JP2009026916A - 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法並びに記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】キャリアブロックの受け渡し手段及び検査ブロックの基板搬送手段を制御するための制御手段が、処理ブロックにて基板を基板搬送手段により検査モジュールを介してまたは介さずに第3または第4のステージに搬送し、前記キャリアブロックに搬入されたキャリアから検査専用の基板を受け渡し手段により第2のステージに受け渡すと共に、基板を基板搬送手段により検査モジュールに受け渡し、基板を検査終了後に第3のステージまたは第4のステージに搬送させる。そして処理ブロックからの基板とキャリアからの基板とを並行して検査モジュールに取り込ませて、検査後の基板の受け渡し先を1つに限定させないようにする。
【選択図】図6
Description
前記受け渡し手段から受け渡された基板に対するレジストの塗布及び、レジストが塗布されかつ露光された基板に対する現像を行うための複数の処理モジュールと、これら処理モジュールに対して基板の受け渡しを行うための手段と、を備えた処理ブロックと、
基板の検査を行うための複数の検査モジュールと、これら検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を含む検査ブロックと、
前記キャリアブロックの受け渡し手段により基板が受け渡され、前記処理ブロックにて処理するために当該基板が搬出される第1のステージと、
前記キャリアブロックの受け渡し手段と前記検査ブロックの基板搬送手段との間で基板の受け渡しが各々行われる第2のステージ、第3のステージ及び第4のステージと、
前記キャリアブロックの受け渡し手段及び前記検査ブロックの基板搬送手段を制御するための制御手段と、を備え、
前記制御手段は、
前記処理ブロックにより処理された基板を前記基板搬送手段により前記検査モジュールを介してまたは介さずに第3または第4のステージに搬送し、前記キャリアブロックに搬入されたキャリアから検査専用の基板を受け渡し手段により第2のステージに受け渡すと共に、当該基板を基板搬送手段により検査モジュールに受け渡し、当該基板を検査終了後に検査モジュールから第3のステージまたは第4のステージに搬送し、こうして処理ブロック側からの基板とキャリア側からの基板とを並行して検査モジュールに取り込む第1の運転モードを実行する機能を備えていることを特徴とする。
前記受け渡し手段から受け渡された基板に対するレジストの塗布及び、レジストが塗布されかつ露光された基板に対する現像を行うための複数の処理モジュールと、これら処理モジュールに対して基板の受け渡しを行うための手段と、を備えた処理ブロックと、
基板の検査を行うための複数の検査モジュールと、これら検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を含む検査ブロックと、
前記キャリアブロックの受け渡し手段との間で基板が受け渡される第1のステージ、第2のステージ、第3のステージ及び第4のステージと、を備えた塗布、現像装置を運転する方法において、
処理ブロックにて処理された基板とキャリア側からの検査専用の基板とを並行して検査モジュールに取り込む第1の運転モードを実施する工程を含み、
この第1の運転モードは、
前記キャリアブロックのキャリア内の処理前の基板を受け渡し手段により第1のステージに受け渡す工程と、
この第1のステージ上の処理前の基板を処理ブロックに搬送する工程と、
前記処理ブロックにより処理された基板を前記基板搬送手段により前記検査モジュールを介してまたは介さずに第3または第4のステージに搬送する工程と、
前記キャリアブロックに搬入されたキャリアから検査専用の基板を受け渡し手段により第2のステージに受け渡すと共に、当該基板を基板搬送手段により検査モジュールに受け渡す工程と、
前記検査専用の基板を検査終了後に検査モジュールから第3のステージまたは第4のステージに搬送する工程と、を備えていることを特徴とする。
この第1のステージ上の処理前の基板を処理ブロックに搬送する工程と、
前記処理ブロックにより処理された基板を前記基板搬送手段により前記検査モジュールを介してまたは介さずに第2、第3または第4のステージに搬送する工程と、を含んでいる。
処理ブロックにて処理された基板を、第6のステージを介して前記基板搬送手段に受け渡す工程と、を含んでいてもよい。
前記コンピュータプログラムは、上述の塗布、現像装置の運転方法を実施するためのものであることを特徴とする。
図6を参照しながらパラレル搬送モード実行時のキャリアC1及びキャリアC2のウエハWの搬送経路について説明する。図6において検査ブロック40及びキャリアブロック21内の実線の矢印はキャリアC1に収納された塗布、現像処理用のウエハWの搬送経路を、点線の矢印はキャリアC2に収納された検査専用のウエハWの搬送経路を夫々示している。
続いてプロダクションモード実行時における搬送経路ついて図7を参照しながら説明する。このモード時におけるキャリアC1のウエハWの搬送経路は、パラレル搬送モード時におけるキャリアC1のウエハWの搬送経路と略同じであるため、そのパラレル搬送モードとの差異点を中心に説明する。制御部100がTRS6に載置されたウエハWが検査対象ウエハであるか否か判定し、検査対象のウエハWについては対象となる検査モジュールが空いている場合、その検査モジュールIMに搬送され(矢印P1)、その検査対象の検査モジュールが空いていない場合にはバッファモジュールBに搬送される(矢印P2)。また検査モジュールIM1またはIM2で検査終了後、次の検査モジュールが空いていない場合はバッファモジュールBに搬送され(矢印P3)、バッファモジュールBに搬送されたウエハWについては検査対象となっている検査モジュールIM1またはIM2が空いたらその検査モジュールに搬送される(矢印P4)。
続いて検査モード実行時のウエハWの搬送経路について図8を参照しながら説明する。この検査モード実行時には、パラレル搬送モードと同様に制御部100が基板番号の若いウエハWから順に検査モジュールIM3で検査対象となっているか否か判定し、検査対象となっているウエハWは点線の矢印Q1〜Q4で示すようにキャリアC2→受け渡しステージTRS2→検査モジュールIM3→受け渡しステージTRS3またはTRS4→キャリアC2の順に搬送される。
IM1,IM2,IM3 検査モジュール
S1 処理ブロック
W ウエハ
2 塗布、現像装置
21 キャリアブロック
26A,26B メインアーム
4 搬送アーム
40 検査ブロック
TRS 受け渡しステージ
100 制御部
Claims (11)
- 複数枚の基板を収納したキャリアが載置され、キャリアとの間で基板の受け渡しを行う受け渡し手段を備えたキャリアブロックと、
前記受け渡し手段から受け渡された基板に対するレジストの塗布及び、レジストが塗布されかつ露光された基板に対する現像を行うための複数の処理モジュールと、これら処理モジュールに対して基板の受け渡しを行うための手段と、を備えた処理ブロックと、
基板の検査を行うための複数の検査モジュールと、これら検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を含む検査ブロックと、
前記キャリアブロックの受け渡し手段により基板が受け渡され、前記処理ブロックにて処理するために当該基板が搬出される第1のステージと、
前記キャリアブロックの受け渡し手段と前記検査ブロックの基板搬送手段との間で基板の受け渡しが各々行われる第2のステージ、第3のステージ及び第4のステージと、
前記キャリアブロックの受け渡し手段及び前記検査ブロックの基板搬送手段を制御するための制御手段と、を備え、
前記制御手段は、
前記処理ブロックにより処理された基板を前記基板搬送手段により前記検査モジュールを介してまたは介さずに第3または第4のステージに搬送し、前記キャリアブロックに搬入されたキャリアから検査専用の基板を受け渡し手段により第2のステージに受け渡すと共に、当該基板を基板搬送手段により検査モジュールに受け渡し、当該基板を検査終了後に検査モジュールから第3のステージまたは第4のステージに搬送し、こうして処理ブロック側からの基板とキャリア側からの基板とを並行して検査モジュールに取り込む第1の運転モードを実行する機能を備えていることを特徴とする塗布、現像装置。 - 前記第1の運転モードは、第3のステージ及び第4のステージのうち空いているステージに対して前記基板搬送手段により基板を受け渡すことができるように構成されている特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。
- 前記制御手段は、前記処理ブロックにより処理された基板を前記基板搬送手段により前記検査モジュールを介してまたは介さずに第2、第3または第4のステージに搬送し、こうして処理ブロック側からの基板を専用に検査ブロックに取り込む第2の運転モードを実行する機能を更に備え、
前記第1の運転モード及び第2の運転モードのいずれかを選択するモード選択手段を更に設けたことを特徴とする請求項1または2記載の塗布、現像装置。 - 前記第2の運転モードは、第2、第3または第4のステージのうち空いているステージに対して前記基板搬送手段により基板を受け渡すことができるように構成されている特徴とする請求項1ないし3のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記処理ブロックと検査ブロックとの間に、第5のステージ及び第6のステージが設けられ、
前記第1のステージ上の基板は前記基板搬送手段により第5のステージに搬送され、処理ブロックにて処理された基板は、第6のステージを介して前記基板搬送手段に受け渡されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一に記載の塗布、現像装置。 - 複数枚の基板を収納したキャリアが載置され、キャリアとの間で基板の受け渡しを行う受け渡し手段を備えたキャリアブロックと、
前記受け渡し手段から受け渡された基板に対するレジストの塗布及び、レジストが塗布されかつ露光された基板に対する現像を行うための複数の処理モジュールと、これら処理モジュールに対して基板の受け渡しを行うための手段と、を備えた処理ブロックと、
基板の検査を行うための複数の検査モジュールと、これら検査モジュールに対して基板の受け渡しを行う基板搬送手段と、を含む検査ブロックと、
前記キャリアブロックの受け渡し手段との間で基板が受け渡される第1のステージ、第2のステージ、第3のステージ及び第4のステージと、を備えた塗布、現像装置を運転する方法において、
処理ブロックにて処理された基板とキャリア側からの検査専用の基板とを並行して検査モジュールに取り込む第1の運転モードを実施する工程を含み、
この第1の運転モードは、
前記キャリアブロックのキャリア内の処理前の基板を受け渡し手段により第1のステージに受け渡す工程と、
この第1のステージ上の処理前の基板を処理ブロックに搬送する工程と、
前記処理ブロックにより処理された基板を前記基板搬送手段により前記検査モジュールを介してまたは介さずに第3または第4のステージに搬送する工程と、
前記キャリアブロックに搬入されたキャリアから検査専用の基板を受け渡し手段により第2のステージに受け渡すと共に、当該基板を基板搬送手段により検査モジュールに受け渡す工程と、
前記検査専用の基板を検査終了後に検査モジュールから第3のステージまたは第4のステージに搬送する工程と、を備えていることを特徴とする塗布、現像装置の運転方法。 - 前記処理ブロックにより処理された基板及び検査専用の基板は、第3のステージ及び第4のステージのうち空いているステージに対して前記基板搬送手段により基板を受け渡すことができることを特徴とする請求項6記載の塗布、現像装置の運転方法。
- 前記第1の運転モードと、前記処理ブロックにより処理された基板を専用に検査ブロックに取り込む第2の運転モードと、の一方の運転モードを選択する工程を含み、
前記第2の運転モードは、
前記キャリアブロックのキャリア内の処理前の基板を受け渡し手段により第1のステージに受け渡す工程と、
この第1のステージ上の処理前の基板を処理ブロックに搬送する工程と、
前記処理ブロックにより処理された基板を前記基板搬送手段により前記検査モジュールを介してまたは介さずに第2、第3または第4のステージに搬送する工程と、を含むことを特徴とする請求項7記載の塗布、現像装置の運転方法。 - 前記第2の運転モードにおいて、前記処理ブロックにより処理された基板を第2、第3または第4のステージのうち空いているステージに対して前記基板搬送手段により基板を受け渡すことができることを特徴とする請求項8記載の塗布、現像装置の運転方法。
- 前記処理ブロックと検査ブロックとの間に、第5のステージ及び第6のステージが設けられ、
前記第1のステージ上の基板を前記基板搬送手段により第5のステージに搬送する工程と、
処理ブロックにて処理された基板を、第6のステージを介して前記基板搬送手段に受け渡す工程と、を含むことを特徴とする請求項6ないし10のいずれか一に記載の塗布、現像装置の運転方法。 - 基板に対するレジストの塗布、レジストが塗布されかつ露光された基板に対する現像を行うための複数の処理モジュールを備えた塗布、現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項6ないし10のいずれか一に記載の塗布、現像装置の運転方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
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