JP2009059866A - 素子集合体及びその製造方法 - Google Patents

素子集合体及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009059866A
JP2009059866A JP2007225487A JP2007225487A JP2009059866A JP 2009059866 A JP2009059866 A JP 2009059866A JP 2007225487 A JP2007225487 A JP 2007225487A JP 2007225487 A JP2007225487 A JP 2007225487A JP 2009059866 A JP2009059866 A JP 2009059866A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
lid
element assembly
variable
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007225487A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5352975B2 (ja
Inventor
Makoto Moriguchi
誠 森口
Masatake Sato
正武 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Omron Corp
Original Assignee
Omron Corp
Omron Tateisi Electronics Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omron Corp, Omron Tateisi Electronics Co filed Critical Omron Corp
Priority to JP2007225487A priority Critical patent/JP5352975B2/ja
Priority to TW097123400A priority patent/TW200917301A/zh
Priority to PCT/JP2008/062747 priority patent/WO2009028269A1/ja
Publication of JP2009059866A publication Critical patent/JP2009059866A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5352975B2 publication Critical patent/JP5352975B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type 
    • H01F17/0006Printed inductances
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C10/00Adjustable resistors
    • H01C10/10Adjustable resistors adjustable by mechanical pressure or force
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G5/00Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture
    • H01G5/16Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture using variation of distance between electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G5/00Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture
    • H01G5/40Structural combinations of variable capacitors with other electric elements not covered by this subclass, the structure mainly consisting of a capacitor, e.g. RC combinations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F17/00Fixed inductances of the signal type 
    • H01F17/0006Printed inductances
    • H01F2017/0073Printed inductances with a special conductive pattern, e.g. flat spiral
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F21/00Variable inductances or transformers of the signal type
    • H01F21/12Variable inductances or transformers of the signal type discontinuously variable, e.g. tapped
    • H01F2021/125Printed variable inductor with taps, e.g. for VCO
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F21/00Variable inductances or transformers of the signal type
    • H01F21/02Variable inductances or transformers of the signal type continuously variable, e.g. variometers
    • H01F21/08Variable inductances or transformers of the signal type continuously variable, e.g. variometers by varying the permeability of the core, e.g. by varying magnetic bias

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Adjustable Resistors (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

【課題】コンデンサや抵抗、インダクタ等の回路素子を集積化することができ、しかも、容易かつ安価に製作することができる素子集合体を提供する。
【解決手段】基板22の上面には複数の凹部25を設ける。ある凹部では、凹部25の底面に平板状の固定電極30を設け、それに対向して蓋部23の裏面に平板状の可動電極31を設けることにより可変コンデンサ27を形成する。別な凹部では、凹部25の底面に固定電極33を設け、それに対向して蓋部23の裏面に可動電極34を設け、両電極間に高抵抗体35を設けて可変抵抗28を形成する。さらに別な凹部では、凹部25の底面に平板状の固定電極36を設け、それに対向して蓋部23の裏面にジグザグに蛇行した可動電極37を設けることにより可変インダクタ29を形成する。
【選択図】図3

Description

本発明は素子集合体及びその製造方法に関する。具体的にいうと、コンデンサ、抵抗、インダクタ、トランス等の受動素子やスイッチなどの部品を集積化した素子集合体とその製造方法に関するものである。
携帯電話等のモバイル機器は、近年、インターネット対応やワンセグ対応などにより伝送情報が拡大しており、またマルチバンド化が進んで1台の携帯電話で複数の周波数帯域や複数の通信方式に対応してきている。
伝送情報の拡大を実現するためには、高周波帯域での信号ロスを防ぐことが求められる。高周波帯域での信号ロスを小さくするためには、回路を小型化して信号配線を短くし、素子サイズを小さくすることが有効である。
また、マルチバンド化を実現するためには、回路の素子点数が非常に大きくなるが、これをモバイル機器に組み込むためには、(1)多種類かつ多数の素子を高集積化すること、(2)個々の素子を小型化すること、(3)いろいろな種類の素子を組み合わせて多機能化できること、などが求められている。
FET等の能動素子については、高度な高集積化が実現されており、そこには抵抗やコンデンサなどの受動素子も一緒に組み込まれている。しかし、このような半導体集積回路では、Si基板やGaAs基板などの半導体基板の上に半導体製作技術を用いて製造されるので、コストが高くつき、また設計から製造までに長い期間を要する問題がある。そのため、主として受動素子を安価に、かつ、製造の容易な構造で集積化することが望まれていた。
また、素子定数が可変となった素子、例えば可変(容量)コンデンサや可変抵抗を用いれば必要な素子数を減らし、あるいは回路規模を小さくすることができるが、これら半導体集積回路に組み込まれた受動素子では、回路定数を可変にすることができなかった。
基板に組み込んだ可変コンデンサとしては、図1に示すような構造のものが知られている(特許文献1)。この可変コンデンサ11は、薄膜体からなる固定電極12と可動電極13を絶縁支持台14に設けられた空隙部15を介して対向支持したものである。固定電極12と可動電極13の間に外部バイアス電圧を印加すると、静電引力によって可動電極13が撓んで電極間距離が変化し、可変コンデンサ11の静電容量が変化する。よって、外部バイアス電圧を調整することにより可変コンデンサ11の静電容量を制御できる。
しかし、このような構造の可変コンデンサは、ディスクリート部品として使用するものであり、集積化については何ら考慮されていない。特に、複数個の可変コンデンサを集積化して回路を構成すると、各可変コンデンサの可変電極や固定電極が互いに接続されることになる。よって、ある可変コンデンサに外部バイアス電圧を印加すると、そこにつながった可変コンデンサに一斉に外部バイアス電圧がかかってしまい、可変コンデンサを個々に制御することが不可能となる。そのため、複数個の可変コンデンサを集積化して回路を構成することはできない。
また、この可変コンデンサでは、高周波帯域向けに使用するための考慮もされていない。
特開平5−74655号公報
本発明は、このような技術的課題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、コンデンサや抵抗、インダクタ等の回路素子を集積化することができ、しかも、容易かつ安価に製作することができる素子集合体を提供することにある。
本発明にかかる素子集合体は、複数の凹部を有する樹脂製の基板と、前記凹部の開口部を覆うように配置された蓋部とからなる素子集合体であって、前記凹部のうち少なくとも一部の凹部の底面と前記蓋部の裏面に電極が配置され、前記凹部の底面と前記凹部底面に対向する前記蓋部の裏面とに前記電極を備えた素子を構成することにより、複数の素子が設けられていることを特徴としている。
本発明の素子集合体によれば、凹部の底面に設けた電極と蓋部の裏面に設けた電極によって種々の素子を構成することができる。特に、複数種類の素子を組み合わせれば、多様な回路用部品を構成することができる。しかも、この素子集合体は、複数の凹部を形成された樹脂製の基板と蓋部とを用いて形成できるので、半導体基板上に半導体製造技術を用いて製造する場合と比較して簡単かつ安価に製造することができる。よって、設計から製造までの期間も短縮することができ、設計の自由度も高い。
本発明にかかる素子集合体のある実施態様は、前記凹部のうち一部の凹部が、他の凹部と深さが異なっていることを特徴としている。かかる実施態様によれば、各素子で凹部の深さを変えることにより電極間距離を変えることができるので、素子定数などを調節することができる。
本発明にかかる素子集合体の別な実施態様は、前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、少なくとも一部の前記素子は、前記蓋部の裏面に設けた電極が可動電極となり、前記凹部の底面に設けた電極が固定電極となって、両電極により可変コンデンサを構成したことを特徴としている。かかる実施態様においては、凹部底面の電極と蓋部裏面の電極が対向してコンデンサを構成し、しかも蓋部が撓むことによって蓋部裏面の電極も撓むので、蓋部を撓ませることで電極間距離を変化させることができ、コンデンサの容量を可変にすることができる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、少なくとも一部の前記素子は、前記蓋部の裏面に設けた電極が可動電極となり、前記凹部の底面に設けた電極が固定電極となって、両電極により可変抵抗を構成していることを特徴としている。かかる実施態様においては、凹部底面の電極と蓋部裏面の電極との間の媒質によって抵抗を構成し、しかも蓋部が撓むことによって蓋部裏面の電極も撓むので、蓋部を撓ませることで電極間の媒質の長さを変化させることができ、抵抗値を可変にすることができる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、少なくとも一部の前記素子は、前記蓋部の裏面に設けた電極が可動電極となり、前記凹部の底面に設けた電極が固定電極となって、両電極により可変インダクタを構成したことを特徴としている。かかる実施態様においては、凹部底面の電極と蓋部裏面の電極のうち一方の電極に電流が流れることによって発生した磁束が他方の電極を通過するので、蓋部が撓んで電極間距離が変わることによりインダクタンスが変化し、可変インダクタンスとして使用できる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、少なくとも一部の前記素子は、前記蓋部の裏面に設けた電極が可動電極となり、前記凹部の底面に設けた電極が固定電極となって、両電極により可変トランスを構成したことを特徴としている。かかる実施態様においては、凹部底面の電極と蓋部裏面の電極のうち一方の電極に流れると磁束が発生し、この磁束が他方の電極と鎖交することで他方の電極に電流が流れる。よって、両電極によってトランスを構成することができ、しかも蓋部が撓むことによって蓋部裏面の電極も撓むので、蓋部を撓ませることでトランスのエネルギー変換効率を可変にすることができる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、一部の前記素子は、前記蓋部の裏面と前記凹部の底面のうちいずれか一方に一対の前記電極を設け、前記蓋部の裏面と前記凹部の底面のうちいずれか他方に、一対の前記電極間に対応するようにして前記電極を設けてスイッチを構成したことを特徴としている。かかる実施態様によれば、蓋部を撓ませて一対の電極間に対向する電極を一対の電極に接触させることにより、一対の電極どうしを導通させることができるので、スイッチとして動作する。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、可変コンデンサである前記凹部のうち少なくとも一部の凹部に、高誘電率材料を封止したことを特徴としている。かかる実施態様によれば、可変コンデンサの静電容量を大きくすることができる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、可変コンデンサである前記可動電極と前記固定電極にそれぞれ凹部又は凸部を設けたことを特徴としている。かかる実施態様によれば、可動電極と固定電極の電極表面積を大きくできるので、可変コンデンサの静電容量を大きくできる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、可変抵抗である前記可動電極と前記固定電極との間に、変形可能な高抵抗体を設けたことを特徴としている。かかる実施態様によれば、電極間に高抵抗体を設けることで可変抵抗の抵抗値を大きくできる。また、蓋部を撓ませると高抵抗体の長さが短くなると共に高抵抗体の断面積が大きくなり、抵抗値の変化を大きくできる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、可変インダクタである前記可動電極と前記固定電極のうち一方の電極が、蛇行するように形成されていることを特徴としている。かかる実施態様によれば蛇行するように形成された電極がコイルと同様な働きをするので、両電極を可変インダクタとして使用できる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、可変トランスである前記可動電極及び前記固定電極が、蛇行するように形成されていることを特徴としている。かかる実施態様によれば、蛇行するように形成された両電極がコイルと同様な働きをするので、両電極を可変トランスとして使用できる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、前記蓋部の裏面又は前記基板の凹部内に、前記蓋部に設けた電極と前記凹部の底面に設けた電極が接触するのを防止するためのストッパを設けたことを特徴としている。かかる実施態様によれば、ストッパで両電極が接触するのを防止することができるので、両電極が接触して短絡したり、くっついたりするのを防止できる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、前記蓋部の上面に、圧電性薄膜の両面に電極を形成したフィルタを設けたことを特徴としている。かかる実施態様によれば、圧電薄膜を電極で挟むことによってFBAR型のフィルタを形成することができる。
本発明にかかる素子集合体のさらに別な実施態様は、前記複数の素子が互いに電気的に接続されて回路素子アレイを形成していることを特徴としている。かかる実施態様によれば、種々の素子をつなぐことで種々の回路素子アレイを形成することができる。
本発明にかかる素子集合体の製造方法は、スタンパを溶融または軟化状態の樹脂に押圧した状態で硬化させることにより、複数の凹部を有する樹脂製の基板を成形する工程と、前記凹部の底面に固定電極を形成する工程と、蓋部の裏面に可動電極を形成する工程と、前記凹部の開口部を覆うようにして前記基板の上面に蓋部を配置し、前記凹部の底面と前記凹部底面に対向する前記蓋部の裏面との間に前記電極を備えた複数の素子を構成する工程とを有することを特徴としている。
本発明にかかる素子集合体の製造方法によれば、スタンパを用いて樹脂製の基板を成形しているので、基板を安価に量産することができる。しかも、微小な凹部を精度良く成形することができるので、素子集合体の小型化や集積化も容易になる。
なお、本発明における前記課題を解決するための手段は、以上説明した構成要素を適宜組み合せた特徴を有するものであり、本発明はかかる構成要素の組合せによる多くのバリエーションを可能とするものである。
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。
(第1の実施形態)
以下、図2〜図19を参照して本発明の第1の実施形態を説明する。図2は本発明の第1の実施形態による素子集合体21の斜視図、図3は素子集合体21の基板22と蓋部23とを分離すると共に基板22の一部を破断した状態の斜視図、図4は図2のX−X線断面図である。
素子集合体21は、合成樹脂製の基板22及び蓋部23と、回路素子アレイ24よりなる。基板22は、シクロオレフィン系樹脂やPMMA(ポリメチルメタクリレート)などの樹脂によって成形されたものであり、その上面には図5に示すように角錐台状をした複数の凹部25がアレイ状に形成されている。蓋部23は、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等のフッ素樹脂、シクロオレフィン系樹脂、PMMA(ポリメチルメタクリレート)などの樹脂によってフィルム状に成形されたものであり、弾性的に屈曲可能な厚みに形成されている。蓋部23は基板22とほぼ同じ平面積を有しており、凹部25を覆うようにして基板22の上面に接合されている。
回路素子アレイ24を構成する各々の素子は、それぞれの凹部25の位置に設けられており、信号配線26でつながれて目的とする回路を構成している。基板22における1つの素子の領域(以下、素子領域という。)を図5において1点鎖線で囲んで示す。第1の実施形態では、各素子は、可変コンデンサ27、可変抵抗28、可変インダクタ29によって構成されている。図2及び図3においては、可変コンデンサ27、可変抵抗28及び可変インダクタ29の一配置例と、信号配線26による配線例を示しているが、各素子の数、配置、配線の仕方などは回路の目的に応じて適宜変更される。例えば、複数種類の素子を組み合わせることによって、可変共振回路や可変フィルタ回路を形成することができる。
図6(a)は可変コンデンサ27の構造を示す断面図、図6(b)は蓋部23を除いた状態の平面図である。また、図7(a)は、さらに可動電極31を除いた状態の平面図、図7(b)は図6(a)と直交する方向の断面図である。可変コンデンサ27は、凹部25の底面に設けられた金属薄膜からなる平板状の固定電極30と、前記固定電極30と対向させて蓋部23の裏面に設けられた金属薄膜からなる平板状の可動電極31によって構成されている。固定電極30には信号配線26が接続されており、この信号配線26は凹部25から基板22の上面へ向けて引き出され、他の素子又は外部接続端子に接続される。可動電極31にも信号配線26が接続されており、この信号配線26も他の素子又は外部接続端子に接続される。なお、素子間をつなぐ信号配線26は、基板22の上面に設けられているものと、蓋部23の裏面に設けられているものとがある。
図8(a)は可変抵抗28の構造を示す断面図、図8(b)は蓋部23を除いた状態の平面図である。また、図9(a)は、さらに可動電極を除いた状態の平面図、図9(b)は図8(a)と直交する方向の断面図である。可変抵抗28は、凹部25の底面に設けられた金属薄膜からなる平板状の固定電極33と、前記固定電極33と対向させて蓋部23の裏面に設けられた金属薄膜からなる平板状の可動電極34と、固定電極33と可動電極34の間に設けられた高抵抗体35によって構成されている。固定電極33には信号配線26が接続されており、この信号配線26は凹部25から基板22の上面へ向けて引き出され、他の素子又は外部接続端子に接続される。可動電極34にも信号配線26が接続されており、この信号配線26も他の素子又は外部接続端子に接続される。高抵抗体35は、例えば比抵抗の大きなエポキシ系導電性材料(液体、ゲル、弾性体など)からなり、その水平断面の面積は固定電極33及び可動電極34の電極面積よりも小さい。また、高抵抗体35の上端と下端のうち少なくとも一方は固定電極33や可動電極34に固定しておくことが望ましい。
図10(a)は可変インダクタ29の構造を示す断面図、図10(b)は蓋部23を除いた状態の平面図である。また、図11(a)は、さらに可動電極を除いた状態の平面図、図11(b)は図10(a)と直交する方向の断面図である。可変インダクタ29は、凹部25の底面に設けられた金属薄膜からなる平板状の固定電極36(コア電極)と、前記固定電極36と対向させて蓋部23の裏面に設けられた金属薄膜からなるジグザグに蛇行した線状の可動電極37(コイル状電極)によって構成されている。可動電極37の両端にはそれぞれ信号配線26が接続されており、この信号配線26は他の素子又は外部接続端子に接続される。固定電極36には信号配線26は接続されておらず、固定電極36はコイル(可動電極37)のコアとして機能する。なお、図示しないが、凹部25の底面に設けた固定電極36がジグザグに蛇行した線状のコイル電極となり、蓋部23の裏面に設けた可動電極37が平板状のコア電極となっていても差し支えない。
また、図12及び図2に示すように、素子集合体21の端部には回路素子アレイ24を外部回路に接続するための外部接続端子38、39、40が設けられている。これらは、例えばアンテナを接続するための外部接続端子38、信号入力用の外部接続端子39、信号出力用の外部接続端子40となっている。外部接続端子38、39、40はそれぞれ蓋部23を貫通するように設けられたバイアホール38a、39a、40aによって信号配線26に接続されている。
これらの素子においては、基板22の厚さは200〜1000μm程度となっており、1つの素子(素子領域)の一辺の長さは1〜5mm程度で、固定電極と可動電極との間の距離(可動電極が屈曲していないときの電極間距離)は1〜30μm程度となっている。
蓋部23の上面にはアース電極膜42が成膜され、さらに、アース電極膜42の上面には各素子領域で蓋部23を弾性的に屈曲させるための可動力発生部41が設けられている。アース電極膜42は、外部接続端子38、39、40の設けられている領域を除いて、蓋部23の上面のほぼ全体に形成されている。可動力発生部41は、ZnO、PZTなどの2層の圧電薄膜を積層したバイモルフまたは単層圧電薄膜によって構成されており(図13参照)、各素子領域毎に独立して設けられている。各素子領域毎に、アース電極膜42の上面には駆動端子44(アース端子)が設けられ、可動力発生部41の上面には駆動端子45が設けられており、各駆動端子44、45には駆動配線46が接続されている。各可動力発生部41には、駆動配線46及び駆動端子44、45から個々に電圧を印加できるようになっている。
なお、アース端子となる駆動端子44は、素子領域毎に設ける必要はなく、アース電極膜42の任意の箇所に1箇所設けるだけでもよい(第2の実施形態の場合を参照)。
図13は、可動力発生部41の作用を説明している。可動力発生部41は、ZnO、PZTなどの強誘電体からなる2層の圧電薄膜43aを貼り合わせてバイモルフを構成したものである。駆動端子44、駆動端子45に接続された直流電源47によって、例えばある素子の可動力発生部41に電圧を印加すると、駆動端子45とアース電極膜42によって圧電薄膜43a、43bに電圧が加わる。これにより圧電薄膜43aは矢印で示すように膜方向で収縮し、圧電薄膜43bは矢印で示すように膜方向で膨張するので、可動力発生部41が屈曲して蓋部23の素子領域中央部が凹部25内へ下がる。また、単層圧電薄膜を用いた可動力発生部41の場合には、電圧印加により単層圧電薄膜が収縮することにより可動力発生部41が屈曲して蓋部23の素子領域中央部が凹部25内へ下がる。
その結果、可変コンデンサ27の場合には、図14に示すように、固定電極30と可動電極31との間の電極間距離が小さくなって可変コンデンサ27の静電容量が大きくなる。また、可動力発生部41への印加電圧を調整することによって可変コンデンサ27の静電容量を制御することができる。
また、可変抵抗28の場合には、電圧が印加された可動力発生部41によって蓋部23の素子領域中央部が凹部25内へ下がると、図15に示すように、固定電極33と可動電極34の間に挟まれている高抵抗体35の長さが短くなると共に水平断面の断面積が大きくなり、抵抗値が小さくなる。また、可動力発生部41への印加電圧を調整することによって可変抵抗28の抵抗値を制御することができる。
可変インダクタ29では、可動電極37はコイルとして機能し、固定電極36はコイルのコアとして機能する。そして、図16に示すように、可動電極37と固定電極36が接近することは、コイル37aにコア36aを挿入することに相当し、可動電極37と固定電極36が離れることは、コイル37aからコア36aを抜き出すことに相当する。よって、可変インダクタ29の場合には、電圧を印加して可動力発生部41によって蓋部23の素子領域中央部を凹部25内へ降下させると、可変インダクタ29のインダクタンスが大きくなる。また、可動力発生部41への印加電圧を調整することによって可変インダクタ29のインダクタンスを制御することができる。
よって、例えば回路素子アレイ24によって例えば可変共振回路や可変フィルタ回路が形成されていれば、可変コンデンサ27、可変抵抗28、可変インダクタ29の各定数を変化させることによって可変共振回路や可変フィルタ回路の周波数特性や挿入損失などを変化させることができる。
つぎに、各素子の製造方法を説明する。図17及び図18は可変コンデンサ27の領域の製造方法を表している。図17(a)〜(c)は基板22の製造工程を表し、図17(d)〜(f)は蓋部23の製造工程を表し、図18(a)〜(e)は基板22と蓋部23を一体化して可変コンデンサ27を作製するまでの工程を表している。以下、これらの工程を説明する。
図17(a)に示すスタンパ48は、下面に複数個の角錐台状をした凸部49を形成されたものである。このスタンパ48を例えば紫外線硬化型樹脂に押圧して当該樹脂を押し広げ、紫外線硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させた後、スタンパ48を除去すれば、上面に複数個の凹部25が形成された基板22が得られる。また、基板成形用に熱硬化型樹脂を用いる場合には、同様に、溶融または軟化状態の熱硬化型樹脂に押圧して当該樹脂を押し広げ、熱硬化型樹脂を冷却して硬化させた後、スタンパ48を除去すれば、上面に複数個の凹部25が形成された基板22が得られる。あるいは、射出成形などによって基板22を成形してもよい。ついで、図17(b)に示すように、基板22の全面にスパッタ法などで電極材料を堆積させてメタライズ層50を成膜した後、メタライズ層50の不要部分をエッチングにより除去し、凹部25内に固定電極30及び信号配線26を形成する。
一方、図17(d)に示すように蓋部23を押出成形などでフィルム状に成形しておき、図17(e)に示すように、蓋部23の下面全面にスパッタ法などで電極材料を堆積させてメタライズ層51を成膜する。ついで、図17(f)に示すように、メタライズ層51の不要部分をエッチングにより除去し、蓋部23の下面に可動電極31及び信号配線26を形成する。
この後、図18(a)に示すように、基板22の上に蓋部23を重ねて位置合わせし、図18(b)に示すように、レーザー照射や熱溶着などの方法で基板22の上面に蓋部23を接合する。ついで、図18(c)に示すように、所定位置にバイアホールを設けて外部接続端子38、39、40を形成する。図18(d)に示すように、蓋部23の上面にアース電極膜42、可動力発生部41、メタライズ層52を成膜し、図18(e)に示すようにアース電極膜42と可動力発生部41をパターニングし、さらにメタライズ層52をエッチングすることで駆動端子44、45及び駆動配線46を形成し、素子集合体21を完成する。
図19は可変抵抗28の領域の製造方法を説明する図であって、図19(a)〜(f)は基板22と蓋部23を一体化して可変抵抗28を作製するまでの工程を表している。図19(a)の基板22は図17(a)〜図17(c)と同じ工程によって凹部25の底面に固定電極36を設けたものである。凹部25内の固定電極33の上面には、インクジェットノズル53から高抵抗材料を吐出させることにより、柱状の高抵抗体35が固定される。ついで、図19(b)に示すように、基板22の上に蓋部23を位置合わせしながら重ね、蓋部23の裏面の可動電極37を高抵抗体35の上端面に接触させ、図19(c)に示すように、レーザー照射や熱溶着などの方法で基板22の上面に蓋部23を接合する。なお、図19(b)に示す蓋部23は図17(d)〜図17(f)と同じ工程によって蓋部23の裏面に可動電極37を設けたものである。
この後、図19(d)に示すように、所定位置にバイアホールを設けて外部接続端子38、39、40を形成する。図19(e)に示すように、蓋部23の上面にアース電極膜42、可動力発生部41、メタライズ層52を成膜し、図19(f)に示すようにアース電極膜42、可動力発生部41をパターニングし、さらにメタライズ層52をエッチングすることで駆動端子44、45及び駆動配線46を形成し、素子集合体21を完成する。ただし、図19(b)〜(f)の工程は、図18(a)〜(e)と同一工程で行われる。
また、可変インダクタ29は、電極パターンなどが異なる点を除けば、基本的には可変コンデンサ27と同じ工程で製作することができる。
本発明の第1の実施形態による素子集合体21にあっては、上記のように複数の凹部25を有する樹脂製の基板22と蓋部23を用い、凹部25の底面に設けた固定電極と蓋部23の裏面に設けた可動電極によって可変コンデンサ27、可変抵抗28、可変インダクタ29などの素子を構成するという簡単な構造であるので、複数の素子特に受動素子を集積化することができ、しかも素子集合体21を小型化することができる。特に、スタンパによって基板に凹部25を成形すれば、シリコン基板などをエッチング加工するのに比較して、簡単かつ安価に素子集合体21を量産することができると共に素子集合体21内の素子を微小化することができる。また、簡単な構造であるため、設計から製造までの期間も短縮することができる。
また、この素子集合体21によれば、複数の素子を集積化して小型化できるので、高周波用途にも対応することができる。特に、下記変形例に記載するような方法によって素子の定数の調整範囲も広くなるので、高周波帯域向けの素子集合体21も容易に作製できる。
さらに、この素子集合体21では、可動力発生部41を駆動することによって可動電極を弾性変形させて可動電極と固定電極との電極間距離などを変化させることができるので、これによって各素子の定数を変化させることができる。よって、回路構成が同じで素子定数だけが異なるような回路が複数組必要な用途では、可動力発生部41で各素子の定数を変えることにより、1つの素子集合体21で複数個の回路の働きを行わせることができ、素子集合体21を組み込む機器の小型化にも寄与できる。
(変形例1)
図20は、可変コンデンサ27の異なる形態、すなわち変形例1による可変コンデンサ27を表わす断面図である。この可変コンデンサ27では、凹部25内に大きな誘電率(比誘電率が10以上)を持つ、可圧縮性の弾性誘電体54(例えば、非アルコール系有機誘電弾性体)を充填している。
このような可変コンデンサ27では、固定電極30と可動電極31との間に高誘電率の弾性誘電体54が充填されているので、両電極30、31間が空洞の場合よりも静電容量が大きくなる。したがって、同じ静電容量を持つ可変コンデンサ27であれば、内部が空洞の場合よりもサイズを小さくすることができる。さらに、内部に弾性誘電体54が充填されているので、製造時には一定量の弾性誘電体54を充填することで電極間距離の調整に要する加工精度水準を低く抑えることができる。
(変形例2)
図21、図22及び図23は、変形例2による可変コンデンサ27を表わす。この可変コンデンサ27では、図21に示すように、固定電極30と可動電極31との間に誘電率の大きな誘電体56を保持している。この誘電体56は、誘電率の大きな液体(例えば、非アルコール系有機誘電液体)や誘電率の大きな弾性体である。この誘電体56も比誘電率が10以上のものが望ましい。この誘電体56は、可動電極31が撓んでいないときには、水平断面が固定電極33及び可動電極34の面積よりも小さくて中央に集まっている。また。誘電体56が弾性体などの場合には、誘電体56の上面又は下面を可動電極31か固定電極30に接合させておけばよく、誘電体56が液体の場合には、可動電極31と固定電極30の中央部を除く領域に誘電体56をはじくような処理を施しておけばよい。
このような可変コンデンサ27では、固定電極30と可動電極31との間に誘電体56が保持されているので、両電極30、31間が空洞の場合よりも静電容量が大きくなる。しかも、蓋部23が撓んでいない場合には、図22(a)、図23(a)に示すように、固定電極30、可動電極31の中央部に誘電体56が集まっているのに対し、可動力発生部41によって蓋部23を撓ませると、図22(b)、図23(b)に示すように、誘電体56が押し潰されて薄くなると同時に横に広がって面積が大きくなるので、可変コンデンサ27の静電容量の変化量を非常に大きくすることができる。
さらに、この可変コンデンサ27では、凹部25内に空気層があるので、凹部25内に弾性誘電体54を充填した変形例1よりも可動電極31が変位しやすくなり、より一層可変コンデンサ27の静電容量変化を大きくできる。
図24は変形例1、2による可変コンデンサ27の製造方法を説明する図であって、図24(a)〜(f)は基板22と蓋部23を一体化して可変コンデンサ27を作製するまでの工程を表している。図24(a)の基板22は図17(a)〜図17(c)と同じ工程によって凹部25の底面に固定電極36を設けたものである。変形例1の場合であれば、図24(a)に示すように、インクジェットノズル53から弾性誘電体54を吐出させて凹部25内に一定量を充填する。図示しないが、変形例2の場合には、インクジェットノズルから誘電体56を吐出させて凹部25内の固定電極30の上に固定する。ついで、図24(b)に示すように、基板22の上に蓋部23を位置合わせしながら重ね、図24(c)に示すように、レーザー照射や熱溶着などの方法で基板22の上面に蓋部23を接合する。なお、図24(b)に示す蓋部23は図17(d)〜図17(f)と同じ工程によって蓋部23の裏面に可動電極37を設けたものである。
この後、図24(d)に示すように、所定位置にバイアホールを設けて外部接続端子38、39、40を形成する。図24(e)に示すように、蓋部23の上面にアース電極膜42、可動力発生部41、メタライズ層52を成膜し、図24(f)に示すようにアース電極膜42、可動力発生部41をパターニングし、さらにメタライズ層52をエッチングすることで駆動端子44、45及び駆動配線46を形成し、可変コンデンサ27を完成する。
(変形例3)
図25は変形例3による素子集合体の分解斜視図である。図26(a)は変形例3における一素子の構造を示す平面図、図26(b)は図26(a)のY−Y線断面図、図26(c)は図26(a)のZ−Z線断面図である。図26においては、可変コンデンサ27を例にとって説明しているが、変形例3の構成は、可変抵抗28や可変インダクタ29、あるいは後述のこれら以外の素子についても同様である。
変形例3における素子、例えば図26に示す可変コンデンサ27にあっては、固定電極30の信号配線26と可動電極31の信号配線26はいずれも、蓋部23を貫通するバイアホール57a、58aを介して蓋部23の上面の外部接続端子57、58に接続されている。変形例3の素子集合体にあっては、図25に示すように、各素子の信号配線26が蓋部23上面の外部接続端子57、58につながっているので、蓋部23の上面で各素子の外部接続端子57、58どうしを接続することにより、後から自由に回路を組むことができる。あるいは、この外部接続端子57、58を利用すれば、蓋部23の上面にICなどを実装することも可能になる。
(変形例4)
図27(a)は変形例4による可変コンデンサ27の断面図、図27(b)は蓋部23を取り除いた状態の平面図である。この変形例では、固定電極30及び可動電極31をそれぞれ複数の突起65、66の集合によって構成している。突起65、66の形状は、円錐状や角錐状などの錐状、円錐台状や角錐台状などの錐台状、半球状、断面三角形の突条(くさび状)などでもよい。さらに、凹部25内で、かつ、可動電極31の外側の領域において、蓋部23の裏面には突起66よりも高いストッパ67が突出している。なお、ストッパ67は、凹部25の内面で、固定電極30の外側の領域において、突起65よりも高くなるように設けてあってもよい。
かかる変形例によれば、固定電極30及び可動電極31の面積に比べて固定電極30の電極表面積と可動電極31の電極表面積が大きくなるので、可変コンデンサ27のサイズを大きくすることなく静電容量を大きくすることができる。また、突起66(あるいは、突起65)よりも高いストッパ67を設けているので、電極間距離の制御を厳密に行うことができ、固定電極30や可動電極31を突起65、66により構成していても固定電極30と可動電極31が接触するのを防ぐことができる。
(変形例5)
図28は変形例5による素子集合体21の構造を示す断面図である。この素子集合体21にあっては、各素子領域で凹部25の深さが一定でなく、素子領域によって凹部25の深さが異なっている。よって、素子の種類の違いや、同じ素子であっても回路定数の違いなどによって最適な電極間距離となるように各素子領域毎で電極間距離を調整することができる。また、一度の製造プロセスで多様な特性の素子を得ることができ、素子集合体21の最適化が容易になる。
また、この素子集合体21の基板は、凹部の深さが異なっていても、前記のようにスタンパを用いて基板を作製すれば、射出成形のように成形時の樹脂の流動性などを考慮する必要が無く、容易に成形することができる。
また、図28の素子集合体21では、各素子領域で蓋部23の厚みが一定でなく、素子領域によって蓋部23の厚みが異なっている。よって、蓋部23の厚みを変えることで素子領域毎に蓋部23の剛性を調整することができ、蓋部23の撓みやすさを最適にすることができる。
なお、図28では、可変コンデンサ27のみを示したが、素子の組合せは任意である。
(第2の実施形態)
図29は本発明の第2の実施形態による素子集合体71を示す斜視図、図30はその分解斜視図である。また、図31は蓋部23の分解斜視図である。図32は蓋部23を分離した状態で示す素子集合体71の平面図である。この素子集合体71(あるいは、素子集合体の一部)は、可変コンデンサ27と可変インダクタ29の2つの素子によって構成されている。
図30に示すように、基板22には2つの凹部25が形成されており、一方の凹部25には平板状の固定電極30を設け、他方の凹部には平板状の固定電極36を設け、固定電極30から基板22の上面に向けて信号配線26を配線している。
蓋部23の下面には平板状の可動電極31と蛇行した可動電極37を設けている。可動電極31から蓋部23の端に向けて信号配線26を延出し、さらに、信号配線26によって可動電極31と可動電極37の一端とを接続している。また、可動電極37の他端から可動電極31側へ向けて信号配線26が延びている。
よって、基板22の上面に蓋部23が接合されていると、図32に示すように、固定電極30と可動電極31が対向して可変コンデンサ27が形成され、固定電極36と可動電極37が対向して可変インダクタ29が形成される。しかもこの時、可動電極37の他端から延出されていた信号配線26が、固定電極30から基板22の上面へ延出されていた信号配線26と重なって電気的に接続されるので、可変コンデンサ27と可変インダクタ29が並列に接続される。
図31に示すように、蓋部23の両側部にはバイアホール72a、73aを設けてあり、バイアホール72aの上には入力端子72を設け、バイアホール73aの上に出力端子73を設けている。蓋部23の上面には、入力端子72、出力端子73と離間させるようにしてアース電極膜42を成膜し、アース電極膜42の上面のうち凹部25と対向する位置にはそれぞれ可動力発生部41を形成している。
アース電極膜42の上面には駆動端子44を設けている。また、それぞれの可動力発生部41の上面には駆動端子45を設けている。駆動端子45に接続された駆動配線46は、アース電極膜42の上に形成した絶縁膜74の上を通って素子集合体71の端へ導かれている。
よって、この素子集合体71は、可変コンデンサ27と可変インダクタ29が並列接続されたLC素子として使用することができる。しかも、駆動配線46に電圧を印加させることによって各可動力発生部41で蓋部23を撓ませることができるので、可変コンデンサ27の静電容量や可変インダクタ29のインダクタンスを調整することができる。
(第3の実施形態)
図33は本発明の第3の実施形態による素子集合体76を示す平面図、図34は蓋部23を取り除いた状態で示す素子集合体76の平面図である。この素子集合体76(あるいは、素子集合体の一部)は、4つの可変コンデンサ27によって構成されている。図34に示すように、各可変コンデンサ27はいずれも固定電極30と可動電極31によって構成されており、2つの可変コンデンサ27がそれぞれ直列に接続され、直列に接続された2つの可変コンデンサ27どうしがさらに並列に接続されている。4つの可変コンデンサ27を直並列接続した素子集合体76の入力端子72と出力端子73は蓋部23の上面に設けられている。また、第2の実施形態と同様、蓋部23の上面には各素子領域毎に可動力発生部41が設けられている。
このような素子集合体76によれば、単一の素子の場合よりも静電容量を大容量にすることができ、静電容量値の調節を柔軟にすることができる。
(第4の実施形態)
図35は第4の実施形態による素子集合体81を示す平面図、図36は蓋部23を取り除いた状態の平面図である。この素子集合体81は、1つの可変コンデンサ27と2つの可変インダクタ29(以下、2つの可変インダクタ29を区別して可変インダクタ29a、29bとする。)を備えており、これらの素子はスター結線されている。この第4の実施形態について、以下に説明する。
基板22の上面には3つの凹部25を設けてあり、1つの凹部25には平板状の固定電極30を設け、他の2つの凹部にはそれぞれ平板状の固定電極36を設けている。蓋部23の裏面には、固定電極30に対向して可動電極31を設けてあって、固定電極30と可動電極31によって可変コンデンサ27が形成されている。また、蓋部23の裏面にはジグザグに蛇行した2つの可動電極37を設けてあり、これらの可動電極37はそれぞれ2つの固定電極36に対向しており、2組の固定電極36と可動電極37によって可変インダクタ29aと可変インダクタ29bが形成されている。ただし、2つの可変インダクタ29a、29bは、インダクタンスが異なっている。こうして基板22と蓋部23の間に形成された1つの可変コンデンサ27と2つの可変インダクタ29a、29bは、図36に示すように信号配線26によってスター結線されている。
一方の可変インダクタ29aの開放端は、信号配線26及びバイアホールを介して蓋部23の上面に設けられた入力端子82に接続している。他方の可変インダクタ29bの開放端は、信号配線26及びバイアホールを介して蓋部23の上面に設けられた入力端子83に接続している。また、可変コンデンサ27の開放端は、信号配線26及びバイアホールを介して蓋部23の上面に設けられた出力端子84に接続している。
さらに、蓋部23の上面には、第2又は第3の実施形態と同様にして、可変コンデンサ27や各可変インダクタ29a、29bの上にそれぞれ可動力発生部41が形成されている。
この素子集合体81をバンドパスフィルタとして使用する場合には、例えば図37に示すように、各駆動端子44、45に制御回路85をつなぎ、入力端子82に信号源S1を接続し、入力端子83に信号源S2を接続する。そして、制御回路85によって可変コンデンサ27、可変インダクタ29a、29bの各可動力発生部41のオン、オフを切り替えれば、各信号経路A、Bの通過周波数は、図38に示すように変化する。
ここで、可動力発生部41のオンとは、その駆動端子44、45間に電圧を印加させて蓋部23(可動電極31又は37)を撓ませた状態をいい、可動力発生部41のオフとは、駆動端子44、45間に電圧を印加せず、蓋部23(可動電極31又は37)を撓ませていない状態をいう。また、信号経路Aは、信号源S1によって入力端子82から入力された信号が図36の向かって左の可変インダクタ29aと可変コンデンサ27を通過して出力端子84から出力される信号経路をさす。信号経路Bは、信号源S2によって入力端子83から入力された信号が図36の向かって右の可変インダクタ29bと可変コンデンサ27を通過して出力端子84から出力される信号経路をさす。通過周波数はFa1〜Fa4、Fb1〜Fb4は、周波数が同じか異なっているかを示すために用いた記号であって、特定の周波数を指すものではない。
この素子集合体81によれば、図38に示すように、信号経路A、Bを通過する信号の通過周波数をそれぞれ変化させることができる。
(第5の実施形態)
図39は第5の実施形態による素子集合体91を示す平面図、図40は蓋部23を取り除いた状態の平面図である。この素子集合体91は、第4の実施形態の素子集合体81にさらにスイッチ92を付け加えたものである。スイッチ92は、図40に示すように、可変コンデンサ27と可変インダクタ29bとの中間に直列に挿入されている。
図41はスイッチ92の構造を示す断面図であって、図41(a)はスイッチがオフの状態を表し、図41(b)はスイッチがオンになった状態を表している。凹部25の底面に固定電極93が設けられ、蓋部23の裏面に絶縁距離をあけて一対の可動電極94a、94bが設けられており、固定電極93と可動電極94a、94bが対向してスイッチ92を構成している。ここで、可動電極94aの端部(可動接点)は固定電極93の一方端部(固定接点)に対向しており、可動電極94bの端部(可動接点)は固定電極93の他方端部(固定接点)に対向している。
通常の状態では、図41(a)に示すように、可動電極94a、94bは固定電極93と絶縁距離を保っているので、可動電極94a、94b間は絶縁状態となっていてスイッチ92がオフ状態に保たれている。これに対し、スイッチ領域で蓋部23の上面に設けられた可動力発生部41をオンにして蓋部23を撓ませると、可動電極94a、94bが撓んで固定電極93に接触し、固定電極93を介して可動電極94a、94bどうしが導通状態となり、スイッチ92がオン状態になる。
この素子集合体91をバンドパスフィルタとして使用する場合にも、例えば図42に示すように、各駆動端子44、45に制御回路85をつなぎ、入力端子82に信号源S1を接続し、入力端子83に信号源S2を接続する。そして、制御回路85によって可変コンデンサ27、可変インダクタ29a、29bの各可動力発生部41のオン、オフを切り替え、またスイッチ92のオン、オフを切り替えれば、各信号経路A、Bの通過周波数は、図43に示すように変化する。
ここでも、可動力発生部41のオンとは、その駆動端子44、45間に電圧を印加させて蓋部23(可動電極31又は37)を撓ませた状態をいい、可動力発生部41のオフとは、駆動端子44、45間に電圧を印加せず、蓋部23(可動電極31又は37)を撓ませていない状態をいう。また、信号経路Aは、信号源S1によって入力端子82から入力された信号が図36の向かって左の可変インダクタ29aと可変コンデンサ27を通過して出力端子84から出力される信号経路をさす。信号経路Bは、信号源S2によって入力端子83から入力された信号が図36の向かって右の可変インダクタ29bと可変コンデンサ27を通過して出力端子84から出力される信号経路をさす。通過周波数はFa1〜Fa4、Fb1〜Fb4は、周波数が同じか異なっているかを示すために用いた記号であって、特定の周波数を指すものではない。
この素子集合体91によれば、図43に示すように、信号経路A、Bを流れる信号の通過周波数を変化させることができるとともに、入力端子83に入る信号をカットすることも可能になる。
(第6の実施形態)
図44(a)は本発明の第6の実施形態を示す断面図、図44(b)は蓋部23を取り除いて可動電極を示す平面図、図44(c)はさらに固定電極を示す平面図である。図44に示す第6の実施形態は、素子集合体の一素子である可変トランス101を示す。
この可変トランス101にあっては、図44(c)に示すように、基板22の上面に設けた凹部25の底面に、ジグザグに蛇行した形状の固定電極102を設けてあり、固定電極102の両端からそれぞれ基板22の上面まで信号配線26を引き出している。また、蓋部23の下面には、固定電極102と対向させて、ジグザグに蛇行した形状の可動電極103を設けてあり、可動電極103の両端からそれぞれ信号配線26を引き出している。
このような構造の可変トランス101にあっては、図45(a)に示すように、1次コイルとして働く例えば可動電極103で発生した磁束104が2次側の固定電極102と鎖交するので、1次側に流れる交流電流によって2次側に交流電圧が発生し、図45(b)のようなトランス105と同様な働きをする。
また、この可変トランス101では、固定電極102と可動電極103の折返し数(ジグザグ数)の比などによって1次側と2次側の電圧比や電流比などを調整できるとともに、可動力発生部41で可動電極103を撓ませて固定電極102と可動電極103との距離を変化させることによって可変トランス101のエネルギー変換効率を調整することができる。
(第7の実施形態)
図46(a)は本発明の第7の実施形態によるフィルタ111を示す平面図、図46(b)はその断面図である。
この実施形態にあっては、図46(b)に示すように、基板22の上面に凹部25を設け、基板22の上面に接合した蓋部23の上面にフィルタ111を設けている。フィルタ111は、蓋部23の上面にアース電極膜112を成膜し、この可動電極112の上面に圧電薄膜113を形成し、可動電極112の上に端子用電極114を設け、圧電薄膜113の上にも端子用電極115を設けたものである。なお、凹部25の底面や蓋部23の裏面には電極を設ける必要はない。
このように圧電薄膜113の両面に電極(アース電極膜112、端子用電極115)を設けたフィルタ111は、FBAR(film bulk accoustic resonator)型フィルタと呼ばれる。このようなフィルタ111によれば、入力信号によって圧電薄膜113に圧電振動が励起されると、蓋部23の固有振動数と等しい信号の場合には蓋部23がこの圧電振動と共振して厚み方向に振動する。その結果、蓋部23の固有振動数と等しい周波数の信号のみを端子用電極114と端子用電極115の間で伝搬させることができ、たとえばノイズ除去フィルタとして使用することができる。しかも、このようなタイプのフィルタ111によれば、周波数特性を急峻にできてQ値の高いフィルタを作製することができる。
このフィルタ111は、他の素子の可動力発生部41と同じ構造として一括して製作することができる。すなわち、このフィルタ111のアース電極膜112、圧電薄膜113、端子用電極114、115は、それぞれ他の素子のアース電極膜42、可動力発生部41、駆動端子44、駆動端子45と同じものである。ただし、フィルタ111の振動をダンピングさせないよう、この領域では蓋部23の厚みを薄くし、フィルタ111の共振周波数に合わせた厚みにしている。また、凹部25の深さによっても共振周波数を調整することができる。
図1は、従来例の断面図である。 図2は、本発明の第1の実施形態による素子集合体の斜視図である。 図3は、本発明の第1の実施形態による素子集合体の、基板と蓋部とを分離すると共に基板の一部を破断した状態の斜視図である。 図4は、図2のX−X線断面図である。 図5は、第1の実施形態に用いられている基板の平面図である。 図6(a)は第1の実施形態に用いられている可変コンデンサの構造を示す断面図、図6(b)はその蓋部を除いた状態の平面図である。 図7(a)はさらに可動電極を除いた状態の平面図、図7(b)は図6(a)と直交する方向の断面図である。 図8(a)は第1の実施形態に用いられている可変抵抗の構造を示す断面図、図8(b)はその蓋部を除いた状態の平面図である。 図9(a)はさらに可動電極を除いた状態の平面図、図9(b)は図8(a)と直交する方向の断面図である。 図10(a)は第1の実施形態に用いられている可変インダクタの構造を示す断面図、図10(b)は蓋部を除いた状態の平面図である。 図11(a)はさらに可動電極を除いた状態の平面図、図11(b)は図10(a)と直交する方向の断面図である。 図12は、第1の実施形態の素子集合体の端部に設けられた、回路素子アレイを外部回路に接続するための外部接続端子の構造を示す断面図である。 図13は、可動力発生部の動作原理を説明する概略図である。 図14は、可動力発生部により可変コンデンサの可動電極が撓む様子を示す概略断面図である。 図15は、可動力発生部により可変抵抗の可動電極が撓んで高抵抗体が圧縮される様子を示す概略断面図である。 図16は、可変インダクタの可動電極と固定電極の距離が変わることによってインダクタンスが変化する理由を説明する図である。 図17(a)〜(c)は基板の製造工程を表した図、図17(d)〜(f)は蓋部の製造工程を表した図である。 図18(a)〜(e)は、基板と蓋部を一体化して可変コンデンサを作製する工程を表した図である。 図19(a)〜(f)は、基板と蓋部を一体化して可変抵抗を作製する工程を表した図である。 図20は、変形例1による可変コンデンサの断面図である。 図21は、変形例2による可変コンデンサの断面図である。 図22(a)は、変形例2の可変コンデンサで可動力発生部が駆動していないときの状態を示す断面図、図22(b)は可動力発生部が駆動したときの状態を示す断面図である。 図23(a)は変形例2の可変コンデンサで可動力発生部が駆動していないときの誘電体の状態を示す平面図、図23(b)は可動力発生部が駆動したときの誘電体の状態を示す平面図である。 図24(a)〜(f)は、基板と蓋部を一体化して変形例1、2の可変コンデンサを製造する工程を表した図である。 図25は変形例3による素子集合体の分解斜視図である。 図26(a)は変形例3における一素子の構造を示す平面図、図26(b)は図26(a)のY−Y線断面図、図26(c)は図26(a)のZ−Z線断面図である。 図27(a)は変形例4による可変コンデンサの断面図、図27(b)はその蓋部を取り除いた状態の平面図である。 図28は、変形例5による素子集合体の構造を示す断面図である。 図29は、本発明の第2の実施形態による素子集合体を示す斜視図である。 図30は、本発明の第2の実施形態による素子集合体の分解斜視図である。 図31は、本発明の第2の実施形態の素子集合体に用いられている蓋部の分解斜視図である。 図32は、蓋部を分離した状態で示す第2の実施形態による素子集合体の平面図である。 図33は、本発明の第3の実施形態による素子集合体を示す平面図である。 図34は、第3の実施形態による素子集合体を、蓋部を取り除いた状態で示す平面図である。 図35は、第4の実施形態による素子集合体を示す平面図である。 図36は、第4の実施形態による素子集合体を、蓋部を取り除いた状態で示す平面図である。 図37は、第4の実施形態による素子集合体の信号接続状態を示す概略図である。 図38は、第4の実施形態による素子集合体において、各素子の可動力発生部を切り替えたときの各信号経路の通過周波数を表した図である。 図39は、第5の実施形態による素子集合体を示す平面図である。 図40は、第5の実施形態による素子集合体を、蓋部を取り除いた状態で示す平面図である。 図41(a)は、第5の実施形態で用いられているスイッチの構造を示す断面図、図41(b)はその動作説明図である。 図42は、第5の実施形態による素子集合体の信号接続状態を示す概略図である。 図43は、第5の実施形態による素子集合体において、各素子の可動力発生部を切り替えたときの各信号経路の通過周波数を表した図である。 図44(a)は本発明の第6の実施形態による可変トランスを示す断面図、図44(b)はその蓋部を取り除いた状態の平面図、図44(c)はさらに可動電極を除いた状態の平面図である。 図45(a)(b)は、図44に示した可変トランスの作用説明のための概略図である。 図46(a)は本発明の第7の実施形態によるフィルタを示す平面図、図46(b)はその断面図である。
符号の説明
21、71、76、81、91 素子集合体
22 基板
23 蓋部
25 凹部
26 信号配線
27 可変コンデンサ
28 可変抵抗
29、29a、29b 可変インダクタ
30 固定電極
31 可動電極
33 固定電極
34 可動電極
35 高抵抗体
36 固定電極
37 可動電極
38、39、40 外部接続端子
38a、39a、40a バイアホール
41 可動力発生部
42 アース電極膜
44、45 駆動端子
46 駆動配線
48 スタンパ
49 凸部
53 インクジェットノズル
54 弾性誘電体
56 誘電体
57、58 外部接続端子
57a、58a バイアホール
65、66 突起
67 ストッパ
72 入力端子
73 出力端子
72a、73a バイアホール
74 絶縁膜
92 スイッチ
101 可変トランス
111 フィルタ

Claims (16)

  1. 複数の凹部を有する樹脂製の基板と、前記凹部の開口部を覆うように配置された蓋部とからなる素子集合体であって、
    前記凹部のうち少なくとも一部の凹部の底面と前記蓋部の裏面に電極が配置され、
    前記凹部の底面と前記凹部底面に対向する前記蓋部の裏面とに前記電極を備えた素子を構成することにより、複数の素子が設けられていることを特徴とする素子集合体。
  2. 前記凹部のうち一部の凹部は、他の凹部と深さが異なっていることを特徴とする、請求項1に記載の素子集合体。
  3. 前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、
    少なくとも一部の前記素子は、前記蓋部の裏面に設けた電極が可動電極となり、前記凹部の底面に設けた電極が固定電極となって、両電極により可変コンデンサを構成したことを特徴とする、請求項1に記載の素子集合体。
  4. 前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、
    少なくとも一部の前記素子は、前記蓋部の裏面に設けた電極が可動電極となり、前記凹部の底面に設けた電極が固定電極となって、両電極により可変抵抗を構成したことを特徴とする、請求項1に記載の素子集合体。
  5. 前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、
    少なくとも一部の前記素子は、前記蓋部の裏面に設けた電極が可動電極となり、前記凹部の底面に設けた電極が固定電極となって、両電極により可変インダクタを構成したことを特徴とする、請求項1に記載の素子集合体。
  6. 前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、
    少なくとも一部の前記素子は、前記蓋部の裏面に設けた電極が可動電極となり、前記凹部の底面に設けた電極が固定電極となって、両電極により可変トランスを構成したことを特徴とする、請求項1に記載の素子集合体。
  7. 前記蓋部は弾性的に屈曲可能であり、
    一部の前記素子は、前記蓋部の裏面と前記凹部の底面のうちいずれか一方に一対の前記電極を設け、前記蓋部の裏面と前記凹部の底面のうちいずれか他方に、一対の前記電極間に対応するようにして前記電極を設けてスイッチを構成したことを特徴とする、請求項1に記載の素子集合体。
  8. 前記凹部のうち少なくとも一部の凹部に、高誘電率材料を封止したことを特徴とする、請求項3に記載の素子集合体。
  9. 前記可動電極と前記固定電極にそれぞれ凹部又は凸部を設けたことを特徴とする、請求項3に記載の素子集合体。
  10. 前記可動電極と前記固定電極との間に、変形可能な高抵抗体を設けたことを特徴とする、請求項4に記載の素子集合体。
  11. 前記可動電極と前記固定電極のうち一方の電極が、蛇行するように形成されていることを特徴とする、請求項5に記載の素子集合体。
  12. 前記可動電極及び前記固定電極が、蛇行するように形成されていることを特徴とする、請求項6に記載の素子集合体。
  13. 前記蓋部の裏面又は前記基板の凹部内に、前記蓋部に設けた電極と前記凹部の底面に設けた電極が接触するのを防止するためのストッパを設けたことを特徴とする、請求項1に記載の素子集合体。
  14. 前記蓋部の上面に、圧電性薄膜の両面に電極を形成したフィルタを設けたことを特徴とする、請求項1に記載の素子集合体。
  15. 前記複数の素子が互いに電気的に接続されて回路素子アレイを形成していることを特徴とする、請求項1に記載の素子集合体。
  16. スタンパを溶融または軟化状態の樹脂に押圧した状態で硬化させることにより、複数の凹部を有する樹脂製の基板を成形する工程と、
    前記凹部の底面に固定電極を形成する工程と、
    蓋部の裏面に可動電極を形成する工程と、
    前記凹部の開口部を覆うようにして前記基板の上面に蓋部を配置し、前記凹部の底面と前記凹部底面に対向する前記蓋部の裏面との間に前記電極を備えた複数の素子を構成する工程と、
    を有することを特徴とする素子集合体の製造方法。
JP2007225487A 2007-08-31 2007-08-31 素子集合体及びその製造方法 Expired - Fee Related JP5352975B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007225487A JP5352975B2 (ja) 2007-08-31 2007-08-31 素子集合体及びその製造方法
TW097123400A TW200917301A (en) 2007-08-31 2008-06-23 Element assembly, and its manufacturing method
PCT/JP2008/062747 WO2009028269A1 (ja) 2007-08-31 2008-07-15 素子集合体及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007225487A JP5352975B2 (ja) 2007-08-31 2007-08-31 素子集合体及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009059866A true JP2009059866A (ja) 2009-03-19
JP5352975B2 JP5352975B2 (ja) 2013-11-27

Family

ID=40386998

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007225487A Expired - Fee Related JP5352975B2 (ja) 2007-08-31 2007-08-31 素子集合体及びその製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5352975B2 (ja)
TW (1) TW200917301A (ja)
WO (1) WO2009028269A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009131951A (ja) * 2007-11-07 2009-06-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 微小電気機械式装置及びその作製方法
JP2009137004A (ja) * 2007-11-13 2009-06-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 微小電気機械式装置及びその作製方法
JP2009148878A (ja) * 2007-11-30 2009-07-09 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 微小電気機械式装置及びその作製方法
JP2009272354A (ja) * 2008-04-30 2009-11-19 Omron Corp 可変容量コンデンサ封止用誘電材料、可変容量コンデンサおよび素子集合体
WO2012123991A1 (ja) * 2011-03-16 2012-09-20 富士通株式会社 可変容量素子を有する電子機器とその製造方法
US9240282B2 (en) 2011-06-02 2016-01-19 Alps Electric Co., Ltd. Variable capacitor

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3863176B1 (en) * 2018-10-23 2022-12-07 Huawei Technologies Co., Ltd. Method for preparing monolithic integrated baw resonator
CN110459388B (zh) * 2019-09-03 2024-04-09 浙江江山变压器股份有限公司 一种辐向自由排列的连续式干式变压器绕组及其加工方法

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61119012A (ja) * 1984-11-15 1986-06-06 Toyo Commun Equip Co Ltd 粗結合トランス
JPS63501993A (ja) * 1985-12-30 1988-08-04 モトロ−ラ・インコ−ポレ−テツド 電気的可変圧電ハイブリッドコンデンサ
JPH04346278A (ja) * 1991-05-23 1992-12-02 Kenichi Arai 磁歪電歪相互変換素子を用いた変換装置
JPH056802U (ja) * 1991-07-08 1993-01-29 ホシデン株式会社 変位−電気抵抗変換素子
JPH0696957A (ja) * 1992-09-14 1994-04-08 Murata Mfg Co Ltd チップ型可変インダクタ
JPH06111971A (ja) * 1992-09-30 1994-04-22 Toshiba Lighting & Technol Corp 無電極放電ランプ点灯装置
JPH0686325U (ja) * 1993-05-27 1994-12-13 株式会社村田製作所 可変容量コンデンサ
JPH08213282A (ja) * 1995-02-01 1996-08-20 Murata Mfg Co Ltd 可変容量コンデンサ
JPH09199376A (ja) * 1996-01-18 1997-07-31 Murata Mfg Co Ltd 可変容量コンデンサ
JPH11121277A (ja) * 1997-10-13 1999-04-30 Sharp Corp 容量可変素子
JP2001320150A (ja) * 2000-02-29 2001-11-16 Mitsui Chemicals Inc スタンパを使った配線基板の製造方法及び配線基板
WO2003069776A2 (fr) * 2002-02-13 2003-08-21 Commissariat A L'energie Atomique Microresonateur mems a ondes acoustiques de volume accordable
JP2003243254A (ja) * 2002-02-14 2003-08-29 Murata Mfg Co Ltd 可変容量コンデンサ
JP2004045178A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Nitta Ind Corp 静電容量式センサ
JP2005332802A (ja) * 2004-04-22 2005-12-02 Ngk Insulators Ltd マイクロスイッチ及びその製造方法
JP2006516368A (ja) * 2002-08-08 2006-06-29 ザ・ボード・オブ・トラスティーズ・オブ・ザ・レランド・スタンフォード・ジュニア・ユニバーシティ マイクロ機械加工された超音波トランスデューサ及び製造方法
JP2006332588A (ja) * 2005-05-26 2006-12-07 Korea Advanced Inst Of Science & Technology コンデンサー用電極層とコンデンサー用電極層の製造方法、その電極層を用いた単位センサー、及びその単位センサーを用いた触覚センサー

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61119012A (ja) * 1984-11-15 1986-06-06 Toyo Commun Equip Co Ltd 粗結合トランス
JPS63501993A (ja) * 1985-12-30 1988-08-04 モトロ−ラ・インコ−ポレ−テツド 電気的可変圧電ハイブリッドコンデンサ
JPH04346278A (ja) * 1991-05-23 1992-12-02 Kenichi Arai 磁歪電歪相互変換素子を用いた変換装置
JPH056802U (ja) * 1991-07-08 1993-01-29 ホシデン株式会社 変位−電気抵抗変換素子
JPH0696957A (ja) * 1992-09-14 1994-04-08 Murata Mfg Co Ltd チップ型可変インダクタ
JPH06111971A (ja) * 1992-09-30 1994-04-22 Toshiba Lighting & Technol Corp 無電極放電ランプ点灯装置
JPH0686325U (ja) * 1993-05-27 1994-12-13 株式会社村田製作所 可変容量コンデンサ
JPH08213282A (ja) * 1995-02-01 1996-08-20 Murata Mfg Co Ltd 可変容量コンデンサ
JPH09199376A (ja) * 1996-01-18 1997-07-31 Murata Mfg Co Ltd 可変容量コンデンサ
JPH11121277A (ja) * 1997-10-13 1999-04-30 Sharp Corp 容量可変素子
JP2001320150A (ja) * 2000-02-29 2001-11-16 Mitsui Chemicals Inc スタンパを使った配線基板の製造方法及び配線基板
WO2003069776A2 (fr) * 2002-02-13 2003-08-21 Commissariat A L'energie Atomique Microresonateur mems a ondes acoustiques de volume accordable
JP2003243254A (ja) * 2002-02-14 2003-08-29 Murata Mfg Co Ltd 可変容量コンデンサ
JP2004045178A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Nitta Ind Corp 静電容量式センサ
JP2006516368A (ja) * 2002-08-08 2006-06-29 ザ・ボード・オブ・トラスティーズ・オブ・ザ・レランド・スタンフォード・ジュニア・ユニバーシティ マイクロ機械加工された超音波トランスデューサ及び製造方法
JP2005332802A (ja) * 2004-04-22 2005-12-02 Ngk Insulators Ltd マイクロスイッチ及びその製造方法
JP2006332588A (ja) * 2005-05-26 2006-12-07 Korea Advanced Inst Of Science & Technology コンデンサー用電極層とコンデンサー用電極層の製造方法、その電極層を用いた単位センサー、及びその単位センサーを用いた触覚センサー

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009131951A (ja) * 2007-11-07 2009-06-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 微小電気機械式装置及びその作製方法
KR101541906B1 (ko) 2007-11-07 2015-08-03 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 미소 전기기계식 장치 및 그 제작 방법
JP2009137004A (ja) * 2007-11-13 2009-06-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 微小電気機械式装置及びその作製方法
JP2009148878A (ja) * 2007-11-30 2009-07-09 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 微小電気機械式装置及びその作製方法
JP2009272354A (ja) * 2008-04-30 2009-11-19 Omron Corp 可変容量コンデンサ封止用誘電材料、可変容量コンデンサおよび素子集合体
WO2012123991A1 (ja) * 2011-03-16 2012-09-20 富士通株式会社 可変容量素子を有する電子機器とその製造方法
CN103430260A (zh) * 2011-03-16 2013-12-04 富士通株式会社 具有可变电容元件的电子设备及其制造方法
US9312071B2 (en) 2011-03-16 2016-04-12 Fujitsu Limited Electronic device having variable capacitance element and manufacture method thereof
US9240282B2 (en) 2011-06-02 2016-01-19 Alps Electric Co., Ltd. Variable capacitor

Also Published As

Publication number Publication date
TW200917301A (en) 2009-04-16
JP5352975B2 (ja) 2013-11-27
WO2009028269A1 (ja) 2009-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5352975B2 (ja) 素子集合体及びその製造方法
JP3712123B2 (ja) 可変キャパシタ及びその製造方法
US7095298B2 (en) Film bulk acoustic resonator having supports and manufacturing method therefore
JP4053958B2 (ja) 電圧制御発振器
TWI224878B (en) Piezoelectric actuator for tunable electronic components
JP4645227B2 (ja) 振動子構造体及びその製造方法
KR101424297B1 (ko) 전자 소자, 가변 커패시터, 마이크로스위치, 마이크로스위치의 구동 방법, mems형 전자 소자, 마이크로 액추에이터 및 mems 광학 소자
US7615842B2 (en) Inductor integrated chip
US6894586B2 (en) Radial bulk annular resonator using MEMS technology
KR101532115B1 (ko) 압전 진동자 및 그 제조 방법
JP3887662B2 (ja) 共振周波数可変共振子
JP5232378B2 (ja) 可変容量素子、共振器および変調器
JP4571127B2 (ja) 可変キャパシタ
KR20170097352A (ko) 음향 공진기 모듈 및 그 제조 방법
JP2006252956A (ja) マイクロマシンスイッチ及び電子機器
US11805342B2 (en) Sound producing package structure and manufacturing method thereof
US20150061467A1 (en) Piezoelectric piece for piezoelectric vibrator and manufacturing method thereof
KR20080093681A (ko) 압전 진동자 및 이를 포함하는 압전 엑츄에이터
KR20120056700A (ko) 멤스를 이용한 튜너 모듈
KR102142056B1 (ko) 가변 공진 특성을 갖는 체적탄성파 공진기 및 그 방법
KR20030069543A (ko) 박막 용적 탄성파 공진기를 이용한 전압제어발진기 및 그박막 용적 탄성파 공진기 제조방법
JP2008205793A (ja) 高周波整合回路
US20070228870A1 (en) Variable electrical circuit component
KR100364781B1 (ko) 가변 캐패시터 및 그 제조방법
KR101029240B1 (ko) 인덕턴스와 커패시턴스가 동시에 변화하는 가변 수동 소자

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100607

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120904

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121120

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130326

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130524

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130730

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130812

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5352975

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees