JP2009047480A - 半導体試験装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】DUTから見た負荷を軽減してより高速な信号の試験に対応できる半導体試験装置を提供する。
【解決手段】DUTの差動信号が入力される差動増幅回路2の後段に電圧比較回路16を設けて電圧比較回路16の出力信号を同期回路7に入力し、電圧比較回路16の検出信号に基づいて、差動増幅回路2の出力信号と閾値電圧のクロス点との同期をとり、電圧比較回路4〜6の出力信号を各ラッチ回路9〜11に取り込むタイミングを個別に制御するための複数の位相位置情報信号を生成する。
【選択図】図1
【解決手段】DUTの差動信号が入力される差動増幅回路2の後段に電圧比較回路16を設けて電圧比較回路16の出力信号を同期回路7に入力し、電圧比較回路16の検出信号に基づいて、差動増幅回路2の出力信号と閾値電圧のクロス点との同期をとり、電圧比較回路4〜6の出力信号を各ラッチ回路9〜11に取り込むタイミングを個別に制御するための複数の位相位置情報信号を生成する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体試験装置に関し、詳しくは、差動信号を出力する被測定デバイス(以下DUTという)の試験における高速性の改善に関するものである。
一般に半導体試験装置は、ピンエレクトロニクス部からDUTに試験パターンを印加するとともにDUTの出力パターンをピンエレクトロニクス部に取り込み、これらDUTの出力パターンと試験パターンに対応した期待パターンとを比較照合することによりDUTの良/不良判定を行うように構成されている。
ところで、高速の半導体装置には、たとえばECL型のような差動信号を出力するように構成されたものがある。図4は差動信号を出力するように構成されたDUTの試験を行う半導体試験装置におけるピンエレクトロニクス部の従来の構成例図である。図4において、DUT1は、差動信号a,a'とシングルエンド信号bを出力する。DUT1の差動信号a,a'は、差動増幅回路2と電圧比較回路3に入力される。電圧比較回路3は、差動信号a,a'のクロス点を検出して、検出信号を同期回路7に出力する。
DUT1のシングルエンド信号bは、電圧比較回路4に入力され、所定の閾値電圧と比較される。差動増幅回路2は差動信号a,a'の振幅を増幅拡大するものであり、その出力信号は電圧比較回路5,6に入力され、正負の振幅の大きさがそれぞれ所定の閾値電圧と比較される。これら電圧比較回路4〜6の出力信号は、それぞれ対応するラッチ回路9〜11に入力される。
同期回路7は、電圧比較回路3の検出信号に基づいて差動信号a,a'のクロス点と同期をとり、電圧比較回路4〜6の出力信号を各ラッチ回路9〜11に取り込むタイミングを個別に制御するための複数の位相位置情報信号を生成する。これら複数の位相位置情報信号は、ストローブ発生回路8から各ラッチ回路9〜11に入力されるストローブ信号STBをそれぞれ所定時間遅延させる遅延回路12〜14に遅延時間設定データとして入力される。
ラッチ回路9〜11は、同期回路7から入力される位相位置情報信号に基づいて所定の遅延時間に設定される遅延回路12〜14を介して入力されるストローブ信号STBのタイミングで、DUT1の出力信号に対応する電圧比較回路4〜6の出力信号を取り込む。
これらストローブ信号STBのタイミングでラッチ回路9〜11に取り込まれた電圧比較回路4〜6の出力信号は、判定回路15に入力されて期待値と比較され、DUT1の良/不良が判定される。
特許文献1には、差動出力を有するDUTの諸特性を測定する半導体試験装置が記載されている。
しかし、図4の回路構成によれば、DUT1の差動信号a,a'の出力端子には差動増幅回路2と電圧比較回路3が接続されるため、DUT1から見た負荷が大きくなり、高速信号伝送に悪影響をおよぼすという問題がある。
本発明は、このような問題点に着目したものであり、その目的は、DUTから見た負荷を軽減してより高速な信号の試験に対応できる半導体試験装置を提供することにある。
このような課題を達成する請求項1の発明は、DUTの差動信号に同期してDUTの試験を行う半導体試験装置において、前記差動信号が入力される差動増幅回路の後段に、差動信号の位相位置情報を検出する位相検出手段を設けたことを特徴とする。
請求項2の発明は、請求項1記載の半導体試験方法において、前記位相検出手段は電圧比較回路であることを特徴とする。
請求項3の発明は、DUTの差動信号に同期してDUTの試験を行う半導体試験装置であって、前記差動信号が入力される差動増幅回路と、この差動増幅回路の後段に接続され、正負の振幅の大きさをそれぞれ閾値と比較する電圧比較回路と、前記差動増幅回路の後段に接続され、差動信号の位相位置情報を検出する位相検出手段と、この位相検出手段で検出される位相位置情報に基づき所定の遅延時間を設定するための遅延時間設定データを生成する同期回路と、この同期回路から生成出力される遅延時間設定データに基づき所定の遅延時間が設定される遅延回路を介して入力されるストローブ信号のタイミングで前記電圧比較回路の出力信号を取り込むラッチ回路と、これらラッチ回路に取り込まれた前記電圧比較回路の出力信号を所定の期待値と比較してDUTの良否判定を行う判定回路、とで構成されたことを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項3記載の半導体試験装置において、前記同期回路は、位相比較回路と演算回路と遅延回路とで構成され、位相比較回路は前記位相検出手段で検出される位相位置情報と遅延回路の出力の位相を比較して演算回路に入力し、演算回路は位相比較回路から入力される位相差情報に基づき位相差情報が零になるように遅延回路の遅延時間を設定するための遅延時間設定データを演算し、遅延回路は基準信号を遅延させて位相比較回路に出力することを特徴とする。
請求項5の発明は、請求項3または請求項4記載の半導体試験装置において、前記同期回路は、正常状態における位相比較回路の位相差値を記憶しておき、前記位相検出手段の位相位置情報がずれた場合には記憶されている位相差値との差を前記ラッチ回路のストローブ信号を遅延させる遅延回路の遅延時間に反映させることを特徴とする。
これらにより、DUTから見た負荷を軽減でき、高速な信号の試験に対応できる半導体試験装置が実現できる。
以下、本発明について、図面を用いて説明する。図1は本発明に基づく半導体試験装置のピンエレクトロニクス部の一実施例を示す回路図であり、図4と共通する部分には同一の符号を付けている。図1と図4の相違点は、出力信号が同期回路7に入力される電圧比較回路16が、差動増幅回路2の後段に設けられていることである。
すなわち、電圧比較回路16の非反転入力端子には差動増幅回路2の出力端子が接続され、反転入力端子には所定の閾値電圧が入力され、出力端子は同期回路7に接続されている。ここで、電圧比較回路16の閾値電圧としては、差動増幅回路2の出力信号のゼロクロス点を検出するための零電位またはDUT1の差動信号a,a'の特性に応じた所望のオフセット電圧が入力される。
図1において、DUT1のシングルエンド信号bは、図4と同様に、電圧比較回路4に入力され、所定の閾値電圧と比較される。差動増幅回路2の出力信号も、図4と同様に、電圧比較回路5,6に入力され、それぞれ所定の閾値電圧と比較される。これら電圧比較回路4〜6の出力信号は、それぞれ対応するラッチ回路9〜11に入力される。
同期回路7は、電圧比較回路16の検出信号に基づいて、差動増幅回路2の出力信号と閾値電圧のクロス点との同期をとり、図4と同様に、電圧比較回路4〜6の出力信号を各ラッチ回路9〜11に取り込むタイミングを個別に制御するための複数の位相位置情報信号を生成する。これら複数の位相位置情報信号は、図4と同様に、ストローブ発生回路8から各ラッチ回路9〜11に入力されるストローブ信号STBをそれぞれ所定時間遅延させる遅延回路12〜14に遅延時間設定データとして入力される。
ラッチ回路9〜11は、図4と同様に、同期回路7から入力される位相位置情報信号に基づいて所定の遅延時間に設定される遅延回路12〜14を介して入力されるストローブ信号STBのタイミングで、DUT1の出力信号に対応する電圧比較回路4〜6の出力信号を取り込む。
これらストローブ信号STBのタイミングでラッチ回路9〜11に取り込まれた電圧比較回路4〜6の出力信号は、図4と同様に、判定回路15に入力されて期待値と比較されることにより、DUT1の良/不良が判定される。
図1の構成によれば、同期回路7に出力信号を入力する電圧比較回路16を差動増幅回路2の後段に設けているのでDUT1との接続が簡略化され、DUT1から見た負荷が図4の回路構成に比べて軽減され、図4の回路構成に比べてより高速な信号の試験に対応可能な半導体試験装置が実現できる。
また、このように電圧比較回路16を差動増幅回路2の後段に設けることにより、電圧比較回路16自身の耐圧も低くできるので、回路の簡略化を図ることができる。
図2は、本発明の他の実施例を示す回路図であり、図1と共通する部分には同一の符号を付けている。図2では、図1で用いる同期回路7の具体的な構成を示している。同期回路7は、位相比較回路71と演算回路72と遅延回路73とで構成されている。
位相比較回路71は、電圧比較回路16の出力信号の位相と遅延回路73を介して入力される基準信号の位相とを比較し、検出した位相差を演算回路72に出力する。
演算回路72は、位相比較回路71から入力された位相差情報に基づき、遅延回路12〜14および73にそれぞれ所望の遅延時間を生成させるための遅延時間設定値を演算して出力する。データとして入力される
図2の回路構成において、演算回路72が、位相比較回路71に入力される2つの信号の位相差が零になるように遅延回路73の遅延時間設定値を演算設定することにより、同期回路7は遅延同期ループ(DLL)として機能することになり、上記の制御が自動的に行われることになる。
たとえば半導体試験装置の校正時やトレーニング時に、電圧比較回路16の出力位相とシステムクロックの位相などの基準位相を位相比較回路71で比較し、その値を記憶しておく。
これにより、たとえばDUT1の試験実行中に温度変動などに起因してDUT1の出力位相すなわち電圧比較回路16の出力位相がずれた場合、位相比較回路71が検出する位相差の大きさは先に記憶した値と異なることになる。この場合、これら両者の差を遅延回路12〜14の遅延時間設定データに反映させることにより、複数ピンの判定タイミングを温度変動などの影響を受けることなく一定に維持できる。
なお、上記各実施例では、ストローブ発生回路8から各ラッチ回路9〜11に個別に入力されるストローブ信号STBを、同期回路7から個別に入力される位相位置情報信号に基づいて所定の遅延時間に設定される遅延回路12〜14でそれぞれ所定時間遅延させる例を説明したが、図3(A)〜(D)に示すような構成であってもよい。
(A)はストローブ発生回路8から各ラッチ回路9〜11に個別に入力されるストローブ信号STBを、同期回路7から共通に入力される位相位置情報信号に基づいて所定の遅延時間に設定される遅延回路12〜14でそれぞれ所定時間遅延させる例である。このように構成することにより、遅延時間制御系統を簡略化できる。
(B)はストローブ発生回路8から各ラッチ回路9〜11に共通に入力されるストローブ信号STBを、同期回路7から個別に入力される位相位置情報信号に基づいて所定の遅延時間に設定される遅延回路12〜14でそれぞれ所定時間遅延させる例である。このように構成することにより、ストローブ信号STBの供給系統を簡略化できる。
(C)はストローブ発生回路8から各ラッチ回路9〜11に共通に入力されるストローブ信号STBを、同期回路7から共通に入力される位相位置情報信号に基づいて所定の遅延時間に設定される遅延回路12〜14でそれぞれ所定時間遅延させる例である。このように構成することにより、ストローブ信号STBの供給系統および遅延時間制御系統を簡略化できる。
(D)は同期回路7からストローブ発生回路8に位相位置情報信号を入力してストローブ発生回路8から出力されるストローブ信号STBに位相位置情報信号を反映させるようにし、このストローブ信号STBを各ラッチ回路9〜11に共通に入力するようにしたものである。このように構成することにより、ストローブ信号STBの供給系統を簡略化でき、各ラッチ回路の遅延回路を省略できる。
以上説明したように、本発明によれば、DUTから見た負荷を軽減してより高速な信号の試験に対応できる半導体試験装置が実現でき、高速DUTの不良解析も効率よく行うことができる。
1 DUT
2 差動増幅回路
3,4〜6 電圧比較回路
7 同期回路
8 ストローブ発生回路
9〜11 ラッチ回路
12〜14,73 遅延回路
15 判定回路
71 位相比較回路
72 演算回路
2 差動増幅回路
3,4〜6 電圧比較回路
7 同期回路
8 ストローブ発生回路
9〜11 ラッチ回路
12〜14,73 遅延回路
15 判定回路
71 位相比較回路
72 演算回路
Claims (5)
- DUTの差動信号に同期してDUTの試験を行う半導体試験装置であって、
前記差動信号が入力される差動増幅回路の後段に、差動信号の位相位置情報を検出する位相検出手段を設けたことを特徴とする半導体試験装置。 - 前記位相検出手段は電圧比較回路であることを特徴とする請求項1記載の半導体試験装置。
- DUTの差動信号に同期してDUTの試験を行う半導体試験装置であって、
前記差動信号が入力される差動増幅回路と、
この差動増幅回路の後段に接続され、正負の振幅の大きさをそれぞれ閾値と比較する電圧比較回路と、
前記差動増幅回路の後段に接続され、差動信号の位相位置情報を検出する位相検出手段と、
この位相検出手段で検出される位相位置情報に基づき所定の遅延時間を設定するための遅延時間設定データを生成する同期回路と、
この同期回路から生成出力される遅延時間設定データに基づき所定の遅延時間が設定される遅延回路を介して入力されるストローブ信号のタイミングで前記電圧比較回路の出力信号を取り込むラッチ回路と、
これらラッチ回路に取り込まれた前記電圧比較回路の出力信号を所定の期待値と比較してDUTの良否判定を行う判定回路、
とで構成されたことを特徴とする半導体試験装置。 - 前記同期回路は、位相比較回路と演算回路と遅延回路とで構成され、位相比較回路は前記位相検出手段で検出される位相位置情報と遅延回路の出力の位相を比較して演算回路に入力し、演算回路は位相比較回路から入力される位相差情報に基づき位相差情報が零になるように遅延回路の遅延時間を設定するための遅延時間設定データを演算し、遅延回路は基準信号を遅延させて位相比較回路に出力することを特徴とする請求項3記載の半導体試験装置。
- 前記同期回路は、正常状態における位相比較回路の位相差値を記憶しておき、前記位相検出手段の位相位置情報がずれた場合には記憶されている位相差値との差を前記ラッチ回路のストローブ信号を遅延させる遅延回路の遅延時間に反映させることを特徴とする請求項3または請求項4記載の半導体試験装置。
Priority Applications (1)
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JP2007212103A JP2009047480A (ja) | 2007-08-16 | 2007-08-16 | 半導体試験装置 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130149399A1 (en) * | 2010-05-31 | 2013-06-13 | Shiseido Company ,Ltd. | Skin temperature elevating agent, and cosmetic composition, food and sundry article containing the same |
JP2014017807A (ja) * | 2012-06-11 | 2014-01-30 | Denso Corp | 半導体装置 |
JP2015152477A (ja) * | 2014-02-17 | 2015-08-24 | 株式会社メガチップス | 半導体集積回路の試験回路及び試験方法 |
-
2007
- 2007-08-16 JP JP2007212103A patent/JP2009047480A/ja active Pending
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