JP2009060089A - 有機エレクトロルミネッセンス素子用化合物および有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物並びに有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機EL素子用化合物は、特定の化合物よりなることを特徴とし、有機EL素子用組成物は、上記化合物よりなる成分100質量部と、燐光発光性化合物よりなる成分1〜20質量部と、有機溶剤100〜10,000質量部とを含有してなることを特徴とし、有機EL素子は、上記化合物により形成された正孔注入輸送層、電子注入輸送層および発光層のいずれかを有することを特徴とする。
【選択図】図2
Description
このような有機EL素子としては、陽極と陰極との間に有機材料よりなる発光層が形成された単層構造のものと、陽極と発光層との間に正孔輸送層を有する構造のもの、陰極と発光層との間に電子輸送層を有するものなどの多層構造のものが知られている。これらの有機EL素子は、いずれも陰極から注入された電子と陽極から注入された正孔とが、発光層において再結合することによって発光する。
ここに、電子輸送性を示す低分子結晶性材料としては、例えばBND(2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール)が挙げられる(図3にB3LYP型汎関数を用いた密度汎関数法により計算した、BNDのLUMOおよびHOMOの形状を示す。)。なお、このBNDにおける、B3LYP型汎関数を用いた密度汎関数法により計算した最低非占有軌道(LUMO)の軌道エネルギー値は−2.16eVであり、最高占有軌道(HOMO)の軌道エネルギー値は−5.95eVである。
有機EL素子において、陰極から注入された電子は、主に電子輸送層を構成する分子のLUMOの分子間重なりに沿って移動することとなるが、BNDのような電子輸送性を有する材料のLUMOは一般に分子内に広がって非局在化したπ* 軌道であり、そのエネルギー順位が低下(電子親和力が上昇)することによって電子の注入効率と電子輸送性が高まることが知られている。実際に、BNDのLUMOは、正孔輸送性を有する材料に係る分子のLUMOに比して低下しており、他方、BNDのHOMOの分布形状も典型的なπ軌道であってその分布の範囲(広がり)はLUMOとほぼ一致している。
一方、正孔輸送性を有する低分子結晶性材料としては、例えばα−NPD([N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニルベンジジン])が挙げられる(図4にB3LYP型汎関数を用いた密度汎関数法により計算した、α−NPDのLUMOおよびHOMOの形状を示す。)。なお、このα−NPDにおける、B3LYP型汎関数を用いた密度汎関数法により計算したLUMOの軌道エネルギー値は−1.35eVであり、HOMOの軌道エネルギー値は−4.99eVである。
有機EL素子において、陽極から注入された正孔は、主に正孔輸送層を構成する分子のHOMO軌道の分子間重なりに沿って移動することとなるが、α−NPDのような正孔輸送性を有する材料のHOMOは一般に分子内に広がって非局在化したπ軌道であり、そのエネルギー順位が上昇(イオン化ポテンシャルが低下)することによって正孔の注入効率と正孔輸送性が高まることが知られている。実際に、α−NPDのHOMOの分布形状は典型的なπ軌道であってその分布の範囲(広がり)はLUMOとほぼ一致している。
具体的に、このような構成を有する燐光発光性有機EL素子によれば、従来から有機EL素子の外部量子効率の限界値と考えられていた5%を超え、8%の外部量子効率が得られることが報告されている(例えば、非特許文献1参照。)。
この燐光発光性有機EL素子は、一般に緑色や青色の発光が得られるものであるが、未だ十分な耐久性、すなわち常温動作条件における素子寿命を有するものが得られていない、という問題がある。
而して、励起三重項状態を利用した高分子材料よりなる燐光発光性有機EL素子として、例えば有機イリジウム錯体化合物とポリビニルカルバゾールの混合物からなる組成物を発光層の形成材料として用い、発光層が湿式法によって形成されてなるものが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
しかしながら、この燐光発光性有機EL素子は、長期の耐久性が得られない、という問題がある。
本発明の他の目的は、発光特性および耐久性に優れた有機EL素子を提供することにある。
この燐光発光性有機EL素子は、上記の有機EL素子用組成物を用いて発光層を形成することによって作製することができる。
本発明の有機EL素子用化合物は、上記一般式(I)で表されるものであって、有機EL素子用材料として有用なものである。
また、一般式(I)におけるn1 〜n5 は、それぞれ独立に0または1であるが、n1 のみが1、またはn1 およびn2 のみが1であることが好ましい。
これらの化合物のうちでは、特に式(I−1)で表される化合物が好ましい。
このように本発明の有機EL素子用化合物を有機EL素子用材料とする場合には、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
すなわち、本発明の有機EL素子用化合物は、フロンティア分離型有機EL化合物の分子設計指針を満足するものであり、電子輸送性に優れた部位と、正孔輸送性に優れた部位を有し、かつそれらが1つの分子中で融合されてなる化合物である。より具体的には、電子輸送性部位としてスルホニル基を有するフルオレン骨格(以下、「SO2F1部」という。)を、また正孔輸送性部位としてN−フェニルカルバゾール骨格(以下、「PCar部」という。)を選択し、SO2F1部に係るLUMOとPCar部に係るHOMOとが空間的に分離するような分子設計を行うことによって得られたものである。
以下において、本発明の有機EL素子用化合物の具体例を示して説明する。
上記式(I−1)に示す化合物は、SO2F1部とPCar部が1つのベンゼン環を介して結合した化合物(以下、「DBTSO2−2」という。)であり、LUMOが−2.38eVであってHOMOが−5.78eVである。このDBTSO2−2は、HOMOとLUMOの分布形状の重なりがDBTSO2−1に比べて相対的に抑制されており、しかもHOMOからLUMOへの一電子遷移は許容遷移(波長:407nm、振動子強度:0. 145)である。DBTSO2−1に比べてHOMOからLUMOへの遷移の振動子強度が格段に向上しており、これは「フロンティア分離型」である。図1に、B3LYP型汎関数を用いた密度汎関数法により計算したLUMOおよびHOMOの形状を示す。
上記式(I−3)に示す化合物は、SO2Fl部とPCar部がビフェニル骨格を介して結合した化合物(以下、「DBTSO2−3」という。)であり、LUMOが−2.36eVであってHOMOが−5.69eVである。このDBTSO2−3は、HOMOとLUMOの分布形状の重なりはDBTSO2−2に比べて抑制されており、HOMOからLUMOへの一電子遷移は許容遷移であり、しかもその振動子強度は大きい(波長:405nm、振動子強度:0.187)。従って、この分子もほぼ完全な「フロンティア分離型」ということができる。
下記式(I−8)に示す化合物は、SO2Fl部とPCar部がチオフェン骨格を介して結合した化合物(以下、「DBTSO2−4」という。)であり、LUMOが−2.53eVであってHOMOが−5.89eVである。このDBTSO2−4は、HOMOとLUMOの分布形状の重なりはDBTSO2−2に比べて抑制されており、HOMOからLUMOへの一電子遷移は許容遷移であり、しかもその振動子強度は非常に大きい(波長:419nm、振動子強度:0. 231)。従って、この分子もほぼ完全な「フロンティア分離型」ということができる。
本発明の有機EL素子用組成物は、上記の有機EL素子用化合物よりなる成分(以下、「有機EL素子用化合物成分」ともいう。)100質量部と、燐光発光性化合物よりなる成分(以下、「発光成分」ともいう。)1〜20質量部と、有機溶剤100〜10,000質量部とを含有してなるものである。
このような有機イリジウム錯体化合物の具体例としては、例えば下記一般式(1)〜一般式(6)で表される化合物を挙げることができる。
また、置換基R1 に係る炭素数6〜20のアリール基の具体例としては、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、4−ビフェニル基、1−ナフチル基などを挙げることができる。
発光成分の割合が過大であり複数の発光分子が空間的に近接した場合には、発光輝度が却って減少する濃度消光の現象が生じるおそれがある。
これらの中では、均一な厚みを有する薄膜を得やすい点で、適度の蒸発速度を有するもの、具体的には沸点が70〜200℃程度の有機溶剤を用いることが好ましい。
この有機EL素子用組成物によって発光層を形成する方法としては、当該有機EL素子用組成物を適宜の基体の表面に塗布したのち、有機溶剤を除去することにより、形成することができる。
有機EL素子用組成物溶液を塗布する方法としては、例えば、回転塗布(スピンコート)法、浸漬法、ロールコート法、インクジェット法、印刷法などの適宜の方法を採用することができる。
形成される発光層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、10〜200nm、好ましくは30〜100nmの範囲で選択される。
図2は、本発明の有機EL素子の構成の一例を示す説明用断面図である。
この例の有機EL素子は、透明基板1上に、正孔を供給する電極である陽極2が例えば透明導電膜により設けられ、この陽極2上に正孔注入輸送層3が設けられ、この正孔注入輸送層3上に発光層4が設けられ、この発光層4上に正孔阻止(ホールブロック)層8が設けられ、この正孔阻止層8上に電子注入輸送層5が設けられ、この電子注入輸送層5上に電子を供給する電極である陰極6が設けられている。そして、陽極2および陰極6は、直流電源7に電気的に接続される。
陽極2を構成する材料としては、好ましくは、例えば4eV以上の大きな仕事関数の透明性材料が用いられる。ここで、仕事関数とは、固体から真空中に電子を取り出すのに要する最小限のエネルギーの大きさをいう。陽極2としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)膜、酸化スズ(SnO2 )膜、酸化銅(CuO)膜、酸化亜鉛(ZnO)膜、酸化スズカドミウム(CTO)膜などを用いることができる。
また、陽極2の厚みは、材料の種類によって異なるが、通常、10〜1,000nmの範囲で選択され、好ましくは50〜200nmである。
また、正孔注入輸送層3の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、10〜200nmの範囲で選択される。
また、発光層4の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、5〜200nmの範囲で選択される。
また、正孔阻止層8の厚みは、通常、10〜100nmの範囲で選択される。
陰極6の厚みは、材料の種類によって異なるが、通常、10〜1,000nmの範囲で選択され、好ましくは50〜200nmである。
先ず、透明基板1上に、陽極2を形成する。
陽極2を形成する方法としては、真空蒸着法またはスパッタ法などを利用することができる。また、ガラス基板などの透明基板の表面に例えばITO膜などの透明導電膜が形成されてなる市販の材料を用いることもできる。
正孔注入輸送層3を形成する方法としては、具体的に、電荷輸送材料を適宜の溶剤に溶解することによって正孔注入輸送層形成液を調製し、この正孔注入輸送層形成液を、陽極2の表面に塗布し、得られた塗布膜に対して溶剤の除去処理を行うことによって正孔注入輸送層3を形成する手法を用いることができる。
発光層4を形成する方法としては、例えば本発明の有機EL素子用組成物を発光層形成液として用い、この発光層形成液を正孔注入輸送層3上に塗布し、得られた塗布膜に対して溶剤の乾燥・除去処理を行うことによって発光層4を形成する手法を用いることができる。
また、本発明の有機EL素子用化合物によって発光層を形成する方法としては、真空蒸着法などの乾式法を利用することができるとともに、当該有機EL素子用化合物を有機溶剤に溶解させた溶液を正孔注入輸送層3上に塗布し、得られた塗布膜を熱処理することにより、発光層4を形成する手法を利用することもできる。さらに、本発明の有機EL素子用化合物と燐光発光性化合物とを共蒸着することによっても発光層4を形成することができ、この手法によって発光層4を形成することにより、燐光発光性有機EL素子を得ることができる。
このような構成の有機EL素子によれば、発光層4が上記の有機EL素子用化合物または有機EL素子用組成物によって形成されているため優れた耐久性が得られ、かつ高い発光輝度とともに高い発光効率も得られ、特に、発光層4が当該有機EL素子用組成物、または当該有機EL素子用化合物と燐光発光性化合物とによって形成されてなる場合には、さらに優れた発光輝および発光効率が得られる。
この電子阻止層は、電子が正孔注入輸送層3に侵入することを抑制し、発光層4における電子と正孔との結合を促進させ、発光効率を向上させる機能を有するものである。
電子阻止層を構成する材料としては、例えば前述の式(C−1)〜式(C−34)で表される含芳香族アミン化合物やポリビニルカルバゾール、下記一般式(7)で表される高分子化合物など、電子輸送性に比して正孔輸送性に優れる材料を用いることができ、また、これらの材料にシランカップリング剤などの架橋剤を添加することによって溶剤不溶の電子阻止(電子ブロック)層を得ることもできる。
(有機EL素子用化合物の合成例)
下記反応式(1)に示す合成過程を経ることにより有機EL素子用化合物である化合物(C)(上記式(I−6)で示される化合物)を合成した。
還流管、窒素導入管、温度計を備えた100mLの三口フラスコに4,4’−ジヨード−2,2’−ビス(トリメチル)ビフェニル26.04g(60mmol)、カルバゾール6.69g(40mmol)、銅2.54g(40mmol)、炭酸カリウム11.06g(80mmol)、18−クラウン−6−エーテル0.47g(1.8mmol)、o−ジクロロベンゼン60mLを加え、24時間還流させた。反応終了後、ジクロロメタン、水を加えて抽出洗浄を行った後、ヘキサン:ジクロロメタン=10:1の展開溶媒を用いてシリカカラム精製を行い化合物(A)8.0gを得た。
窒素導入管、温度計を備えた100mLの三口フラスコに化合物(A)4.74g(10mmol)、ビスピナコラートジボロン2.79g、(1,1’−ビス(ジフェニルフォスフォスフィノ)−フェロセン)パラジウム(II)ジクロライドジクロロメタン錯体0.25g(0.30mmol)、ジメチルスルホキシド60mLを加え80℃で12時間反応させた。反応終了後、ジクロロメタンと水を加え抽出洗浄を行った後、ヘキサン:酢酸エチル=3:1の展開溶媒を用いてシリカカラム精製を行い化合物(B)3.8gを得た。
還流管、窒素導入管、温度計を備えた500mLの三口フラスコに化合物(B)4.54g(9.6mmol)、2,8−ジブロモ−ジベンゾチオフェン−S,S−ジオキシド1.49g(4.0mmol)、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム0.28g(0.23mmol)、2M炭酸カリウム水溶液40mL、テトラヒドロフラン200mLを加え、48時間還流させた。反応終了後、ろ過を行い析出物を回収し、N,N−ジメチルホルムアミドにて再結晶を行い化合物(C)を2.79g得た。
・ 1H NMR(CDCl3 、ppm):8.18−8.21(d、4H)、7.96−7.99(d、2H)、7.86(s、2H)、7.73(s、2H)、7.59−7.68(m、8H)、7.39−7.48(m、8H)7.27−7.33(m、4H)、7.12−7.15(d、4H)、2.44(s、6H)、2.08(s、6H).
・13C NMR(CDCl3 ,ppm):147.8,141.1,140.8、140.6、139.2、137.8、136.6、135.8,135.5、131.8,131.4、130.1,130.0、129.7,129.6、126.0, 125.9, 125.0、123.0, 122.4, 122.1, 120.4, 119.6, 109.8,20.6,17.9.
(有機EL素子用組成物の調製例1)
化合物(C)0.1gと、下記式(c)で表される、一般式(1)においてxが0である有機イリジウム錯体化合物0.0043gとをクロロベンゼン3.6gに溶解させることにより有機EL素子用組成物(A−1)を得た。
透明基板上にITO膜が形成されてなる透明電導性基板を用意し、この透明電導性基板を、中性洗剤、超純水、イソプロピルアルコール、超純水、アセトンをこの順に用いて超音波洗浄した後、さらに紫外線−オゾン(UV/O3 )洗浄した。
次いで、この透明電導性基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホン酸塩水溶液を回転塗布法により塗布し、得られた厚さ65nmの塗膜を窒素雰囲気下250℃で30分間乾燥することにより、正孔注入輸送層を形成した。
この正孔注入輸送層の上に、発光層形成液として、有機EL素子用組成物(A−1)を回転塗布法により塗布し、得られた厚さ40nmの塗膜を窒素雰囲気下150℃で10分間乾燥することにより、発光層を形成した。
次いで、ITO膜上に正孔注入輸送層および発光層がこの順に積層された積層体を真空装置内に固定し、真空装置内を1×10-2Pa以下に減圧し、TPBIを30nmの厚さに蒸着して正孔阻止層を形成し、その後、フッ化リチウムを0.5nmの厚さに蒸着して電子注入輸送層を形成し、さらに厚さ30nmのカルシウム金属層および厚さ100nmのアルミニウム金属層をこの順で蒸着して、陰極を形成した。その後、クラウンガラスにより封止することにより、有機EL素子(1)を作製した。
得られた有機EL素子(1)について、当該有機EL素子(1)の耐久性を、100Cdの輝度で点灯させたときの電流を継続的に供給して輝度が50Cdとなるまでの時間(以下、「半減期間」という。)を測定し、後述する比較用有機EL素子(1)の半減期間と比較することにより評価したところ、当該比較用有機EL素子(1)の半減期間を基準として100としたときの相対値が1500であった。
また、最高発光輝度および発光効率を測定したところ、最高発光輝度は2700cd/m2 であり、発光効率は1.0Cd/Aであった。
以上の結果から、本発明に係る有機EL素子(1)は、優れた発光特性が得られるとともに、優れた耐久性を有し、長い使用寿命が得られるものであることが確認された。
有機EL素子の作製例1において、発光層の材料である化合物(C)に代えて後述する比較用重合体(1)を用いたこと以外は有機EL素子(1)と同様の手法により、比較用有機EL素子(1)を作製した。
窒素導入管および温度計付の容積100mlの三口フラスコに、N−ビニルカルバゾール15gと、アゾビスイソブチロニトリル0.0125gと、蒸留したジメチルホルムアミド30gとを仕込み、窒素を吹き込むことによって15分間バブリングを行った後、この系の温度を80℃に上昇させて4時間かけて重合処理を行った。重合処理後、得られた反応生成物をメタノール400ml中に注ぎ、沈殿をろ別してメタノールで洗浄し、その後、乾燥処理することにより、白色粉末としてポリビニルカルバゾール(以下、「比較用重合体(1)」ともいう。)を得た。得られた比較用重合体(1)の重量平均分子量は、30000であった。
2 陽極
3 正孔注入輸送層
4 発光層
5 電子注入輸送層
6 陰極
7 直流電源
8 正孔阻止層
Claims (5)
- 下記一般式(I)で表される化合物よりなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用化合物。
- 請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用化合物よりなる成分100質量部と、燐光発光性化合物よりなる成分1〜20質量部と、有機溶剤100〜10,000質量部とを含有してなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物。
- 請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用化合物により形成された正孔注入輸送層、電子注入輸送層および発光層のいずれかを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用化合物と燐光発光性化合物とよりなる発光層を有することを特徴とする燐光発光性有機エレクトロルミネッセンス素子。
- 発光層が請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物を用いることによって形成されてなるものであることを特徴とする請求項4に記載の燐光発光性有機エレクトロルミネッセンス素子。
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