JP2009065066A - 半導体装置 - Google Patents

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賢悟 松田
Kenji Asari
健司 浅利
Norishige Sakamoto
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Abstract

【課題】半導体装置の設計の容易性を向上させる。
【解決手段】配線基板5の主面上にフリップチップ実装されたマイコンチップ2と、その裏面上に搭載されたメモリチップ3とを同一封止体内に混載させて、携帯電話用の処理システムを構築したSiPにおいて、マイコンチップ2の主面の互いに反対側に位置する両辺側に、クロック信号用のパッドCP1,CP2を配置した。これにより、メモリチップの互いに反対側に位置する長辺のいずれの側にクロック信号用のパッドMP1が配置されている場合でも、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP(CP1,CP2)とを短い配線長で電気的に接続できる。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体装置技術に関し、特に、制御回路を有する第1半導体チップと、その第1半導体チップによって動作が制御されるメモリ回路を有する第2半導体チップとを単一の封止体内に混載させて所望の回路機能を構成するSiP(System in Package)に適用して有効な技術に関するものである。
SiPは、複数の半導体チップを単一の封止体内に封止することで、単一の封止体内に所望の回路機能を構築する手法である。SiPの場合、開発済みの半導体チップをそのまま流用できるため、SOC(System On Chip)に比べて開発期間を短縮でき、また、開発費を抑えることができる。また、SOCの場合は1つの半導体チップ内に多種多様なメモリを混載するのが困難であるのに対して、SiPの場合は多種多様な大容量メモリを容易に混載できる。また、複数のパッケージを配線基板上に実装して所望の回路機能を構築する場合に比べて、SiPの場合、配線長を短くすることができるので、半導体装置全体の高速化および高性能化を推進することができる。
このようなSiPについては、例えば特開2006−93189号公報(特許文献1)に記載があり、マイクロプロセッサが形成された半導体チップと、それにより動作が制御されるメモリ回路が形成された半導体チップとを下層から順に積み重ねたスタック型のSiPが開示されている。下段の半導体チップは、配線基板上にフリップチップ方式により実装されている。
また、SiPの構成を開示するものではないが、例えば特表2005−519385号公報(特許文献2)には、プログラマブルロジックデバイスの異なる端部の各々の中央に複数のクロックパッドを配置する構成が開示されている。
また、SiPの構成を開示するものではないが、例えば特開2004−118376号公報(特許文献3)には、マイクロコンピュータが形成された半導体チップにメインクロック用のパッドとサブクロック用のパッドとが配置される構成が開示されている。
また、SiPの構成を開示するものではないが、例えば特開平10−4125号公報(特許文献4)には、半導体チップに、半導体チップの集積回路に電気的に接続されていないダミーバンプを設ける構成が開示されている。
特開2006−93189号公報 特表2005−519385号公報 特開2004−118376号公報 特開平10−4125号公報
ところで、本発明者は、制御回路が形成された半導体チップ(制御チップ)と、その制御回路によって動作が制御されるメモリ回路が形成された半導体チップ(メモリチップ)とを配線基板上に積み重ねて搭載する構成のSiPについて検討した。
このSiPにおいては、その設計段階で、制御チップとメモリチップとを接続する配線の長さが最短になるように、メモリチップの外部端子の配置に合わせて制御チップの外部端子の配置を決定している。このため、外部端子の配置が異なる他のメモリチップを用いてSiPを構成しようとすると、SiP全体の設計が困難になってしまう、という問題がある。
本発明の目的は、半導体装置の設計の容易性を向上させることのできる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される複数の発明のうち、一実施の形態の概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
すなわち、本実施の形態は、配線基板上にバンプ電極を介して搭載された第1半導体チップの制御回路およびクロック信号発生回路に電気的に接続された複数の外部端子のうち、前記クロック信号発生回路に電気的に接続されたクロック信号用の外部端子は、前記第1半導体チップの第1の辺側に配置されたクロック信号用の第1外部端子と、前記第1半導体チップの前記第1の辺とは異なる第2の辺側に配置されたクロック信号用の第2外部端子とを有しており、
前記配線基板において、前記第1半導体チップの前記複数の外部端子に対応するように配置された複数の電極は、前記配線基板の配線に電気的に接続された電極と、前記配線基板の配線に電気的に接続されていないダミー電極とを有しており、
前記第1半導体チップの前記複数の外部端子と前記配線基板の前記複数の電極とは、前記バンプ電極を介して電気的に接続されており、
前記クロック信号用の第1外部端子は、前記バンプ電極および前記電極を介して前記配線基板の前記配線に電気的に接続されており、
前記クロック信号用の第2外部端子は、前記バンプ電極を介して前記配線基板の前記ダミー電極に電気的に接続されているものである。
また、本実施の形態は、配線基板上にバンプ電極を介して搭載された第1半導体チップの制御回路およびクロック信号発生回路に電気的に接続された複数の外部端子のうち、前記クロック信号発生回路に電気的に接続されたクロック信号用の外部端子は、前記第1半導体チップの第1の辺側に配置されたクロック信号用の第1外部端子と、前記第1半導体チップの前記第1の辺とは異なる第2の辺側に配置されたクロック信号用の第2外部端子とを有しており、
前記配線基板において、前記第1半導体チップの前記複数の外部端子に対応するように配置された複数の電極のうち、前記クロック信号用の第1外部端子に対応する第1電極と、前記クロック信号用の第2外部端子に対応する第2電極とは、前記配線基板の配線を通じて電気的に接続されており、
前記第1半導体チップの前記複数の外部端子のうちの前記クロック信号用の第2外部端子を除く前記複数の外部端子と前記配線基板の前記複数の電極とは前記バンプ電極を介して電気的に接続されており、
前記クロック信号用の第1外部端子は、前記バンプ電極および前記第1電極を介して前記配線基板の前記配線に電気的に接続されており、
前記クロック信号用の第2外部端子と前記配線基板の前記第2電極との間には前記バンプ電極が介在されておらず、前記クロック信号用の第2外部端子は前記配線基板の前記配線に電気的に接続されていないものである。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
すなわち、半導体装置の設計の容易性を向上させることができる。
以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。さらに、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。また、本実施の形態を説明するための全図において同一機能を有するものは同一の符号を付すようにし、その繰り返しの説明は可能な限り省略するようにしている。
なお、以下の説明では、制御回路が形成された半導体チップをマイコンチップといい、マイコンチップにより動作が制御されるメモリ回路が形成された半導体チップをメモリチップという。
(実施の形態1)
図1は本実施の形態1の半導体装置の全体平面図、図2は図1のX1−X1線の断面図、図3は図1の半導体装置のメモリチップを取り外して示した全体平面図、図4は図1の半導体装置の配線基板の主面の全体平面図である。なお、図1では説明を分かり易くするため半導体装置1の内部を透かして示している。また、図3では説明を分かり易くするためマイコンチップの主面の外部端子を透かして示している。また、図3および図4では配線基板の内部の一部の配線も透かして示している。さらに、符号Xは第1方向を、符号Yは第1方向Xに直交する第2方向を示している。また、図3の符号Cは第2方向Yにおける中心線を示している。
本実施の形態1の半導体装置1は、マイコンチップ(第1半導体チップ)2と、そのマイコンチップ2によって動作が制御されるメモリチップ(第2半導体チップ)3とを単一(同一)の封止体4内に混載させて、例えば携帯電話用の処理システムを構築したSiP(System in Package)である。
半導体装置1を構成する半導体チップの実装方式は、マイコンチップ2とメモリチップ3とを配線基板5の主面上に下層から順に積み重ねる、いわゆるスタック型実装方式とされている。これにより、半導体チップを同一平面内に並べて配置するプレーン型実装方式に比べて半導体装置1の平面積を小さくすることができ、半導体装置1を小型にすることができる。
下段のマイコンチップ2は、例えば携帯電話システムのベースバンドLSIに接続されて、音声や動画等のようなマルチメディアアプリケーションを専用に処理することが可能なプロセッサ(マイクロコンピュータ)である。このマイコンチップ2は、例えばシリコン(Si)単結晶を母材とする半導体薄板を基板として、その厚さ方向に沿って互いに反対側に位置する主面(第1主面)および裏面(第2主面)を有している。マイコンチップ2の主面および裏面は、例えば四角形状に形成されている。
このマイコンチップ2の主面には、プロセッサの核となる中央演算処理装置(Central Processing Unit(以下、CPUという);制御回路、演算回路)の他、バス制御回路、クロックジェネレータ(クロック信号発生回路)CLG(図3参照)および入出力回路等のような所望の集積回路が形成されている。クロックジェネレータCLGは、マイコンチップ2の回路の動作を制御するクロック信号と、メモリチップ3に出力するクロック信号を生成する回路であり、これにより半導体装置1の全体の回路動作の同期が取られている。本実施の形態1においては、例えばクロックジェネレータCLGがマイコンチップ2の主面の四隅のうちの1つ(図3の右上角)の近傍(他の3つの角よりも相対的に近い位置)に配置されている。これにより、マイコンチップ2内のCPU等の他の回路の配置の自由度を向上させることができる。
また、マイコンチップ2の主面の外周(四辺)近傍には、その外周(四辺)に沿って複数のボンディングパッド(外部端子)CPが形成されている(以下、ボンディングパッドを単にパッドという)。このパッドCPは、上記CPUやクロックジェネレータCLG等のような集積回路に電気的に接続された引き出し電極である。
本実施の形態1においては、マイコンチップ2の複数のパッドCPのうち、同一のクロックジェネレータCLGに電気的に接続されたクロック信号用のパッドCP1,CP2がマイコンチップ2の主面の2辺(複数の辺、第1の辺A1および第2の辺A2)の近傍に配置されている。
すなわち、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCPは、マイコンチップ2の第1の辺A1側に配置されたクロック信号用のパッド(第1外部端子)CP1と、マイコンチップ2の上記第1の辺A1とは異なる第2の辺A2側に配置されたクロック信号用のパッド(第2外部端子)CP2とを有しており、そのいずれの辺A1,A2からでもクロック信号を取り出せるようになっている。
これにより、後述するように、メモリチップ3の種類が変わっても、メモリチップ3のクロック信号用のパッドと、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1,CP2とを短かい距離で接続することができるので、半導体装置1の動作信頼性および機能性を向上させることができる。また、マイコンチップ2や配線基板5の配線設計を容易にすることができるので、半導体装置1の設計の容易性を向上させることができる。
この第1の辺A1および第2の辺A2は、上記第1方向Xに沿って互いに反対側に180度反転して位置し、上記第2方向Yに沿って延び、交差することの無い辺である。上記クロックジェネレータCLGは、マイコンチップ2の第2の辺A2よりも第1の辺A1に近い側に配置されている。
なお、図3では図面を見易くするためクロック信号用のパッドCP1,CP2にハッチングを付した。
ここで、上記メモリチップ3においては、クロック信号用のパッドをメモリチップ3の長辺の中央辺りに配置する。このため、マイコンチップ2とメモリチップ3とのクロック信号用のパッド同士の接続を考えた場合、マイコンチップ2においてもクロック信号用のパッドCP1,CP2をメモリチップ3の長辺に並ぶ第1の辺A1および第2の辺A2の中央部に配置することが望ましい。
しかしながら、複数の異なる電源電位が供給されるマイコンチップ2では、同一電源ごとに回路ブロックを配置するため、クロック信号用のパッドCP1,CP2を、メモリチップ3の長辺に並ぶ第1の辺A1および第2の辺A2の中央部に配置することが難しい。
本実施の形態1においては、上記クロックジェネレータCLGの配置が第1の辺A1に近い角部(隅)となったことから、クロック信号用のパッドCP1,CP2を、上記クロックジェネレータCLGから遠くならないように配置した。
すなわち、図3に示すように、クロック信号用のパッドCP1はクロックジェネレータCLGが配置された第1の辺A1側に配置されている。これに対して、クロック信号用のパッドCP2はクロックジェネレータCLGが配置された第1の辺A1とは全く反対の第2の辺A2側に配置されている。このため、クロックジェネレータCLGからクロック信号用のパッドCP2までの距離は、クロックジェネレータCLGからクロック信号用のパッドCP1までの距離よりも遠くなる。そこで、クロック信号用のパッドCP2は、マイコンチップ2の第2方向Yの中心線Cよりも上に配置されている。すなわち、クロック信号用のパッドCP2は、クロックジェネレータCLGに近づく方向に向かって中心線Cから離れて配置されている。一方、クロック信号用のパッドCP1は、マイコンチップ2の第2方向Yの中心線Cよりも下に配置されている。すなわち、クロック信号用のパッドCP1は、クロックジェネレータCLGから遠ざかる方向に向かって中心線Cから離れて配置されている。このようにクロック信号用のパッドCP1,CP2を配置することにより、クロックジェネレータCLGからのクロック信号用のパッドCP1,CP2に対する各々のクロック信号の時間的ずれを無くすようになっている。すなわち、クロックジェネレータCLGからクロック信号用のパッドCP1,CP2の各々に伝送されるクロック信号間の遅延バランスが取られている。
また、本実施の形態1においては、上記のようなクロック信号用のパッドCP1,CP2の配置による遅延バランス構成のみでは充分でない場合があるので、マイコンチップ2のクロックジェネレータCLGとクロック信号用のパッドCP1,CP2とを電気的に接続する各々の配線経路のうち、配線経路の長さが相対的に短い方の配線経路の途中にクロック信号の伝送速度を遅らせる遅延回路DLCが介在されている(図3参照)。これにより、クロックジェネレータCLGからクロック信号用のパッドCP1までの相対的に長い配線でのクロック信号の遅延量と、クロックジェネレータ等CLGからクロック信号用のパッドCP2までの相対的に短い配線でのクロック信号の遅延量とを同じにするか、または、許容範囲内において近づけることができる。したがって、クロックジェネレータCLGからクロック信号用のパッドCP1,CP2の各々に伝送されるクロック信号間の遅延バランスをさらに良好にすることができる。
上記配線基板5は、例えばプリント多層配線基板により形成されている。この配線基板5は、例えばガラスエポキシ系樹脂を絶縁材料とし、また、例えば銅(Cu)を配線材料とするプラスチック薄板を基板として、その厚さ方向に沿って互いに反対側に位置する主面(第1主面、チップ搭載面)および裏面(第2主面)を有している。配線基板5の主面および裏面は、例えば四角形状に形成されている。
配線基板5の主面には、複数のランド(電極)LDA,LDBが配置されている。ランドLDAは、上記マイコンチップ2の複数のパッドCPに対応するように配置されている。このランドLDAは、ビアホール部VAおよび配線Lを通じてランドLDBに電気的に接続されている。ランドLDBは、マイコンチップ2およびメモリチップ3とは平面的に重ならないように、上記ランドLDAよりも外側に配置されている。
本実施の形態1において、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1に対応するランドLDA1は配線基板5のビアホール部VAおよび配線L1を通じてランドLDB1に電気的に接続されているが、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP2に対応するランドLDA2は配線基板5の配線Lに電気的に接続されておらずダミーランド(ダミー電極)になっている。なお、図4では図面を見易くするためランドLDA1,LDA2にハッチングを付した。
このような配線基板5の裏面には、複数のランドLDCがアレイ状に配置されている。このランドLDCは、配線基板5内の配線Lやビアホール部VAを通じて、上記配線基板5の主面のランドLDA,LDBに電気的に接続されている。なお、ランドLDCは、ダミーのランドLDA2には電気的に接続されていない。
このランドLDCの表面には、例えば錫−銀−銅合金のような鉛フリー半田より形成されたバンプ6Aが接合されてバンプ電極(突起電極)が形成されている。このバンプ6Aは、配線基板5の裏面のランドLDC、配線基板5内の配線Lを通じて、配線基板5の主面のランドLDA,LDBに電気的に接続されている。このように本実施の形態1の半導体装置1は、例えばBGA(Ball Grid Array)型のパッケージとされている。ただし、パッケージ構成はBGA型に限定されるものではなく、例えば配線基板5の裏面に平らな電極がアレイ状に配置されたLGA(Land Grid Array)型のパッケージとしても良い。
なお、ランドLDA,LDA1,LDA2,LDB,LDCの表面には、例えばニッケル(Ni)下地の金(Au)メッキが施されている。
この配線基板5の主面上には、上記マイコンチップ2がフリップチップ実装方式により搭載されている。すなわち、上記マイコンチップ2と上記配線基板5とは、各々の主面を向き合わせた状態で配置されている。マイコンチップ2の主面の複数のパッドCPと、配線基板5の主面の複数のランドLDAとは、バンプ6B(バンプ電極)を介して電気的に接続されている。バンプ6Bは、例えば鉛(Pb)−錫(Sn)合金により形成されている。このバンプ6Bは、配線基板5の主面のランドLDAおよび配線基板5内の配線Lを通じて配線基板5の主面のランドLDBに電気的に接続されている(バンプ6Bのうち、後述のダミー用のランドに接続されるものを除く)。
マイコンチップ2のパッドCPのうち、第1の辺A1側のクロック信号用のパッドCP1は、バンプ6Bを通じて配線基板5のランドLDA1に電気的に接続され、そのランドLDA1からビアホール部VAおよび配線L1を通じて、配線基板5の主面のランドLDB1に電気的に接続されている。一方、マイコンチップ2の第2の辺A2側のクロック信号用のパッドCP2は、バンプ6Bを通じて配線基板5のダミー用のランドLDA2に電気的に接続されて終端されている。
なお、マイコンチップ2の主面と配線基板5の主面との間には、例えば絶縁性樹脂により形成されたアンダーフィル7が充填されている。
上記メモリチップ3は、上記プロセッサ(マイコンチップ2)のメインメモリである。すなわち、メモリチップ3は、マイコンチップ2の処理および制御に必要なプログラムおよびデータを記憶する記憶回路である。このメモリチップ3は、例えばシリコン(Si)単結晶を母材とする半導体薄板を基板として、その厚さ方向に沿って互いに反対側に位置する主面(第1主面)および裏面(第2主面)を有している。このメモリチップ3の主面および裏面は、例えば長方形形状に形成されている。メモリチップ3の第1の長辺B1および第2の長辺B2の長さ(第2方向Yの長さ)は、マイコンチップ2の第2方向Yの第1の辺A1および第2の辺A2の長さよりも長く、メモリチップ3の短辺の長さ(第1方向Xの長さ)は、マイコンチップ2の第1方向Xの長さよりも短い。
このメモリチップ3は、その主面を上に向け、その裏面をマイコンチップ2の裏面に向けた状態で、メモリチップ3の裏面とマイコンチップ2の裏面との間に介在された接着層8によりマイコンチップ2に接着された状態でマイコンチップ2の裏面上に搭載されている。ここで、メモリチップ3は、その第1の長辺B1が、マイコンチップ2の第1の辺A1に隣接して沿うように、また、メモリチップ3の第2の長辺B2がマイコンチップ2の第2の辺A2に隣接して沿うように搭載されている。接着層8は、例えば接着性を有する絶縁ペースト材または絶縁フィルムにより形成されている。
このメモリチップ3の主面には、例えばシンクロナスDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory:以下、SDRAMと略す)のようなメモリ回路やその周辺回路等のような所望の集積回路が形成されている。SDRAMは、外部インターフェースが一定周期のクロック信号に同期して動作するDRAMである。
また、メモリチップ3の主面の第1、第2の長辺B1,B2の近傍には、その辺に沿って複数のパッド(外部端子)MPが配置されている。このパッドMPは、上記メモリ回路や周辺回路等のような集積回路に電気的に接続された引き出し電極である。この複数のパッドMPは、ボンディングワイヤ(以下、単にワイヤという)WRを通じて、配線基板5の主面に配置された複数のランドLDBの各々に電気的に接続されている。パッドMPがワイヤWRを通じて電気的に接続されるランドLDBは、パッドMPが配置されているメモリチップ3の第1、第2の長辺B1,B2の向かい側に配置されているランドLDBである。ワイヤWRは、例えば金(Au)により形成されている。
本実施の形態1においては、メモリチップ3の複数のパッドMPのうち、クロック信号用のパッドMP1がメモリチップ3の主面の第1の長辺B1(図1ではメモリチップ3の右側の辺)の近傍のみに配置されている。なお、図1では図面を見易くするためクロック信号用のパッドMP1にハッチングを付した。
このクロック信号用のパッドMP1は、ワイヤWRを通じて、配線基板5の主面においてメモリチップ3の第1の長辺B1の向かい側に配置されたランドLDB1に電気的に接続されている。すなわち、クロック信号用のパッドMP1は、ワイヤWR、ランドLDB1、ビアホール部VAおよび配線L1を通じて、配線基板5の主面のランドLDA1に電気的に接続され、さらにバンプ6Bを通じてマイコンチップ2の第1の辺A1側に配置されたクロック信号用のパッドCP1に電気的に接続されている。
このように本実施の形態1においては、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1を、そのクロック信号用のパッドMP1が配置された第1の長辺B1に沿うマイコンチップ2の第1の辺A1側に配置されたパッドCP1に電気的に接続することができる。このため、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1とを結ぶ配線の長さを短くすることができるので、半導体装置1の動作信頼性および機能性を向上させることができる。
なお、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1の上下には、例えばデータ信号用のパッドMP等が配置され、メモリチップ3の長辺B2近傍には、例えばアドレス信号用のパッドMP等が配置されている。
上記マイコンチップ2、メモリチップ3およびワイヤWRは、封止体4により覆われ封止されている。封止体4は、例えばエポキシ系樹脂により形成されている。
次に、図5はマイコンチップ2の具体例の全体平面図である。図5ではマイコンチップ2を裏面から見ているが、説明上、マイコンチップ2の主面の複数のパッドCPの一部を透かして示している。
複数のパッドCPのうち、第1の辺A1側のクロック信号用のパッドCP1の上下の複数のパッドCPは、上記メモリチップ3のSDRAMのデータ入出力信号用のパッドである。この第1の辺A1側のデータ入出力信号用の複数のパッドCPの各々には、マイコンチップ2の主面の第1の辺A1側に配置されたデータ入出力回路が電気的に接続されている。なお、データ入出力回路は、データ入力回路、データ出力回路およびデータ入出力双方向の回路を含む。
すなわち、第1の辺A1側のデータ入出力信号用のパッドCPには、メモリの書き込み動作時において、マイコンチップ2からメモリチップ3に送られるデータが出力されるデータ出力回路が電気的に接続されている。クロック信号用のパッドCP1に供給(伝送)されるクロック信号は、このデータ出力回路に供給(伝送)される。すなわち、このデータ出力回路は、上記パッドCP1に供給されるクロック信号に応じてデータを上記データ入出力信号用のパッドCPへ出力するようになっている。
また、第1の辺A1側のデータ入出力信号用のパッドCPには、メモリの読み出し動作時において、メモリチップ3からマイコンチップ2に送られるデータが入力されるデータ入力回路が電気的に接続されている。クロック信号用のパッドCP1に供給(伝送)されるクロック信号は、このデータ入力回路に供給(伝送)される。すなわち、このデータ入力回路は、上記パッドCP1に供給されるクロック信号に応じてデータを上記データ入出力信号用のパッドCPから取り込むようになっている。
上記第1の辺A1側のクロック信号用のパッドCP1は、上記複数のデータ入出力信号用のパッドCPの一群の端部ではなく、上記複数のデータ入出力信号用のパッドCPの一群に挟まれるように配置されている。これにより、上記複数のデータ入出力信号用のパッドCPの一群の端部にクロック信号用のパッドCP1を配置する場合に比べて、各データ入出力信号用のパッドCPに接続されるデータ入出力回路(データ入力回路やデータ出力回路等)に対してクロック信号を遅延が少なく供給(伝送)することができる。
一方、複数のパッドCPのうち、第2の辺A2側のクロック信号用のパッドCP2の上下の複数のパッドCPは、上記メモリチップ3のSDRAMのアドレス信号用のパッドである。
この第2の辺A2側のアドレス信号用の複数のパッドCPの各々には、マイコンチップ2の主面の第2の辺A2側に配置されたアドレス出力回路が電気的に接続されている。このアドレス出力回路は、メモリの書き込みおよび読み出し動作時において、マイコンチップ2からメモリチップ3に送られるアドレスデータが出力される回路である。クロック信号用のパッドCP2に供給(伝送)されるクロック信号は、このアドレス出力回路に供給(伝送)される。すなわち、アドレス出力回路は、上記パッドCP2に供給されるクロック信号に応じてアドレスデータを上記アドレス信号用のパッドCPへ出力するようになっている。
上記第2の辺A2側のクロック信号用のパッドCP2は、上記複数のアドレス信号用のパッドCPの一群の端部ではなく、上記複数のアドレス信号用のパッドCPの一群に挟まれるように配置されている。これにより、上記複数のアドレス信号用のパッドCPの一群の端部にクロック信号用のパッドCP2を配置する場合に比べて、各アドレス信号用のパッドCPに接続されるアドレス出力回路に対してクロック信号を遅延が少なく供給(伝送)することができる。
図5の符号のVCC1〜VCC10は複数の電源回路を示している。、上記第1の辺A1の複数のデータ入出力回路に電源電圧を供給する電源回路VCC6と、上記第2の辺A2の複数のアドレス出力回路に電源電圧を供給する電源回路VCC2とは、電源電圧として同電圧が供給されるようになっている。これ以外において電源回路VCC1〜VCC10は互いに異なる電源電位を供給するようになっている。
上記のようにクロック信号用のパッドCP1,CP2は、それぞれ第1の辺A1および第2の辺A2の中央から第2方向Yの互いに逆方向に離れるようにずれて配置されている。これは、上記のようにマイコンチップ2内に異なる電源電位を供給する電源回路VCC1〜VCC10が複数存在する場合、電源が同じ回路を隣接してマイコンチップ2内に配置するため、クロック信号用のパッドCP1,CP2が各々の辺A1,A2の中央部に配置され難くなった結果である。この場合、マイコンチップ2の回路ブロックおよびパッドを、上記メモリチップ3のパッド配列と同様に配列することで、全体に同じ信号遅延が乗るため回路動作上の影響は小さい。
ただし、クロック信号用のパッドCP1,CP2は、上記のようにマイコンチップ2の2辺に配置することに限定されるものではなく種々変更可能であり、マイコンチップ2の3辺または4辺に配置しても良い。また、クロック信号用のパッドCP1,CP2をマイコンチップ2の互いに直交する辺の各々の近傍に配置しても良い。
さらに、図6および図7に示すようにしても良い。すなわち、図6に示すように、クロック信号用のパッドCP1,CP2を、第1、第2の辺A1,A2の各々の中央(中心線C上)に配置しても良い。
また、図7に示すように、クロック信号用のパッドCP1,CP2を、第1、第2の辺A1,A2の各々の中央(中心線C)から第2方向Yの同じ方向に離れるようにずらして配置しても良い。このようにクロック信号用のパッドCP1を中央線Cよりも下に配置する場合は、上記遅延回路DLCの遅延量(時間)を増加させる必要がある。したがって、図7の場合は、マイコンチップ2およびメモリチップ3の全体のクロック信号に遅れが生じることになるため、図7の場合よりは図3で例示した構成の方が望ましい。
なお、図6および図7は図5のマイコンチップ2のクロック信号用のパッドCPの配置の変形例を示すマイコンチップ2の主面の全体平面図を示している。
次に、図8(a),(b)は、それぞれ図5のマイコンチップ2の破線で囲んだ領域RA,RBを拡大して示している。図8(a)は上記アドレス信号用のパッドCPが配置されたアドレスパッド部であり、図8(b)は上記データ入出力信号用のパッドCPが配置されたデータパッド部である。
クロック信号用のパッドCP1,CP2は、マイコンチップ2内の配線を通じて、マイコンチップ2の入出力バッファBF(入出力回路)の出力に電気的に接続されている。このクロック信号用のパッドCP1,CP2の第2方向Yの上下には、基準電源電位(GND)用のパッドCPsと、高電源電位供給用のパッドCPv1,CPv2とが、クロック信号用のパッドCP1,CP2を挟み込むように、クロック信号用のパッドCP1,CP2に隣接して配置されている。
基準電源電位用のパッドCPsは、複数の入出力バッファBFの各々の基準電源電位用の電源端子に電気的に接続されている。高電源電位供給用のパッドCPv1,CPv2は、複数の入出力バッファBFの各々の高電源電位供給用の電源端子に電気的に接続されている。
図8(a)に示すように、基準電源電位用のパッドCPsの第2方向Yの下には、クロックイネーブル信号用のパッドCPckeが基準電源電位用のパッドCPsに隣接して配置されている。このクロックイネーブル信号用のパッドCPckeは、マイコンチップ2内の配線を通じて、入出力バッファBFの出力に電気的に接続されている。
また、高電源電位供給用のパッドCPv1の第2方向Yの上には、リードライト信号用のパッドCPwrが高電源電位供給用のパッドCPv1に隣接して配置されている。このリードライト信号用のパッドCPwrは、マイコンチップ2内の配線を通じて、マイコンチップ2の入出力バッファBFの出力に電気的に接続されている。
一方、図8(b)に示すように、基準電源電位用のパッドCPsの第2方向Yの下には、データマスク信号用のパッドCPdqmが基準電源電位用のパッドCPsに隣接して配置されている。このデータマスク信号用のパッドCPdqmは、マイコンチップ2内の配線を通じて、入出力バッファBFの出力に電気的に接続されている。
また、高電源電位供給用のパッドCPv2の第2方向Yの上にも、データマスク信号用のパッドCPdqmが高電源電位供給用のパッドCPv2に隣接して配置されている。このデータマスク信号用のパッドCPdqmは、マイコンチップ2内の配線を通じて、入出力バッファBFの出力に電気的に接続されている。
図9は、上記図8(b)の拡大図であって、上記マイコンチップ2のクロック部およびデータ部の一例の要部回路図を示している。
上記クロックジェネレータCLG(図3参照)により生成されたクロック信号CLKは、入出力バッファBFを介してクロック信号用のパッドCP1,CP2に伝送される一方、データラッチ回路DLw,DLrに入力されるようになっている。
ライトデータ信号Dwは、クロック信号CLKに同期し、データラッチ回路DLwを介してデータ信号用のパッドCPdに出力され、メモリチップ3のSDRAMに伝送される。また、リードデータ信号Drは、クロック信号CLKに同期して、データ信号用のパッドCPdからデータラッチ回路DLrを介してマイコンチップ2の内部のレジスタに伝送される。
次に、図10は半導体装置1のシステム構成の説明図を示している。
マイコンチップ2のCPUは、メモリチップ3に用意されたプログラムに従って演算処理および制御処理を実行する回路であり、制御回路および演算回路の他、レジスタR等を有している。レジスタRには、制御回路用のレジスタと演算回路用のレジスタとがある。制御回路用のレジスタには、インストラクションレジスタおよびプログラムカウンタ等がある。演算回路用のレジスタには、アキュムレータ、フラグレジスタおよびデータレジスタ等がある。
マイコンチップ2のバス制御回路BCCは、アドレスバス、データバスおよび制御バスの信号制御を行う回路である。入出力回路I/Oには、上記入出力バッファが複数配置されている。上記複数のパッドCPは、入出力回路I/Oの配置領域に配置されている。
マイコンチップ2のCPUが必要とするプログラムおよびデータは、メモリチップ3から入出力回路I/Oおよびバス制御回路BCCを経由してマイコンチップ2に伝送されるようになっている。
アドレス信号Addはメモリチップ3のSDRAMのアドレスを指定する信号を示し、データ信号Dはデータ信号を示している。
チップセレクト信号CSはメモリチップ3内の接続されるSDRAM回路ブロックの選択信号を示し、ロウアドレスストローブ信号RASはメモリチップ3のSDRAMのロウアドレスを指定する信号を示し、カラムアドレスストローブ信号CASはメモリチップ3のSDRAMのカラムアドレスを指定する信号を示し、ライトイネーブル信号WEは読み出し(リード)/書き込み(ライト)信号を示している。チップセレクト信号CS、ロウアドレスストローブ信号RAS、カラムアドレスストローブ信号CAS、ライトイネーブル信号WEは、制御信号であり、アクティブロウである。
データマスク信号DQMは、メモリチップ3のSDRAMのバイト選択信号を示している。クロック信号CLKは、同期クロック出力信号を示し、マイコンチップ2からメモリチップ3に伝送される。マイコンチップ2およびメモリチップ3の回路は、このクロック信号CLKに同期して動作するようになっている。クロックイネーブル信号CKEはメモリチップ3のSDRAMのクロックイネーブル信号を示している。データマスク信号DQM、クロック信号CLKおよびクロックイネーブル信号CKEは制御信号である。なお、各信号の矢印は信号の伝送方向を示しており、データ信号Dは双方向バスであるが、その他の信号はマイコンチップ2からメモリチップ3に伝送される。
次に、図11は半導体装置1のメモリチップ3のリードサイクル例を示すタイミングチャート図を示している。
マイコンチップ2からメモリチップ3に与えられるクロック信号CLKに同期して、アドレス信号Addを与え、チップセレクト信号CS、ロウアドレスストローブ信号RASおよびカラムアドレスとローブ信号CAS等のような制御信号をアクティブすることでSDRAMの所望のアドレスのデータ信号Dを読み出すことができる。
ここで、図12はマイコンチップ2とメモリチップ3とのクロック信号CLKおよびデータ信号Dの信号遅延の説明図を示している。
マイコンチップ2から出力されたクロック信号CLKは、遅延を持ってメモリチップ3のSDRAMに到達する。メモリチップ3のSDRAMは、このクロック信号CLKに同期して動作し、マイコンチップ2が必要とするプログラムやデータをマイコンチップ2に対して出力する。この時、メモリチップ3のSDRAMから出力されたデータは、遅延を持ってマイコンチップ2のCPUに到達する。
ここで、マイコンチップ2のCPUがデータを正しく受け取るためには、マイコンチップ2のCPUが出力するクロック信号に対して到達したデータがマイコンチップ2のCPUに到達したときにセットアップ時間が確保されていることが必要となる。
このため、マイコンチップ2のCPUが正しくデータを受け取るためにマイコンチップ2のCPUとメモリチップ3のSDRAMとの間の遅延時間をできる限り小さく抑えることが必要となる。特に、SDRAMは、クロック信号に同期して動作する回路なので、マイコンチップ2のCPUとメモリチップ3のSDRAMとの間の遅延時間を最小限にすることが要求されている。
次に、本発明者が見出した課題を説明した後、本実施の形態1の効果について説明する。
図13(a),(b)はクロック信号用のパッドMP1の配置が異なる2種のメモリチップ3の主面の全体平面図を示している。
図13(a)では、クロック信号用のパッドMP1がメモリチップ3の第1の長辺B1側のみに配置されている。この場合、メモリチップ3の第1の長辺B1側のクロック信号用のパッドMP1の第2方向Yの上下の複数のパッドMPはデータ信号用のパッドであり、第2の長辺B2側の複数のパッドMPはアドレス信号用のパッドである。
図13(b)では、クロック信号用のパッドMP1がメモリチップ3の第2の長辺B2側のみに配置されている。この場合、メモリチップ3の第2の長辺B2側のクロック信号用のパッドMP1の第2方向Yの上下の複数のパッドMPはアドレス信号用のパッドであり、第1の長辺B1側の複数のパッドMPはデータ信号用のパッドである。
ここで、SiPを構成する場合、マイコンチップ2のパッドCPの配置は、マイコンチップ2とメモリチップ3との配線が最短となるように、メモリチップ3のパッド配置に合わせて決められる。
例えば図13(a)のようなパッド配置のメモリチップ3の場合は、図14に示すようなパッド配置のマイコンチップ2が用意される。図14は本発明者が検討したSiPのマイコンチップ2を裏面から見たときの全体平面図を示している。図14では、説明上、マイコンチップ2の主面の複数のパッドCPを透かして示している。
図14では、マイコンチップ2の第1の辺A1側にのみクロック信号用のパッドCP1が配置されている。なお、図14のマイコンチップ2の第1の辺A1側のクロック信号用のパッドCP1の第2方向Yの上下の複数のパッドCPはデータ信号用のパッドであり、第2の辺A2側の複数のパッドCPはアドレス信号用のパッドである。
ここで、図13(a)のメモリチップ3と、図14のマイコンチップ2とを用いてSiPを構成する場合、本実施の形態1で説明したのと同様に、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1と、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1とが同じ側の辺(第1の辺A1および第1の長辺B1)に配置されるので、各々のクロック信号用のパッドCP1,MP1を電気的に接続する配線の長さを短くすることができる(図1および図2参照)。
しかし、図13(b)のメモリチップ3と、図14のマイコンチップ2とを用いてSiPを構成する場合は、各々のクロック信号用のパッドCP1,MP1が、互いに反対側の辺(第1の辺A1と第2の長辺B2)に配置されているので、これらのパッドCP1,MP1を短い距離で電気的に接続することが難しい。
図15は図13(b)のメモリチップ3と図14のマイコンチップ2とを用いたSiPの全体平面図、図16は図15のSiPの配線(破線)に沿って切断した断面図をそれぞれ示している。なお、図15では説明を分かり易くするため半導体装置1の内部およびマイコンチップ2の主面のパッドCPを透かして示している。また、配線基板5の内部の配線L0を破線で示している。
この場合は、メモリチップ3の第2の長辺B2側に配置されたクロック信号用のパッドMP1は、ワイヤWRを通じて、メモリチップ3の第2の長辺B2の向かい側に配置されたランドLDBに接続される。このランドLDBは、マイコンチップ2の第2の辺A2側からマイコンチップ2を跨いでマイコンチップ2の第1の辺A1に延びる配線L0を通じて、マイコンチップ2の第1の辺A1側のランドLDAに電気的に接続される。そして、そのランドLDAからバンプ6Bを通じて、マイコンチップ2の第1の辺A1側に配置されたクロック信号用のパッドCP1に電気的に接続される。このため、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1との配線距離が長くなり、マイコンチップ2のCPUとメモリチップ3のSDRAMとの間の配線遅延が大きくなるので、半導体装置の動作信頼性および性能が低下する問題がある。また、そのような配線遅延が生じないようにするために、半導体装置の配線設計が難しくなる問題がある。
これに対して、本実施の形態1の場合、上記したようにマイコンチップ2において、第1方向Xに沿って互いに反対側に位置する第1、第2の辺A1,A2の両側に、クロック信号用のパッドCP1,CP2が引き出されているので、図13(a),(b)のいずれのメモリチップ3を用いても、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP(CP1,CP2)とを短い距離で接続することができる。
図17は図13(b)のメモリチップ3を用いた場合の本実施の形態1の半導体装置1の全体平面図、図18は図17の半導体装置1において図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図を示している。なお、図17では説明を分かり易くするため半導体装置1の内部、マイコンチップ2の主面のパッドCPおよび配線基板5の内部の一部の配線を透かして示している。
この場合、メモリチップ3の第2の長辺B2側に配置されたクロック信号用のパッドMP1は、ワイヤWRを通じて、配線基板5の主面においてメモリチップ3の第2の長辺B2(マイコンチップ2の第2の辺A2)の向かい側に配置されたランドLDB2に電気的に接続されている。このランドLDB2は、ビアホール部VAおよび配線L2を通じて、マイコンチップ2の第2の辺A2側のクロック信号用のパッドCP2に対向する配線基板5の主面のランドLDA3に電気的に接続されている。そして、そのランドLDA3は、マイコンチップ2の第2の辺A2側のクロック信号用のパッドCP2にバンプ6Bを介して電気的に接続されている。
すなわち、メモリチップ3の第2の長辺B2側に配置されたクロック信号用のパッドMP1は、ワイヤWR、ランドLDB2、ビアホール部VA、配線L2、ランドLDA3およびバンプ6Bを通じて、マイコンチップ2の第2の辺A2側に配置されたクロック信号用のパッドCP2に電気的に接続されている。このため、図13(b)のメモリチップ3を用いた場合でも、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1とを短い距離で接続することができる。
なお、図18に示すように、マイコンチップ2の使用しないクロック信号用のパッドCP1はバンプ6Bを介して配線基板5の主面のダミー用のランドLDA2に接続され終端している。また、図13(a)のメモリチップ3を用いた場合については、上記のように図1、図2等を用いて説明したので説明を省略する。
このように、本実施の形態1によれば、図13(a),(b)のいずれのメモリチップ3を用いても、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP(CP1,CP2)とを短い距離で接続することができるので、半導体装置1の動作信頼性および機能性を向上させることができる。
また、図13(a),(b)のいずれのメモリチップ3を用いても、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP(CP1,CP2)とを短い距離で接続することができ、マイコンチップ2や配線基板5の配線設計を容易にすることができるので、半導体装置1の設計の容易性を向上させることができる。
また、使用しないクロック信号用のパッドCPに接続されるランドLDA2をダミーにしたことにより、配線基板5に無用な配線Lを形成しないで済むので、配線基板5の配線容量を低減できる。したがって、半導体装置1の動作信頼性および機能性を向上させることができる。
次に、本実施の形態の半導体装置1の製造方法の一例を説明する。
まず、配線基板母体を用意する。この配線基板母体は、複数の上記配線基板5を一体的に有する基板である。配線基板母体の単位領域(上記配線基板5に相当する)には、用いるマイコンチップ2およびメモリチップ3のパッドCP,MPの配置に応じて、配線LおよびランドLDB,LDCが配置されている。
続いて、この配線基板母体の各単位領域に、上記バンプ6Bを介してマイコンチップ2を搭載し、マイコンチップ2の主面と配線基板母体の主面との間にアンダーフィル7を充填する(第1チップ搭載工程)。
その後、配線基板母体の各単位領域のマイコンチップ8上に接着層8を介してメモリチップ3を搭載する(第2チップ搭載工程)。その後、各メモリチップ3のパッドMPと配線基板母体の各単位領域のランドLDBとをワイヤWRにより接続する(ワイヤボンディング工程)。
次いで、配線基板母体の主面全体(すなわち、複数の単位領域)をトランスファーモールド法により一括して封止する。すなわち、配線基板母体の主面の複数の単位領域のマイコンチップ2、メモリチップ3およびワイヤWRを封止体4により覆う(モールド工程)。
続いて、配線基板母体の裏面の各単位領域の複数のランドLDCにバンプ6Aを接合した後、配線基板母体および封止体4をダイシング装置により単位領域毎に切断する(切断工程)。これにより、半導体装置1を製造する。
(実施の形態2)
本実施の形態2においては、マイコンチップの使用しないクロック信号用のパッドと配線基板のランドとの間にバンプを介在させないようにする。
図19は図13(a)のメモリチップ3を用いた場合の本実施の形態2の半導体装置1の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図を示している。
メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1とマイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1との接続経路は、図1および図2で説明したのと同じである。本実施の形態2において、前記図1および図2で説明したものに対して特に異なるのは下記の構成である。
第1に異なるのは、マイコンチップ2の使用しないクロック信号用のパッドCP2と、これに対向する配線基板5の主面のランドLDA3との間にバンプ6Bが介在されていないことである。すなわち、マイコンチップ2の使用しないクロック信号用のパッドCP2は、それに対向する配線基板5の主面のランドLDA3に電気的に接続されておらず、パッドの状態で終端している。
第2に異なるのは、配線基板5の主面の上記ランドLDA3はダミーランドになっておらず、ビアホール部VAおよび配線L2を通じて配線基板5の主面のランドLDB2に電気的に接続されていることである。これにより、マイコンチップ2の第2の辺A2側のクロック信号用のパッドCP2と、これに対向する配線基板5の主面のランドLDA3との間にバンプ6Bを介在させれば、クロック信号用のパッドCP2を、配線基板5の主面においてメモリチップ3の第2の長辺B2(マイコンチップ2の第2の辺A2)の向かい側のランドLDB2に引き出せるようになっている。
一方、図20は図13(b)のメモリチップ3を用いた場合の本実施の形態2の半導体装置1の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図を示している。
メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1とマイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP2との接続経路は、図17および図18で説明したのと同じである。本実施の形態2において、前記図17および図18で説明したものに対して特に異なるのは下記の構成である。
第1に異なるのは、マイコンチップ2の使用しないクロック信号用のパッドCP1と、これに対向する配線基板5の主面のランドLDA1との間にバンプ6Bが介在されていないことである。すなわち、マイコンチップ2の使用しないクロック信号用のパッドCP1は、それに対向する配線基板5の主面のランドLDA1に電気的に接続されておらず、パッドの状態で終端している。
第2に異なるのは、配線基板5の主面の上記ランドLDA1はダミーランドになっておらず、ビアホール部VAおよび配線L1を通じて配線基板5の主面のランドLDB1に電気的に接続されていることである。これにより、マイコンチップ2の第1の辺A1側のクロック信号用のパッドCP1と、これに対向する配線基板5の主面のランドLDA1との間にバンプ6Bを介在させれば、クロック信号用のパッドCP1を、配線基板5の主面においてメモリチップ3の第1の長辺B1(マイコンチップ2の第1の辺A1)の向かい側のランドLDB1に引き出せるようになっている。
このように本実施の形態2においては、配線基板5が、図13(a),(b)のいずれのメモリチップ3にも対応できるようになっている。これにより、配線基板5の配線設計を容易にすることができるので、半導体装置1の設計の容易性を向上させることができる。
ただし、本実施の形態2の場合でも配線基板5の配線を図13(a),(b)の両方のメモリチップ3に対応するようにせず、図13(a),(b)のいずれか一方のメモリチップ3に合わせて配線基板5の配線を設計しても良い。この場合、図19では配線L2、図20では配線L1の配置領域を他の配線の領域として使用できるので、配線の設計の自由度を向上させることができる。また、無駄な配線を無くせるので配線容量を低減でき、半導体装置1の動作信頼性および機能性を向上させることができる。
また、図19および図20では、ランドLDA1,LDA3の間が絶縁されている場合について説明したが、このランドLDA1,LDA3を配線Lにより電気的に接続しても良い。
(実施の形態3)
本実施の形態3においては、マイコンチップと配線基板とをワイヤ接続する場合について説明する。
図21は図13(a)のメモリチップ3を用いた場合の本実施の形態3の半導体装置1の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図を示している。
ここでは、マイコンチップ2が、その主面を上に向けた状態で配線基板5の主面に搭載されている。マイコンチップ2の裏面と配線基板5の主面とは、それらの間の接着層8aにより接着されている。
また、メモリチップ3は、その主面を上に向けた状態でマイコンチップ2の主面上に搭載されている。メモリチップ3の裏面とマイコンチップ2の主面とは、それらの間の接着層8bにより接着されている。接着層8a,8bの材料は、上記接着層8と同じである。
配線基板5の主面において、マイコンチップ2の外周であって、上記ランドLDBよりも内側(マイコンチップ2に近い位置)には、複数のランドLDDが配置されている。
本実施の形態3においても、前記実施の形態1,2と同様に、マイコンチップ2の主面の第1の辺A1および第2の辺A2の両側にクロック信号用のパッドCP1,CP2が配置されている。
マイコンチップ2の主面の第1の辺A1側のパッドCP1は、ワイヤWR1を通じて、配線基板5の主面においてマイコンチップ2の第1の辺A1の向かい側に配置されたランドLDD1に電気的に接続されている。このランドLDD1は、ビアホール部VAおよび配線L1を通じて、マイコンチップ2の第1の辺A1の向かい側に配置された配線基板5の主面のランドLDB1に電気的に接続されている。
なお、マイコンチップ2の主面の第2の辺A2側のパッドCP2は、ワイヤWR1が接続されずパッドの状態で終端されている。
メモリチップ3の主面の第1の長辺B1側には、クロック信号用のパッドMP1が配置されている。このパッドMP1は、ワイヤWR2を通じて、配線基板5の主面においてメモリチップ3の第1の長辺B1(およびマイコンチップ2の第1の辺A1)の向かい側のランドLDB1に電気的に接続されている。すなわち、メモリチップ3の主面のクロック信号用のパッドMP1は、ワイヤWR2、ランドLDB1、ビアホール部VA、配線L1、ランドLDD1およびワイヤWR1を通じて、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1に電気的に接続されている。このように、図13(a)のメモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1とを短い距離で接続することができる。
一方、図22は図13(b)のメモリチップ3を用いた場合の本実施の形態3の半導体装置1の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図を示している。
マイコンチップ2やメモリチップ3の搭載構成は図21で説明したのと同じである。また、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1,CP2の配置は前記実施の形態1,2および図21で説明したのと同じである。さらに、配線基板5のランドLDB,LDDの配置についても図21で説明したのと同じである。
マイコンチップ2の主面の第2の辺A2側のパッドCP2は、ワイヤWR1を通じて、配線基板5の主面においてマイコンチップ2の第2の辺A2の向かい側に配置されたランドLDD2電気的に接続されている。このランドLDD2は、ビアホール部VAおよび配線L2を通じて、マイコンチップ2の第2の辺A2の向かい側に配置された配線基板5の主面のランドLDB2に電気的に接続されている。
なお、マイコンチップ2の主面の第1の辺A12側のパッドCP1は、ワイヤWR1が接続されずパッドの状態で終端されている。
メモリチップ3の主面の第2の長辺B2側には、クロック信号用のパッドMP1が配置されている。このパッドMP1は、ワイヤWR2を通じて、配線基板5の主面においてメモリチップ3の第2の長辺B2(およびマイコンチップ2の第2の辺A2)の向かい側のランドLDB2に電気的に接続されている。すなわち、メモリチップ3の主面のパッドMP1は、ワイヤWR2、ランドLDB2、ビアホール部VA、配線L2、ランドLDD2およびワイヤWR1を通じて、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP2に電気的に接続されている。このように、図13(b)のメモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP2とを短い距離で接続することができる。
このように、本実施の形態3によれば、前記実施の形態1,2で得られた効果の他に、以下の効果を得ることができる。
すなわち、配線基板5の主面において、使用しないクロック信号用のパッド側にダミーランドを配置する必要がない。また、配線基板5の主面において、使用しないクロック信号用のパッド側にメモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1とマイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP(CP1,CP2)とを接続するための配線Lを配置する必要がない。このため、その分の配線領域を通常の配線の配置領域として使用できるので、配線基板5の配線設計の自由度を向上させることができる。したがって、半導体装置1の設計の容易性をさらに向上させることができる。また、配線基板5に無用な配線Lを形成しないで済むので、配線基板5の配線容量を低減できる。したがって、半導体装置1の動作信頼性および機能性を向上させることができる。
(実施の形態4)
本実施の形態4においては、マイコンチップとメモリチップとの各々のクロック信号パッド間をワイヤにより直接接続する場合について説明する。
図23は図13(a)のメモリチップ3を用いた場合の本実施の形態4の半導体装置1の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図を示している。
マイコンチップ2やメモリチップ3の搭載構成は図21や図22で説明したのと同じである。また、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1,CP2の配置は前記実施の形態1,2,3、図21および図22で説明したのと同じである。
本実施の形態4においては、メモリチップ3の主面の第1の長辺B1側のクロック信号用のパッドMP1が、ワイヤWR3を通じて、マイコンチップ2の主面の第1の辺A1側のパッドCP1に電気的に直接接続されている。これにより、図13(a)のメモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP1とを短い距離で接続することができる。
図13(b)のメモリチップ3を用いる場合は、上記と同様に、メモリチップ3の主面の第2の長辺B2側のクロック信号用のパッドMP1を、ワイヤを通じて、マイコンチップ2の主面の第2の辺A2側のパッドCP2に電気的に直接接続する。これにより、図13(b)のメモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP2とを短い距離で接続することができる。
このように、本実施の形態4によれば、前記実施の形態1,2,3で得られた効果の他に、以下の効果を得ることができる。
すなわち、メモリチップ3のクロック信号用のパッドMP1と、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP2とを電気的に接続するためのランドや配線を配線基板5に配置する必要がないので、その分の配線領域を通常の配線の配置領域として使用できる。したがって、配線基板5の配線設計の自由度を向上させることができるので、半導体装置1の設計の容易性をさらに向上させることができる。
(実施の形態5)
前記実施の形態1〜4においては、マイコンチップの複数の辺にクロック信号用のパッドを配置する場合について説明したが、例えばチップセレクト信号、ロウアドレスストローブ信号、カラムアドレスストローブ信号またはライトイネーブル信号等のようなクロック信号以外の制御信号用のパッドもピン数が少ないのでマイコンチップの複数の辺に分散させて配置することもできる。
図24は本実施の形態5の半導体装置1の全体平面図、図25は図24のX2−X2線の断面図を示している。なお、図24では説明を分かり易くするため半導体装置1の内部、マイコンチップ2の主面のパッドCPおよび配線基板5の内部の一部の配線を透かして示している。
本実施の形態5においては、マイコンチップ2の主面の第1、第2の辺A1,A2の両側に、チップセレクト信号用のパッドCP(CPcs1,CPcs2)が配置されている。パッドCPcs1,CPcs2の配置は第2方向Yの中央でも良いし、中央から同方向または離間方向にずらして配置しても良い。マイコンチップ2の他の構成は前記実施の形態1〜4で説明したのと同じである。
また、図24および図25では、メモリチップ3のチップセレクト信号用のパッドMPcsが、メモリチップ3の主面の第1の長辺B1側に配置されている場合が例示されている。このチップセレクト信号用のパッドMPcsは、ワイヤWRを通じて、配線基板5の主面においてメモリチップ3の第1の長辺B1の向かい側に配置されたランドLDB3に電気的に接続されている。このランドLDB3は、ビアホール部VAおよび配線L3を通じて、マイコンチップ2の第1の辺A1側のチップセレクト信号用のパッドCPcs1に対向する配線基板5の主面のランドLDA4に電気的に接続されている。そして、そのランドLDA4は、マイコンチップ2の第1の辺A1側のチップセレクト信号用のパッドcs1にバンプ6Bを介して電気的に接続されている。
すなわち、メモリチップ3の長辺B1側に配置されたチップセレクト信号用のパッドMPcsは、ワイヤWR、ランドLDB3、ビアホール部VA、配線L3、ランドLDA4およびバンプ6Bを通じて、マイコンチップ2の第1の辺A1側に配置されたチップセレクト信号用のパッドCPcs1に電気的に接続されている。このため、メモリチップ3のチップセレクト信号用のパッドMPcsと、マイコンチップ2のチップセレクト信号用のパッドCPcs1とを短い距離で接続することができる。
なお、マイコンチップ2の使用しないチップセレクト信号用のパッドCPcs2はバンプ6Bを介して配線基板5の主面のダミー用のランドLDA5に接続され終端している。
図26は本実施の形態5の半導体装置1の全体平面図、図27は図26のX3−X3線の断面図を示している。なお、図26では説明を分かり易くするため半導体装置1の内部、マイコンチップ2の主面のパッドCPおよび配線基板5の内部の一部の配線を透かして示している。
マイコンチップ2については図24および図25で説明したのと同じである。図26および図27では、メモリチップ3のチップセレクト信号用のパッドMPcsが、メモリチップ3の主面の第2の長辺B2側に配置されている場合が例示されている。このチップセレクト信号用のパッドMPcsは、ワイヤWRを通じて、配線基板5の主面においてメモリチップ3の第2の長辺B2の向かい側に配置されたランドLDB4に電気的に接続されている。このランドLDB4は、ビアホール部VAおよび配線L4を通じて、マイコンチップ2の第2の辺A2側のチップセレクト信号用のパッドCPcs2に対向する配線基板5の主面のランドLDA6に電気的に接続されている。そして、そのランドLDA6は、マイコンチップ2の第2の辺A2側のチップセレクト信号用のパッドcs2にバンプ6Bを介して電気的に接続されている。
すなわち、メモリチップ3の長辺B2側に配置されたチップセレクト信号用のパッドMPcsは、ワイヤWR、ランドLDB4、ビアホール部VA、配線L4、ランドLDA6およびバンプ6Bを通じて、マイコンチップ2の第2の辺A2側に配置されたチップセレクト信号用のパッドCPcs2に電気的に接続されている。このため、メモリチップ3のチップセレクト信号用のパッドMPcsと、マイコンチップ2のチップセレクト信号用のパッドCPcs2とを短い距離で接続することができる。
なお、マイコンチップ2の使用しないチップセレクト信号用のパッドCPcs1はバンプ6Bを介して配線基板5の主面のダミー用のランドLDA5に接続され終端している。
このように、本実施の形態5によれば、メモリチップ3におけるチップセレクト信号用のパッドMPcsが第1、第2の長辺B1,B2のいずれの側に配置されている場合でも、メモリチップ3のチップセレクト信号用のパッドMPcsと、マイコンチップ2のチップセレクト信号用のパッドCP(CPcs1,CPcs2)とを短い距離で接続することができるので、半導体装置1の動作信頼性および機能性を向上させることができる。
また、上記いずれのメモリチップ3を用いても、メモリチップ3のチップセレクト信号用のパッドMPcsと、マイコンチップ2のクロック信号用のパッドCP(CP1,CP2)とを短い距離で接続することができ、マイコンチップ2や配線基板5の配線設計を容易にすることができるので、半導体装置1の設計の容易性を向上させることができる。
また、使用しない側のランドLDA2をダミーにしたことにより、無用な配線Lを形成しないで済むので、配線基板5の配線容量を低減できる。したがって、半導体装置1の動作信頼性および機能性を向上させることができる。
本実施の形態5は、前記実施の形態2で説明した構成を適用することもできる。すなわち、マイコンチップ2の使用しないチップセレクト信号用のパッドCPと、配線基板5のランドLDAとの間にバンプ6Bを介在させないようにしても良い。この場合のチップセレクト信号にかかるパッドや配線の構成は、前記実施の形態2で説明したクロック信号にかかるパッドや配線の構成と同じである。
すなわち、マイコンチップ2の使用するチップセレクト信号用のパッドCP(CPcs1,CPcs2)は、バンプ6B、ランドLDA、ビアホール部VA、配線LおよびランドLDBに電気的に接続され、さらにランドLDBに接続されたワイヤWRを通じてメモリチップ3のチップセレクト信号用のパッドMPcsに電気的に接続される。
一方、マイコンチップ2の使用されないチップセレクト信号用のパッドCP(CPcs1,CPcs2)と、それに対向する配線基板5のランドLDAとの間にはバンプ6Bが介在されず、そのチップセレクト信号用のパッドMPcsは、配線基板5の配線Lに電気的に接続されていない。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば前記実施の形態1〜5においては、メモリチップ3のメモリ回路がSDRAMであるとして説明したが、これに限定されるものではなく種々変更可能であり、例えばメモリチップ3のメモリ回路がDRAM(Dynamic Random Access Memory)等のような他のメモリ回路としても良い。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野である携帯電話システム用のSiPに適用した場合について説明したが、それに限定されるものではなく種々適用可能であり、例えば自動車の電子系統、デジタルビデオカメラまたはデジタルカメラ等のような種々の電子機器のSiPに適用できる。
本発明は、制御回路を有する第1半導体チップと、その第1半導体チップによって動作が制御されるメモリ回路を有する第2半導体チップとを同一の封止体内に混載させて所望の回路機能を構成したSiP構成の半導体装置の製造業に適用できる。
本発明の一実施の形態(実施の形態1)である半導体装置の全体平面図である。 図1のX1−X1線の断面図である。 図1の半導体装置のメモリチップを取り外して示した全体平面図である。 図1の半導体装置の配線基板の主面の全体平面図である。 図1の半導体装置のマイコンチップの具体例の全体平面図である。 図1の半導体装置のマイコンチップのクロック信号用の外部端子の配置の変形例を示すマイコンチップの主面の全体平面図である。 図1の半導体装置のマイコンチップのクロック信号用の外部端子の配置の他の変形例を示すマイコンチップの主面の全体平面図である。 (a),(b)は、それぞれ図5のマイコンチップの破線で囲んだ領域RA,RBを拡大して示した説明図である。 図8(b)の拡大図であって、図1の半導体装置のマイコンチップのクロック部およびデータ部の一例の要部回路図である。 図1の半導体装置1のシステム構成の説明図である。 図1の半導体装置のメモリチップのリードサイクル例を示すタイミングチャート図である。 図1の半導体装置のマイコンチップとメモリチップとのクロック信号およびデータ信号の信号遅延の説明図である。 (a),(b)はクロック信号用のパッドの配置が異なるメモリチップの主面の全体平面図である。 本発明者が検討したSiPのマイコンチップを裏面から見たときの全体平面図である。 図13(b)のメモリチップと図14のマイコンチップとを用いたSiPの全体平面図である。 図15のSiPの配線(破線)に沿って切断した断面図である。 図13(b)のメモリチップを用いた場合の実施の形態1の半導体装置の全体平面図である。 図17の半導体装置1において図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図である。 図13(a)のメモリチップを用いた場合の本発明の他の実施の形態(実施の形態2)の半導体装置の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図である。 図13(b)のメモリチップを用いた場合の本発明の他の実施の形態(実施の形態2)の半導体装置の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図である。 図13(a)のメモリチップを用いた場合の本発明の他の実施の形態(実施の形態3)の半導体装置の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図である。 図13(b)のメモリチップを用いた場合の本発明の他の実施の形態(実施の形態3)の半導体装置の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図である。 図13(a)のメモリチップを用いた場合の本発明の他の実施の形態(実施の形態4)の半導体装置の図1のX1−X1線に相当する箇所の断面図である。 本発明の他の実施の形態(実施の形態5)の半導体装置の全体平面図である。 図24のX2−X2線の断面図である。 本発明の他の実施の形態(実施の形態5)の半導体装置の全体平面図である。 図26のX3−X3線の断面図である。
符号の説明
1 半導体装置
2 マイコンチップ(第1半導体チップ)
3 メモリチップ(第2半導体チップ)
4 封止体
5 配線基板
6A バンプ
6B バンプ(バンプ電極)
7 アンダーフィル
8,8a,8b 接着層
CLG クロックジェネレータ(クロック信号発生回路)
CP ボンディングパッド(外部端子)
CP1 ボンディングパッド(第1外部端子)
CP2 ボンディングパッド(第2外部端子)
CPs ボンディングパッド
CPv ボンディングパッド
CPcke ボンディングパッド
CPwr ボンディングパッド
CPdqm ボンディングパッド
DLC 遅延回路
A1 第1の辺
A2 第2の辺
B1 第1の長辺
B2 第2の長辺
LDA ランド(電極)
LDA1 ランド
LDA2 ランド(ダミー電極)
LDA3 ランド
LDA4 ランド
LDA5 ランド(ダミー電極)
LDA6 ランド
LDB ランド(電極)
LDB1,LDB2,LDB3,LDB4 ランド
LDC ランド
VA ビアホール部
L 配線
L0 配線
L1,L2,L3,L4 配線
WR ボンディングワイヤ
MP ボンディングパッド
MP1 ボンディングパッド
CPU 中央演算処理装置
R レジスタ
BCC バス制御回路
VCC1〜VCC10 電源回路
BF 入出力バッファ
DLw,DLr データラッチ回路
CLK クロック信号
CKE クロックイネーブル信号
Add アドレス信号
D データ信号
CS チップセレクト信号
CAS カラムアドレスストローブ信号
RAS ロウアドレスストローブ信号
DQM データマスク信号

Claims (12)

  1. 配線基板と、
    前記配線基板上にバンプ電極を介して搭載された第1半導体チップとを備え、
    前記第1半導体チップは、
    制御回路およびクロック信号発生回路と、
    互いに厚さ方向に沿って反対側に位置する第1主面および第2主面と、
    前記第1半導体チップの第1主面に配置され、前記制御回路および前記クロック信号発生回路に電気的に接続された複数の外部端子とを有しており、
    前記第1半導体チップの前記複数の外部端子のうち、前記クロック信号発生回路に電気的に接続されたクロック信号用の外部端子は、前記第1半導体チップの第1の辺側に配置されたクロック信号用の第1外部端子と、前記第1半導体チップの前記第1の辺とは異なる第2の辺側に配置されたクロック信号用の第2外部端子とを有しており、
    前記配線基板は、
    互いに厚さ方向に沿って反対側に位置する第1主面および第2主面と、
    前記配線基板の第1主面において、前記第1半導体チップの前記複数の外部端子に対応するように配置された複数の電極とを有しており、
    前記配線基板の前記複数の電極は、前記配線基板の配線に電気的に接続された電極と、前記配線基板の配線に電気的に接続されていないダミー電極とを有しており、
    前記第1半導体チップと前記配線基板とは、各々の第1主面を向き合わせた状態で配置され、
    前記第1半導体チップの第1主面の前記複数の外部端子と前記配線基板の第1主面の前記複数の電極とは、前記バンプ電極を介して電気的に接続されており、
    前記クロック信号用の第1外部端子は、前記バンプ電極および前記電極を介して前記配線基板の前記配線に電気的に接続されており、
    前記クロック信号用の第2外部端子は、前記バンプ電極を介して前記配線基板の前記ダミー電極に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
  2. 請求項1記載の半導体装置において、
    前記第1半導体チップの第2主面上には、前記制御回路によって動作が制御されるメモリ回路を有する第2半導体チップが搭載されており、
    前記第2半導体チップのクロック信号用の外部端子は、ボンディングワイヤを通じて、前記第1半導体チップの前記クロック信号用の第1外部端子に電気的に接続された前記配線基板の前記配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1記載の半導体装置において、
    前記クロック信号発生回路は、前記第1半導体チップの第1主面の四隅のうちの1つに相対的に近く配置されており、
    前記第1半導体チップの第1主面において前記第1の辺側には複数のデータ入出力回路が配置されており、
    前記第1半導体チップの第1主面において前記第2の辺側には複数のアドレス出力回路が配置されており、
    前記第1の辺側に配置された前記第1外部端子に供給されるクロック信号は、前記第1の辺側に配置された前記複数のデータ入出力回路に供給され、
    前記第2の辺側に配置された前記第2外部端子に供給されるクロック信号は、前記第2の辺側に配置された前記複数のアドレス出力回路に供給されることを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項3記載の半導体装置において、
    前記クロック信号発生回路は、前記第1半導体チップの第1主面において、前記第2の辺よりも前記第1の辺に近い側に配置されており、
    前記第1外部端子は、前記クロック信号発生回路から遠ざかる方向に向かって前記第1の辺の中央から離れて配置されており、
    前記第2外部端子は、前記クロック信号発生回路に近づく方向に向かって前記第2の辺の中央から離れて配置されていることを特徴とする半導体装置。
  5. 請求項4記載の半導体装置において、
    前記第1半導体チップの前記クロック信号発生回路と前記クロック信号用の第1外部端子とを電気的に接続する配線経路と、前記第1半導体チップの前記クロック信号発生回路と前記クロック信号用の第2外部端子とを電気的に接続する配線経路とのうち、配線経路の長さが相対的に短い方の配線経路の途中にクロック信号の伝送速度を遅らせる遅延回路を介在させたことを特徴とする半導体装置。
  6. 配線基板と、
    前記配線基板上にバンプ電極を介して搭載された第1半導体チップとを備え、
    前記第1半導体チップは、
    制御回路およびクロック信号発生回路と、
    互いに厚さ方向に沿って反対側に位置する第1主面および第2主面と、
    前記第1半導体チップの第1主面に配置され、前記制御回路および前記クロック信号発生回路に電気的に接続された複数の外部端子とを有しており、
    前記第1半導体チップの前記複数の外部端子のうち、前記クロック信号発生回路に電気的に接続されたクロック信号用の外部端子は、前記第1半導体チップの第1の辺側に配置されたクロック信号用の第1外部端子と、前記第1半導体チップの前記第1の辺とは異なる第2の辺側に配置されたクロック信号用の第2外部端子とを有しており、
    前記配線基板は、
    互いに厚さ方向に沿って反対側に位置する第1主面および第2主面と、
    前記配線基板の第1主面において、前記第1半導体チップの前記複数の外部端子に対応するように配置された複数の電極とを有しており、
    前記配線基板の前記複数の電極は、前記配線基板の第1配線に電気的に接続された第1電極と、前記配線基板の第2配線に電気的に接続された第2電極とを有しており、
    前記第1半導体チップと前記配線基板とは、各々の第1主面を向き合わせた状態で配置されており、
    前記第1半導体チップの第1主面の前記複数の外部端子のうちの前記クロック信号用の第2外部端子を除く前記複数の外部端子と前記配線基板の第1主面の前記複数の電極とは前記バンプ電極を介して電気的に接続されており、
    前記クロック信号用の第1外部端子は、前記バンプ電極および前記第1電極を介して前記配線基板の前記第1配線に電気的に接続されており、
    前記クロック信号用の第2外部端子と前記配線基板の前記第2電極との間には前記バンプ電極が介在されておらず、前記クロック信号用の第2外部端子は前記配線基板の前記第2配線に電気的に接続されていないことを特徴とする半導体装置。
  7. 請求項6記載の半導体装置において、
    前記第1半導体チップの第2主面上には、前記制御回路によって動作が制御されるメモリ回路を有する第2半導体チップが搭載されており、
    前記第2半導体チップのクロック信号用の外部端子は、ボンディングワイヤを通じて、前記第1半導体チップの前記クロック信号用の第1外部端子に電気的に接続された前記配線基板の前記第1配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
  8. 請求項7記載の半導体装置において、
    前記第1半導体チップの前記クロック信号発生回路と前記クロック信号用の第1外部端子とを電気的に接続する配線経路と、前記第1半導体チップの前記クロック信号発生回路と前記クロック信号用の第2外部端子とを電気的に接続する配線経路とのうち、配線経路の長さが相対的に短い方の配線経路の途中にクロック信号の伝送速度を遅らせる遅延回路を介在させたことを特徴とする半導体装置。
  9. 配線基板と、
    前記配線基板上にバンプ電極を介して搭載された第1半導体チップとを備え、
    前記第1半導体チップは、
    制御回路と、
    互いに厚さ方向に沿って反対側に位置する第1主面および第2主面と、
    前記第1半導体チップの第1主面に配置され、前記制御回路に電気的に接続された複数の外部端子とを有しており、
    前記第1半導体チップの前記複数の外部端子のうち、制御信号用の外部端子は、前記第1半導体チップの第1の辺側に配置された制御信号用の第1外部端子と、前記第1半導体チップの前記第1の辺とは異なる第2の辺側に配置された制御信号用の第2外部端子とを有しており、
    前記配線基板は、
    互いに厚さ方向に沿って反対側に位置する第1主面および第2主面と、
    前記配線基板の第1主面において、前記第1半導体チップの前記複数の外部端子に対応するように配置された複数の電極とを有しており、
    前記配線基板の前記複数の電極は、前記配線基板の配線に電気的に接続された電極と、前記配線基板の配線に電気的に接続されていないダミー電極とを有しており、
    前記第1半導体チップと前記配線基板とは、各々の第1主面を向き合わせた状態で配置され、
    前記第1半導体チップの第1主面の前記複数の外部端子と前記配線基板の第1主面の前記複数の電極とは、前記バンプ電極を介して電気的に接続されており、
    前記制御信号用の第1外部端子は、前記バンプ電極および前記電極を介して前記配線基板の前記配線に電気的に接続されており、
    前記制御信号用の第2外部端子は、前記バンプ電極を介して前記配線基板の前記ダミー電極に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
  10. 請求項9記載の半導体装置において、
    前記第1半導体チップの第2主面上には、前記制御回路によって動作が制御されるメモリ回路を有する第2半導体チップが搭載されており、
    前記第2半導体チップの制御信号用の外部端子は、ボンディングワイヤを通じて、前記第1半導体チップの前記制御信号用の第1外部端子に電気的に接続された前記配線基板の前記配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
  11. 配線基板と、
    前記配線基板上にバンプ電極を介して搭載された第1半導体チップとを備え、
    前記第1半導体チップは、
    制御回路と、
    互いに厚さ方向に沿って反対側に位置する第1主面および第2主面と、
    前記第1半導体チップの第1主面に配置され、前記制御回路に電気的に接続された複数の外部端子とを有しており、
    前記第1半導体チップの前記複数の外部端子のうち、制御信号用の外部端子は、前記第1半導体チップの第1の辺側に配置された制御信号用の第1外部端子と、前記第1半導体チップの前記第1の辺とは異なる第2の辺側に配置された制御信号用の第2外部端子とを有しており、
    前記配線基板は、
    互いに厚さ方向に沿って反対側に位置する第1主面および第2主面と、
    前記配線基板の第1主面において、前記第1半導体チップの前記複数の外部端子に対応するように配置された複数の電極とを有しており、
    前記配線基板の前記複数の電極は、前記配線基板の第1配線に電気的に接続された第1電極と、前記配線基板の第2配線に電気的に接続された第2電極とを有しており、
    前記第1半導体チップと前記配線基板とは、各々の第1主面を向き合わせた状態で配置されており、
    前記第1半導体チップの第1主面の前記複数の外部端子のうちの前記制御信号用の第2外部端子を除く前記複数の外部端子と前記配線基板の第1主面の前記複数の電極とは前記バンプ電極を介して電気的に接続されており、
    前記制御信号用の第1外部端子は、前記バンプ電極および前記第1電極を介して前記配線基板の前記第1配線に電気的に接続されており、
    前記制御信号用の第2外部端子と前記配線基板の前記第2電極との間には前記バンプ電極が介在されておらず、前記制御信号用の第2外部端子は前記配線基板の前記第2配線に電気的に接続されていないことを特徴とする半導体装置。
  12. 請求項11記載の半導体装置において、
    前記第1半導体チップの第2主面上には、前記制御回路によって動作が制御されるメモリ回路を有する第2半導体チップが搭載されており、
    前記第2半導体チップの制御信号用の外部端子は、ボンディングワイヤを通じて、前記第1半導体チップの前記制御信号用の第1外部端子に電気的に接続された前記配線基板の前記第1配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011181861A (ja) * 2010-03-04 2011-09-15 Casio Computer Co Ltd 半導体装置及び半導体装置の製造方法
US8115290B2 (en) * 2008-02-29 2012-02-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Storage medium and semiconductor package
JP2012114241A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Renesas Electronics Corp 半導体チップおよび半導体装置
JP2015070036A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 ローム株式会社 半導体装置および電子機器
WO2022026078A1 (en) * 2020-07-28 2022-02-03 Qualcomm Incorporated Integrated circuit package with stacked integrated circuit dies and method of fabricating the same
JP2022147006A (ja) * 2021-03-23 2022-10-06 芝浦メカトロニクス株式会社 プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8115290B2 (en) * 2008-02-29 2012-02-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Storage medium and semiconductor package
USRE48110E1 (en) 2008-02-29 2020-07-21 Toshiba Memory Corporation Storage medium and semiconductor package
USRE49332E1 (en) 2008-02-29 2022-12-13 Kioxia Corporation Storage medium and semiconductor package
JP2011181861A (ja) * 2010-03-04 2011-09-15 Casio Computer Co Ltd 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2012114241A (ja) * 2010-11-25 2012-06-14 Renesas Electronics Corp 半導体チップおよび半導体装置
JP2015070036A (ja) * 2013-09-27 2015-04-13 ローム株式会社 半導体装置および電子機器
WO2022026078A1 (en) * 2020-07-28 2022-02-03 Qualcomm Incorporated Integrated circuit package with stacked integrated circuit dies and method of fabricating the same
US11676905B2 (en) 2020-07-28 2023-06-13 Qualcomm Incorporated Integrated circuit (IC) package with stacked die wire bond connections, and related methods
JP2022147006A (ja) * 2021-03-23 2022-10-06 芝浦メカトロニクス株式会社 プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法
JP7337868B2 (ja) 2021-03-23 2023-09-04 芝浦メカトロニクス株式会社 プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法

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