JP2009049029A - 薄膜太陽電池の製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 巻き出しロールに巻かれた帯状可撓性のフィルム基板を略真空状態に維持された複数の成膜室に送り、前記成膜室に互いに対向して配置された接地電極と、ターゲット材を有する印加電極との間で放電させて、フィルム基板の面上に電極となる金属薄膜を、設定された加熱下で形成し、金属薄膜が形成されたフィルム基板を巻取りロールで巻き取るようにした薄膜太陽電池の製造装置において、金属薄膜を形成する前記複数の成膜室61,62,63の加熱手段111,112,113,114,115,116の温度を、金属薄膜の成膜が可能な温度に設定された上流側の成膜室61の加熱手段111,112の温度に対して下流側の成膜室62,63の加熱手段113,114,115,116の温度を低く設定した装置。
【選択図】 図1
Description
一方で、フィルム温度が高温になると、それに伴い、中間室や巻取室のガイドロールにて、高温フィルムとガイドロールが接触する際に搬送シワが発生し易くなる傾向がある。
従来、フィルム幅0.5m、搬送速度1.0m/分においては、各ヒータの設定温度は300°Cとしており、充分な付着力と、太陽電池特性に効果的な表面粗さが得られていた。
ところが、量産性を高めるため、フィルム幅1.0mで電極形成を行ったが、一般的に幅方向長さが長くなると、搬送シワが発生し易くなる傾向があり、中間室や巻取室のガイドロールにて搬送シワが発生するという課題が発生している。
とくに、フィルム基板の片面に、発電層側(裏面とも呼ぶ)となる電極が設けられている場合には、反対側(背面とも呼ぶ)に電極を形成する製膜時に、フィルム面に比べて電極が設けられた電極面は放射率が低いことから、裏面製膜時と比較して背面製膜時はフィルムの温度履歴が大きく異なり、フィルム温度が冷めづらくなる。そして、フィルム温度が高い状態で中間室あるいは巻取室のガイドロールと接触することによって搬送シワが発生し易くなる傾向が生じていた。
また、巻き出しロールに巻かれた帯状可撓性のフィルム基板を略真空状態に維持された複数の成膜室に送り、前記成膜室に互いに対向して配置された接地電極と、ターゲット材を有する印加電極との間で放電させて、フィルム基板の面上に電極となる金属薄膜を、設定された加熱下で形成し、前記金属薄膜が形成されたフィルム基板を巻取りロールで巻き取るようにした薄膜太陽電池の製造装置において、前記複数の成膜室の間にガイドロールを備えた中間室を設け、該中間室の上流側に少なくとも2以上の成膜室を設け、これら2以上の成膜室に内蔵された過熱手段の温度を上流側の成膜室の加熱手段の温度に対して下流側の成膜室の加熱手段の温度を低く設定したことにある。
請求項2によれば、中間室の手前の成膜室の加熱手段の温度をさげているので、ガイドロ−ルによるフィルム基板に生じる搬送シワの発生を防ぐことができる。
図1は、太陽電池の製造装置における薄膜電極層形成の基本的構成部分のみを概念的に図示している。反応室、スパッタガス供給系、排気系あるいはフィルム基板搬送手段などは省略して説明する。
各成膜室61,62,63の接地電極121,122,123,124,125,126と高電圧電極131,132,133,134,135,136には、それぞれ直流電源Vが接続され、接地電極121,122,123,124,125,126と高電圧電極131,132,133,134,135,136との間に高電圧を印加するものである。
前記高電圧電極131,132,133,134,135,136は、接地電極121,122,123,124,125,126との間の放電によって導入ガスがイオン化され、銀、アルミニウム、酸化亜鉛などのターゲットをスパッタすることによってフィルム基板1の表面に、電極となる金属の薄膜を形成するものである。前記高電圧電極131,132,133,134,135,136は、電極となる金属を取付けても良く、あるいは薄膜を形成する金属そのもので電極を構成しても良い。
そして、中間室8の下流側の第3の成膜室63では約100°Cのヒータ115,116温度に設定されている。
複数の成膜室61,62,63を通過するフィルム基板1は接地電極121,122,123,124,125,126と高電圧電極131,132,133,134,135,136の間を、鉛直方向に立てられた状態で通過し、接地電極121,122,123,124,125,126と高電圧電極131,132,133,134,135,136の放電によってフィルム基板1の片面に真空蒸着され、金属箔膜が形成される。そして、複数の成膜室61,62,63および中間室8を経て巻取りロール4に巻き取られる。こうして、フィルム基板1は、フィルム温度を下げられてからガイドロール7等によって引かれるので、搬送シワの発生を阻止することができる。
2 巻き出しロール
3 送り室
4 巻取りロール
5 巻取り室
61,62,63 成膜室
7 ガイドロール
8 中間室
9 補助ロール(ガイドロール)
10 駆動ロール
111,112,113,114,115,116 ヒータ(加熱手段)
121,122,123,124,125,126 接地電極
131,132,133,134,135,136 高電圧電極
Claims (2)
- 巻き出しロールに巻かれた帯状可撓性のフィルム基板を略真空状態に維持された複数の成膜室に送り、前記成膜室に互いに対向して配置された接地電極と、ターゲット材を有する印加電極との間で放電させて、フィルム基板の面上に電極となる金属薄膜を、設定された加熱下で形成し、前記金属薄膜が形成されたフィルム基板を巻取りロールで巻き取るようにした薄膜太陽電池の製造装置において、金属薄膜を形成する前記複数の成膜室の加熱手段の温度を、金属薄膜の成膜が可能な温度に設定された上流側の成膜室の加熱手段の温度に対して下流側の成膜室の加熱手段の温度を低く設定したことを特徴とする薄膜太陽電池の製造装置。
- 巻き出しロールに巻かれた帯状可撓性のフィルム基板を略真空状態に維持された複数の成膜室に送り、前記成膜室に互いに対向して配置された接地電極と、ターゲット材を有する印加電極との間で放電させて、フィルム基板の面上に電極となる金属薄膜を、設定された加熱下で形成し、前記金属薄膜が形成されたフィルム基板を巻取りロールで巻き取るようにした薄膜太陽電池の製造装置において、前記複数の成膜室の間にガイドロールを備えた中間室を設け、該中間室の上流側に少なくとも2以上の成膜室を設け、これら2以上の成膜室に内蔵された過熱手段の温度を上流側の成膜室の加熱手段の温度に対して下流側の成膜室の加熱手段の温度を低く設定したことを特徴とする薄膜太陽電池の製造装置。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0959775A (ja) * | 1995-08-22 | 1997-03-04 | Fuji Electric Co Ltd | スパッタリング方法 |
JPH09176855A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 薄膜形成装置 |
JP2003258280A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-12 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜太陽電池の製造装置 |
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2007
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0959775A (ja) * | 1995-08-22 | 1997-03-04 | Fuji Electric Co Ltd | スパッタリング方法 |
JPH09176855A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 薄膜形成装置 |
JP2003258280A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-12 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜太陽電池の製造装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100988760B1 (ko) | 2009-12-30 | 2010-10-20 | 백산철강(주) | 태양전지 기판의 전극 제조 장치 |
WO2011081490A2 (ko) * | 2009-12-30 | 2011-07-07 | 백산철강(주) | 태양전지 기판의 전극 제조 장치 |
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