JP2009076322A - フレキシブルフラットケーブルおよびその製造方法 - Google Patents
フレキシブルフラットケーブルおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009076322A JP2009076322A JP2007244264A JP2007244264A JP2009076322A JP 2009076322 A JP2009076322 A JP 2009076322A JP 2007244264 A JP2007244264 A JP 2007244264A JP 2007244264 A JP2007244264 A JP 2007244264A JP 2009076322 A JP2009076322 A JP 2009076322A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- flexible flat
- flat cable
- plating
- conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】複数本の導体が、2枚の絶縁テープ間に所定の間隔をもって並列に配置されたフレキシブルフラットケーブルであって、前記フレキシブルフラットケーブルの両端において、導体が所定の長さに亘って一方の絶縁テープより露出した露出部が形成されており、前記導体は、導電基体の表面にSn層が設けられることにより形成されており、前記露出部の導体には、前記Sn層上に、Ni層が設けられ、さらに前記Ni層上にAu層が設けられていることを特徴とするフレキシブルフラットケーブル。
【選択図】図4
Description
前記Snめっきを施すことによって、導体の表面にSnの柔らかい層が形成されることにより、ケーブルをコネクタ類等に挿入したときに導体の変形を伴って挿入されるため、ケーブルとコネクタ類等との確実な接続を図ることができる。また、腐食防止の効果があり、さらに、CuまたはCu合金が、導体と絶縁テープを接着するための接着剤に接触して、接着剤が劣化することを防ぐことができる。
即ち、前記露出部においては、複数本の導体は、前記所定の間隔を保った状態で他方の絶縁テープの端部に接着されており、露出した複数本の導体および他方の絶縁テープの端部とで、ケーブルをコネクタに接続するための勘合部を形成しているが、コネクタとの勘合時にSnのウィスカが発生する。また、それ以外にもSnとCuとの化合物層が生成する過程で自然発生的にSnのウィスカが生成するため、前記短絡が生じる。
上記方法の場合、前記の通り、導電基体のCuやCu合金が絶縁テープの接着剤に触れているため接着剤が劣化するという問題があったが、近年接着剤の劣化を防止する防止剤が提案され、この問題を解消することができるようになった。そして、特許文献1に提案されている方法によれば、Snめっきを施していないためSnのウィスカが生成することを防ぐことができ、また、Niの多量消費によるコストの増大や、ケーブルの柔軟性が損われるという問題もない。
以下、各請求項の発明について説明する。
複数本の導体が、2枚の絶縁テープ間に所定の間隔をもって並列に配置されたフレキシブルフラットケーブルであって、
前記フレキシブルフラットケーブルの両端において、導体が所定の長さに亘って一方の絶縁テープより露出した露出部が形成されており、
前記導体は、導電基体の表面にSn層が設けられることにより形成されており、
前記露出部の導体には、前記Sn層上に、Ni層が設けられ、さらに前記Ni層上にAu層が設けられていることを特徴とするフレキシブルフラットケーブルである。
また、絶縁テープで被覆された部分にはNiめっき層のような大きな硬度を有する金属の層がないため、柔軟性が損われることがない他、前記伸線・圧延の工程でNiが欠け、Cuが露出するという不良が発生することもない。
なお、本発明におけるAu層とはAuのみからなるものに限定されず、一部他の元素を含むAu合金層であってもよい。例えば微量(0.1%程度)のCo、Niを含むAu合金は、硬質Auと呼称されるものであって、純粋なAuからなる層に比べて適度の硬度を有しているため好ましい。
さらに、Au層は耐酸化性に優れ、かつSn層とAu層の間には、SnとAuが拡散して合金化することを防ぐ拡散バリア層の役目を果たすNi層が設けられているため、長期間に亘り良好な電気的接続を維持することができる。
また、導体露出部分の構成以外は、従来のTPA線を用いたケーブルと同一の構成を有しているため、導電基体の表面にSnめっきを施し、伸線・圧延した後、複数本の導体を2枚の絶縁テープの間に並列に配置し、絶縁テープをラミネートする(以下FFC化ともいう)工程は、従来のTPA線を用いたケーブルの製造技術、製造設備をそのまま用いて製造することができる。
また、Niの厚さに関しては、Snのウィスカの生成を防ぎ、さらにSnがAu層へ拡散するのをより防ぐためには、0.3μm以上であることが好ましく、勘合部の導体の変形性をより確保するために10μm以下であることが好ましい。
さらにAu層の厚さに関しては、コネクタ類等とより確実に接続するために、また、ピンホールからの腐食をできるだけ防止するために、0.05μm以上であることが好ましく、コストの増大をより抑制するために、1μm以下であることが好ましい。
前記露出部のSn層とNi層との間に、Snに比べて酸化還元電位の貴なる金属により形成された中間層が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のフレキシブルフラットケーブルである。
前記中間層を形成する金属は、粒径が0.3μm未満の粒子状であることを特徴とする請求項2に記載のフレキシブルフラットケーブルである。
即ち、中間層が微細な粒子から形成されていると、密着性および均一性の良いNi層を形成することができることが分かった。
なお、ここでいう粒径とは、平均粒径を指す。
前記中間層を形成する金属は、Cuであることを特徴とする請求項2または請求項3に記載のフレキシブルフラットケーブルである。
複数本の導体が、2枚の絶縁テープ間に所定の間隔をもって並列に配置されたフレキシブルフラットケーブルの製造方法であって、
導電基体の表面にSn層を設けて導体を形成する工程、
フレキシブルフラットケーブルの両端において、前記導体を所定の長さに亘って一方の絶縁テープより露出した露出部を形成する工程、
前記露出部のSn層上にNi層を設け、さらにAu層を設ける工程
を有していることを特徴とするフレキシブルフラットケーブルの製造方法である。
前記Sn層上にNi層を設け、さらにAu層を設ける工程が、めっきによる工程であることを特徴とする請求項5に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法である。
前記Sn層上にNi層を設ける前に、Snに比べて酸化還元電位の貴なる金属により形成された中間層を設ける工程を有していることを特徴とする請求項5または請求項6に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法である。
前記Sn層上にNi層あるいは中間層を設ける前に、前記露出部におけるSn層表面の酸化錫を除去する工程を有していることを特徴とする請求項5ないし請求項7のいずれか1項に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法である。
なお、Ni層との間で良好な密着性を得るためには、酸化錫を除去した後もSn層を残すことが好ましい。
前記中間層を設ける工程が、前記露出部を前記Snに比べて酸化還元電位の貴なる金属のイオンを含むめっき浴中に浸漬する置換めっきにより中間層を形成する工程であることを特徴とする請求項7または請求項8に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法である。
前記置換めっきにおけるめっき浴の温度が15℃以下であり、めっき浴中のSnに比べて酸化還元電位の貴なる金属のイオンの濃度が0.01モル/l以下であることを特徴とする請求項9に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法である。
前記Au層を設ける工程の後に、60℃以上の温度で前記導体を加熱処理する工程を有していることを特徴とする請求項5ないし請求項10のいずれか1項に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法である。
加熱処理の時間については、加熱処理による密着性向上において充分な効果を得るために、1時間以上とすることが好ましい。
図1は、本発明の実施の形態に係るフレキシブルフラットケーブル1を模式的に示す斜視図である。図1において、複数本の導体2が絶縁テープA(符号3)、絶縁テープB(符号4)の間に所定の間隔p(ピッチともいう)をおいて並列に配置されている。3の絶縁テープAおよび4の絶縁テープBの内面には接着剤が配され、前記複数本の導体2は2枚の絶縁テープA、絶縁テープBの間にラミネートされている。フレキシブルフラットケーブル1の両端には、3の絶縁テープAを設けず、前記導体2が所定の長さ(露出長さ)Lに亘って絶縁テープAより露出した露出部tが形成されている。
図2において、絶縁テープAおよび絶縁テープBは、それぞれポリエステルフィルムからなり、その内面に接着剤層31、41が設けられている。導体2は、Cu製の導電基体21の表面にSnめっき層22が設けてあり、角型の断面形状をなしている。
導体2は、接着剤層31、41を介して絶縁テープAおよび絶縁テープBに挟み込まれている。Snめっき層22は、導電基体21のCuが接着剤層31、41に接触することを妨げているため、接着剤が劣化することがない。また、Snめっき層22は柔かく柔軟性に富むため、導体2が2枚の絶縁テープA、絶縁テープBで被覆された部分も含めて導体の全面にSnめっきを施してもケーブルの柔軟性が損われることがない。
図3において、導体2の露出した面には、Snめっき層22上にNiめっき層23が形成され、さらにNiめっき層23上にAuめっき層24が形成されている。このため、Snのウィスカが生成することがない。また、外周面に形成したAuめっき層24が電気的接続に優れるため、露出した複数本の導体と他方の絶縁テープの端部で構成される勘合部をコネクタ等と勘合させたときに、確実に電気的に接続することができる。
また、Snめっき層22とAuめっき層24の間にNiめっき層23を設けているためAuめっき層がSnやCuと合金化するこことを防ぐことができる。
中間層(Cuめっき層)25は粒径が0.3μm未満の球状のCuの微粒子からなる。このため、その表面に形成されるNiめっき層23との間に良好な密着性を得ることができる。また、均一なNiめっき層を形成することができる。
さらに、Snめっき層22とCu製の中間層25の間でSnとCuの拡散が生じるため、Snめっき層22と中間層25の間に良好な密着性を得ることができる。
即ち、第1の工程で所定の断面形状を有するCu線の側面にSnめっきを施し、所定厚さのSnめっき層を形成した後、第2の工程で所定の条件で伸線し、さらに第3の工程で圧延して、所定の断面形状を有する導体を得る。
前処理の他の方法は、上記酸に浸漬後に置換めっきにより厚さ0.05μm程度の中間層を形成する方法である。
前記前処理後、第6の工程で、Sn層または中間層上に0.5μm程度のNiめっきを施す。
NiめっきによりNi層を形成後、AuめっきによりNi層上に厚さ0.1μm程度のAuめっき層を形成する。
Auめっき終了後必要に応じて加熱処理を行い(図示せず)各めっき層間の密着性を向上させる。
Auめっき層は、前記のように0.05μm程度という極めて薄い層であっても、良好な電気的接続を得ることができる。しかし、このように、薄いめっきではめっき層のピンホールを無くすことは困難であり、使用条件によっては導体がAuめっきのピンホール部分から腐食を受ける恐れがある。従って、必要に応じて、露出部の導体表面に封孔処理を施す。具体的には露出導体表面にチオール系化合物を含む水溶液を塗布して本発明のフレキシブルフラットケーブルを得る。
以下、1実施例に基づき、本発明を詳細に説明する。
Snめっきを施したCu線に伸線・圧延を施し、長さが200m、幅0.3mm、厚さ0.035mmの平角型(断面形状が横長の長方形)の導体を製造した。なお、導体のSnめっき層の厚さは約1μmであった。
厚さが25μmのポリエステルフィルム(東レ社製、ルミラーS10)の片面に熱融着性の接着剤層を設けた絶縁テープを用いてFFC化を行った。具体的には、長さが200mの絶縁テープ(絶縁テープBという)の接着剤層を設けた面上に、前記導体40本を導体の両端と絶縁テープBの両端を一致させ、0.2mmの間隔をおいて並列配置した。導体の上側に長さが92mmの絶縁テープ(絶縁テープAという)を導体の端から4mm離して載置し、加熱圧着した。さらに、絶縁テープA同士の間隔が8mmとなるように、合計1999枚(前記最初に配置した絶縁テープA、1枚をあわせると合計2000枚)を、絶縁テープA同士の間隔が8mmとなるように順次載置し、加熱圧着した。
a.電解脱脂
ラミネート後のケーブルを、1l中に100mlの濃硫酸を溶解させた30℃の水溶液中に浸漬し導体を負極として電流密度25A/dm2で24秒間電解することにより露出した導体表面の脱脂を行った後、流水により5秒間、さらに純水により5秒間水洗を行った。
前記水洗後、直ちに中間層の形成を行った。1l中に濃硫酸50ml、硫酸銅2gを溶解した温度15℃のめっき浴を用意し、前記電解脱脂後のケーブルを1分間めっき浴中に浸漬した後、前記と同じ条件で水洗を行った。
顕微鏡により露出した導体の表面を観察したところ導体表面が粒径が最大でも0.3μmに満たない微細な粒子状のCuで被覆されていることが確認された。
中間層形成後の前記ケーブルを、温度50℃のワット浴に浸漬し、電流密度8.3A/dm2で2分間電解してNiめっきを行った後、前記と同じ条件で水洗を行った。
Niめっき後の露出した導体の表面および断面を顕微鏡により観察したところ、導体表面にNiがむらなくNiめっきされており、Niめっきの厚さが3μmであることが確認された。そして、テープ剥離試験を行ってもNiめっき層が剥離することがなく、良好な密着性を有していることが確認された。
a.酸による活性化処理
Niめっき後の前記ケーブルを1l中に50mlの塩酸を含む室温の溶液中に30秒間浸漬した後、前記と同じ条件で水洗を行った。
b.Auストライクめっき
前記活性化処理後の前記絶縁テープより露出した導体を40℃の日本高純度化学社製のアシドストライクめっき浴中に浸漬し、電流密度0.7A/dm2で6秒間電解してAuストライクめっきを行った後、前記と同じ条件で水洗を行った。
c.AuCoめっき
Auアシドストライクめっき後の前記ケーブルを温度50℃の日本高純度化学社製のワット浴(オーロブライトHS−2)中に浸漬し電流密度2.5A/dm2で14秒間電解してAuCoめっきを行った後、前記と同じ条件で水洗を行った。
AuCoめっきの水洗後、直ちに前記ケーブルを温度40℃のチオール系化合物を含む水溶液に30秒間浸漬した後、前記と同じ条件で水洗し、その後70℃の温風中で1分間放置し乾燥した。
封孔処理後のケーブルを長手方向に対して垂直に切断し、長さが100mm、両端に各4mmの導体の露出部を設けたフレキシブルフラットケーブルを製造した。
前記フレキシブルフラットケーブルを、大気中で60℃において1時間熱処理を行った。
2 導体
21 導電基体
22 Snめっき層
23 Niめっき層
24 Auめっき層
25 中間層
3 絶縁テープA
4 絶縁テープB
31、41 接着剤層
t 露出部
L 露出長さ
p ピッチ
Claims (11)
- 複数本の導体が、2枚の絶縁テープ間に所定の間隔をもって並列に配置されたフレキシブルフラットケーブルであって、
前記フレキシブルフラットケーブルの両端において、導体が所定の長さに亘って一方の絶縁テープより露出した露出部が形成されており、
前記導体は、導電基体の表面にSn層が設けられることにより形成されており、
前記露出部の導体には、前記Sn層上に、Ni層が設けられ、さらに前記Ni層上にAu層が設けられていることを特徴とするフレキシブルフラットケーブル。 - 前記露出部のSn層とNi層との間に、Snに比べて酸化還元電位の貴なる金属により形成された中間層が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のフレキシブルフラットケーブル。
- 前記中間層を形成する金属は、粒径が0.3μm未満の粒子状であることを特徴とする請求項2に記載のフレキシブルフラットケーブル。
- 前記中間層を形成する金属は、Cuであることを特徴とする請求項2または請求項3に記載のフレキシブルフラットケーブル。
- 複数本の導体が、2枚の絶縁テープ間に所定の間隔をもって並列に配置されたフレキシブルフラットケーブルの製造方法であって、
導電基体の表面にSn層を設けて導体を形成する工程、
フレキシブルフラットケーブルの両端において、前記導体を所定の長さに亘って一方の絶縁テープより露出した露出部を形成する工程、
前記露出部のSn層上にNi層を設け、さらにAu層を設ける工程
を有していることを特徴とするフレキシブルフラットケーブルの製造方法。 - 前記Sn層上にNi層を設け、さらにAu層を設ける工程が、めっきによる工程であることを特徴とする請求項5に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法。
- 前記Sn層上にNi層を設ける前に、Snに比べて酸化還元電位の貴なる金属により形成された中間層を設ける工程を有していることを特徴とする請求項5または請求項6に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法。
- 前記Sn層上にNi層あるいは中間層を設ける前に、前記露出部におけるSn層表面の酸化錫を除去する工程を有していることを特徴とする請求項5ないし請求項7のいずれか1項に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法。
- 前記中間層を設ける工程が、前記露出部を前記Snに比べて酸化還元電位の貴なる金属のイオンを含むめっき浴中に浸漬する置換めっきにより中間層を形成する工程であることを特徴とする請求項7または請求項8に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法。
- 前記置換めっきにおけるめっき浴の温度が15℃以下であり、めっき浴中のSnに比べて酸化還元電位の貴なる金属のイオンの濃度が0.01モル/l以下であることを特徴とする請求項9に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法。
- 前記Au層を設ける工程の後に、60℃以上の温度で前記導体を加熱処理する工程を有していることを特徴とする請求項5ないし請求項10のいずれか1項に記載のフレキシブルフラットケーブルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007244264A JP5234487B2 (ja) | 2007-09-20 | 2007-09-20 | フレキシブルフラットケーブルおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007244264A JP5234487B2 (ja) | 2007-09-20 | 2007-09-20 | フレキシブルフラットケーブルおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009076322A true JP2009076322A (ja) | 2009-04-09 |
JP5234487B2 JP5234487B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=40611104
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007244264A Active JP5234487B2 (ja) | 2007-09-20 | 2007-09-20 | フレキシブルフラットケーブルおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5234487B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140034210A (ko) * | 2011-05-09 | 2014-03-19 | 타이코 일렉트로닉스 코포레이션 | 내부식성 전기 도전체 |
WO2014199547A1 (ja) * | 2013-06-10 | 2014-12-18 | オリエンタル鍍金株式会社 | めっき積層体の製造方法及びめっき積層体 |
JP2017218663A (ja) * | 2016-06-10 | 2017-12-14 | オリエンタル鍍金株式会社 | めっき積層体の製造方法及びめっき積層体 |
US10658272B2 (en) | 2018-09-19 | 2020-05-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for manufacturing semiconductor device |
JP2020092279A (ja) * | 2017-02-13 | 2020-06-11 | タツタ電線株式会社 | シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08293214A (ja) * | 1995-04-25 | 1996-11-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | フラットケーブル及び導体の部分金メッキ方法 |
JP2006156800A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Fujikura Ltd | フレキシブルプリント配線板またはフレキシブルフラットケーブル |
JP2007035286A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Hitachi Cable Ltd | フラットケーブル半製品及びそれを用いたAuめっきフラットケーブルの製造方法 |
JP2008210584A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Fujikura Ltd | フレキシブルフラットケーブル端子部 |
-
2007
- 2007-09-20 JP JP2007244264A patent/JP5234487B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08293214A (ja) * | 1995-04-25 | 1996-11-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | フラットケーブル及び導体の部分金メッキ方法 |
JP2006156800A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Fujikura Ltd | フレキシブルプリント配線板またはフレキシブルフラットケーブル |
JP2007035286A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Hitachi Cable Ltd | フラットケーブル半製品及びそれを用いたAuめっきフラットケーブルの製造方法 |
JP2008210584A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Fujikura Ltd | フレキシブルフラットケーブル端子部 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140034210A (ko) * | 2011-05-09 | 2014-03-19 | 타이코 일렉트로닉스 코포레이션 | 내부식성 전기 도전체 |
JP2014519548A (ja) * | 2011-05-09 | 2014-08-14 | タイコ・エレクトロニクス・コーポレイション | 耐食性を有する導電体 |
WO2014199547A1 (ja) * | 2013-06-10 | 2014-12-18 | オリエンタル鍍金株式会社 | めっき積層体の製造方法及びめっき積層体 |
CN105358741A (zh) * | 2013-06-10 | 2016-02-24 | 东方镀金株式会社 | 镀敷叠层体的制造方法及镀敷叠层体 |
JP5876622B2 (ja) * | 2013-06-10 | 2016-03-02 | オリエンタル鍍金株式会社 | めっき積層体の製造方法及びめっき積層体 |
JP2016065316A (ja) * | 2013-06-10 | 2016-04-28 | オリエンタル鍍金株式会社 | めっき積層体 |
US9680246B2 (en) | 2013-06-10 | 2017-06-13 | Oriental Electro Plating Corporation | Method for manufacturing plated laminate, and plated laminate |
JP2017218663A (ja) * | 2016-06-10 | 2017-12-14 | オリエンタル鍍金株式会社 | めっき積層体の製造方法及びめっき積層体 |
JP2020092279A (ja) * | 2017-02-13 | 2020-06-11 | タツタ電線株式会社 | シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法 |
US10658272B2 (en) | 2018-09-19 | 2020-05-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for manufacturing semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5234487B2 (ja) | 2013-07-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10640880B2 (en) | Plated material and connecting terminal using same | |
US9680246B2 (en) | Method for manufacturing plated laminate, and plated laminate | |
JP6734185B2 (ja) | Snめっき材およびその製造方法 | |
JP5280957B2 (ja) | 導電部材及びその製造方法 | |
TWI449809B (zh) | Electrical and electronic components for the use of composite materials and electrical and electronic components | |
KR102471172B1 (ko) | 표면 처리재 및 그 제조 방법 및 표면 처리재를 이용하여 형성한 부품 | |
JP5234487B2 (ja) | フレキシブルフラットケーブルおよびその製造方法 | |
CN110036142B (zh) | Sn镀覆材料及其制造方法 | |
JP4368931B2 (ja) | オス端子及びその製造方法 | |
WO2018124114A1 (ja) | 表面処理材およびこれを用いて作製した部品 | |
JP2009135097A (ja) | 電気電子機器用金属材料および電気電子機器用金属材料の製造方法 | |
EP3604624A1 (en) | Plated wire rod material, method for producing same, and cable, electric wire, coil and spring member, each of which is formed using same | |
JP2007291510A (ja) | 可動接点用銀被覆複合材料およびその製造方法 | |
WO2018124115A1 (ja) | 表面処理材およびこれを用いて作製した部品 | |
JP7187162B2 (ja) | Snめっき材およびその製造方法 | |
JP2010090400A (ja) | 導電材及びその製造方法 | |
JP7060514B2 (ja) | 導電性条材 | |
JP2009097050A (ja) | 電子部品用Snめっき材 | |
JP7162341B2 (ja) | めっき積層体の製造方法及びめっき積層体 | |
JP6839952B2 (ja) | Snめっき材およびその製造方法 | |
JP2009176646A (ja) | 箔状導体及び配線部材並びに配線部材の製造方法 | |
JP5174733B2 (ja) | メタルコア基板、メタルプレート用導電部材及びこれらの製造方法 | |
JP5192433B2 (ja) | メタルコア基板、メタルプレート用導電部材及びこれらの製造方法 | |
WO2022168740A1 (ja) | アルミニウム心線用防食端子材及び防食端子並びに電線端末部構造 | |
JP6446287B2 (ja) | Snめっき材およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100914 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130304 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5234487 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130317 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160405 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |