JP2009034960A - 反転オフセット印刷用除去版の再生方法および反転オフセット印刷用除去版 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の凸部と凹部とが並べられ前記凹部に表面処理層が形成された反転オフセット印刷用除去版の再生方法であって、前記表面処理層を剥離して清浄な除去版材料面を前記凹部に形成する工程と、前記凸部に金属層若しくは金属酸化物層若しくは樹脂層を形成する工程と、前記凹部に表面処理を施す工程と、前記金属層若しくは金属酸化物層若しくは樹脂層を前記凸部から剥離する工程とを含む。
【選択図】図5
Description
低解像度部32の凹部の開口巾に対して凹部の版深が小さい場合は、低解像度部32においては、その凹版領域の大部分にブランケット14が接触してしまう。
これにより、ブランケット14の除去版31の凹部に接触した部分の転写物がブランケット14から除去されてしまい、パターン内部の大部分が抜けてしまう。
図1は除去版の平面図(a)、断面図(b)の一例である。
除去版51は、複数の凸部と凹部とが並べられ、凹部の側面部、底部に表面処理を施すことにより、側面部、底部にブランケット上のインキ液膜が接触しても除去されず、よって画像パターン中の抜けがなくなる。
すなわち、除去版51の凹部には表面処理層が形成されている。
すなわち、凹部の表面処理層を撥インキ剤を用いて形成することで、パターン抜けを著しく少なくすることが出来る。
具体的には、反転オフセット印刷用除去版51を再生するプロセスにおいて凸部に金属膜を形成すれば除去版51を再生するプロセスが容易になるが、予め凸部に金属膜が形成されている反転オフセット印刷用除去版51を用いれば、除去版を再生するプロセスにおいて凸部に金属膜を形成するプロセスが省略できるため、除去版51の再生プロセスの容易化を図る上でより一層有利となる。
経時変化した表面処理層の上から繰り返し表面処理を施しても、例えばシランカップリング剤などの場合、結合する官能基が表面に現れていない、若しくは少ないため、その機能を十分に発揮できない恐れがある。
また、再生前の除去版と同様に用いるためには、再生に用いた一時的な材料は全て剥離することが望ましい。
金属層若しくは金属酸化物層若しくは樹脂層の形成方法は特に限定されるものではないが、凸部に形成された金属膜をマスクとして、除去版裏面からの露光によりネガ型レジストをパターニング、金属層などをリフトオフ法によって形成する方法や、同様にポジ型レジストをパターニングして樹脂層を形成する方法、反転オフセット印刷用ブランケットから金属材料若しくは金属酸化物材料若しくは樹脂材料を凸部に転写して形成する方法などがあるが、これらに限定されるものではない。
特に酸素プラズマ法は短時間で清浄な面が形成されるため好ましい。
このような材料として、シリコーン系エラストマー、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴムなどを用いることが出来る。
また、ブランケット表面の濡れ性を調製するため、ブランケット表面にフッ素樹脂およびシリコーンの塗布、プラズマ処理、UVオゾン洗浄処理などの表面処理を施しても良い。
カップリング剤は用いるインキによって異なるが、撥水性や撥油性の高いフッ素元素やシロキサン基が含まれるものが好ましい。上記の例として、長鎖フルオロアルキルシラン、加水分解性基含有シロキサン、フルオロアルキル基含有オリゴマー、フルオロエーテル基含有ポリマー、パーフルオロアルキル基含有ポリマーなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
実施例1について説明する。
凹部に表面処理を施した反転オフセット印刷用除去版の作製方法および再生方法を図5に示す。
除去版の材料として、ガラス61を用いた。
ガラス61上にクロム層62をスパッタにより50nm、アルミ層63をスパッタにより50nm製膜した(a)。
次いで、ポジレジスト層64を製膜し、該ポジレスト層64を用いたフォトリソ、エッチング、レジスト剥離によりクロム62およびアルミ63の非画像パターンを形成した(b)。
パターンは図1に示すパターンを100mm×100mmの中央付近に100個×100個配置したものである。
図1に示すパターンの各部寸法は、領域が250μm×250μmに高解像度部ライン/スペース幅が5μm/5μm、低解像度部矩形が140μm×210μmである。
次いで、フッ酸を用いたガラスエッチングにより、版深5μmになるように複数の凹部および凸部を並べて形成した。
次いで、表面処理剤として撥インキ性のフルオロアルキルシラン(GE東芝シリコーン製TSL8233)を用い、これをイソプロピルアルコールに0.5重量%で溶解させた溶液に10分浸漬後、120℃で10分乾燥させることによりガラス表面およびアルミ表面にシランカップリング剤を化学的に結合させた(c)。
しかる後、アルミ層63をエッチング液(りん酸:酢酸:硝酸:水=85:5:5:5)により剥離した(d)。
これにより、凸部に金属膜(クロム62)が形成され且つ凹部に撥インキ処理を施した反転オフセット印刷用除去版51を作製することが出来た。なお、図中符号52は撥インキ処理された凹部を示す。
そして、反転オフセット印刷用除去版51は凸部に金属膜(クロム62)が形成されたものである。
また、反転オフセット印刷用除去版51は凹部に表面処理層が形成され、該表面処理層は、撥インキ剤で形成されている。
まず、除去版51に酸素プラズマ(100Pa、400W、1分)を照射し、凹部の表面処理を剥離して清浄な除去版材料面を形成した(e)。
このとき、水に対する接触角は3.6度であり、ガラスの水に対する接触角(3.5度)とほぼ同じであったことから、清浄な除去版材料(ガラス)面が形成されたと思われる。
しかる後、ネガ型レジスト67を製膜(f)、除去版裏面から露光して現像することで、除去版凸部が開口したパターンを形成した(g)。なお、図中符号67‘はパターニングされたネガレジストを示す。
言い換えると、金属膜(クロム62)マスクとして、反転オフセット印刷用除去版の表面に製膜されたネガ型レジスト67を反転オフセット印刷用除去版51の裏面から露光したのち現像することでネガ型レジスト67をパターニングして凸部の金属膜(クロム62)が臨むネガ型レジスト67箇所を開口させた。
次いで、蒸着法によりアルミを50nm製膜し、リフトオフすることにより凸部にのみアルミ63を形成した(h)。
言い換えると、ネガ型レジスト67の開口に臨む金属膜(クロム62)の表面に金属層としてアルミ63からなる金属層を形成した。
表面処理剤として撥インキ性のフルオロアルキルシラン(GE東芝シリコーン製TSL8233)を用い、120℃で10分乾燥させることによりガラスおよびアルミ層63の表面にシランカップリング剤を化学的に結合させた(i)。
言い換えると、凹部に表面処理剤からなる表面処理層が形成された。
しかる後、アルミ層63をエッチング液(りん酸:酢酸:硝酸:水=85:5:5:5)により剥離した(j)。
これにより、凸部に金属膜(クロム62)が形成され且つ凹部に表面処理を施した反転オフセット印刷用除去版51を再生することが出来た。
また、上述したように、反転オフセット印刷用除去版51の凸部に金属膜(クロム62)を形成することで、金属膜(クロム62)をマスクとして利用することでアルミ63からなる金属層の形成が容易に行え、したがって、反転オフセット印刷用除去版51を再生するプロセスが容易となる効果が奏される。
次に実施例2について説明する。
実施例2では、表面処理剤として撥インキ性のパーフルオロエーテル基含有ポリマー(フロロテクノロジー製FG5010)を用いた以外は、実施例1と同様である。
実施例1と同様の方法で再生を行った結果、凸部に金属膜が形成され且つ凹部に表面処理を施した反転オフセット印刷用除去版を再生することが出来た。
次に実施例3について説明する。
実施例1と同様に作製した除去版の再生方法を図6に示す。
まず、再生すべき除去版51を用意する(a)。
除去版51の表面に酸素プラズマ(100Pa、400W、1分)を照射し、凹部の表面処理層を剥離して清浄な除去版材料面を形成した(b)。
このとき、水に対する接触角は3.6度であり、ガラスの水に対する接触角(3.5度)とほぼ同じであったことから、清浄な除去版材料(ガラス)面が形成されたと思われる。
なお、図中符号65はエッチングされたガラスを示す。
しかる後、ポジ型レジスト68を製膜(c)、除去版裏面から露光して現像することで除去版凸部上にのみレジスト膜68を形成した(d)。
言い換えると、金属膜(クロム62)をマスクとして、除去版の表面に製膜されたポジ型レジスト68を反転オフセット印刷用除去版の裏面から露光したのち現像することでポジ型レジスト68をパターニングすることにより金属膜(クロム層62)の表面にポジ型レジスト68を残存させることによって、凸部に樹脂層を形成した。
なお、図中符号68‘はパターニングされたポジレジストを示す。
表面処理剤として撥インキ性のフルオロアルキルシラン(GE東芝シリコーン製TSL8233)を用い、これをイソプロピルアルコールに0.5重量%で溶解させた溶液に10分浸漬後、120℃で10分乾燥させることによりガラス表面にシランカップリング剤を化学的に結合させた(e)。
言い換えると、凹部に表面処理剤からなる表面処理層が形成された。
しかる後、ポジ型レジスト68‘をアセトンによって剥離した(f)。
これにより、凸部に金属膜(クロム62)が形成され且つ凹部に表面処理を施した反転オフセット印刷用除去版51を再生することが出来た。
また、上述したように、反転オフセット印刷用除去版51の凸部に金属膜(クロム62)を形成することで、金属膜(クロム62)をマスクとして利用することでポジ型レジスト膜68からなる樹脂層の形成が容易に行え、したがって、反転オフセット印刷用除去版51を再生するプロセスが容易となる効果が奏される。
次に実施例4について説明する。
除去版の再生方法を図7に示す。
まず、除去版の凸部の金属膜(クロム62)をエッチング液(硝酸アンモニウムセリウム:過塩素酸:水=34:16:150)により剥離し、凸部表面がガラスである除去版を得る(a)。
次に、除去版に紫外線(185nm、254nm、15分)を照射し、凹部の表面処理層を剥離して清浄な除去版材料面を形成した(b)。
このとき、水に対する接触角は4.0度であり、ガラスの水に対する接触角(3.5度)に近い値であったことから、清浄な除去版材料(ガラス)面が形成されたと思われる。
しかる後、銀粒子水分散液(平均粒径20nm、住友電気工業株式会社製)にポリエチレンオキサイド(平均分子量10,000、アルドリッチ製)を、(ポリエチレンオキサイド/銀粒子/水)=(1/8/31)の重量比となるように溶解させたインキを反転オフセット印刷用ブランケットにバーコータ(#6)で塗布した後、室温で3分間乾燥させ、インキ膜を形成、除去版の凸部に転写して200℃で30分焼成し、除去版凸部に銀の膜を形成した(c)。
言い換えると、反転オフセット印刷用ブランケットから金属材料を凸部に転写することにより凸部に金属膜(銀)を形成した。
次いで、表面処理剤として撥インキ性のフルオロアルキルシラン(GE東芝シリコーン株式会社の商品名TSL8233)を用い、これをイソプロピルアルコールに0.5重量%で溶解させた溶液に10分浸漬後、120℃で10分乾燥させることによりガラスおよび銀表面にシランカップリング剤を化学的に結合させた(d)。
しかる後、銀をエッチング液(りん酸:酢酸:硝酸:水=85:5:5:5)により剥離した(e)。
これにより、凸部はガラスで凹部に表面処理を施した反転オフセット印刷用除去版51'を再生することが出来た。
次に実施例5について説明する。
実施例4で用いた反転オフセット印刷用除去版の再生方法を図8に示す。
まず、再生すべき除去版51'を用意する(a)。
次いで、除去版51'に酸素プラズマ(100Pa、400W、1分)を照射し、凹部の表面処理を剥離して清浄な除去版材料面を形成した(b)。
このとき、水に対する接触角は3.6度であり、ガラスの水に対する接触角(3.5度)とほぼ同じであったことから、清浄な除去版材料(ガラス)面が形成されたと思われる。
しかる後、ポジ型レジスト68を反転オフセット印刷用ブランケットにバーコータ(#6)で塗布した後、室温で1分間乾燥させ、インキ膜を形成、除去版の凸部に転写して70度で20分乾燥、除去版凸部に樹脂層を形成した(c)。
言い換えると、反転オフセット印刷用ブランケットから樹脂材料を凸部に転写することにより凸部に樹脂層を形成した。
次いで、表面処理剤として撥インキ性のフルオロアルキルシラン(GE東芝シリコーン株式会社の商品名TSL8233)を用い、これをイソプロピルアルコールに0.5重量%で溶解させた溶液に10分浸漬後、120℃で10分乾燥させることによりガラス表面にシランカップリング剤を化学的に結合させた(d)。しかる後、樹脂層をアセトンにより剥離した(e)。
これにより、凸部はガラスで凹部に表面処理を施した反転オフセット印刷用除去版51'を再生することが出来た。
次に比較例1について説明する。
比較例1では、実施例2と同様に作製した表面処理を施した反転オフセット印刷用除去版を、アセトンを含ませたウェスで100回擦り洗いをした結果、表面処理を施した部分の水に対する接触角が114度から74度に低下し、撥インキ性が薄れていることが明らかとなった。
Claims (11)
- 複数の凸部と凹部とが並べられ前記凹部に表面処理層が形成された反転オフセット印刷用除去版の再生方法であって、
前記表面処理層を剥離して清浄な除去版材料面を前記凹部に形成する工程と、
前記凸部に金属層若しくは金属酸化物層若しくは樹脂層を形成する工程と、
前記凹部に表面処理を施す工程と、
前記金属層若しくは金属酸化物層若しくは樹脂層を前記凸部から剥離する工程と、
を含むことを特徴とする反転オフセット印刷用除去版の再生方法。 - 前記反転オフセット印刷用除去版は、前記複数の凸部と凹部とが並べられた表面を有し、
前記凸部に対する前記金属層若しくは金属酸化物層の形成は、
前記凸部に金属膜を形成し、
前記金属膜をマスクとして、前記反転オフセット印刷用除去版の表面に製膜されたネガ型レジストを前記反転オフセット印刷用除去版の裏面から露光したのち現像することで前記ネガ型レジストをパターニングして前記凸部の前記金属膜が臨むネガ型レジスト箇所を開口させ、
前記開口に臨む前記金属膜の表面に金属層若しくは金属酸化物層を形成し、
リフトオフ法により前記ネガ型レジストを剥離することによりなされる、
ことを特徴とする請求項1記載の反転オフセット印刷用除去版の再生方法。 - 前記反転オフセット印刷用除去版は、前記複数の凸部と凹部とが並べられた表面を有し、
前記凸部に対する前記樹脂層の形成は、
前記反転オフセット印刷用除去版の凸部に金属膜を形成し、
前記金属膜をマスクとして、前記反転オフセット印刷用除去版の表面に製膜されたポジ型レジストを前記反転オフセット印刷用除去版の裏面から露光したのち現像することで前記ポジ型レジストをパターニングすることにより前記金属膜の表面に前記ポジ型レジストを残存させることでなされる、
ことを特徴とする請求項1記載の反転オフセット印刷用除去版の再生方法。 - 前記反転オフセット印刷用除去版は、前記複数の凸部と凹部とが並べられた表面を有するとともに前記凸部に金属膜が形成され、
前記凸部に対する前記金属層若しくは金属酸化物層の形成は、
前記金属膜をマスクとして、前記反転オフセット印刷用除去版の表面に製膜されたネガ型レジストを前記反転オフセット印刷用除去版の裏面から露光したのち現像することで前記ネガ型レジストをパターニングして前記凸部の前記金属膜が臨むネガ型レジスト箇所を開口させ、
前記開口に臨む前記金属膜の表面に金属層若しくは金属酸化物層を形成し、
リフトオフ法により前記ネガ型レジストを剥離することによりなされる、
ことを特徴とする請求項1記載の反転オフセット印刷用除去版の再生方法。 - 前記反転オフセット印刷用除去版は、前記複数の凸部と凹部とが並べられた表面を有するとともに前記凸部に金属膜が形成され、
前記凸部に対する前記樹脂層の形成は、
前記金属膜をマスクとして、前記反転オフセット印刷用除去版の表面に製膜されたポジ型レジストを前記反転オフセット印刷用除去版の裏面から露光したのち現像することで前記ポジ型レジストをパターニングすることにより前記金属膜の表面に前記ポジ型レジストを残存させることでなされる、
ことを特徴とする請求項1記載の反転オフセット印刷用除去版の再生方法。 - 前記凸部に対する前記金属層若しくは金属酸化物層若しくは樹脂層の形成は、
反転オフセット印刷用ブランケットから金属材料若しくは金属酸化物材料若しくは樹脂材料を前記凸部に転写することによりなされる、
ことを特徴とする請求項1記載の反転オフセット印刷用除去版の再生方法。 - 前記表面処理層の剥離は、前記表面処理層に酸素プラズマ若しくは紫外線を照射することによりなされる、
ことを特徴とする請求項1乃至6に何れか1項記載の反転オフセット印刷用除去版の再生方法。 - 前記表面処理層は、撥インキ剤で形成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至7に何れか1項記載の反転オフセット印刷用除去版の再生方法。 - インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキ膜を形成するインキ膜形成工程と、複数の凸部と凹部とが並べられた反転オフセット印刷用除去版を前記インキ膜に接触させて前記凸部に前記インキ膜を転写させることで前記インキ膜の不要部を前記インキ膜形成基材から除去する除去工程と、前記インキ膜形成基材上に残った前記インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える反転オフセット印刷法に使用する反転オフセット印刷用除去版であって、
前記凸部に金属膜が形成されている、
ことを特徴とする反転オフセット印刷用除去版。 - 前記凹部に表面処理層が形成されている、
ことを特徴とする請求項9記載の反転オフセット印刷用除去版。 - 前記表面処理層は、撥インキ剤で形成されている、
ことを特徴とする請求項10記載の反転オフセット印刷用除去版。
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