。
（１） 基材上に導電性メッシュと前記導電性メッシュを被覆する機能性表面層とを有する電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法であって、
前記前面フィルターの機能性表面層側の端縁部の少なくとも一部に、機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触することが可能な形状または手段を備えたガスケットを配置し、
該ガスケットの一部を導電性メッシュと接触させることを特徴とする電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法。
（２） 基材上に導電性メッシュと前記導電性メッシュを被覆する機能性表面層を有する電磁波シールド性前面フィルターが、機能性表面層が視認側となるようにディスプレイの表示パネルに装着されたディスプレイであって、
該ディスプレイは前記前面フィルターより視認側でかつ表示パネルの表示領域の外周の少なくとも一部にガスケットが配置され、ガスケットは前記前面フィルターの機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触することが可能な形状または手段を備え、前記ガスケットの少なくとも一部が前記前面フィルターの機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触するように配置されたことを特徴とするディスプレイ。

本発明によれば、ディスプレイの表示パネルに装着される前面フィルターに電極を形成しなくとも導電層からアースをとることが可能になるので、前面フィルターを安価に製造することができ、惹いてはディスプレイの低価格化が図られる。

本発明は、導電層として導電性メッシュを用い、導電性メッシュを被覆するように機能性表面層を設けた前面フィルターと、前面フィルターの機能性表面層を貫通もしくは擦傷することができる形状または手段をもったガスケットとを用いることによって、導電性メッシュからアース電極を取り出すことが可能になった。

図１は、本発明のディスプレイの主要構成部分の模式断面図である。前面フィルター１は表示パネル２に貼り付けられており、表示パネル２の画像表示領域の外周には筐体３が前面フィルター１を表示パネル２に押圧するように組み立てられている。前面フィルター１と筐体４の間にはガスケット４が配置されている。ここで、ガスケット４は前面フィルター１の機能性表面層を貫通もしくは擦傷することができる形状または手段を有しており、筐体３を押圧することによって、ガスケット４の一部が機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触し、導電性メッシュからアースを取ることができるようになる。

本発明にかかるガスケットは、前面フィルターの機能性表面層を貫通もしくは擦傷することができる形状または手段を有しており、以下にそのいくつかを例示するが本発明はこれらに限定されることはない。図２は、本発明のガスケットの一例を示す模式断面図である。図２ａのガスケットは導電性金属板４１の一方の面に導電性の突起４２を有しており、図２ｂのガスケットは導電性金属板４１の一方の面に導電性の針４３を有している。また、上記の突起や針の代わりに連続刃を用いることができる。

ここで、上記した突起、針及び連続刃の高さは、１０μｍ以上が好ましく、２０μｍ以上がより好ましく、特に５０μｍ以上が好ましい。そして、突起、針及び連続刃の高さの上限は、２ｍｍ以下が好ましく、１ｍｍ以下がより好ましい。本発明にかかる前面フィルターは、導電性メッシュ上には機能性表面層のみが存在することが好ましく、ガスケットの突起、針もしくは連続刃が機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触するのに上記高さの範囲が適当である。

本発明の別の態様のガスケットを用いたディスプレイの模式断面図を図３に示す。図３では、導電性金属からなる板バネガスケット４が用いられている。図４は板バネガスケットの模式断面図であり、導電性の板バネ４４に導電性の突起４２が設けられている。

図５は、ガスケットの一部が機能性表面層を貫通して導電性メッシュと接触した状態を示す拡大模式断面図である。ガスケット４の突起４２が機能性表面層１３を貫通して導電性メッシュ１４と接触している。図５の符号１５は基材である。

本発明に用いられる導電性メッシュは、詳しくは後述するが、線幅が５〜４０μｍ、ピッチが１００〜５００μｍ程度であり、前面フィルターの透過率を低下させないために７０％以上の開口率になるように設計するのが好ましく（ここで、導電性メッシュの開口率とは、導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を意味する）、従って線部分の面積より開口部分の面積の方が圧倒的に大きい。このような導電性メッシュにガスケットを効率よく接触させるには、突起及び連続刃が好ましくい。

また、突起の形状としては、上記の導電性メッシュと効率よく接触させるという観点から、円錐や多角錐（例えば３角錐から１２角錐）が好ましい。更に上記観点から、円錐や多角錐における傾斜側面の傾斜角度（傾斜側面と底面とが成す角度）は、１０〜７０度が好ましく、２０〜６０度が好ましい。また、連続刃の断面形状は三角形が好ましい。

本発明は、前面フィルターの４辺全てからアースを取ることが好ましい。この場合、前面フィルターの４辺に本発明のガスケットを配置してもよく、また、前面フィルターに形成された剥き出し電極と本発明のガスケットを併用してもよい。

後者の併用する態様について説明する。本発明の前面フィルターは、後述するように、導電性メッシュ上に直接に機能性表面層を塗工して形成するのが好ましく、機能性表面層を塗工するときに、導電性メッシュの幅に対して機能性表面層の塗工幅を調整する（両者の中心線を合わせて塗工幅を小さくする）ことによって、導電性メッシュの幅方向両端部に機能性表面層を被覆しない部分を形成することができる。予め導電性メッシュの幅方向長さを前面フィルターの長辺もしくは短辺と合わせておくことによって、長辺側もしくは短辺側の対向する２辺に導電性メッシュの剥き出し電極が形成される。導電性メッシュの幅方向長さを前面フィルターの長辺もしくは短辺より少し大きくしておき、仕上げ段階で所定サイズにカットしてもよい。

上記のようにして、対向する２辺の端縁部に剥き出し電極が形成された前面フィルターを表示パネルに装着し、剥き出し電極が形成されている２辺には従来のガスケットを用い、残る２辺に本発明のガスケットを用いることによって前面フィルターの４辺全てからアースを取ることができる。

また、上記の機能性表面層の塗工幅を調整して導電性メッシュの剥き出し電極を形成する態様において、前面フィルターが幅方向に２面取りできるように、導電性メッシュの幅及び機能性表面層の塗工幅を大きくして製造する場合は、前面フィルターの１辺のみに剥き出し電極が形成される。このような前面フィルターの場合は残る３辺に本発明のガスケットが用いられる。従って、本発明の好ましい態様は、本発明のガスケットを少なくとも前面フィルターの対向する２辺に配置することである。

図６は、前面フィルターの上（視認側）に本発明のガスケットを配置したときの平面図であり、前面フィルター１の４辺の端縁部に本発明のガスケット４が配置されている。図７は、前面フィルターの対向する２辺には剥き出し電極が形成され、残る２辺に本発明のガスケットが配置されたときの平面図である。図７において、前面フィルター１の対向する２辺には剥き出し電極５が形成されており、残る２辺には本発明のガスケットが配置されている。図７の態様において、筐体を組み立てるときは、剥き出し電極と筐体との間には従来のガスケットが配置される。

図６、７に示しているように、本発明のガスケットは前面フィルターの辺に対してそのほぼ全長に渡って配置するのが好ましい。本発明のガスケットを配置する場合、ガスケットの一部と前面フィルターの導電性メッシュとが接触する接触部分（以降、単に接触部分と言う）が、前面フィルターの辺に対してそのほぼ全長に渡って均等に存在することは特に好ましいが、少なくとも１０ｃｍ以下の間隔で接触部分を存在させるのが好ましい。１つの接触部分におけるガスケットの一部、例えば突起もしくは針と導電性メッシュの接触点は少なくとも１点あればよく、複数点であれば尚好ましい。

前面フィルターの１つの辺に対して、その全長にほぼ均等に接触部分を存在させるのに用いられるガスケットの一例を図８に示す。図８は本発明のガスケットの長手方向の模式側面図である。ガスケット４の長さＬは、このガスケットが配置される前面フィルターの辺の長さにほぼ相当し、ガスケット４の全域にほぼ均等に突起４２が設けられている。図９は、所定間隔で接触部分を存在させるのに用いられるガスケットの一例の模式側面図である。ガスケット４には突起４２を有する接触部分Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤが間隔（Ｙ１、Ｙ２、及びＹ３）で配置されている。上記間隔（Ｙ１、Ｙ２、及びＹ３）は、１個当たり１０ｃｍ以下が好ましく、８ｃｍ以下がより好ましく、特に５ｃｍ以下が好ましい。上記間隔は等間隔であることが好ましい。

上記間隔が１０ｃｍ以下であれば、導電層から十分にアースを取ることができる。上記間隔が１０ｃｍを越えるとアースを十分に取ることができない場合がある。接触部分Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤのそれぞれの長さは特に限定されないが、前述したように少なくとも１つの導電性メッシュとの接触点があればよく、２点以上あれば尚好ましい。

ガスケットが連続刃を有する場合、図８のようにガスケットの長手方向に対してほぼその全長に連続刃を設けてもよく、また、図９のように所定間隔で連続刃を配置してもよい。後者の所定間隔で連続刃を配置する場合の間隔は上記の図９の説明と同様であり、１箇所当たりの連続刃の長さは、５〜２００ｍｍの範囲が好ましく、１０〜１００ｍｍの範囲がより好ましい。また、連続刃はガスケットの長手方向に２本以上を並列に配置することができる。

図１０は、図９に示したガスケットの別の態様の長手方向の模式側面図である。図１０のガスケットは、所定の周期で上下に湾曲した形状になっており、一方の凸湾曲部に突起４２が設けられている。この突起が設けられた凸湾曲部が導電性メッシュとの接触部分となり、接触部分の周期（間隔）は、図９のＹ１〜Ｙ３に相当する。ガスケットを図１０のように周期的に湾曲した形状とすることによって、筐体を押圧するときの力がガスケットの凸湾曲部に掛かりやすくなり、凸湾曲部に設けられた突起が前面フィルターの機能性表面層を効果的に貫通もしくは擦傷できるようになる。

次に、本発明の前面フィルターについて詳細に説明する。本発明の前面フィルターは、基材上に導電性メッシュと前記導電性メッシュを被覆する機能性表面層を有する。機能性表面層は、導電性メッシュ上に直接に被覆するのが好ましく、更に機能性表面層は導電性メッシュ上に直接に塗工して形成されるのが好ましい。

本発明にかかる機能性表面層は、前面フィルターをディスプレイの表示パネルに装着したときに、視認側の最表面となる層である。機能性表面層は、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能を有するのが好ましい。機能性表面層は単一層であっても複数層で構成されていてもよく、また複数の機能を併せ持った層であってもよい。以下に機能性表面層を構成する反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能を有する層について具体的に説明する。

反射防止機能を有する層（反射防止層）は、ディスプレイの画像表示に影響を与える蛍光灯などの外光の反射や映り込みを防止するものである。反射防止層は、表面の視感反射率が５％以下であることが好ましく、４％以下がより好ましく、特に３％以下であることが好ましい。ここで視感反射率は、分光光度計等を使用して可視領域波長（３８０〜７８０ｎｍ）の反射率を測定し、ＣＩＥ１９３１システムに準じて計算された視感反射率（Ｙ）である。

このような反射防止層としては、高屈折率層と低屈折率層とを低屈折率層が視認側になるように２層以上積層したものを用いることが好ましい。高屈折率層の屈折率は１．５〜１．７の範囲が好ましく、特に１．５５〜１．６９の範囲が好ましい。低屈折率層の屈折率は１．２５〜１．４９の範囲が好ましく、特に１．３〜１．４５の範囲が好ましい。
高屈折率層を形成する材料としては、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどを重合硬化させたもの、あるいはシリコーン系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料を架橋硬化させたもの等の有機系材料、酸化インジウムを主成分としこれに二酸化チタンなどを少量含ませたもの、あるいはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＭｇＯ、ＴｉＯ₂ 等の無機系材料が挙げられる。これらの中でも、有機系材料が好ましく用いられる。以下に本発明の高屈折率層の好ましい態様を説明する。

本発明において、高屈折率層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系で用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。特に、（メタ）アクリレート系樹脂は、活性エネルギー線照射によって容易にラジカル重合が起こり、形成される膜の耐溶剤性や硬度が向上するので好ましい。

かかる（メタ）アクリレート系樹脂として、例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
高屈折率層には、更にカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物（モノマー）を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドホスフェート、ジフェニル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸（メタ）アクリル酸エステル、２−スルホエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。

高屈折率層には、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を含有させてもよい。該開始剤としては、塗布した樹脂成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および／または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。

かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、Ｄ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、９−フェニルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、６，４’，４”−トリメトキシ−２、３−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、２，４，５−トリフェニルイミダゾイル二量体、２−ニトロフルオレン、２，４，６−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、３，３’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等が挙げられる。

また、高屈折率層には、上記開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が好ましい。

また、高屈折率層には、金属酸化物微粒子を含有してもよい。これによって帯電防止効果が得られる。金属酸化物微粒子としては錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）である。

かかる金属酸化物粒子は、平均粒子径（ＢＥＴ法により測定される非表面積（ＪＩＳ Ｒ１６２６：１９９６年）に基づく球相当径分布から計算される算術平均粒子径（ＪＩＳ Ｚ８８１９−１：１９９９年およびＺ８８１９−２：２００１年）が０．５μｍ以下の粒子が好適に使用されるが、より好ましくは、０．００１〜０．３μｍ、更に好ましくは０．００５〜０．２μｍの粒子径のものが用いられる。該平均粒子径が、０．５μｍを超えると高屈折率層の透明性を低下させることがあり、０．００１μｍ未満では、該粒子が凝集し易くヘイズ値が増大する場合がある。高屈折率層中の金属酸化物粒子の含有量は、樹脂成分１００質量％に対して、０．１〜２０質量％の範囲が好ましい。
更に、高屈折率層には、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、分散剤等の各種添加剤を含有することができる。

高屈折率層の厚みは、ハードコート層を設けない場合は、０．５〜２０μｍの範囲が好ましく、１〜１０μｍの範囲がより好ましい。

反射防止層を構成する低屈折率層は、含フッ素ポリマー、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、ＭｇＦ₂ 、ＣａＦ₂ 、ＳｉＯ₂ 等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。

低屈折率層の１つの好ましい態様として、ＭｇＦ₂やＳｉＯ₂等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマＣＶＤ法等の気相法により形成する方法、或いはＳｉＯ₂ゾルを含むゾル液からＳｉＯ₂ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。

低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。

かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの３官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。

多官能性シラン化合物として多官能性フッ素非含有シラン化合物を用いることができる。かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ，Ｎ−ジグリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの２官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの４官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。

また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径１ｎｍ〜２００ｎｍのシリカ系微粒子であることが好ましく、特に好ましくは、平均粒子径１ｎｍ〜７０ｎｍである。平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、硬度が低下することがある。一方、平均粒子径が２００ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。

かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第３２７２１１１号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、３０％以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター（商品名：ボアサイザー９３２０−ＰＣ２、（株）島津製作所製）を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に開示されているものや、特許第３２７２１１１号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。

低屈折率層の厚みは、０．０１〜０．４μｍの範囲が好ましく、０．０２〜０．２μｍの範囲がより好ましい。

防眩機能を有する層（防眩層）は、画像のギラツキを防止するものであり、表面に微小な凹凸を有する膜が好ましく用いられる。防眩層としては、例えば、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂に粒子を分散させて支持体上に塗布および硬化させたもの、あるいは、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂を表面に塗布し、所望の表面状態を有する型を押し付けて凹凸を形成した後に硬化させたものなどが用いられる。防眩層は、ヘイズ値（ＪＩＳ Ｋ ７１３６；２０００年）が０．５〜２０％であることが好ましい。

本発明の機能性表面層として、反射防止機能と防眩機能を併せ持つ層を用いることは好ましい態様の１つである。

ハードコート機能を有する層（ハードコート層）は、傷防止のために設けられる。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が１Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。

ハードコート層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。

活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。

アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いることができる。

また、反応性希釈剤とは、塗布剤の媒体として塗布工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。

また、市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズなど）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。

ハードコート層形成組成物を構成するアクリル化合物の代表的なものを例示すると、１分子中に３個以上、より好ましくは４個以上、さらに好ましくは５個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの少なくとも１種と、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の少なくとも１種とからなる混合物を主たる構成成分とし、活性エネルギー線硬化または熱硬化によって得られるハードコート層が、硬度、耐摩耗性および可撓性に優れている点で好ましく用いられる。（メタ）アクリロイルオキシ基が多すぎる場合には、単量体は高粘度となり取り扱いし難くなり、また、高分子量とならざるを得なくなって塗布液として用いることが困難となるので、１分子中の（メタ）アクリロイルオキシ基は好ましくは１０個以下である。

１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーとしては、１分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの該水酸基が、３個以上の（メタ）アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらの単量体およびプレポリマーは、１種または２種以上を混合して使用することができる。特にこれらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物は、後述するイソシアネートとの併用により、ハードコート層と隣接層との接着性を向上させることができるので特に好ましい。

これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して２０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは３０〜８０質量％、最も好ましくは３０〜７０質量％である。

上記１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して２０質量％未満の場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜を得るという点で不十分な場合がある。また、上記１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体およびプレポリマーの使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して９０質量％を超える場合は、硬化による収縮が大きく、硬化被膜に歪が残ったり、被膜の可撓性が低下したり、硬化被膜側に大きくカールするなどの不都合を招く場合がある。

また、これらの内、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して１０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％、最も好ましくは３０〜６０質量％である。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して１０質量％未満の場合には、ハードコート層とその隣接層との接着性を向上させる効果が小さい場合がある。少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して８０質量％を超える場合は、ハードコート層内の架橋密度が低下して、ハードコート層の硬度が低下する傾向がある。
次に、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。

また、分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。

すなわち、（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートなど；
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパンなど；
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類など、および；
（ｆ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類など。

分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−およびｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。

これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層形成組成物総量に対して１０〜５０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜４０質量％である。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して５０質量％を超える場合には、十分な耐摩耗性を有する硬化被膜が得られにくくなる場合がある。また、１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合が、ハードコート層形成組成物総量に対して１０質量％未満の場合には、被膜の可撓性が低下したり、基材フィルム上に設けた積層膜との接着性が低下する場合がある。

本発明において、ハードコート形成組成物を硬化させる方法としては、例えば、活性エネルギー線として紫外線を照射する方法や高温加熱法等を用いることができる。これらの方法を用いる場合には、前記ハードコート層形成組成物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。

光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。

光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層形成組成物総量に対して０．０１〜１０質量％が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２２０℃以上の高温で熱硬化させる場合には、熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。

本発明におけるハードコート層形成組成物は、ポリイソシアネート化合物を含有していることが好ましい。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−および／または２，６−トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフチレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、水添ＭＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート等の少なくとも２量体以上のものが挙げられる。これらポリイソシアネート化合物は、単独または２種以上を混合して使用することができる。

これらのポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体は、前記したハードコート層形成組成物に混合されて塗布される。上記ポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体の配合量は、接着性、表面硬度、耐湿熱性および虹彩模様低減の点で、ハードコート層形成組成物総量に対し、好ましくは０．５〜５０質量％、より好ましくは１〜３０質量％、さらに好ましくは３〜２０質量％である。上記ポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体の配合量が、ハードコート層形成組成物総量に対して０．５質量％未満の場合には、接着性向上効果が不足したり、虹彩模様の低減が不十分な場合があり、またポリイソシアネート化合物および／またはその誘導体の配合量が、ハードコート層形成組成物総量に対して５０質量％を超えると、表面硬度が低下する場合がある。

上記ポリイソシアネートを添加したハードコート層形成組成物は、その硬化効率を高める目的で有機金属系触媒を含有させることも好ましい。

有機金属系触媒は、特に限定されるものではなく、有機錫化合物、有機アルミニウム化合物、有機４Ａ族元素（チタン、ジルコニウムまたはハフニウム）化合物などが挙げられるが、安全性を考慮した場合、非錫系金属触媒である有機ジルコニウム化合物、有機アルミニウム化合物、および、有機チタン化合物から選ばれたものが好ましく適用される。有機錫化合物としては、テトラブチル錫、テトラオクチル錫、ジブチル錫ジクロライド、ジブチル錫ジラウリレートなどのジブチル錫脂肪酸塩、ジオクチル錫ジラウリレートなどのジオクチル錫脂肪酸塩が例示できる。

有機ジルコニウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機ハフニウム化合物、有機チタン化合物としては、これらの金属のオルトエステルとβ−ケトエステル（βジケトン）の反応生成物が例示され、具体的にはジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、アルミニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、アルミニウムテトライソプロポキシド、アルミニウムテトラ−ｎ−ブトキシドなどの金属オルトエステルと、アセチルアセトン、メチルアセテート、エチルアセトアセテート、ｎ−プロピルアセトアセテート、イソプロピルアセトアセテート、ｔ−ブチルアセトアセテートなどのβケトエステル（βジケトン）との反応生成物を挙げることができる。金属オルトエステルとβジケトエステル（βジケトン）の混合モル比率は４：１〜１：４程度が好ましく、より好ましくは２：１〜１：４である。４：１より金属オルトエステルが多い場合は触媒の反応性が高すぎてポットライフが短くなりやすく、１：４よりβジケトエステルが多い場合は触媒活性が低下するため好ましい態様では無い。上記有機金属系触媒の配合量は、ハードコート形成組成物総量に対して０．００１〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．０１〜５質量％、さらに好ましくは０．０１〜２質量％である。上記有機金属系触媒の配合量が、ハードコート形成組成物総量に対して０．００１質量％より少ない場合には触媒添加効果が低く、１０質量％より多くすることは経済的見地から好ましくない。

上記したハードコート層形成組成物の好ましい態様としては、ハードコート層形成組成物総量に対して、少なくともひとつの水酸基を有する多官能アクリレート化合物１０〜８０質量％、イソシアネート化合物１〜３０質量％および必要に応じて有機金属系触媒０．００１から１０質量％の範囲とするのが望ましい。さらに必要に応じて１〜２個のエチレン性不飽和結合を有する単量体を０質量％以上５０質量％以下添加しても良い。

本発明において、ハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などの安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。

シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサンを基本骨格とし、ポリオキシアルキレン基が付加されたものが好ましく、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
またハードコート層上にさらに積層膜を設ける場合には、接着性を阻害しないアクリル系レベリング剤を適用するのが好ましい。このようなレベリング剤としては「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ、ＵＨ２０００シリーズ、ＵＣ３０００シリーズ（商品名）：東亜合成化学（株）製）などを好ましく用いることができる。レベリング剤の添加量はハードコート形成組成物総量に対して、０．０１〜５質量％の範囲とするのが望ましい。

本発明で用いられる活性エネルギー線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。またさらに、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。

本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、さらに好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。

ハードコート層の厚さは、０．５〜２０μｍが好ましく、より好ましくは１〜１０μｍである。ハードコート層の厚さが０．５μｍ未満の場合には十分硬化していても薄すぎるために、表面硬度が十分でなく、傷が付きやすくなる傾向にある。一方、ハードコート層の厚さが２０μｍを超える場合には、折り曲げなどの応力により、硬化膜にクラックが入りやすくなる傾向にある。

ハードコート層には、前述した反射防止層を構成する高屈折率層としての機能を付与することができる。ハードコート層の高屈折率化は、ハードコート層形成用樹脂組成物中に高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することにより、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を用いることにより図られる。

前記高屈折率を有する超微粒子は、その粒径が５〜５０ｎｍで、屈折率が１．６５〜２．７程度のものが好ましく、具体的には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ₂（屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ₂（屈折率１．９５）、Ｓｂ₂ Ｏ₅（屈折率１．７１）、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ₂Ｏ₃（屈折率１．８７）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈折率１．９５）、ＺｒＯ₂（屈折率２．０５）、Ａｌ₂Ｏ₃（屈折率１．６３）等の微粉末が挙げられる。

前記屈折率を向上させる樹脂に含まれる分子及び原子としては、Ｆ以外のハロゲン原子、Ｓ、Ｎ、Ｐの原子、芳香族環等が挙げられる。

防汚機能を有する（防汚層）は、前面フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層の厚さは、１〜１０ｎｍの範囲が好ましい。

前述したように本発明の機能性表面層は単一層であっても、複数層であってもよい。複数構成の機能性表面層としては、ａ）ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層、ｂ）高屈折率ハードコート層／低屈折率層、ｃ）ハードコート層／防眩層、ｄ）ハードコート層／防眩性反射防止層、等が例示される。尚、上記ａ）〜ｄ）の構成において、右側に記載の層が視認側に配置される。

また、機能性表面層が単一層の場合は、複数の機能を併せ持つのが好ましい。かかる単一層の例としては、ｅ）反射防止性ハードコート層（反射防止機能とハードコート機能を有する単一層）、ｆ）防眩性ハードコート層（防眩機能とハードコート機能を有する単一層、ｇ）防眩性反射防止ハードコート層（防眩機能と反射防止機能とハードコート機能を有する単一層）、ｈ）防眩性反射防止層（防眩機能と反射防止機能を有する単一層）、等が例示される。

本発明において、機能性表面層の合計厚みは後述する導電性メッシュの厚みより大きいのが好ましく、導電性メッシュの厚みに対して機能性表面層の合計厚みは１１０％以上が好ましく、１３０％以上がより好ましい。上限は３００％以下が好ましい。機能性表面層の合計厚みを導電性メッシュの厚みに対して大きくすることによって導電性メッシュの凹凸面を埋めて均一化することができる。機能性表面層の合計厚みとしては、１〜２０μｍの範囲が好ましく、２〜１５μｍの範囲がより好ましく、特に３〜１２μｍの範囲が好ましい。

機能性表面層の厚みが上記範囲を超えて大きくなると、導電性メッシュから機能性表面層の表面までの距離が大きくなり過ぎ、本発明のガスケットの突起もしくは針と導電性メッシュとの接触が十分に行われないことがある。従って、導電性メッシュから機能性表面層の表面までの距離（導電性メッシュの線部の上面から機能性表面層の表面までの距離）は０．５〜１０μｍの範囲が好ましく、１〜８μｍの範囲が好ましく、特に１〜５μｍの範囲が好ましい。

機能性表面層は、前述したように塗工形成するのが好ましく、塗布方式としては、ディップコーティング法、スピンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、リーバースコート法、ロッドコート法、バーコート法、スプレー法、ロールコーティング法等の公知のウェットコーティング法を用いることができる。

本発明における導電性メッシュは、ディスプレイから発生する電磁波を遮蔽するためのものである。導電性メッシュの面抵抗値は、低い方が好ましく、１０Ω／□以下が好ましく、５Ω／□以下がより好ましく、特に３Ω／□以下が好ましい。面抵抗の下限値は０．０１Ω／□程度である。導電性メッシュの面抵抗値は、４端子法により測定することができる。

導電性メッシュは、スパッタ法や真空蒸着法等によって形成された金属薄膜あるいは導電性フィラーと樹脂バインダーからなる導電層に比べて、低い面抵抗値が得られるという利点がある。特に、導電性フィラーと樹脂バインダーからなる導電層では本発明が所望する面抵抗値が得られず、またスパッタ法や真空蒸着法等によって金属薄膜を形成するためには大がかりな装置が必要であり、高い生産性が得られないという問題がある。

また、導電性メッシュ上に積層される機能性表面層との密着性（接着力）の観点からも、導電性メッシュが好ましい。本発明においては、導電性メッシュ上に機能性表面層を塗工形成するのが生産性の観点から好ましいが、スパッタ法や真空蒸着法等によって形成された金属薄膜の上に組成の異なる機能性表面層を塗工形成した場合、密着性が不十分となり機能性表面層が剥離することがある。

これに対して導電性メッシュは、上記した１０Ω／□以下の面抵抗値が容易に得られ、また導電性メッシュの開口部を通して機能性表面層と基材のプラスチックフィルムとが接するので、機能性表面層とプラスチックフィルムとの密着性も十分に確保することができる。

本発明の導電性メッシュの場合は、前面フィルターの透過率を低下させないために７０％以上の開口率になるように設計するのが好ましい。ここで、導電性メッシュの開口率とは、導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を意味する。開口率を７０％以上とすることによって、導電性メッシュの線部（凸部）の面積が比較的小さくなるので、導電性メッシュの上に塗工される機能性表面層の塗工性が向上する。

更に、機能性表面層の塗工性の観点から、導電性メッシュの厚みは小さい方が好ましい。本発明においては、導電性メッシュの厚みは８μｍ以下が好ましく、６μｍ以下がより好ましい。導電性メッシュの厚みが、上記範囲を超えて大きくなると導電性メッシュ表面の凹凸が大きくなり平滑性が低下するので機能性表面層の塗布性が悪化する。導電性メッシュの厚みの下限は電磁波遮蔽性能の観点から０．２μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上がより好ましい。メッシュの線幅及び線間隔（ピッチ）は、開口率が７０％以上となるように設計するのが好ましいが、線幅としては５〜４０μｍが好ましく、線間隔は１００〜５００μｍの範囲が好ましい。

本発明において、導電性メッシュは基材上に接着層を介さずに形成するのが好ましい。ここで接着層は、粘着材あるいは接着材で構成される層を意味する。導電性メッシュと基材との間に接着層が存在すると導電性メッシュの平滑性が低下し、機能性表面層の塗布性を悪化させる。

上記観点から本発明の導電性メッシュに好適な導電性メッシュの形成方法として、１）金属薄膜をエッチング加工する方法、２）印刷パターン上にメッキする方法、３）感光性銀塩を用いる方法、４）印刷パターン上に金属膜積層後に現像する方法、及び５）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法が挙げられる。以下にそれぞれの方法を詳細に説明する。

１）金属薄膜をエッチング加工する方法は、プラスチックフィルム上に粘着材あるいは接着材からなる接着層を介さずに金属薄膜を形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフ法あるいはスクリーン印刷法等を利用してエッチングレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。金属薄膜の形成は、金属（例えば銀、金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金など）をスパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、あるいはメッキ等の公知の方法を用いて行うことができる。

上記フォトリソグラフ法は、金属薄膜に紫外線等の照射により感光する感光層を設け、この感光層にフォトマスク等を用いて像様露光し、現像してレジスト像を形成し、次に、金属薄膜をエッチングして導電性メッシュを形成し、最後にレジストを剥離する方法である。

上記スクリーン印刷法は、金属薄膜表面にエッチングレジストインクをパターン印刷し、硬化させた後エッチング処理により導電性メッシュを形成し、この後レジストを剥離する方法である。

エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、エッチングレジストで保護された導体部分以外の不要導体をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。

２）印刷パターン上にメッキする方法は、プラスチックフィルムに触媒インク等でメッシュパターンを印刷し、これに金属メッキを施す方法である。この１つの方法として、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いてメッシュパターンに印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して導電性メッシュパターンを形成する方法がある。

３）感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層をプラスチックフィルムにコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法である。形成された銀メッシュは更に銅、ニッケル等の金属でメッキするのが好ましい。この方法は、ＷＯ２００４／７８１０、特開２００４−２２１５６４号、特開２００６−１２９３５号公報等に記載されており、参照することができる。

４）印刷パターン上に金属膜形成後に現像する方法は、プラスチックフィルム上に剥離可能な樹脂でメッシュパターンとは逆パターンの印刷を施し、その印刷パターン上に金属薄膜を上記１）と同様の方法で形成した後、現像して樹脂とその上の金属膜を剥離して金属のメッシュパターンを形成する方法である。剥離可能な樹脂として、水、有機溶剤あるいはアルカリに可溶な樹脂やレジストを用いることができる。この方法は、特開２００１−１８５８３４号、特開２００１−３３２８８９号、特開２００３−２４３８８１号、特開２００６−１４０３４６号、特開２００６−１５６６４２号公報等に記載されており、参照することができる。

５）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記１）と同様の方法でプラスチックフィルム上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で金属メッシュを作製する方法である。

レーザーアブレーションとは、レーザー光を吸収する固体表面へエネルギー密度の高いレーザー光を照射した場合、照射された部分の分子間の結合が切断され、蒸発することにより、照射された部分の固体表面が削られる現象である。この現象を利用することで固体表面を加工することが出来る。レーザー光は直進性、集光性が高い為、アブレーションに用いるレーザー光の波長の約3倍程度の微細な面積を選択的に加工することが可能であり、レーザーアブレーション法により高い加工精度を得ることが出来る。

かかるアブレーションに用いるレーザーは金属が吸収する波長のあらゆるレーザーを用いることが出来る。例えばガスレーザー、半導体レーザー、エキシマレーザー、または半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーを用いることが出来る。また、これら固体レーザーと非線形光学結晶を組み合わせることにより得られる第二高調波光源（ＳＨＧ）、第三高調波光源（ＴＨＧ）、第四高調波光源（ＦＨＧ）を用いることが出来る。

かかる固体レーザーの中でも、プラスチックフィルムを加工しないという観点から、波長が２５４ｎｍから５３３ｎｍの紫外線レーザーを用いることが好ましい。中でも好ましくはＮｄ：ＹＡＧ（ネオジウム：イットリウム・アルミニウム・ガーネット） などの固体レーザーのＳＨＧ（波長５３３ｎｍ）、さらに好ましくはＮｄ：ＹＡＧ などの固体レーザーのＴＨＧ（波長３５５ｎｍ）の紫外線レーザーを用いることが好ましい。

かかるレーザーの発振方式としてはあらゆる方式のレーザーを用いることが出来るが，加工精度の点からパルスレーザーを用い，さらに望ましくはパルス幅がｎｓ以下のＱスイッチ方式のパルスレーザーを用いることが好ましい。

金属薄膜の上（視認側）に更に０．０１〜０．１μｍの金属酸化物層を形成した後に、金属薄膜と金属酸化物層とをレーザーアブレーションするのが好ましい。金属酸化物としては銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタン、すずなどの金属酸化物を用いることができるが、価格や膜の安定性などの点から銅酸化物が好ましい。金属酸化物の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解および電解めっき法等を用いることができる。

上述した方法によって形成された導電性メッシュは、その厚みを８μｍ以下、更には６μｍ以下にすることが可能であり、機能性表面層を導電性メッシュ上に直接に塗工形成することが可能となる。

本発明に用いることができる導電性メッシュのメッシュパターンとしては、格子状パターン、５角形以上の多角形からなるパターン、円形パターン、あるいはこれらの複合パターンが挙げられ、更にランダムパターンも好ましく用いられる。

本発明において、導電性メッシュは黒化処理するのが好ましい。黒化処理は、酸化処理や黒色印刷により行うことができる。例えば、特開平１０−４１６８２号、特開２０００−９４８４号、２００５−３１７７０３号公報等に記載の方法を用いることができる。黒化処理は、導電性メッシュの視認側の表面と両側面を行うのが好ましく、更に導電性メッシュの両面及び両側面を黒化処理するのが好ましい。

また、前面フィルターを連続生産ラインで効率よく製造するためには、導電性メッシュは連続メッシュであることが好ましい。連続メッシュとは、例えば、長尺ロール状の基材に導電性メッシュを形成するときに、基材の長尺方向に導電性メッシュが連続的に途切れることなく形成された状態を言う。

また、上記のような連続メッシュは、機能性表面層を塗工するのに好適である。基材上に導電性メッシュを形成するとき、所定サイズ（前面フィルターのサイズ）の導電性メッシュと導電性メッシュの間に金属ベタ部（幅が約５〜１５ｍｍ）を設け、金属ベタ部を導電層の剥き出し電極とする方法があるが、このような導電性メッシュと金属ベタ部が交互に形成された上に、機能性表面層を塗工すると、機能性表面層が均一に塗工されないという不都合が生じることがある。また、導電性メッシュ上の機能性表面層に比べ金属ベタ部上の機能性表面層は大きく盛り上がるために、ロール状に均一に巻き取ることができないという不都合が生じることがある。連続的に形成された導電性メッシュは、上記した不都合が生じることはない。

本発明の前面フィルターに用いられる基材としては、プラスチックフィルムが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であるが、コストの観点及び前面フィルターの剛性を確保するという観点から９０〜２５０μｍの範囲が特に好ましい。本発明にかかる前面フィルターは、基材として１枚のみのプラスチックフィルムを用いるのが好ましい。

本発明に用いられるプラスチックフィルムは、導電性メッシュ、機能性表面層あるいは後述する近赤外線遮蔽層との密着性（接着強度）を強化のための下引き層（プライマー層）を設けておくのが好ましい。

本発明の前面フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも一つの機能を付与するのが好ましい。

近赤外線遮蔽機能は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における光線透過率の最大値が１５％以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、基材（プラスチックフィルム）や機能性表面層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって付与することができる。本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいは機能性表面層や接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。

上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に、基材に塗工形成して設けることができる。

近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。

色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長４８０〜５００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、機能性表面層あるいは接着層に色素を含有させてもよい。

可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材（プラスチックフィルム）、近赤外線遮蔽層、機能性表面層、あるいは接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。

上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層は基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に設けることができる。

本発明の前面フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。前面フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。

接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを１００μｍ以上にすることが好ましく、３００μｍ以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して３０００μｍ以下が好ましい。

接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。

本発明にかかる前面フィルター（１枚基材フィルター）の好ましい構成例のいくつかを例示するが、本発明はこれらに限定されない。

１）接着層／近赤外線遮蔽層／基材／導電性メッシュ／機能性表面層
２）接着層／基材／近赤外線遮蔽層／導電性メッシュ／機能性表面層
３）接着層（近赤外線遮蔽機能を有する）／基材／導電性メッシュ／機能性表面層
４）接着層／基材／導電性メッシュ／機能性表面層（近赤外線遮蔽機能を有する）
上記１）、２）の近赤外線遮蔽層は色調調整機能及び／または可視光透過率調整機能を有してもよく、また、同様に３）の接着層、及び４）の機能性表面層は色調調整機能及び／または可視光透過率調整機能を有してもよい。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。

（実施例１）
前面フィルターを以下のようにして作製した。

＜導電性メッシュの形成＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製 ルミラー（登録商標）Ｕ３４）に、抵抗加熱による真空蒸着法（真空度：３×１０^−３Ｐａ）にて銅蒸着を行い、厚み０．３μｍの銅の金属薄膜を形成した。次いでスパッタリング法（真空度：０．５Ｐａ、ターゲット：銅、導入ガス分率：酸素１００％）にて、上記金属薄膜の上に厚み０．０５μｍの酸化銅（金属酸化物層）を形成した。作製したフィルムの金属薄膜／金属酸化物層面側へ、波長３５５ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザーの第３高調波を照射し、線幅１０μｍ、線ピッチ１５０μｍ、開口率８７％の格子状メッシュパターンからなる導電性メッシュをＰＥＴフィルム上に形成した。

＜機能性表面層の塗工＞
上記の導電性メッシュが形成されたＰＥＴフィルムの導電性メッシュ上に、下記のハードコート層、高屈折率層、及び低屈折率層を順次塗工した。

＜ハードコート層＞
市販のハードコート剤（ＪＳＲ製“デソライトＺ７５２８”）をイソプロピルアルコールで固形分濃度３０％に希釈した塗料を、マイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ^２を照射して硬化させ、厚み３μｍのハードコート層を設けた。

＜高屈折率層＞
錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）６質量部、多官能アクリレート２質量部、メタノール１８質量部とポリプロピレングリコールモノエチルエーテル５４質量部、イソプロピルアルコール２０質量部の混合物を攪拌して塗膜屈折率１．６７の高屈折率塗料を調製した。この塗料をハードコート層上にマイクログラビアコーターを用いて塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ^２を照射して、塗工層を硬化させ、厚さ約０．１μｍの高屈折率層を形成した。

＜低屈折率層＞
一次粒子径５０ｎｍの外殻を有する中空シリカ粒子（空隙率４０％）１４４質量部、イソプロピルアルコール５６０質量部からなるシリカスラリーを準備し、メチルトリメトキシシラン２１９質量部、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン１５８質量部、上述シリカスラリー７０４質量部、ポリプロピレングリコールモノエチルエーテル７１３質量部を攪拌混合し、燐酸１質量部と水１３０質量部を配合して、３０℃±１０℃で攪拌しながら６０分加水分解し、さらに温度を８０℃±５℃に上げて６０分攪拌しながら重合し、シリカ粒子含有ポリマーを得た。次に、このシリカ粒子含有ポリマー１２００質量部、イソプロピルアルコール５２４４質量部を攪拌混合した後、硬化触媒としてアセトキシアルミニウムを１５質量部添加して再度攪拌混合し、屈折率１．３５の塗料を調整した。この塗料を高屈折率層上に小径グラビアコーターで塗工し、１３０℃で乾燥、硬化して、厚さ約０．１μｍの低屈折率層を形成した。

＜近赤外線遮蔽層の積層＞
前記ＰＥＴフィルムの導電性メッシュとは反対面に、オレンジ光遮蔽機能を併せ持つ近赤外線遮蔽層（近赤外線吸収色素としてのフタロシアニン系色素とジイモニウム系色素、およびオレンジ光吸収色素としてのテトラアザポルフィリン系色素をアクリル系樹脂に混合した塗料を、乾燥膜厚みが１２μｍになるように塗工した層）を設けた。

＜接着層の積層＞
セパレートフィルム上に紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂（日立化成ポリマー（株）製のハイボン（登録商標））をスリットダイコーターで、厚みが１００μｍになるように塗布した後、ＵＶ照射装置を用いて塗布膜を硬化し、続いてセパレートフィルムを貼り付けて、セパレートフィルムにサンドウィッチされた接着層を得た。次に、上記で作製した積層体の近赤外線遮蔽層の上に、一方のセパレートフィルムを剥離しながら接着層を積層した。

上記のようにして作製した前面フィルターの構成を以下に示す。

＜前面フィルターの構成＞
接着層／近赤外線遮蔽層／ＰＥＴフィルム／導電性メッシュ／機能性表面層（ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層）
＜前面フィルターのアース電極取り出し＞
上記のようにして作成した前面フィルターを長辺９６４ｍｍ、短辺５５４ｍｍのシートに切断した。この前面フィルターをプラズマディスプレイの前面板ガラス（日本板硝子（株）製の「ＰＰ−８」；厚み１．８ｍｍ）に、前面フィルターの接着層を介して貼り付けた。次いで、図６に示すように前面フィルターの４辺の端縁部にそれぞれ本発明のガスケット（図８のガスケット）を配置し、更にガスケットの上にアルミ板を置いて、前面板ガラスとアルミ板をクランプで締め付けた。

次に、マルチ計測器（株）製の抵抗測定器「ポケットマルチメーター」を使用し、簡易的筐体のアルミ板に端針を当てて対向する２辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。

（実施例２）
前面フィルターを以下のようにして作製した。

＜導電性メッシュの形成＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製 ルミラー（登録商標）Ｕ３４）に、パラジウムコロイド含有ペーストを線幅３０μｍ、線ピッチ２５０μｍの格子状メッシュパターンを有するスクリーンを用いて印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して、無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して厚みが５μｍの導電性メッシュを形成した。導電性メッシュの開口率は７７％である。

＜機能性表面層の塗工＞
上記の導電性メッシュが形成されたＰＥＴフィルムの導電性メッシュ上に、下記の防眩性ハードコート層用塗料をマイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ^２を照射して、塗工層を硬化させ、厚みが８μｍの防眩性ハードコート層を形成した。

＜防眩性ハードコート層塗料＞
市販のハードコート剤（ＪＳＲ製 オプスター（登録商標）Ｚ７５３４）をメチルエチルケトンで固形分濃度が４０質量％になるように希釈し、更に平均粒子径が１．５μｍのアクリル系微粒子（綜研化学製 ケミスノー（登録商標）ＭＸシリーズ）を上記ハードコート剤の固形分に対して１質量％添加して塗料を調製した。
＜近赤外線遮蔽層の積層＞
次に、上記ＰＥＴフィルムの導電性メッシュとは反対面に実施例１と同様にして近赤外線遮蔽層と接着層を積層して前面フィルターを得た。
上記のようにして作製した前面フィルターの構成を以下に示す。
＜前面フィルターの構成＞
接着層／近赤外線遮蔽層／ＰＥＴフィルム／導電性メッシュ／機能性表面層（防眩性ハードコート層）。
＜前面フィルターのアース電極取り出し＞
実施例１と同様にしてアース電極を取り出し、対向する２辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。

（実施例３）
実施例２と同様にして前面フィルターを作製し、実施例１と同様にしてアース電極取り出しを行った。但し、ガスケットを図９のガスケットに変更した。実施例１と同様にして対向する２辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。

（実施例４）
実施例２と同様にして前面フィルターを作製し、実施例１と同様にしてアース電極取り出しを行った。但し、ガスケットを図１０のガスケットに変更した。実施例１と同様にして対向する２辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。

（実施例５）
前面フィルターを以下のようにして作製した。
＜導電性メッシュの形成＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルム上に、下記の感光性銀塩を含む感光層（ハロゲン化銀乳剤層）を塗工し、露光、現像、メッキ処理を施して、導電性メッシュを形成した。
＜感光層＞
水媒体中の銀６０ｇに対してゼラチン７．５ｇを含む、球相当径平均０．０５μｍの沃臭化銀粒子（ＡｇＩ＝２モル％）を含有する乳剤を調製した。また、この乳剤中にはＫ₃Ｒｈ₂Ｂｒ₉及びＫ₂ＩｒＣｌ₆をそれぞれ濃度が１０^-7（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ₂ＰｄＣｌ₄を添加し、更に塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と界面活性剤を加えて、感光層の塗工液を調製した。

前記ＰＥＴフィルムの一方の面に、上記感光層の塗工液を銀の塗布量が１ｇ／ｍ²となるように塗工した。
＜露光、現像＞
ＰＥＴフィルム上に設けられた感光層にメッシュパターンのフォトマスクを介して紫外線ランプを用いて露光し、下記の現像液及び定着液を用いて現像処理を行った後、純水でリンスした。
［現像液］
ハイドロキノン ０．０３７ｍｏｌ／Ｌ
Ｎ−メチルアミノフェノール ０．０１６ｍｏｌ／Ｌ
メタホウ酸ナトリウム ０．１４０ｍｏｌ／Ｌ
水酸化ナトリウム ０．３６０ｍｏｌ／Ｌ
臭化ナトリウム ０．０３１ｍｏｌ／Ｌ
メタ重亜硫酸カリウム ０．１８７ｍｏｌ／Ｌ
［定着液］
富士フィルム（株）製の「スーパーフジフィックス」
＜メッキ処理＞
上記のようにして作製した現像銀からなるメッシュに、メッキ液（硫酸銅０．０６モル／Ｌ，ホルマリン０．２２モル／Ｌ，トリエタノールアミン０．１２モル／Ｌ，ポリエチレングリコール１００ｐｐｍ、黄血塩５０ｐｐｍ、α、α‘−ビピリジン２０ｐｐｍを含有する、ｐＨ＝１２．５の無電解Ｃｕメッキ液）で４５℃にて無電解銅メッキ処理を施した後、１０ｐｐｍのＦｅ（III）イオンを含有する水溶液で酸化処理を行なって導電性メッシュを得た。上記のようにして形成された導電性メッシュは、厚みが５μｍ、線幅が１０μｍ、線ピッチが２００μｍ、開口率９０％であった。

＜機能性表面層の塗工＞
上記で形成した導電性メッシュ上に、下記組成のハードコート層用塗料をマイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で乾燥後、紫外線１．０Ｊ／ｃｍ^２を照射して、塗工層を硬化させ、厚みが９μｍのハードコート層を形成した。
＜ハードコート層用塗料＞
ウレタンアクリレートＡ（根上工業（株）製のＵＮ−３２２０ＨＡ）；２．７５部
ウレタンアクリレートＢ（新中村化学（株））製のＵ４ＨＡ；２．７５部
光重合開始剤（チバガイギー社製のイルガキュウアー１８４）；０．３部
イソプロピルアルコール；１．２５部
メチルエチルケトン；１．２５部
＜近赤外線遮蔽層の積層＞
次に、上記ＰＥＴフィルムの導電性メッシュとは反対面に実施例１と同様にして近赤外線遮蔽層と接着層を積層して前面フィルターを得た。
上記のようにして作製した前面フィルターの構成を以下に示す。
＜前面フィルターの構成＞
接着層／近赤外線遮蔽層／ＰＥＴフィルム／導電性メッシュ／機能性表面層（ハードコート層）。
＜前面フィルターのアース電極取り出し＞
実施例１と同様にしてアース電極を取り出し、対向する２辺の電極間の導通を確認した。その結果、導通があり、アースがとれることを確認した。

本発明のディスプレイの一例の模式断面図。 本発明のガスケットの一例の模式断面図。 本発明のディスプレイの別の例の模式断面図。 本発明のガスケットの別の例の模式断面図。 本発明のガスケットの一部が導電性メッシュと接触した状態を示す拡大模式断面図。 本発明の前面フィルターにガスケットが配置されたときの一例の平面図。 本発明の前面フィルターにガスケットが配置されたときの別の例の平面図。 本発明のガスケットの一例の長手方向模式側面図。 本発明のガスケットの別の例の長手方向模式側面図。 本発明のガスケットの更に別の例の長手方向模式側面図。 従来のディスプレイの模式断面図。

符号の説明

１ 前面フィルター
２ 表示パネル
３ 筐体
４ ガスケット
５ 剥き出し電極
１１ 電磁波遮蔽フィルム
１２ 機能性フィルム
１３ 機能性表面層
１４ 導電性メッシュ
１５ 基材
４１ ガスケットを構成する導電性金属板
４２ ガスケットを構成する突起
４３ ガスケットを構成する針
４４ ガスケットを構成する導電性板バネ

Claims (14)

1. 基材上に導電性メッシュと前記導電性メッシュを被覆する機能性表面層とを有する電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法であって、
   前記前面フィルターの機能性表面層側の端縁部の少なくとも一部に、機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触することが可能な形状または手段を備えたガスケットを配置し、
   該ガスケットの一部を導電性メッシュと接触させることを特徴とする電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法。
2. 前記機能性表面層の有する機能が、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能である、請求項１に記載の電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法。
3. 前記機能性表面層が導電性メッシュ上に直接に塗工形成されたものである、請求項１または２に記載の電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法。
4. 前記導電性メッシュから機能性表面層の表面までの距離が０．５〜１０μｍである、請求項１から３のいずれかに記載の電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法。
5. 前記ガスケットの機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触することが可能な形状または手段が、円錐状もしくは多角錐状の突起である、請求項１〜４のいずれかに記載の電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法。
6. 前記ガスケットが、前記前面フィルターの少なくとも対向する２辺に配置された、請求項１〜５のいずれかに記載の電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法。
7. 前記ガスケットの一部が導電性メッシュと接触する接触部分を、前記前面フィルターの１辺に対してそのほぼ全長に渡って均等に存在させるか、または前記前面フィルターの１辺に対してそのほぼ全長に渡って１０ｃｍ以下の間隔で存在させる、請求項１〜６のいずれかに記載の電磁波シールド性前面フィルターのアース電極取り出し方法。
8. 基材上に導電性メッシュと前記導電性メッシュを被覆する機能性表面層を有する電磁波シールド性前面フィルターが、機能性表面層が視認側となるようにディスプレイの表示パネルに装着されたディスプレイであって、
   該ディスプレイは前記前面フィルターより視認側でかつ表示パネルの表示領域の外周の少なくとも一部にガスケットが配置され、ガスケットは前記前面フィルターの機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触することが可能な形状または手段を備え、前記ガスケットの少なくとも一部が前記前面フィルターの機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触するように配置されたことを特徴とするディスプレイ。
9. 前記機能性表面層の有する機能が、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、及び防汚機能の中から選ばれる少なくとも１つの機能である、請求項８に記載のディスプレイ。
10. 前記機能性表面層が導電性メッシュ上に直接に塗工形成されたものである、請求項８または９に記載のディスプレイ。
11. 前記導電性メッシュから機能性表面層の表面までの距離が０．５〜１０μｍである、請求項８から１０のいずれかに記載のディスプレイ。
12. 前記ガスケットにおける機能性表面層を貫通もしくは擦傷して導電性メッシュと接触することが可能な形状または手段が、円錐状もしくは多角錐状の突起である、請求項８〜１１のいずれかに記載のディスプレイ。
13. 前記ガスケットが、前記前面フィルターの少なくとも対向する２辺に配置された、請求項８〜１２のいずれかに記載のディスプレイ。
14. 前記ガスケットの一部が導電性メッシュと接触する接触部分が、前記前面フィルターの１辺に対してそのほぼ全長に渡って均等に存在するか、または前記前面フィルターの１辺に対してそのほぼ全長に渡って１０ｃｍ以下の間隔で存在する、請求項８〜１３のいずれかに記載のディスプレイ。

Images