JP2009016508A - Cleaning device, cleaning method, predischarging device, and coating device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning device which ensures high cleaning performance for a predischarging device which uses no priming roller in predischarging operation, to provide a cleaning method, to provide the predischarging device, and to provide a coating device. <P>SOLUTION: Disclosed is the device 100 which cleans a predischarge surface 81 of the predischarging device used for predischarging operation of a coating device. The device has squeezes 110a, 110b and 110c sliding on the predischarge surface coated with a liquid body and a cleaning liquid supply unit which supplies cleaning liquid to the surface on a side in the sliding direction of the squeegees 110a, 110b and 110c. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、洗浄装置、洗浄方法、予備吐出装置、及び塗布装置に関するものである。   The present invention relates to a cleaning device, a cleaning method, a preliminary discharge device, and a coating device.

液晶ディスプレイなどの表示パネルを構成するガラス基板上には、配線パターンや電極パターンなどの微細なパターンが形成されている。一般的に、このようなパターンは、例えばフォトリソグラフィなどの手法によって形成される。フォトリソグラフィ法では、ガラス基板上にレジスト膜を形成する工程、このレジスト膜をパターン露光する工程、その後に当該レジスト膜を現像する工程がそれぞれ行われる。   A fine pattern such as a wiring pattern or an electrode pattern is formed on a glass substrate constituting a display panel such as a liquid crystal display. Generally, such a pattern is formed by a technique such as photolithography. In the photolithography method, a step of forming a resist film on a glass substrate, a step of pattern exposing the resist film, and a step of developing the resist film are performed.

基板上にレジスト膜を塗布する装置として、スリットノズルを固定し、当該スリットノズルの下を移動するガラス基板にレジスト(液状体)を塗布する塗布装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。このような塗布装置では塗布膜の均一性を得るため、例えばノズル洗浄やレジスト塗布前の予備吐出動作等のノズル先端管理を行っている。
特開2005−236092号公報
As an apparatus for applying a resist film on a substrate, there is known an application apparatus that fixes a slit nozzle and applies a resist (liquid material) to a glass substrate that moves under the slit nozzle (see, for example, Patent Document 1). ). In such a coating apparatus, in order to obtain the uniformity of the coating film, for example, nozzle tip management such as nozzle cleaning and preliminary discharge operation before resist coating is performed.
Japanese Patent Laid-Open No. 2005-236092

上記特許文献1に記載の塗布装置では、予備吐出動作としてプライミングローラと呼ばれるローラ面上にレジストを吐出(塗布)している。しかしながら、上記構成ではローラ上に吐出(塗布)された塗布液を洗浄する際に洗浄液が大量に必要となるといった問題があった。そこで、予備吐出動作時にプライミングローラを用いない新たな構成の予備吐出装置において良好な洗浄可能とする手法の提供が望まれている。   In the coating apparatus described in Patent Document 1, a resist is discharged (applied) onto a roller surface called a priming roller as a preliminary discharge operation. However, the above configuration has a problem that a large amount of cleaning liquid is required when cleaning the coating liquid discharged (applied) onto the roller. Therefore, it is desired to provide a technique that enables good cleaning in a preliminary discharge apparatus having a new configuration that does not use a priming roller during the preliminary discharge operation.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、予備吐出動作時にプライミングローラを用いない予備吐出装置において高い洗浄性が得られる、洗浄装置、洗浄方法、予備吐出装置、及び塗布装置を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a cleaning device, a cleaning method, a preliminary discharge device, and a coating device that can obtain high cleaning performance in a preliminary discharge device that does not use a priming roller during a preliminary discharge operation. The purpose is to provide.

上記課題を解決するために、本発明の洗浄装置は、塗布装置における予備吐出動作に用いられる予備吐出装置の予備吐出面を洗浄する装置であって、液状体が塗布された前記予備吐出面上を摺動するスキージと、該スキージの摺動方向側の面に洗浄液を供給する洗浄液供給部とを有することを特徴とする。   In order to solve the above problems, a cleaning device of the present invention is a device for cleaning a preliminary discharge surface of a preliminary discharge device used for a preliminary discharge operation in a coating device, on the preliminary discharge surface on which a liquid material has been applied. And a cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid to the surface of the squeegee in the sliding direction.

本発明の洗浄装置によれば、スキージの摺動方向側の面に供給した洗浄液によって液状体を希釈化させつつ予備吐出面上を摺動するスキージによって液状体を良好に掻き取ることができる。また、洗浄液供給部から洗浄液を予備吐出面上に選択的に供給することで洗浄液の使用量が抑えられたものとなる。   According to the cleaning apparatus of the present invention, the liquid material can be satisfactorily scraped by the squeegee that slides on the preliminary discharge surface while diluting the liquid material with the cleaning liquid supplied to the surface on the sliding direction side of the squeegee. Further, the amount of the cleaning liquid used can be suppressed by selectively supplying the cleaning liquid from the cleaning liquid supply unit onto the preliminary discharge surface.

また上記塗布装置においては、前記洗浄液供給部は、前記スキージに対して前記洗浄液を吐出する複数の吐出口を有するのが好ましい。
この構成によれば、予備吐出面上に洗浄液を良好に吐出することが可能となる。
さらに複数の前記吐出口は、隣接する前記吐出口から吐出されて前記スキージの面上を伝う前記洗浄液同士が、前記スキージの先端に至って一体化するように設けられているのがより好ましい。
この構成によれば、スキージ先端にて洗浄液が一体化するので、スキージと予備吐出面との接触端の全域に亘って洗浄液を供給することができる。
In the coating apparatus, it is preferable that the cleaning liquid supply unit has a plurality of discharge ports for discharging the cleaning liquid to the squeegee.
According to this configuration, it is possible to discharge the cleaning liquid on the preliminary discharge surface satisfactorily.
Further, it is more preferable that the plurality of the discharge ports are provided so that the cleaning liquids discharged from the adjacent discharge ports and transmitted on the surface of the squeegee reach the tip of the squeegee and are integrated.
According to this configuration, since the cleaning liquid is integrated at the tip of the squeegee, the cleaning liquid can be supplied over the entire contact end between the squeegee and the preliminary discharge surface.

また上記塗布装置においては、前記各吐出口は等間隔に配列されているのが好ましい。
この構成によれば、等間隔に配置された吐出口から洗浄液が供給されるので、例えば各吐出口から吐出される洗浄液量を同等とすることで予備吐出面上に均一に洗浄液を供給することができる。
Moreover, in the said coating device, it is preferable that each said discharge outlet is arranged at equal intervals.
According to this configuration, since the cleaning liquid is supplied from the discharge ports arranged at equal intervals, for example, the cleaning liquid is uniformly supplied onto the preliminary discharge surface by equalizing the amount of the cleaning liquid discharged from each discharge port. Can do.

また上記塗布装置においては、前記スキージを複数備えるのが好ましい。
この構成によれば、複数のスキージが予備吐出面上を摺動するので、高い洗浄性を備えたものとなる。
この場合、前記洗浄液供給部は、前記複数のスキージのうち、少なくとも摺動方向最後尾の前記スキージを除いて前記洗浄液を供給するのがより好ましい。
この構成によれば、摺動方向最後尾のスキージが予備吐出面上を摺動する際に、前方のスキージによって取り残された液状体を掻き取る仕上げスキージとして機能する。よって、予備吐出面上への液状体の掻き取り残しが防止された、洗浄性の高いものとなる。
Further, the coating apparatus preferably includes a plurality of the squeegees.
According to this configuration, the plurality of squeegees slide on the preliminary discharge surface, and thus have high cleaning properties.
In this case, it is more preferable that the cleaning liquid supply unit supplies the cleaning liquid except at least the squeegee at the tail end in the sliding direction among the plurality of squeegees.
According to this configuration, when the last squeegee in the sliding direction slides on the preliminary discharge surface, it functions as a finishing squeegee that scrapes off the liquid material left behind by the front squeegee. Therefore, it is possible to prevent the liquid material from being left on the preliminary discharge surface and to have high cleaning performance.

また上記塗布装置においては、各々の前記スキージに対応して複数の前記吐出口が設けられており、摺動方向先頭の前記スキージに対応する前記吐出口の数は、摺動方向後方の前記スキージに対応する前記吐出口の数よりも多いのが好ましい。
この構成によれば、液状体が多く存在する摺動方向先頭側に洗浄液を多く吐出し、予備吐出面上を複数のスキージが摺動することで液状体を確実に掻き取ることができる。よって、液状体の掻き取り残しが抑制され、高い洗浄性を得ることができる。
Further, in the coating apparatus, a plurality of the discharge ports are provided corresponding to each of the squeegees, and the number of the discharge ports corresponding to the squeegee at the head in the sliding direction is the number of the squeegees at the rear in the sliding direction. It is preferable that there are more than the number of the said discharge outlets corresponding to.
According to this configuration, it is possible to surely scrape off the liquid material by discharging a large amount of the cleaning liquid to the front side in the sliding direction where a large amount of the liquid material exists and sliding the plurality of squeegees on the preliminary discharge surface. Therefore, the scraping of the liquid material is suppressed, and high cleaning properties can be obtained.

本発明の洗浄方法は、塗布装置における予備吐出動作に用いられる予備吐出装置の予備吐出面を洗浄する方法であって、液状体が塗布された略平面の前記予備吐出面を摺動するスキージの前記摺動方向側の面に洗浄液を供給しつつ、前記スキージによって前記洗浄液とともに前記液状体を掻き取ることを特徴とする。   A cleaning method of the present invention is a method for cleaning a preliminary discharge surface of a preliminary discharge device used for a preliminary discharge operation in a coating apparatus, and is a method for cleaning a squeegee that slides on a substantially flat preliminary discharge surface coated with a liquid material. The liquid material is scraped off together with the cleaning liquid by the squeegee while supplying the cleaning liquid to the surface on the sliding direction side.

本発明の洗浄方法によれば、スキージの摺動方向側の面に供給した洗浄液によって液状体を希釈化させつつ予備吐出面上を摺動するスキージにより液状体を良好に掻き取ることができる。また、洗浄液供給部から洗浄液を予備吐出面上に選択的に供給しているので洗浄液の使用量を抑制することができる。   According to the cleaning method of the present invention, the liquid material can be satisfactorily scraped by the squeegee that slides on the preliminary discharge surface while diluting the liquid material with the cleaning liquid supplied to the surface on the sliding direction side of the squeegee. Further, since the cleaning liquid is selectively supplied from the cleaning liquid supply unit onto the preliminary discharge surface, the amount of the cleaning liquid used can be suppressed.

また、上記洗浄方法は、前記スキージの前記面上の複数個所に前記洗浄液を供給するのが好ましい。
この構成によれば、予備吐出面上に洗浄液を良好に吐出することができ、高い洗浄性を得ることが可能となる。
このとき、前記スキージの前記面上において、少なくとも隣接する位置に供給されて前記面上を伝う前記洗浄液が前記スキージの先端に至って一体化するように前記洗浄液を供給するのがより好ましい。
この構成によれば、スキージ先端にて洗浄液が一体化するのでスキージと予備吐出面との接触端の全域に亘って洗浄液を供給することができる。よって、高い洗浄性を得ることができる。
In the cleaning method, the cleaning liquid is preferably supplied to a plurality of locations on the surface of the squeegee.
According to this configuration, the cleaning liquid can be satisfactorily discharged onto the preliminary discharge surface, and high cleaning properties can be obtained.
At this time, it is more preferable that the cleaning liquid is supplied on the surface of the squeegee so that the cleaning liquid supplied to at least an adjacent position and transmitted on the surface reaches the tip of the squeegee and is integrated.
According to this configuration, since the cleaning liquid is integrated at the tip of the squeegee, the cleaning liquid can be supplied over the entire contact end between the squeegee and the preliminary discharge surface. Therefore, high detergency can be obtained.

また、上記洗浄方法は、複数の前記スキージを用いるとともに、複数の前記スキージをそれらの配列方向に摺動して前記予備吐出面を洗浄するに際して、少なくとも摺動方向最後尾に位置する前記スキージを除いた他の前記スキージに対して前記洗浄液を供給するのが好ましい。
この構成によれば、摺動方向最後尾のスキージを、予備吐出面上を摺動する際に他のスキージによって取り残された液状体を掻き取る仕上げスキージとして機能させることができる。よって、予備吐出面上への液状体の掻き取り残しが防止された、洗浄性の高いものとなる。
Further, the cleaning method uses a plurality of the squeegees, and slides the plurality of squeegees in the arrangement direction thereof to clean the preliminary discharge surface. It is preferable to supply the cleaning liquid to the other squeegees removed.
According to this configuration, the last squeegee in the sliding direction can function as a finishing squeegee that scrapes off the liquid material left behind by the other squeegee when sliding on the preliminary discharge surface. Therefore, it is possible to prevent the liquid material from being left on the preliminary discharge surface and to have high cleaning performance.

また、上記洗浄方法は、複数の前記スキージを用いるとともに、複数の前記スキージをそれらの配列方向に摺動して前記予備吐出面を洗浄するに際して、摺動方向の先頭側に位置する前記スキージに対する前記洗浄液の供給量を、他の前記スキージに対する前記洗浄液の供給量よりも多くするのが好ましい。
この構成によれば、摺動方向先頭側のスキージに洗浄液を多く供給するととも、予備吐出面上を全てのスキージが摺動することで洗浄液とともに液状体を確実に掻き取ることができる。
Further, the cleaning method uses a plurality of the squeegees, and slides the plurality of squeegees in their arrangement direction to clean the preliminary discharge surface with respect to the squeegee located on the leading side in the sliding direction. The supply amount of the cleaning liquid is preferably larger than the supply amount of the cleaning liquid to the other squeegees.
According to this configuration, a large amount of the cleaning liquid is supplied to the squeegee on the leading side in the sliding direction, and all the squeegee slides on the preliminary discharge surface, so that the liquid material can be surely scraped off together with the cleaning liquid.

本発明の洗浄装置は、上記洗浄装置を備えることを特徴とする。   The cleaning apparatus of the present invention includes the above-described cleaning apparatus.

本発明の予備吐出装置によれば、高い洗浄性を有する洗浄装置を備えているので、予備吐出面を良好に洗浄することで予備吐出動作を確実に行うことができる高信頼性のものとなる。   According to the preliminary discharge device of the present invention, since the cleaning device having a high cleaning property is provided, the preliminary discharge operation can be reliably performed by cleaning the preliminary discharge surface satisfactorily. .

本発明の塗布装置は、上記の予備吐出装置を備えることを特徴とする。   A coating apparatus according to the present invention includes the preliminary ejection device described above.

本発明の塗布装置によれば、予備吐出面における高い洗浄性を有する予備吐出装置を備えているので、予備吐出動作を良好に行うことで塗布部を常に良好な状態に保持することができ、均一な膜厚にて液状体の塗布を行うことができる。   According to the coating apparatus of the present invention, since the preliminary ejection device having a high cleaning property on the preliminary ejection surface is provided, the application part can be always kept in a good state by performing the preliminary ejection operation well. The liquid material can be applied with a uniform film thickness.

本発明によれば、予備吐出動作時にプライミングローラを用いない予備吐出装置においても、予備吐出面上を摺動するスキージによって当該予備吐出面上の液状体を良好に掻き取ることで、高い洗浄性を得ることができる。   According to the present invention, even in a preliminary discharge device that does not use a priming roller during a preliminary discharge operation, the liquid material on the preliminary discharge surface is scraped well by a squeegee that slides on the preliminary discharge surface. Can be obtained.

以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。本実施形態に係る塗布装置1は、図9に示すように、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、従来のプライミングローラに代わる予備吐出面上にレジストの予備吐出を行い、当該予備吐出面の良好な洗浄を可能とするものである。塗布装置1は、基板搬送部2と、塗布部3と、管理部4とを主要な構成要素とし、基板搬送部2によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部3によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部4によって塗布部3の状態が管理されるようになっている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 9, the coating apparatus 1 according to the present embodiment is a coating apparatus that coats a resist on a glass substrate used for a liquid crystal panel, for example, and a resist is formed on a preliminary ejection surface instead of a conventional priming roller. Preliminary discharge is performed, and the preliminary discharge surface can be satisfactorily cleaned. The coating apparatus 1 includes a substrate transport unit 2, a coating unit 3, and a management unit 4 as main components, and a resist is placed on the substrate by the coating unit 3 while the substrate transport unit 2 floats and transports the substrate. The application unit 3 manages the state of the application unit 3.

(管理部)
まず管理部4の構成について図9〜13を参照して説明する。
管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト(液状体)の吐出量が一定になるようにノズル32を管理する部位であり、基板搬送部2に平面視で重なるように塗布部3に対して−X方向側(基板搬送方向の上流側)に設けられている。この管理部4は、予備吐出機構(予備吐出装置)42と、ディップ槽41と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、当該収容部44を保持する保持部材45とを有している。保持部材45は、移動機構45aに接続されている。当該移動機構45aにより、収容部44がX方向に移動可能になっている。
(Management Department)
First, the configuration of the management unit 4 will be described with reference to FIGS.
The management unit 4 is a part that manages the nozzles 32 so that the discharge amount of the resist (liquid material) discharged to the substrate S is constant, and the management unit 4 overlaps the coating unit 3 so as to overlap the substrate transport unit 2 in plan view. The -X direction side (upstream side in the substrate transport direction). The management unit 4 includes a preliminary discharge mechanism (preliminary discharge device) 42, a dip tank 41, a nozzle cleaning device 43, a storage unit 44 that stores these, and a holding member 45 that holds the storage unit 44. is doing. The holding member 45 is connected to the moving mechanism 45a. The accommodating portion 44 is movable in the X direction by the moving mechanism 45a.

予備吐出機構42、ディップ槽41及びノズル洗浄装置43は、−X方向側へこの順で配列されている。これら予備吐出機構41、ディップ槽42及びノズル洗浄装置43のY方向の各寸法は上記門型フレーム31の支柱部材31a間の距離よりも小さくなっており、上記門型フレーム31が各部位を跨いでアクセスできるようになっている(図14参照)。
ディップ槽41は、内部にシンナーなどの溶剤が貯留された液体槽である。ノズル洗浄装置43は、ノズル32の開口部32aの周辺領域をリンス洗浄する装置である。
The preliminary discharge mechanism 42, the dip tank 41, and the nozzle cleaning device 43 are arranged in this order in the −X direction side. The dimensions of the preliminary discharge mechanism 41, the dip tank 42, and the nozzle cleaning device 43 in the Y direction are smaller than the distance between the columnar members 31a of the portal frame 31, and the portal frame 31 straddles each part. (See FIG. 14).
The dip tank 41 is a liquid tank in which a solvent such as thinner is stored. The nozzle cleaning device 43 is a device that rinses and cleans the peripheral region of the opening 32 a of the nozzle 32.

以下、予備吐出機構42の構成について図面を参照しつつ詳細に説明する。図1は予備吐出機構42の概略構成を説明するための図である。
図1に示されるように、予備吐出機構42はノズル32(塗布部3)の予備吐出動作に用いられるものであって、レジストの予備吐出を行うための予備吐出面81を有する予備吐出ユニット103と、この予備吐出面81を洗浄する予備吐出面洗浄ユニット(洗浄装置)100とを有している。
Hereinafter, the configuration of the preliminary discharge mechanism 42 will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram for explaining a schematic configuration of the preliminary discharge mechanism 42.
As shown in FIG. 1, the preliminary discharge mechanism 42 is used for the preliminary discharge operation of the nozzle 32 (the coating unit 3), and has a preliminary discharge unit 103 having a preliminary discharge surface 81 for performing preliminary discharge of resist. And a preliminary discharge surface cleaning unit (cleaning device) 100 for cleaning the preliminary discharge surface 81.

予備吐出ユニット103は、例えばSUS、石材、ガラス等から構成される板状の予備吐出プレート80を備えており、この予備吐出プレート80における一方の面が上記予備吐出面81を構成している。予備吐出プレート80はその長手方向がノズルの長手方向に一致している。
予備吐出面洗浄ユニット100は、レジストRが塗布された上記予備吐出面81上を移動することで洗浄処理を行うもので予備吐出面81上を摺動してレジストRを掻き取るスキージ110を有している。
The preliminary discharge unit 103 includes a plate-shaped preliminary discharge plate 80 made of, for example, SUS, stone, glass, or the like, and one surface of the preliminary discharge plate 80 forms the preliminary discharge surface 81. The preliminary discharge plate 80 has a longitudinal direction corresponding to the longitudinal direction of the nozzle.
The preliminary discharge surface cleaning unit 100 performs a cleaning process by moving on the preliminary discharge surface 81 coated with the resist R, and has a squeegee 110 that slides on the preliminary discharge surface 81 and scrapes off the resist R. is doing.

(予備吐出面洗浄ユニット)
図面を参照しつつ予備吐出面洗浄ユニット100の概略構成について説明する。図2は予備吐出面洗浄ユニット100の概略図を示すものである。なお、図2は予備吐出面洗浄ユニット100が予備吐出面81上に配置された状態を図示するものである。
(Preliminary discharge surface cleaning unit)
A schematic configuration of the preliminary discharge surface cleaning unit 100 will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic view of the preliminary discharge surface cleaning unit 100. FIG. 2 illustrates a state in which the preliminary discharge surface cleaning unit 100 is disposed on the preliminary discharge surface 81.

図2に示されるように、予備吐出面洗浄ユニット100は、スキージヘッド部105と、当該スキージヘッド部105を支持するとともに当該スキージヘッド部105を予備吐出面81に対して移動可能にするアーム部101と、予備吐出面81に向けて空気(気体)を噴出する乾燥部(乾燥機構)120と、上記予備吐出面81に残存する液状体を吸引する吸引部(吸引機構)130とを備えている。   As shown in FIG. 2, the preliminary discharge surface cleaning unit 100 includes a squeegee head unit 105 and an arm unit that supports the squeegee head unit 105 and allows the squeegee head unit 105 to move relative to the preliminary discharge surface 81. 101, a drying unit (drying mechanism) 120 that ejects air (gas) toward the preliminary discharge surface 81, and a suction unit (suction mechanism) 130 that sucks the liquid remaining on the preliminary discharge surface 81. Yes.

上記スキージヘッド部105は、上記予備吐出面81に洗浄液を吐出する少なくとも1つの吐出口102と、レジストが塗布された予備吐出面81上を摺動して洗浄液を掻き取る3つのスキージ110と、上記各吐出口102から吐出される洗浄液の吐出量を制御する制御部140とを備えて構成される。   The squeegee head unit 105 includes at least one discharge port 102 that discharges cleaning liquid onto the preliminary discharge surface 81, three squeegees 110 that slide on the preliminary discharge surface 81 coated with a resist and scrape the cleaning liquid, And a control unit 140 that controls the discharge amount of the cleaning liquid discharged from each discharge port 102.

以下の説明を分かり易くするため、上記スキージ110について、摺動方向側から順に第一スキージ110a、第二スキージ110b、及び仕上げスキージ110cと称す。
これらスキージ110(110a,110b,110c)は、平面視矩形状の板状部材から構成されており、その構成材料としては予備吐出面81上に塗布されるレジストを掻き取ることができれば種々のものを採用でき、本実施形態では例えばポリエステルが用いられる。スキージ110の長さは予備吐出面81の幅と同等以上に設定され、これによりスキージ110が予備吐出面81上に塗布されたレジストを掻き取ることができる。
In order to make the following description easy to understand, the squeegee 110 is referred to as a first squeegee 110a, a second squeegee 110b, and a finishing squeegee 110c in order from the sliding direction side.
These squeegees 110 (110a, 110b, 110c) are composed of a plate-like member having a rectangular shape in plan view, and various constituent materials can be used as long as the resist applied on the preliminary ejection surface 81 can be scraped off. In this embodiment, for example, polyester is used. The length of the squeegee 110 is set to be equal to or greater than the width of the preliminary ejection surface 81, whereby the squeegee 110 can scrape off the resist applied on the preliminary ejection surface 81.

またスキージ110は、予備吐出面81に対して15°以上50°以下傾いた状態(より好ましくは45°傾いた状態)にスキージヘッド部105に取り付けるのが望ましく、このような角度範囲に設定することで予備吐出面81上を摺動するスキージ110によって高い洗浄性が得られるようになっている。具体的に本実施形態では上記傾き角度を45°とした。すなわち、スキージ110は互いに略平行の姿勢で摺動方向に配置されたものとなっている。   In addition, the squeegee 110 is desirably attached to the squeegee head unit 105 in a state of being inclined by 15 ° or more and 50 ° or less with respect to the preliminary discharge surface 81 (more preferably in a state of being inclined by 45 °). Thus, a high cleaning performance can be obtained by the squeegee 110 sliding on the preliminary discharge surface 81. Specifically, in the present embodiment, the inclination angle is set to 45 °. That is, the squeegees 110 are arranged in the sliding direction in a substantially parallel posture.

図1に示したように、予備吐出面洗浄ユニット100は予備吐出面81上を移動可能であり、スキージヘッド部105に保持されたスキージ110は上記予備吐出面81上を摺動するようになっている。図3はスキージヘッド部105におけるスキージ110の取付状態を示すものである。同図に示されるスキージ110は予備吐出面81に対する接触端である。   As shown in FIG. 1, the preliminary discharge surface cleaning unit 100 is movable on the preliminary discharge surface 81, and the squeegee 110 held by the squeegee head unit 105 slides on the preliminary discharge surface 81. ing. FIG. 3 shows how the squeegee 110 is attached to the squeegee head unit 105. The squeegee 110 shown in the figure is a contact end with respect to the preliminary discharge surface 81.

図3に示されるように、上記スキージ110は、予備吐出面81との接触端の長さ方向をスキージ110の摺動方向に対して斜めに向けた姿勢でスキージヘッド部105に支持される。具体的には、接触端の長さ方向とスキージ110の摺動方向との交差角度を80°以下とするのが望ましい(本実施形態では80°に設定した)。   As shown in FIG. 3, the squeegee 110 is supported by the squeegee head unit 105 in a posture in which the length direction of the contact end with the preliminary discharge surface 81 is inclined with respect to the sliding direction of the squeegee 110. Specifically, it is desirable that the crossing angle between the length direction of the contact end and the sliding direction of the squeegee 110 is 80 ° or less (in this embodiment, it is set to 80 °).

図2に示したようにスキージヘッド部105には、第一スキージ110a、及び第二スキージ110bとの間に空隙107が形成されるようになっている。さらにスキージヘッド部105には、上記空隙107に連通する洗浄液供給管106aが設けられている。   As shown in FIG. 2, a gap 107 is formed in the squeegee head portion 105 between the first squeegee 110a and the second squeegee 110b. Further, the squeegee head unit 105 is provided with a cleaning liquid supply pipe 106 a communicating with the gap 107.

図4に示されるように、上記洗浄液供給管106aは、スキージヘッド部105の長手方向に沿って形成されており、本実施形態では例えば10個の空隙107に洗浄液を供給するようになっている。この空隙107はそれぞれ等間隔で配置されている。なお、上記空隙107の数はこれに限定されることはなく、適宜変更可能である。またスキージヘッド部105の側部(同図中、右側)には、上記洗浄液供給管106aに接続される洗浄液供給手段106が設けられている。この洗浄液供給手段106は、例えばシンナー等の洗浄液が充填された洗浄液槽(不図示)から洗浄液を吸引するとともに上記洗浄液供給管106aに洗浄液を供給するポンプ等によって構成される。   As shown in FIG. 4, the cleaning liquid supply pipe 106 a is formed along the longitudinal direction of the squeegee head unit 105, and in this embodiment, for example, the cleaning liquid is supplied to ten gaps 107. . The gaps 107 are arranged at equal intervals. The number of the gaps 107 is not limited to this, and can be changed as appropriate. A cleaning liquid supply means 106 connected to the cleaning liquid supply pipe 106a is provided on the side of the squeegee head section 105 (on the right side in the figure). The cleaning liquid supply means 106 includes a pump that sucks the cleaning liquid from a cleaning liquid tank (not shown) filled with a cleaning liquid such as thinner and supplies the cleaning liquid to the cleaning liquid supply pipe 106a.

上記洗浄液供給手段106には、各吐出口102から吐出される洗浄液の吐出量を制御する制御部140が電気的に接続されている。そして、制御部140からの電気信号に基づいて洗浄液供給手段106を調節し、洗浄液供給管106aを経て各吐出口102から吐出される洗浄液の吐出量を調整可能となっている。本実施形態では上記制御部140は第一吐出口102a、及び第二吐出口102bから吐出される洗浄液の量を同等となるように上記洗浄液供給手段106を調整している。   The cleaning liquid supply means 106 is electrically connected to a control unit 140 that controls the discharge amount of the cleaning liquid discharged from each discharge port 102. The cleaning liquid supply means 106 is adjusted based on the electrical signal from the control unit 140, and the discharge amount of the cleaning liquid discharged from each discharge port 102 via the cleaning liquid supply pipe 106a can be adjusted. In the present embodiment, the controller 140 adjusts the cleaning liquid supply means 106 so that the amounts of cleaning liquid discharged from the first discharge port 102a and the second discharge port 102b are equal.

したがって、洗浄液供給手段106により吸引した洗浄液を洗浄液供給管106aから空隙107に流入させることで洗浄液が吐出される上記吐出口102(洗浄液供給部)が構成される。吐出口102から吐出された洗浄液は、スキージ110の摺動方向側の面を伝って予備吐出面81上に供給(吐出)される。   Accordingly, the discharge port 102 (cleaning liquid supply unit) from which the cleaning liquid is discharged by allowing the cleaning liquid sucked by the cleaning liquid supply means 106 to flow into the gap 107 from the cleaning liquid supply pipe 106a is configured. The cleaning liquid discharged from the discharge port 102 is supplied (discharged) onto the preliminary discharge surface 81 along the surface of the squeegee 110 on the sliding direction side.

本実施形態に係るスキージヘッド部105は、上記スキージ110のうち、摺動方向最後尾(仕上げスキージ110c)を除く、第一スキージ110a、及び第二スキージ110bに対応して第一吐出口102aと第二吐出口102bとがそれぞれ10個設けられている。なお、吐出口102の数はこれに限定されることはなく、適宜変更が可能である。スキージに対応する吐出口102とはスキージ110近傍に設けられ、スキージ110の摺動方向側の予備吐出面81上に洗浄液を吐出(供給)するものを意味している。   The squeegee head unit 105 according to the present embodiment includes a first discharge port 102a corresponding to the first squeegee 110a and the second squeegee 110b excluding the rearmost sliding direction (finishing squeegee 110c) of the squeegee 110. Ten second discharge ports 102b are provided. The number of discharge ports 102 is not limited to this, and can be changed as appropriate. The discharge port 102 corresponding to the squeegee means one that is provided in the vicinity of the squeegee 110 and discharges (supply) the cleaning liquid onto the preliminary discharge surface 81 on the sliding direction side of the squeegee 110.

本実施形態では、上記第一第二吐出口102a,102bがそれぞれ等間隔で配置されており、これによりスキージ110の摺動方向側の面に洗浄液を均一に配置させることができるようになっている。さらに吐出口102a,102bは、図5に示すように隣接する吐出口102から吐出されてスキージ110の面上を伝う洗浄液同士がスキージ110の先端に至って一体化するように空隙107がスキージヘッド部105に形成されている。   In the present embodiment, the first and second discharge ports 102a and 102b are arranged at equal intervals, so that the cleaning liquid can be uniformly arranged on the surface of the squeegee 110 on the sliding direction side. Yes. Further, as shown in FIG. 5, the discharge ports 102a and 102b have gaps 107 in the squeegee head portion so that the cleaning liquid discharged from the adjacent discharge ports 102 and transmitted on the surface of the squeegee 110 reaches the tip of the squeegee 110 and is integrated. 105.

次に、スキージヘッド部105を支持するアーム部101の構成について説明する。図6はアーム部101の周辺構造を示す拡大図である。
アーム部101はSUS等の金属プレートを主体として構成されるもので、図6に示されるように上記スキージヘッド部105を支持するクロスローラベアリング(揺動機構)150が設けられている。クロスローラベアリング150は、内輪と外輪の間に、ころを直交させて配列し、上記スキージヘッド部105を揺動自在に支持できるものである。なお、揺動機構としては、上記クロスローラベアリング150に限定されず、例えばスキージヘッド部105を所定方向(スキージ110の長手方向)に揺動可能とする軸受機構であれば種々のものを用いることができる。
Next, the configuration of the arm unit 101 that supports the squeegee head unit 105 will be described. FIG. 6 is an enlarged view showing the peripheral structure of the arm unit 101.
The arm portion 101 is mainly composed of a metal plate such as SUS, and as shown in FIG. 6, a cross roller bearing (swinging mechanism) 150 for supporting the squeegee head portion 105 is provided. The cross roller bearing 150 is configured such that rollers are arranged orthogonally between an inner ring and an outer ring so that the squeegee head portion 105 can be swingably supported. The swing mechanism is not limited to the cross roller bearing 150. For example, various bearing mechanisms can be used as long as the squeegee head unit 105 can swing in a predetermined direction (longitudinal direction of the squeegee 110). Can do.

また、アーム部101には開口部108が形成されており、この開口部108に挿入されることでクロスローラベアリング150はアーム部101の下面(予備吐出面81に対向する面)側から上面側に通りぬけた状態となっている。
クロスローラベアリング150は、アーム部101の上面側に固定配置された軸部152に支持されている。したがって、クロスローラベアリング150は、軸部152に沿って回転可能となりアーム部101に対して揺動自在となっている。
Further, an opening 108 is formed in the arm portion 101, and the cross roller bearing 150 is inserted into the opening 108 so that the cross roller bearing 150 is on the upper surface side from the lower surface (surface facing the preliminary discharge surface 81) side of the arm portion 101. It is in a state that has passed through.
The cross roller bearing 150 is supported by a shaft portion 152 that is fixedly arranged on the upper surface side of the arm portion 101. Therefore, the cross roller bearing 150 can rotate along the shaft portion 152 and can swing with respect to the arm portion 101.

クロスローラベアリング150には、スキージヘッド部105の取付用の取付板151が設けられている。スキージヘッド部105は、アーム部101の下面側に配置された上記取付板151にボルトB2によって固定されている。したがって、スキージヘッド部105は、上記クロスローラベアリング150によって揺動自在に設けられたものとなっている。
この構成により、スキージヘッド部105が回転(揺動)することでスキージ110を予備吐出面81上に確実に接触させることができ、良好に摺動できるようになっている。
The cross roller bearing 150 is provided with a mounting plate 151 for mounting the squeegee head unit 105. The squeegee head portion 105 is fixed to the mounting plate 151 disposed on the lower surface side of the arm portion 101 with a bolt B2. Therefore, the squeegee head portion 105 is provided so as to be swingable by the cross roller bearing 150.
With this configuration, when the squeegee head unit 105 rotates (swings), the squeegee 110 can be reliably brought into contact with the preliminary discharge surface 81 and can slide well.

乾燥部120は、図2に示したようにスキージヘッド部105に対し摺動方向の反対側に設けられ、外部からフランジを用い、スキージ110の摺動方向に空気を薄く平板状(例えばエアナイフ方式)にして噴出することで予備吐出面81の乾燥処理を行うものである。   As shown in FIG. 2, the drying unit 120 is provided on the side opposite to the sliding direction with respect to the squeegee head unit 105, and uses a flange from the outside to thin the air in the sliding direction of the squeegee 110 (for example, an air knife method). ) And the preliminary discharge surface 81 is dried.

吸引部130は、上記乾燥部120に対し、スキージ110の摺動方向の反対側に併設して設けられている。吸引部130には例えばフランジを介して図示略の吸引ポンプが接続されており、この吸引ポンプを制御することで吸引圧を調整可能となっている。この吸引部130は、予備吐出面81上に残存するレジストを吸引するものである。なお、吸引部130は、予備吐出面上に残存するレジストのみならず、洗浄液や洗浄液とレジストが混合した廃液を吸引可能となっており、予備吐出面洗浄ユニット100における洗浄性を向上させている。
このように吸引部130と乾燥部120とを併設させることで、乾燥部120から噴出した空気によって予備吐出面81を乾燥させつつ、予備吐出面81近傍の雰囲気を吸引することで空気噴射(噴出)によって予備吐出面81上に異物(ゴミ等)が飛散するのを防止できるようになっている。
The suction unit 130 is provided adjacent to the drying unit 120 on the side opposite to the sliding direction of the squeegee 110. A suction pump (not shown) is connected to the suction unit 130 via a flange, for example, and the suction pressure can be adjusted by controlling the suction pump. The suction unit 130 sucks the resist remaining on the preliminary discharge surface 81. The suction unit 130 is capable of sucking not only the resist remaining on the preliminary discharge surface but also the cleaning liquid or the waste liquid in which the cleaning liquid and the resist are mixed, thereby improving the cleaning performance in the preliminary discharge surface cleaning unit 100. .
By providing the suction unit 130 and the drying unit 120 in this way, the preliminary ejection surface 81 is dried by the air ejected from the drying unit 120, and the air in the vicinity of the preliminary ejection surface 81 is aspirated (spouted). ) Can prevent foreign matters (dust etc.) from being scattered on the preliminary discharge surface 81.

(予備吐出ユニット)
次に上記予備吐出ユニット103の構成について説明する。図7は予備吐出ユニット103の概略構成を示し、図7(a)は平面図、図7(b)は側面図である。
図7(a)、(b)に示されるように、予備吐出ユニット103は、ノズル32(塗布部3)の予備吐出動作によってレジストが塗布される予備吐出面81を有する予備吐出プレート80を主体として構成され、上記予備吐出面81が水平となるように上記予備吐出プレート80が保持されている。そして、予備吐出面洗浄ユニット100のスキージ110が予備吐出面81上を摺動するようになっている。
(Preliminary discharge unit)
Next, the configuration of the preliminary discharge unit 103 will be described. 7 shows a schematic configuration of the preliminary discharge unit 103, FIG. 7 (a) is a plan view, and FIG. 7 (b) is a side view.
As shown in FIGS. 7A and 7B, the preliminary discharge unit 103 mainly includes a preliminary discharge plate 80 having a preliminary discharge surface 81 on which a resist is applied by a preliminary discharge operation of the nozzle 32 (application unit 3). The preliminary discharge plate 80 is held so that the preliminary discharge surface 81 is horizontal. The squeegee 110 of the preliminary discharge surface cleaning unit 100 slides on the preliminary discharge surface 81.

本実施形態では、上述したように予備吐出面洗浄ユニット100は、予備吐出面81との接触端の長さ方向を摺動方向に対して斜めに傾けた姿勢でスキージ110を保持している(図3参照)。そのため、レジストが塗布された予備吐出面81上をスキージ110が摺動すると、スキージ110によって掻き取られたレジストはスキージ110の長さ方向における摺動方向後方(図7(a)参照)に概ね押し退けられる。本実施形態に係る予備吐出ユニット103は、スキージ110の摺動動作によりスキージ110の側端側に流出したレジストを排出する側方排出部93を備えている。   In the present embodiment, as described above, the preliminary discharge surface cleaning unit 100 holds the squeegee 110 in a posture in which the length direction of the contact end with the preliminary discharge surface 81 is inclined with respect to the sliding direction ( (See FIG. 3). Therefore, when the squeegee 110 slides on the preliminary discharge surface 81 to which the resist is applied, the resist scraped off by the squeegee 110 is generally rearward in the sliding direction in the length direction of the squeegee 110 (see FIG. 7A). Pushed away. The preliminary discharge unit 103 according to the present embodiment includes a side discharge portion 93 that discharges the resist that has flowed out to the side end side of the squeegee 110 by the sliding operation of the squeegee 110.

側方排出部93は予備吐出面81を有する予備吐出プレート80に一体に形成されていてもよいし、別部材から構成されていてもよい。本実施形態では予備吐出プレート80の側方に、スキージ110の摺動方向に延在するスリット状の側溝部93aを形成し、側方排出部93を一体形成した。   The side discharge portion 93 may be formed integrally with the preliminary discharge plate 80 having the preliminary discharge surface 81, or may be composed of another member. In this embodiment, a slit-like side groove portion 93 a extending in the sliding direction of the squeegee 110 is formed on the side of the preliminary discharge plate 80, and the side discharge portion 93 is integrally formed.

図7(b)に示すように、側方排出部93にはレジストを吸引する吸引回収機構95が設けられている。この吸引回収機構95としては、例えば吸引ポンプが用いられる。上記側溝部93aは、上記吸引回収機構95に接続された吸引口95aと、この吸引口95aに向かって下降する傾斜面93bとを有する4つの領域が、スキージ110の摺動方向に沿って配列されることで構成されている。この構成により、側方排出部93は側溝部93aに排出されたレジストを傾斜面93bに沿って吸引口95a側に流れ易くするとともに、吸引口95aからレジストを良好に排出できるようになっている。   As shown in FIG. 7B, the side discharge portion 93 is provided with a suction collection mechanism 95 that sucks the resist. As the suction recovery mechanism 95, for example, a suction pump is used. The side groove portion 93a has four regions having a suction port 95a connected to the suction recovery mechanism 95 and an inclined surface 93b descending toward the suction port 95a arranged along the sliding direction of the squeegee 110. Is made up of. With this configuration, the side discharge portion 93 facilitates the flow of the resist discharged to the side groove portion 93a toward the suction port 95a along the inclined surface 93b, and can discharge the resist well from the suction port 95a. .

ところで、上述したようにスキージ110によって掻き取られたレジストは予備吐出面81の側方(側方排出部93)に移動されるが、一部のレジストがスキージ110の摺動方向前方に移動する。   By the way, as described above, the resist scraped off by the squeegee 110 is moved to the side (side discharge portion 93) of the preliminary ejection surface 81, but a part of the resist moves forward in the sliding direction of the squeegee 110. .

そこで、本実施形態に係る予備吐出ユニット103は、図7(a)、(b)に示されるようにスキージ110の摺動動作によりスキージ110の摺動方向前方に移動されたレジストを排出する前方排出部92を備えている。前方排出部92はレジストを吸引する吸引回収機構95を有している。なお、図示されないものの上記側方排出部93と同様に、吸引回収機構95に接続され吸引口95aに向かって下降する傾斜面93bを有する側溝部を前方排出部92に形成してもよい。また、上述したような側溝部は側方排出部93及び前方排出部92の少なくとも一方に形成するようにしてもよい。   Therefore, the preliminary discharge unit 103 according to the present embodiment discharges the resist moved forward in the sliding direction of the squeegee 110 by the sliding operation of the squeegee 110 as shown in FIGS. 7A and 7B. A discharge unit 92 is provided. The front discharge unit 92 has a suction collection mechanism 95 that sucks the resist. Although not shown, a side groove portion having an inclined surface 93b that is connected to the suction recovery mechanism 95 and descends toward the suction port 95a may be formed in the front discharge portion 92, similarly to the side discharge portion 93. Further, the side groove as described above may be formed in at least one of the side discharge portion 93 and the front discharge portion 92.

さらに予備吐出ユニット103は、予備吐出面81の側方に予備吐出面洗浄ユニット100を載置する待機部91が設けられている。待機部91は、予備吐出面81上にノズル32からレジストが予備吐出されている間、予備吐出面洗浄ユニット100を待機させておく部材である。具体的に本実施形態では、スキージ110の摺動方向後方に待機部91が設けられており、予備吐出面81の洗浄時に予備吐出ユニット103を待機部91から予備吐出面81まで短時間で移動できるようにしている。   Further, the preliminary discharge unit 103 is provided with a standby unit 91 for placing the preliminary discharge surface cleaning unit 100 on the side of the preliminary discharge surface 81. The standby unit 91 is a member that keeps the preliminary discharge surface cleaning unit 100 on standby while the resist is preliminary discharged from the nozzle 32 onto the preliminary discharge surface 81. Specifically, in this embodiment, a standby unit 91 is provided behind the squeegee 110 in the sliding direction, and the preliminary discharge unit 103 is moved from the standby unit 91 to the preliminary discharge surface 81 in a short time when the preliminary discharge surface 81 is cleaned. I can do it.

待機部91は、上記予備吐出面洗浄ユニット100を載置させる載置面91aを有している(図1参照)。載置面91aは、例えば予備吐出面81と同等或いはそれよりも低い位置に予備吐出面洗浄ユニット100を待機させるようになっている。特に載置面91aが予備吐出面81よりも低い位置に予備吐出洗浄ユニット100を待機させることで、予備吐出動作時に伴って予備吐出面81上に移動してくるノズル32と予備吐出面洗浄ユニット100との干渉を防止することができる。   The standby unit 91 has a mounting surface 91a on which the preliminary discharge surface cleaning unit 100 is mounted (see FIG. 1). The placement surface 91a is configured to make the preliminary discharge surface cleaning unit 100 stand by at a position equal to or lower than the preliminary discharge surface 81, for example. In particular, the preliminary discharge cleaning unit 100 stands by at a position where the mounting surface 91a is lower than the preliminary discharge surface 81, so that the nozzle 32 and the preliminary discharge surface cleaning unit move on the preliminary discharge surface 81 during the preliminary discharge operation. Interference with 100 can be prevented.

上記載置面91aは図8に示すように断面視凹凸構造からなり、この凹凸構造がスキージ洗浄機構94を構成している。スキージ洗浄機構94は、予備吐出面81の洗浄後、上記凹凸構造によってスキージ110に付着したレジストの除去機能を有するものである。   As shown in FIG. 8, the placement surface 91 a has a concavo-convex structure in cross section, and this concavo-convex structure forms a squeegee cleaning mechanism 94. The squeegee cleaning mechanism 94 has a function of removing the resist adhering to the squeegee 110 by the concavo-convex structure after the preliminary ejection surface 81 is cleaned.

(塗布装置)
次に、本実施形態に係る塗布装置1について図面を参照して説明する。本実施形態に係る塗布装置1は、上述の予備吐出機構(予備吐出装置)42を備えている。図9は塗布装置1の斜視図、図10は塗布装置1の正面図、図11は塗布装置1の平面図、図12は塗布装置1の側面図である。
(Coating device)
Next, the coating apparatus 1 according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. The coating apparatus 1 according to this embodiment includes the above-described preliminary discharge mechanism (preliminary discharge apparatus) 42. 9 is a perspective view of the coating apparatus 1, FIG. 10 is a front view of the coating apparatus 1, FIG. 11 is a plan view of the coating apparatus 1, and FIG. 12 is a side view of the coating apparatus 1.

図9〜12に示されるように、塗布装置1は、基板搬送部2と、塗布部3と、上記管理部4とを主要な構成要素とし、基板搬送部2によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部3によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、上記管理部4によって塗布部3の状態を管理するものである。   As shown in FIGS. 9 to 12, the coating apparatus 1 includes the substrate transport unit 2, the coating unit 3, and the management unit 4 as main components, and lifts and transports the substrate by the substrate transport unit 2. Meanwhile, a resist is applied onto the substrate by the application unit 3, and the state of the application unit 3 is managed by the management unit 4.

(基板搬送部)
まず、基板搬送部2の構成を説明する。
基板搬送部2は、基板搬入領域20と、塗布処理領域21と、基板搬出領域22と、搬送機構23と、これらを支持するフレーム部24とを有している。この基板搬送部2では、搬送機構23によって基板Sが基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構23は、基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
(Substrate transport section)
First, the structure of the board | substrate conveyance part 2 is demonstrated.
The substrate transport unit 2 includes a substrate carry-in region 20, a coating processing region 21, a substrate carry-out region 22, a transport mechanism 23, and a frame unit 24 that supports them. In the substrate transport unit 2, the transport mechanism 23 transports the substrate S sequentially to the substrate carry-in area 20, the coating processing area 21, and the substrate carry-out area 22. The substrate carry-in area 20, the coating treatment area 21, and the substrate carry-out area 22 are arranged in this order from the upstream side to the downstream side in the substrate carrying direction. The transport mechanism 23 is provided on one side of each part so as to straddle each part of the substrate carry-in area 20, the coating treatment area 21, and the substrate carry-out area 22.

以下、塗布装置1の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、図中の方向をXYZ座標系を用いて説明する。基板搬送部2の長手方向であって基板の搬送方向をX方向と表記する。平面視でX方向(基板搬送方向)に直交する方向をY方向と表記する。X方向軸及びY方向軸を含む平面に垂直な方向をZ方向と表記する。なお、X方向、Y方向及びZ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が+方向、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとする。   Hereinafter, in describing the configuration of the coating apparatus 1, for simplicity of description, directions in the drawing will be described using an XYZ coordinate system. The substrate transport direction is the longitudinal direction of the substrate transport unit 2 and the substrate transport direction is referred to as the X direction. A direction orthogonal to the X direction (substrate transport direction) in plan view is referred to as a Y direction. A direction perpendicular to the plane including the X direction axis and the Y direction axis is referred to as a Z direction. In each of the X direction, the Y direction, and the Z direction, the arrow direction in the figure is the + direction, and the direction opposite to the arrow direction is the-direction.

基板搬入領域20は、装置外部から搬送されてきた基板Sを搬入する部位であり、搬入側ステージ25と、リフト機構26とを有している。
搬入側ステージ25は、フレーム部24の上部に設けられており、例えばSUSなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ25は、X方向が長手になっている。搬入側ステージ25には、エア噴出孔25aと、昇降ピン出没孔25bとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出孔25a及び昇降ピン出没孔25bは、搬入側ステージ25を貫通するように設けられている。
The substrate carry-in area 20 is a portion for carrying the substrate S carried from the outside of the apparatus, and has a carry-in stage 25 and a lift mechanism 26.
The carry-in stage 25 is provided on the upper portion of the frame portion 24, and is a rectangular plate-like member made of, for example, SUS or the like in plan view. The carry-in stage 25 has a long X direction. The carry-in stage 25 is provided with a plurality of air ejection holes 25a and a plurality of elevating pin retracting holes 25b. The air ejection holes 25 a and the lifting pin retracting holes 25 b are provided so as to penetrate the carry-in stage 25.

エア噴出孔25aは、搬入側ステージ25のステージ表面25c上にエアを噴出する孔であり、例えば搬入側ステージ25のうち基板Sの通過する領域に平面視マトリクス状に配置されている。このエア噴出孔25aには図示しないエア供給源が接続されている。この搬入側ステージ25では、エア噴出孔25aから噴出されるエアによって基板Sを+Z方向に浮上させることができるようになっている。   The air ejection holes 25a are holes for ejecting air onto the stage surface 25c of the carry-in side stage 25. For example, the air ejection holes 25a are arranged in a matrix in a plan view in a region of the carry-in side stage 25 through which the substrate S passes. An air supply source (not shown) is connected to the air ejection hole 25a. In the carry-in stage 25, the substrate S can be floated in the + Z direction by the air ejected from the air ejection holes 25a.

昇降ピン出没孔25bは、搬入側ステージ25のうち基板Sの搬入される領域に設けられている。当該昇降ピン出没孔25bは、ステージ表面25cに供給されたエアが漏れ出さない構成になっている。   The elevating pin retracting hole 25b is provided in an area of the loading side stage 25 where the substrate S is loaded. The elevating pin retracting hole 25b is configured such that air supplied to the stage surface 25c does not leak out.

この搬入側ステージ25のうちY方向の両端部には、アライメント装置25dが1つずつ設けられている。アライメント装置25dは、搬入側ステージ25に搬入された基板Sの位置を合わせる装置である。各アライメント装置25dは長孔と当該長孔内に設けられた位置合わせ部材(図示しない)を有しており、搬入ステージ25に搬入される基板を両側から機械的に挟持するようになっている。   One alignment device 25d is provided at each end of the carry-in stage 25 in the Y direction. The alignment device 25d is a device that aligns the position of the substrate S carried into the carry-in stage 25. Each alignment device 25d has a long hole and an alignment member (not shown) provided in the long hole, and mechanically holds the substrate loaded into the loading stage 25 from both sides. .

リフト機構26は、搬入側ステージ25の裏面側に基板搬入位置に対応する位置に設けられている。このリフト機構26は、昇降部材26aと、複数の昇降ピン26bとを有している。昇降部材26aは、図示しない駆動機構に接続されており、当該駆動機構の駆動によって昇降部材26aがZ方向に移動するようになっている。複数の昇降ピン26bは、昇降部材26aの上面から搬入側ステージ25へ向けて立設されている。各昇降ピン26bは、それぞれ上記の昇降ピン出没孔25bに平面視で重なる位置に配置されている。昇降部材26aがZ方向に移動することで、各昇降ピン26bが昇降ピン出没孔25bからステージ表面25c上に出没するようになっている。各昇降ピン26bの+Z方向の端部はそれぞれZ方向上の位置が揃うように設けられており、装置外部から搬送されてきた基板Sを水平な状態で保持することができるようになっている。   The lift mechanism 26 is provided on the back side of the carry-in stage 25 at a position corresponding to the substrate carry-in position. The lift mechanism 26 includes an elevating member 26a and a plurality of elevating pins 26b. The elevating member 26a is connected to a driving mechanism (not shown), and the elevating member 26a is moved in the Z direction by driving the driving mechanism. The plurality of elevating pins 26b are erected from the upper surface of the elevating member 26a toward the carry-in stage 25. Each raising / lowering pin 26b is arrange | positioned in the position which overlaps with said raising / lowering pin retracting hole 25b, respectively by planar view. As the elevating member 26a moves in the Z direction, each elevating pin 26b appears and disappears on the stage surface 25c from the elevating pin appearing hole 25b. Ends in the + Z direction of the lift pins 26b are provided so that their positions in the Z direction are aligned, so that the substrate S transported from the outside of the apparatus can be held in a horizontal state. .

塗布処理領域21は、レジストの塗布が行われる部位であり、基板Sを浮上支持する処理ステージ27が設けられている。
処理ステージ27は、ステージ表面27cが例えば硬質アルマイトを主成分とする光吸収材料で覆われた平面視で矩形の板状部材であり、搬入側ステージ25に対して+X方向側に設けられている。処理ステージ27のうち光吸収材料で覆われた部分では、レーザ光などの光の反射が抑制されるようになっている。この処理ステージ27は、Y方向が長手になっている。処理ステージ27のY方向の寸法は、搬入側ステージ25のY方向の寸法とほぼ同一になっている。処理ステージ27には、ステージ表面27c上にエアを噴出する複数のエア噴出孔27aと、ステージ表面27c上のエアを吸引する複数のエア吸引孔27bとが設けられている。これらエア噴出孔27a及びエア吸引孔27bは、処理ステージ27を貫通するように設けられている。
The coating processing region 21 is a portion where resist coating is performed, and a processing stage 27 that floats and supports the substrate S is provided.
The processing stage 27 is a rectangular plate-like member in a plan view in which the stage surface 27 c is covered with a light absorbing material mainly composed of hard anodized, for example, and is provided on the + X direction side with respect to the loading side stage 25. . In the portion of the processing stage 27 covered with the light absorbing material, reflection of light such as laser light is suppressed. The processing stage 27 has a longitudinal Y direction. The dimension of the processing stage 27 in the Y direction is substantially the same as the dimension of the loading stage 25 in the Y direction. The processing stage 27 is provided with a plurality of air ejection holes 27a for ejecting air onto the stage surface 27c and a plurality of air suction holes 27b for sucking air on the stage surface 27c. The air ejection holes 27 a and the air suction holes 27 b are provided so as to penetrate the processing stage 27.

処理ステージ27では、エア噴出孔27aのピッチが搬入側ステージ25に設けられるエア噴出孔25aのピッチよりも狭く、搬入側ステージ25に比べてエア噴出孔27aが密に設けられている。このため、この処理ステージ27では他のステージに比べて基板の浮上量を高精度で調節できるようになっており、基板の浮上量が例えば100μm以下、好ましくは50μm以下となるように制御することが可能になっている。   In the processing stage 27, the pitch of the air ejection holes 27 a is narrower than the pitch of the air ejection holes 25 a provided in the carry-in side stage 25, and the air ejection holes 27 a are provided more densely than the carry-in stage 25. Therefore, in this processing stage 27, the flying height of the substrate can be adjusted with higher accuracy than in other stages, and the flying height of the substrate is controlled to be, for example, 100 μm or less, preferably 50 μm or less. Is possible.

基板搬出領域22は、レジストが塗布された基板Sを装置外部へ搬出する部位であり、搬出側ステージ28と、リフト機構29とを有している。この搬出側ステージ28は、処理ステージ27に対して+X方向側に設けられており、基板搬入領域20に設けられた搬入側ステージ25とほぼ同様の材質、寸法から構成されている。搬出側ステージ28には、搬入側ステージ25と同様、エア噴出孔28a及び昇降ピン出没孔28bが設けられている。リフト機構29は、搬出側ステージ28の裏面側に基板搬出位置に対応する位置に設けられている。リフト機構29の昇降部材29a及び昇降ピン29bは、基板搬入領域20に設けられたリフト機構26の各部位と同様の構成になっている。このリフト機構29は、搬出側ステージ28上の基板Sを外部装置へと搬出する際に、基板Sの受け渡しのため昇降ピン29bによって基板Sを持ち上げることができるようになっている。   The substrate carry-out area 22 is a part where the substrate S coated with resist is carried out of the apparatus, and includes a carry-out stage 28 and a lift mechanism 29. The carry-out stage 28 is provided on the + X direction side with respect to the processing stage 27, and is composed of substantially the same material and dimensions as the carry-in stage 25 provided in the substrate carry-in region 20. Similarly to the carry-in stage 25, the carry-out stage 28 is provided with an air ejection hole 28a and a lift pin retracting hole 28b. The lift mechanism 29 is provided on the back side of the carry-out stage 28 at a position corresponding to the substrate carry-out position. The lift member 29 a and the lift pin 29 b of the lift mechanism 29 have the same configuration as each part of the lift mechanism 26 provided in the substrate carry-in area 20. The lift mechanism 29 can lift the substrate S by lift pins 29b for transferring the substrate S when the substrate S on the unloading stage 28 is unloaded to an external device.

搬送機構23は、搬送機23aと、真空パッド23bと、レール23cとを有している。搬送機23aは内部に例えばリニアモータが設けられた構成になっており、当該リニアモータが駆動することによって搬送機23aがレール23c上を移動可能になっている。この搬送機23aは、所定の部分23dが平面視で基板Sの−Y方向端部に重なるように配置されている。この基板Sに重なる部分23dは、基板Sを浮上させたときの基板裏面の高さ位置よりも低い位置に設けられている。   The transport mechanism 23 includes a transport machine 23a, a vacuum pad 23b, and a rail 23c. The conveyor 23a has a configuration in which, for example, a linear motor is provided therein, and the conveyor 23a can move on the rail 23c when the linear motor is driven. The transporter 23a is arranged such that the predetermined portion 23d overlaps the end portion of the substrate S in the −Y direction in plan view. The portion 23d overlapping the substrate S is provided at a position lower than the height position of the back surface of the substrate when the substrate S is lifted.

真空パッド23bは、搬送機23aのうち上記基板Sに重なる部分23dに複数配列されている。この真空パッド23bは、基板Sを真空吸着させる吸着面を有しており、当該吸着面が上方を向くように配置されている。真空パッド23bは、吸着面が基板Sの裏面端部を吸着することで当該基板Sを保持可能になっている。各真空パッド23bは搬送機23aの上面からの高さ位置が調節可能になっており、例えば基板Sの浮上量に応じて真空パッド23bの高さ位置を上下させることができるようになっている。レール23cは、搬入側ステージ25、処理ステージ27及び搬出側ステージ28の側方に各ステージに跨って延在しており、当該レール23cを摺動することで搬送機23aが当該各ステージに沿って移動できるようになっている。   A plurality of vacuum pads 23b are arranged in a portion 23d overlapping the substrate S in the transport machine 23a. The vacuum pad 23b has a suction surface for vacuum-sucking the substrate S, and is arranged so that the suction surface faces upward. The vacuum pad 23b can hold the substrate S by the suction surface adsorbing the back surface end portion of the substrate S. The height position of each vacuum pad 23b from the upper surface of the transfer machine 23a can be adjusted. For example, the height position of the vacuum pad 23b can be raised or lowered according to the flying height of the substrate S. . The rail 23c extends across the stages on the side of the carry-in stage 25, the processing stage 27, and the carry-out stage 28, and the conveyor 23a slides along the respective stages by sliding on the rail 23c. Can move.

(塗布部)
次に、塗布部3の構成を説明する。
塗布部3は、基板S上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム31と、ノズル32とを有している。
門型フレーム31は、支柱部材31aと、架橋部材31bとを有しており、処理ステージ27をY方向に跨ぐように設けられている。支柱部材31aは処理ステージ27のY方向側に1つずつ設けられており、各支柱部材31aがフレーム部24のY方向側の両側面にそれぞれ支持されている。各支柱部材31aは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材31bは、各支柱部材31aの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材31aに対して昇降可能となっている。
(Applying part)
Next, the configuration of the application unit 3 will be described.
The application unit 3 is a part for applying a resist on the substrate S, and includes a portal frame 31 and a nozzle 32.
The portal frame 31 includes a support member 31a and a bridging member 31b, and is provided so as to straddle the processing stage 27 in the Y direction. One support member 31 a is provided on the Y direction side of the processing stage 27, and each support member 31 a is supported on both side surfaces of the frame portion 24 on the Y direction side. Each strut member 31a is provided so that the height positions of the upper end portions are aligned. The bridging member 31b is bridged between the upper end portions of the respective column members 31a, and can be moved up and down with respect to the column members 31a.

この門型フレーム31は移動機構31cに接続されており、X方向に移動可能になっている。この移動機構31cによって門型フレーム31が管理部4との間で移動可能になっている。すなわち、門型フレーム31に設けられたノズル32が管理部4との間で移動可能になっている。   The portal frame 31 is connected to a moving mechanism 31c and is movable in the X direction. The portal frame 31 is movable between the management unit 4 by the moving mechanism 31c. That is, the nozzle 32 provided in the portal frame 31 can move between the management unit 4.

ノズル32は、一方向が長手の長尺状に構成されており、門型フレーム31の架橋部材31bの−Z方向側の面に設けられている。このノズル32のうち−Z方向の先端には、自身の長手方向に沿ってスリット状の開口部32aが設けられており、当該開口部32aからレジストが吐出されるようになっている。ノズル32は、開口部32aの長手方向がY方向に平行になると共に、当該開口部32aが処理ステージ27に対向するように配置されている。開口部32aの長手方向の寸法は搬送される基板SのY方向の寸法よりも小さくなっており、基板Sの周辺領域にレジストが塗布されないようになっている。ノズル32の内部にはレジストを開口部32aに流通させる図示しない流通路が設けられており、この流通路には図示しないレジスト供給源が接続されている。このレジスト供給源は例えば図示しないポンプを有しており、当該ポンプでレジストを開口部32aへと押し出すことで開口部32aからレジストが吐出されるようになっている。支持部材31aには不図示の移動機構が設けられており、当該移動機構によって架橋部材31bに保持されたノズル32がZ方向に移動可能になっている。ノズル32には移動機構32cが設けられており、当該移動機構32cによってノズル32が架橋部材31bに対してZ方向に移動可能になっている。門型フレーム31の架橋部材31bの下面には、ノズル32の開口部32a、すなわち、ノズル32の先端と当該ノズル先端に対向する対向面との間のZ方向上の距離を測定するセンサ33が取り付けられている。   The nozzle 32 is formed in a long and long shape in one direction, and is provided on the surface on the −Z direction side of the bridging member 31 b of the portal frame 31. A slit-like opening 32a is provided along the longitudinal direction of the nozzle 32 at the tip in the -Z direction, and a resist is discharged from the opening 32a. The nozzle 32 is disposed so that the longitudinal direction of the opening 32 a is parallel to the Y direction and the opening 32 a faces the processing stage 27. The dimension in the longitudinal direction of the opening 32a is smaller than the dimension in the Y direction of the substrate S to be transported, so that the resist is not applied to the peripheral region of the substrate S. A flow passage (not shown) through which the resist flows through the opening 32a is provided inside the nozzle 32, and a resist supply source (not shown) is connected to the flow passage. The resist supply source has a pump (not shown), for example, and the resist is discharged from the opening 32a by pushing the resist to the opening 32a with the pump. The support member 31a is provided with a moving mechanism (not shown), and the nozzle 32 held by the bridging member 31b is movable in the Z direction by the moving mechanism. The nozzle 32 is provided with a moving mechanism 32c, and the moving mechanism 32c enables the nozzle 32 to move in the Z direction with respect to the bridging member 31b. On the lower surface of the bridging member 31b of the portal frame 31, there is a sensor 33 that measures the distance in the Z direction between the opening 32a of the nozzle 32, that is, between the tip of the nozzle 32 and the facing surface facing the nozzle tip. It is attached.

(塗布装置の動作)
次に、上記のように構成された塗布装置1の動作を説明する。
図14〜図17は、塗布装置1の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Sにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Sを基板搬入領域20に搬入し、当該基板Sを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域21でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Sを基板搬出領域22から搬出する。図14〜図17には門型フレーム31及び管理部4の輪郭のみを破線で示し、ノズル32及び処理ステージ27の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
(Applicator operation)
Next, operation | movement of the coating device 1 comprised as mentioned above is demonstrated.
14-17 is a top view which shows the operation | movement process of the coating device 1. FIG. With reference to each figure, the operation | movement which apply | coats a resist to the board | substrate S is demonstrated. In this operation, the substrate S is carried into the substrate carry-in region 20, a resist is applied in the coating treatment region 21 while the substrate S is floated and conveyed, and the substrate S coated with the resist is carried out from the substrate carry-out region 22. . 14 to 17, only the outlines of the portal frame 31 and the management unit 4 are indicated by broken lines, so that the configurations of the nozzle 32 and the processing stage 27 can be easily distinguished. Hereinafter, detailed operations in each part will be described.

基板搬入領域20に基板を搬入する前に、塗布装置1をスタンバイさせておく。具体的には、搬入側ステージ25の基板搬入位置の−Y方向側に搬送機23aを配置させ、真空パッド23bの高さ位置を基板の浮上高さ位置に合わせておくと共に、搬入側ステージ25のエア噴出孔25a、処理ステージ27のエア噴出孔27a、エア吸引孔27b及び搬出側ステージ28のエア噴出孔28aからそれぞれエアを噴出又は吸引し、各ステージ表面に基板が浮上する程度にエアが供給された状態にしておく。   Before the substrate is carried into the substrate carry-in area 20, the coating apparatus 1 is put on standby. Specifically, the transfer machine 23a is arranged on the −Y direction side of the substrate loading position of the loading side stage 25, the height position of the vacuum pad 23b is matched with the flying height position of the substrate, and the loading side stage 25 is also positioned. The air is ejected or sucked from the air ejection hole 25a, the air ejection hole 27a of the processing stage 27, the air suction hole 27b, and the air ejection hole 28a of the carry-out stage 28, so that the air floats to the surface of each stage. Leave as supplied.

この状態で、例えば図示しない搬送アームなどによって外部から図14に示す基板搬入位置に基板Sが搬送されてきたら、昇降部材26aを+Z方向に移動させて昇降ピン26bを昇降ピン出没孔25bからステージ表面25cに突出させる。そして、昇降ピン26bによって基板Sが持ち上げられ、当該基板Sの受け取りが行われる。また、アライメント装置25dの長孔から位置合わせ部材をステージ表面25cに突出させておく。   In this state, for example, when the substrate S is transferred from the outside to the substrate carry-in position shown in FIG. 14 by a transfer arm (not shown), the elevating member 26a is moved in the + Z direction to move the elevating pin 26b from the elevating pin retracting hole 25b. Project to the surface 25c. And the board | substrate S is lifted by the raising / lowering pin 26b, and the said board | substrate S is received. Further, an alignment member is projected from the long hole of the alignment device 25d to the stage surface 25c.

基板Sを受け取った後、昇降部材26aを下降させて昇降ピン26bを昇降ピン出没孔25b内に収容する。このとき、ステージ表面25cにはエアの層が形成されているため、基板Sは当該エアによりステージ表面25cに対して浮上した状態で保持される。基板Sがエア層の表面に到達した際、アライメント装置25dの位置合わせ部材によって基板Sの位置合わせが行われ、基板搬入位置の−Y方向側に配置された搬送機23aの真空パッド23bを基板Sの−Y方向側端部に真空吸着させる。基板Sの−Y方向側端部が吸着された状態を図14に示す。真空パッド23bによって基板Sの−Y方向側端部が吸着された後、搬送機23aをレール23cに沿って移動させる。基板Sが浮上した状態になっているため、搬送機23aの駆動力を比較的小さくしても基板Sはレール23cに沿ってスムーズに移動する。   After receiving the board | substrate S, the raising / lowering member 26a is lowered | hung and the raising / lowering pin 26b is accommodated in the raising / lowering pin retracting hole 25b. At this time, since the air layer is formed on the stage surface 25c, the substrate S is held in a state of being floated with respect to the stage surface 25c by the air. When the substrate S reaches the surface of the air layer, the alignment member 25d aligns the substrate S, and the vacuum pad 23b of the transfer device 23a disposed on the −Y direction side of the substrate loading position is used as the substrate. Vacuum adsorption is performed on the end portion of S in the −Y direction. FIG. 14 shows a state in which the −Y direction side end of the substrate S is adsorbed. After the end of the −Y direction side of the substrate S is adsorbed by the vacuum pad 23b, the transporter 23a is moved along the rail 23c. Since the substrate S is in a floating state, the substrate S moves smoothly along the rail 23c even if the driving force of the transporter 23a is relatively small.

基板Sの搬送方向先端がノズル32の開口部32aの位置に到達したら、図15に示すように、ノズル32の開口部32aから基板Sへ向けてレジストを吐出する。レジストの吐出は、ノズル32の位置を固定させ搬送機23aによって基板Sを搬送させながら行う。基板Sの移動に伴い、図16に示すように基板S上にレジスト膜Rが塗布されていく。基板Sがレジストを吐出する開口部32aの下を通過することにより、基板Sの所定の領域にレジスト膜Rが形成される。   When the front end of the substrate S in the transport direction reaches the position of the opening 32a of the nozzle 32, the resist is discharged from the opening 32a of the nozzle 32 toward the substrate S as shown in FIG. The resist is discharged while the position of the nozzle 32 is fixed and the substrate S is transported by the transport machine 23a. As the substrate S moves, a resist film R is applied onto the substrate S as shown in FIG. As the substrate S passes under the opening 32a for discharging the resist, a resist film R is formed in a predetermined region of the substrate S.

レジスト膜Rの形成された基板Sは、搬送機23aによって搬出側ステージ28へと搬送される。搬出側ステージ28では、ステージ表面28cに対して浮上した状態で、図17に示す基板搬出位置まで基板Sが搬送される。   The substrate S on which the resist film R is formed is transported to the unloading stage 28 by the transport machine 23a. In the carry-out stage 28, the substrate S is transferred to the substrate carry-out position shown in FIG.

基板Sが基板搬出位置に到達したら、真空パッド23bの吸着を解除し、リフト機構29の昇降部材29aを+Z方向に移動させる。すると、昇降ピン29bが昇降ピン出没孔28bから基板Sの裏面へ突出し、基板Sが昇降ピン29bによって持ち上げられる。この状態で、例えば搬出側ステージ28の+X方向側に設けられた外部の搬送アームが搬出側ステージ28にアクセスし、基板Sを受け取る。基板Sを搬送アームに渡した後、搬送機23aを再び搬入側ステージ25の基板搬入位置まで戻し、次の基板Sが搬送されるまで待機させる。   When the substrate S reaches the substrate unloading position, the suction of the vacuum pad 23b is released, and the elevating member 29a of the lift mechanism 29 is moved in the + Z direction. Then, the elevating pins 29b protrude from the elevating pin retracting holes 28b to the back surface of the substrate S, and the substrate S is lifted by the elevating pins 29b. In this state, for example, an external transfer arm provided on the + X direction side of the carry-out stage 28 accesses the carry-out stage 28 and receives the substrate S. After the substrate S is transferred to the transport arm, the transport machine 23a is returned to the substrate loading position of the carry-in stage 25 again and waits until the next substrate S is transported.

次の基板Sが搬送されてくるまでの間、塗布部3は管理部4においてノズル32の状態が管理される。図18に示すように門型フレーム31を管理部4の位置まで移動させた後、門型フレーム31の位置を調整(移動及び降下)してノズル32をノズル洗浄装置43にアクセスさせ、当該ノズル洗浄装置43によってノズル32を洗浄する(図13参照)。ノズル32の洗浄処理を行う頻度としては、ユーザによって適宜設定され、1枚の基板S毎に洗浄処理を行ってもよいし、数枚に1回の割合で洗浄処理を行うようにしてもよい。   Until the next substrate S is transported, the application unit 3 manages the state of the nozzles 32 in the management unit 4. As shown in FIG. 18, after the portal frame 31 is moved to the position of the management unit 4, the position of the portal frame 31 is adjusted (moved and lowered), and the nozzle 32 is accessed to the nozzle cleaning device 43. The nozzle 32 is cleaned by the cleaning device 43 (see FIG. 13). The frequency of performing the cleaning process of the nozzles 32 is set as appropriate by the user, and the cleaning process may be performed for each substrate S, or the cleaning process may be performed once every several sheets. .

なお、長時間レジスト塗布を行わない場合には、ノズル32をディップ槽41内に配し、このディップ槽41に貯留された溶剤(シンナー)の蒸気雰囲気に曝すことでノズル32が乾燥するのを防止する。   If the resist coating is not performed for a long time, the nozzle 32 is placed in the dip tank 41, and the nozzle 32 is dried by being exposed to the vapor atmosphere of the solvent (thinner) stored in the dip tank 41. To prevent.

ノズル32の洗浄後、塗布部3を予備吐出機構42にアクセスさせ、ノズル32の吐出状態を保持するための予備吐出処理を行う。この予備吐出処理は上記予備吐出機構(予備吐出装置)42を用いることで行われる。予備吐出機構42内では予備吐出面81上にレジストの予備吐出が行われると、予備吐出面洗浄ユニット100が予備吐出面81の洗浄処理を行う。   After cleaning the nozzle 32, the application unit 3 is made to access the preliminary discharge mechanism 42, and a preliminary discharge process for maintaining the discharge state of the nozzle 32 is performed. This preliminary discharge process is performed by using the preliminary discharge mechanism (preliminary discharge device) 42. In the preliminary ejection mechanism 42, when preliminary ejection of resist is performed on the preliminary ejection surface 81, the preliminary ejection surface cleaning unit 100 performs a cleaning process on the preliminary ejection surface 81.

(予備吐出動作)
以下、予備吐出機構42の動作方法について説明するとともに、予備吐出機構42、予備吐出面洗浄ユニット(洗浄装置)100、及び洗浄方法によって得られる作用効果について図面を参照して述べる。
(Preliminary discharge operation)
Hereinafter, the operation method of the preliminary discharge mechanism 42 will be described, and the effects obtained by the preliminary discharge mechanism 42, the preliminary discharge surface cleaning unit (cleaning apparatus) 100, and the cleaning method will be described with reference to the drawings.

予備吐出面81上にレジストを塗布した後、待機部91上に載置されている予備吐出面洗浄ユニット100のスキージ110を予備吐出面81の高さに配置する。これにより、予備吐出面洗浄ユニット100は予備吐出面81上の洗浄開始位置に配置されることとなる(図1参照)。   After applying the resist on the preliminary discharge surface 81, the squeegee 110 of the preliminary discharge surface cleaning unit 100 placed on the standby unit 91 is disposed at the height of the preliminary discharge surface 81. Thereby, the preliminary discharge surface cleaning unit 100 is disposed at the cleaning start position on the preliminary discharge surface 81 (see FIG. 1).

続いて、アーム部101を介して予備吐出面洗浄ユニット100を移動させことで複数のスキージ110を予備吐出面81上に摺動させ、予備吐出面81上に塗布されたレジストRを掻き取る。   Subsequently, the preliminary discharge surface cleaning unit 100 is moved through the arm portion 101 to slide the plurality of squeegees 110 on the preliminary discharge surface 81, and the resist R applied on the preliminary discharge surface 81 is scraped off.

このとき、予備吐出面洗浄ユニット100は、スキージ110の摺動方向側の面に吐出口102から洗浄液を吐出させる。この洗浄液(シンナー)は予備吐出面81上に塗布されたレジストRを希釈させ、予備吐出面81上からレジストRの除去性を向上させることができる。このように洗浄液が供給された予備吐出面81上を摺動するスキージ110によって、レジストRを予備吐出面81から良好に掻き取ることができる。   At this time, the preliminary discharge surface cleaning unit 100 discharges the cleaning liquid from the discharge port 102 onto the surface of the squeegee 110 on the sliding direction side. This cleaning liquid (thinner) can dilute the resist R applied on the preliminary ejection surface 81 and improve the removability of the resist R from the preliminary ejection surface 81. Thus, the resist R can be scraped off from the preliminary discharge surface 81 satisfactorily by the squeegee 110 sliding on the preliminary discharge surface 81 supplied with the cleaning liquid.

具体的には、予備吐出面洗浄ユニット100は、第一スキージ110aの摺動方向前方側の予備吐出面81上に第一吐出口102aから洗浄液を供給し、希釈化されたレジストRを第一スキージ110aによって掻き取る。
したがって、第一スキージ110aによって予備吐出面81の粗洗浄処理を行うことができる。
Specifically, the preliminary discharge surface cleaning unit 100 supplies the cleaning liquid from the first discharge port 102a onto the preliminary discharge surface 81 on the front side in the sliding direction of the first squeegee 110a, and removes the diluted resist R from the first. Scrape off with squeegee 110a.
Therefore, the rough cleaning process of the preliminary discharge surface 81 can be performed by the first squeegee 110a.

予備吐出面洗浄ユニット100は、第一スキージ110aが通過した予備吐出面81における第二スキージ110bの摺動方向前方に第二吐出口102bから洗浄液を供給し、希釈化されたレジストRを第二スキージ110bによって掻き取る。したがって、第二スキージ110bによって予備吐出面81の本洗浄処理を行うことができる。
なお、本実施形態では、上記第一吐出口102a、及び第二吐出口102bから同量の洗浄液が吐出されるように、制御部140は洗浄液供給手段106を調整している。
The preliminary discharge surface cleaning unit 100 supplies the cleaning liquid from the second discharge port 102b in the sliding direction forward of the second squeegee 110b on the preliminary discharge surface 81 through which the first squeegee 110a has passed, and the diluted resist R is supplied to the second squeegee 110a. Scrape off with squeegee 110b. Therefore, the main cleaning process of the preliminary discharge surface 81 can be performed by the second squeegee 110b.
In the present embodiment, the controller 140 adjusts the cleaning liquid supply means 106 so that the same amount of cleaning liquid is discharged from the first discharge port 102a and the second discharge port 102b.

予備吐出面洗浄ユニット100は、第二スキージ110bが通過した予備吐出面81上に仕上げスキージ110cを摺動させる。これにより、第一スキージ110a、及び第二スキージ110bにおける洗浄処理の残渣(洗浄液及びレジストR)を掻き取ることができ、高い洗浄性を得ることができる。   The preliminary discharge surface cleaning unit 100 slides the finishing squeegee 110c on the preliminary discharge surface 81 through which the second squeegee 110b has passed. Thereby, the residue (cleaning liquid and resist R) of the cleaning process in the 1st squeegee 110a and the 2nd squeegee 110b can be scraped off, and high detergency can be obtained.

これらスキージ110(110a,110b,110c)は、図3に示したように予備吐出面81との接触端の長さ方向をスキージ110の摺動方向に対して斜めに向けた姿勢でスキージヘッド部105に支持されている。よって、図7(a)に示したようにスキージ110によって掻き取られたレジストRはスキージ110の長さ方向における摺動方向後方に押し退けられ側方排出部93に収容され、側方排出部93に設けられた吸引回収機構95によってレジストを良好に排出できる。   These squeegees 110 (110a, 110b, 110c) have a squeegee head portion in a posture in which the length direction of the contact end with the preliminary ejection surface 81 is inclined with respect to the sliding direction of the squeegee 110 as shown in FIG. 105 is supported. Therefore, as shown in FIG. 7A, the resist R scraped off by the squeegee 110 is pushed backward in the sliding direction in the length direction of the squeegee 110 and is accommodated in the side discharge portion 93, and the side discharge portion 93. The resist can be discharged satisfactorily by the suction and recovery mechanism 95 provided in.

予備吐出面洗浄ユニット100は、仕上げスキージ110cが通過した予備吐出面81上に乾燥部120を通過させる。乾燥部120は、予備吐出面81上に薄い平板状の空気を噴出することで予備吐出面81に乾燥処理を施す。これにより、予備吐出面81上の洗浄液を乾燥させることができる。   The preliminary discharge surface cleaning unit 100 allows the drying unit 120 to pass over the preliminary discharge surface 81 through which the finishing squeegee 110c has passed. The drying unit 120 performs a drying process on the preliminary discharge surface 81 by ejecting thin flat air on the preliminary discharge surface 81. Thereby, the cleaning liquid on the preliminary discharge surface 81 can be dried.

予備吐出面洗浄ユニット100は、乾燥部120に続けて吸引部130を予備吐出面81上に通過させる。吸引部130は、前記予備吐出面81上に残存したレジストRを吸引することができる。また、吸引部130は残存したレジストRを吸引するだけでなく、上記乾燥部120による乾燥処理によって基板上に発生した異物(ゴミ等)も吸引することができる。
よって、予備吐出面洗浄ユニット100は予備吐出面81上に塗布されたレジストRを良好に除去することができる。
The preliminary discharge surface cleaning unit 100 passes the suction unit 130 onto the preliminary discharge surface 81 following the drying unit 120. The suction unit 130 can suck the resist R remaining on the preliminary discharge surface 81. Further, the suction unit 130 can suck not only the remaining resist R but also foreign matters (dust etc.) generated on the substrate by the drying process by the drying unit 120.
Therefore, the preliminary discharge surface cleaning unit 100 can satisfactorily remove the resist R applied on the preliminary discharge surface 81.

上記側方排出部93に収容されることなく、スキージ110によって予備吐出面81の洗浄終了位置まで移動されるレジストRは前方排出部92に収容され、当該前方排出部92に設けられた吸引回収機構95によって良好に排出される。   The resist R that is moved to the cleaning end position of the preliminary ejection surface 81 by the squeegee 110 without being accommodated in the side discharge portion 93 is accommodated in the front discharge portion 92, and the suction recovery provided in the front discharge portion 92 is performed. It is discharged well by the mechanism 95.

予備吐出面洗浄ユニット100が前方排出部92に到達すると、予備吐出面81の洗浄処理が終了となる(図1参照)。
洗浄処理の終了後、予備吐出機構42は予備吐出面洗浄ユニット100を待機部91に載置する。以上のフローにより、予備吐出面洗浄ユニット100における予備吐出面81の洗浄処理が終了する。なお、載置部91aに載置された予備吐出面洗浄ユニット100に対し、必要に応じて前記スキージ清掃機構91を用いることでスキージ110の洗浄処理を行ってもよい。これにより、スキージを良好な状態に保つことができ、予備吐出面上における洗浄品質を安定させることができる。
When the preliminary discharge surface cleaning unit 100 reaches the front discharge portion 92, the cleaning process of the preliminary discharge surface 81 is completed (see FIG. 1).
After completion of the cleaning process, the preliminary discharge mechanism 42 places the preliminary discharge surface cleaning unit 100 on the standby unit 91. With the above flow, the cleaning process of the preliminary discharge surface 81 in the preliminary discharge surface cleaning unit 100 is completed. Note that the squeegee 110 may be cleaned by using the squeegee cleaning mechanism 91 as necessary for the preliminary discharge surface cleaning unit 100 mounted on the mounting portion 91a. Thereby, a squeegee can be maintained in a favorable state and the cleaning quality on the preliminary ejection surface can be stabilized.

ところで、スキージ110は予備吐出面81上を摺動することで経時的な磨耗が生じる。本実施形態に係る予備吐出面洗浄ユニット100は、図6に示したようにスキージ110を保持するスキージヘッド部105がクロスローラベアリング150によりスキージ110の長手方向に対して揺動自在となっている。
そのため、スキージ110に磨耗が生じた場合でもスキージ110が予備吐出面81に追従して動くので、スキージ110を予備吐出面81に対して良好に摺動させることができる。このように、スキージ110は予備吐出面81に対して常に一定の状態で当接したものとなるので、予備吐出面洗浄ユニット100は安定した洗浄性を得ることができる。
By the way, the squeegee 110 is worn over time by sliding on the preliminary discharge surface 81. In the preliminary discharge surface cleaning unit 100 according to this embodiment, as shown in FIG. 6, the squeegee head unit 105 that holds the squeegee 110 is swingable with respect to the longitudinal direction of the squeegee 110 by the cross roller bearing 150. .
For this reason, even when the squeegee 110 is worn, the squeegee 110 moves following the preliminary discharge surface 81, so that the squeegee 110 can be slid well with respect to the preliminary discharge surface 81. Thus, since the squeegee 110 is always in contact with the preliminary discharge surface 81 in a constant state, the preliminary discharge surface cleaning unit 100 can obtain a stable cleaning performance.

このように予備吐出面洗浄ユニット100による予備吐出面81の洗浄処理が終了した後、次の基板Sが搬送されてきたら、図19に示すように移動機構32bによってノズル32を所定の位置に移動させる。このように、基板SにレジストRを塗布する塗布動作と予備吐出動作とを繰り返し行わせることで、基板Sには良質なレジストRが形成されることとなる。   After the preliminary discharge surface 81 is cleaned by the preliminary discharge surface cleaning unit 100 in this way, when the next substrate S is transported, the nozzle 32 is moved to a predetermined position by the moving mechanism 32b as shown in FIG. Let In this way, a high-quality resist R is formed on the substrate S by repeatedly performing the coating operation for applying the resist R on the substrate S and the preliminary ejection operation.

以上述べたように上記実施形態によれば、予備吐出面81を洗浄する場合においても、スキージ110の摺動前方に洗浄液を供給するとともに予備吐出面81上を複数のスキージ110が摺動することで予備吐出面81を良好に洗浄することができる。すなわち、塗布装置における予備吐出動作に用いられる予備吐出装置において、従来のようなプライミングローラに代わる予備吐出面81を用いた構成においても、良好な洗浄を行うことができる。   As described above, according to the embodiment, even when the preliminary discharge surface 81 is cleaned, the cleaning liquid is supplied to the front of the squeegee 110 and the plurality of squeegees 110 slide on the preliminary discharge surface 81. Thus, the preliminary discharge surface 81 can be cleaned well. That is, in the preliminary discharge device used for the preliminary discharge operation in the coating apparatus, even in a configuration using the preliminary discharge surface 81 instead of the conventional priming roller, good cleaning can be performed.

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
上記実施形態では第一吐出口102a、及び第二吐出口102bから同量の洗浄液を吐出させるように洗浄液の吐出量を制御部140によって制御する構成としたが、本発明はこれに限定されることはない。
例えば制御部140によって、上記吐出口102のうち、スキージ110の摺動方向先頭側の吐出口102、すなわち上記第一吐出口102aから吐出される洗浄液の量が最も多くなるように洗浄液の吐出量を制御してもよく、このようにすればレジストが多く付着している摺動方向先頭側における予備吐出面81の洗浄性を向上でき、洗浄処理を良好に行うことが可能となる。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and appropriate modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
In the above embodiment, the control unit 140 controls the discharge amount of the cleaning liquid so that the same amount of cleaning liquid is discharged from the first discharge port 102a and the second discharge port 102b. However, the present invention is limited to this. There is nothing.
For example, the controller 140 controls the discharge amount of the cleaning liquid so that the amount of the cleaning liquid discharged from the discharge port 102 on the leading side in the sliding direction of the squeegee 110, that is, the first discharge port 102a, is the largest. In this way, it is possible to improve the cleaning performance of the preliminary discharge surface 81 on the leading side in the sliding direction where a large amount of resist is adhered, and it is possible to perform the cleaning process satisfactorily.

または制御部140によって、上記吐出口102のうち、摺動方向最後尾の吐出口102、すなわち上記第二吐出口102bから吐出される洗浄液の量が最も少なくなるように洗浄液の吐出量を制御してもよく、このようにすればレジストの付着量が少ない摺動方向最後尾側での洗浄液吐出量を抑えることで洗浄液を無駄にすることがなく、洗浄液の使用量を抑えることができる。   Alternatively, the discharge amount of the cleaning liquid is controlled by the control unit 140 so that the amount of the cleaning liquid discharged from the discharge port 102 at the end in the sliding direction among the discharge ports 102, that is, the second discharge port 102b is minimized. In this case, the amount of cleaning liquid used can be suppressed without being wasted by suppressing the amount of cleaning liquid discharged on the rearmost side in the sliding direction where the resist adhesion amount is small.

また、上記実施形態ではスキージ110を3つ備えた構成としたが、スキージ110の数はこれに限定されず、2つ、あるいは4つ以上のスキージ110を備えていればよい。特にスキージ110を4つ以上備える場合には、摺動方向最後尾を除くスキージ110に対応して上記吐出口102を設け、上記吐出口102のうち、摺動方向先頭側の吐出口102から最後尾の吐出口102にかけて洗浄液の吐出量が徐々に少なくなるように洗浄液の吐出量を制御部140によって制御してもよい。このようにすればレジストの量が少なくなるスキージ110の摺動方向後方に向かって洗浄液の吐出量を抑えることができるので、洗浄液の過剰吐出を防止し、洗浄液の使用量を抑えることができる。またスキージ110を4つ以上備える場合においても、上述したように摺動方向最後尾の吐出口102からの洗浄液吐出量が最も少なくなるような制御を行ったり、或いは摺動方向先頭側の吐出口102からの洗浄液吐出量が最も多くなるような制御を行ってもよい。   In the above embodiment, the squeegee 110 is provided with three squeegees 110. However, the number of squeegees 110 is not limited to this, and it is sufficient that two or four or more squeegees 110 are provided. In particular, when four or more squeegees 110 are provided, the discharge ports 102 are provided corresponding to the squeegees 110 except the tail in the sliding direction, and the discharge ports 102 of the discharge direction 102 start from the discharge port 102 on the leading side in the sliding direction. The control unit 140 may control the discharge amount of the cleaning liquid so that the discharge amount of the cleaning liquid gradually decreases toward the tail discharge port 102. In this way, the amount of cleaning liquid discharged can be suppressed toward the rear in the sliding direction of the squeegee 110, which reduces the amount of resist, so that excessive cleaning liquid discharge can be prevented and the amount of cleaning liquid used can be suppressed. Even when four or more squeegees 110 are provided, as described above, control is performed so that the amount of cleaning liquid discharged from the discharge port 102 at the tail end in the sliding direction is minimized, or the discharge port at the top in the sliding direction is used. Control may be performed so that the discharge amount of the cleaning liquid from 102 is maximized.

また、上記実施形態では、第一吐出口102a、及び第二吐出口102bをそれぞれ10個形成したが、本発明はこれに限定されることはない。例えば、摺動方向先頭の第一スキージ110aに対応する第一吐出口102aの数を、摺動方向後方の第二スキージ110bに対応する第二吐出口102bの数よりも多くしてもよく、このようにすればレジストが多く付着している摺動方向先頭側における洗浄性を向上させつつ、レジストの付着量が少ない摺動方向後方側での洗浄液吐出量を抑えることで洗浄液の使用量を抑えることができる。   In the above embodiment, ten first discharge ports 102a and ten second discharge ports 102b are formed, but the present invention is not limited to this. For example, the number of first discharge ports 102a corresponding to the first squeegee 110a at the top in the sliding direction may be larger than the number of second discharge ports 102b corresponding to the second squeegee 110b at the rear in the sliding direction, In this way, the amount of cleaning liquid used can be reduced by reducing the amount of cleaning liquid discharged on the rear side in the sliding direction where there is little resist adhesion while improving the cleaning performance on the front side in the sliding direction where a lot of resist is attached. Can be suppressed.

また、上記実施形態では3つのスキージ110が予備吐出面81に対して45°傾いた状態にスキージヘッド部105に取り付けられた構成となっていたが、3つのスキージ110a,110b,110cにおける取付角度を15°以上50°以下の範囲でそれぞれ異ならせてもよい。
例えば、高い洗浄性が必要となる摺動方向先頭側の第一スキージ110aの取付角度を予備吐出面81に対する接触抵抗が大きくなる45°近傍に設定し、仕上げ処理を行う仕上げスキージ110cの取付角度を予備吐出面81に対する接触抵抗が小さくなる20°近傍に設定してもよい。
In the above embodiment, the three squeegees 110 are attached to the squeegee head unit 105 in a state where the squeegees 110 are inclined by 45 ° with respect to the preliminary ejection surface 81. However, the attachment angles of the three squeegees 110a, 110b, 110c May be varied within a range of 15 ° to 50 °.
For example, the mounting angle of the first squeegee 110a on the front side in the sliding direction that requires high cleanability is set to around 45 ° where the contact resistance with respect to the preliminary discharge surface 81 increases, and the mounting angle of the finishing squeegee 110c that performs the finishing process. May be set in the vicinity of 20 ° at which the contact resistance with respect to the preliminary discharge surface 81 becomes small.

また、上記実施形態では乾燥部120の構成としてエアナイフ方式のものを採用したが、本発明はこれに限定されることはなく、送風しながら予備吐出面81を乾燥させる乾燥手段であればよく、例えば上面から空気を吹き付けるダウンフロー方式のものを用いてもよい。また、上記実施形態では吸引部130として吸引ポンプからなるものを採用したが、本発明はこれに限定されることはなく予備吐出面81上に残存するレジストを吸引できる機構を有するものであれば種々のものを用いることができる。   Further, in the above embodiment, the air knife type configuration is adopted as the configuration of the drying unit 120, but the present invention is not limited to this, and any drying unit that dries the preliminary discharge surface 81 while blowing air may be used. For example, a down flow type in which air is blown from the upper surface may be used. In the above embodiment, the suction unit 130 is composed of a suction pump. However, the present invention is not limited to this, as long as it has a mechanism capable of sucking the resist remaining on the preliminary discharge surface 81. Various things can be used.

また、上記実施形態では予備吐出プレート80の一面によって予備吐出面81が構成されているが、予備吐出面81を構成する部材としては板状部材に限定されることはなく、少なくとも一部が予備吐出面81として機能する平面を有する部材であれば種々のものを用いることができる。
また、上記実施形態では予備吐出面洗浄ユニット100が予備吐出プレート80上を移動することでスキージ110を予備吐出面81上に摺動させる構成としたがこれに限定されない。例えば、予備吐出プレート80を上記予備吐出面洗浄ユニット100に対して移動させることで、スキージ110を予備吐出面81上に摺動させるようにしてもよい。すなわち、スキージ110が予備吐出面81に対し相対移動させることのできる構成であれば、種々のものを採用することができる。
In the above embodiment, the preliminary discharge surface 81 is configured by one surface of the preliminary discharge plate 80, but the member constituting the preliminary discharge surface 81 is not limited to a plate-like member, and at least a part of the preliminary discharge surface 81 is reserved. Various members can be used as long as they have a flat surface functioning as the discharge surface 81.
In the above embodiment, the preliminary ejection surface cleaning unit 100 is configured to slide the squeegee 110 on the preliminary ejection surface 81 by moving on the preliminary ejection plate 80, but is not limited thereto. For example, the squeegee 110 may be slid on the preliminary discharge surface 81 by moving the preliminary discharge plate 80 with respect to the preliminary discharge surface cleaning unit 100. That is, various configurations can be adopted as long as the squeegee 110 can be moved relative to the preliminary ejection surface 81.

上記実施形態では塗布装置1の全体構成について搬送機構23を各ステージの−Y方向側に配置する構成としたが、これに限られることは無い。例えば、搬送機構23を各ステージの+Y方向側に配置する構成であっても構わない。また、図20に示すように、各ステージの−Y方向側には上記の搬送機構23(搬送機23a、真空パッド23b、レール23c)を配置し、+Y方向側には当該搬送機構23と同一の構成の搬送機構53(搬送機53a、真空パッド53b、レール53c)を配置して、搬送機構23と搬送機構53とで異なる基板を搬送できるように構成しても構わない。例えば、同図に示すように搬送機構23には基板S1を搬送させ、搬送機構53には基板S2を搬送させるようにする。この場合、搬送機構23と搬送機構53とで基板を交互に搬送することが可能となるため、スループットが向上することになる。また、上記の基板S、S1、S2の半分程度の面積を有する基板を搬送する場合には、例えば搬送機構23と搬送機構53とで1枚ずつ保持し、搬送機構23と搬送機構53とを+X方向に並進させることによって、2枚の基板を同時に搬送させることができる。このような構成により、スループットを向上させることができる。   In the above embodiment, the transport mechanism 23 is arranged on the −Y direction side of each stage in the overall configuration of the coating apparatus 1, but is not limited thereto. For example, the transport mechanism 23 may be arranged on the + Y direction side of each stage. Further, as shown in FIG. 20, the transport mechanism 23 (transport machine 23a, vacuum pad 23b, rail 23c) is arranged on the −Y direction side of each stage, and the same as the transport mechanism 23 on the + Y direction side. The transport mechanism 53 (the transport machine 53a, the vacuum pad 53b, and the rail 53c) having the configuration described above may be arranged so that different substrates can be transported by the transport mechanism 23 and the transport mechanism 53. For example, as shown in the figure, the transport mechanism 23 transports the substrate S1, and the transport mechanism 53 transports the substrate S2. In this case, since the substrate can be alternately conveyed by the conveyance mechanism 23 and the conveyance mechanism 53, the throughput is improved. When transporting a substrate having an area about half that of the above-described substrates S, S1, and S2, for example, the transport mechanism 23 and the transport mechanism 53 hold the substrates one by one, and the transport mechanism 23 and the transport mechanism 53 are connected. By translating in the + X direction, two substrates can be transported simultaneously. With such a configuration, throughput can be improved.

予備吐出機構の概略構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating schematic structure of a preliminary discharge mechanism. 予備吐出面洗浄ユニットの概略構成図である。It is a schematic block diagram of a preliminary discharge surface cleaning unit. スキージヘッド部におけるスキージの取付状態を示す簡略図である。FIG. 6 is a simplified diagram showing a squeegee mounting state in a squeegee head portion. スキージヘッド部の正面構造の概略図である。It is the schematic of the front structure of a squeegee head part. 吐出口から吐出される洗浄液の状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the cleaning liquid discharged from a discharge outlet. アーム部の周辺構成を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows the periphery structure of an arm part. 予備吐出ユニットの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a preliminary discharge unit. スキージ洗浄機構の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a squeegee washing | cleaning mechanism. 塗布装置の斜視図である。It is a perspective view of a coating device. 塗布装置の正面図である。It is a front view of a coating device. 塗布装置の平面図である。It is a top view of a coating device. 塗布装置の側面図である。It is a side view of a coating device. 管理部の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a management part. 塗布装置の動作過程を示す平面図である。It is a top view which shows the operation | movement process of a coating device. 図13に続く動作過程を示す平面図である。It is a top view which shows the operation | movement process following FIG. 図14に続く動作過程を示す平面図である。It is a top view which shows the operation | movement process following FIG. 図15に続く動作過程を示す平面図である。It is a top view which shows the operation | movement process following FIG. 塗布部の動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating operation | movement of an application part. 塗布部の動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating operation | movement of an application part. 塗布装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of a coating device.

符号の説明Explanation of symbols

R…レジスト、1…塗布装置、42…予備吐出機構(予備吐出装置)、81…予備吐出面、100…予備吐出面洗浄ユニット(洗浄装置)、102…吐出口、102a…第一吐出口(吐出口)、102b…第二吐出口(吐出口)、110…スキージ、110a…第一スキージ(スキージ)、110b…第二スキージ(スキージ)、110c…仕上げスキージ(スキージ)、120…乾燥部(乾燥機構)、130…吸引部(吸引機構)、140…制御部 R: Resist, 1 ... Coating device, 42 ... Preliminary ejection mechanism (preliminary ejection device), 81 ... Preliminary ejection surface, 100 ... Preliminary ejection surface cleaning unit (cleaning device), 102 ... Ejection port, 102a ... First ejection port ( Discharge port), 102b ... second discharge port (discharge port), 110 ... squeegee, 110a ... first squeegee (squeegee), 110b ... second squeegee (squeegee), 110c ... finishing squeegee (squeegee), 120 ... drying section ( Drying mechanism), 130 ... suction part (suction mechanism), 140 ... control part

Claims (14)

塗布装置における予備吐出動作に用いられる予備吐出装置の予備吐出面を洗浄する装置であって、
液状体が塗布された前記予備吐出面上を摺動するスキージと、該スキージの摺動方向側の面に洗浄液を供給する洗浄液供給部とを有することを特徴とする洗浄装置。
An apparatus for cleaning a preliminary discharge surface of a preliminary discharge device used for a preliminary discharge operation in a coating apparatus,
A cleaning apparatus comprising: a squeegee that slides on the preliminary discharge surface coated with a liquid; and a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid to a surface on the sliding direction side of the squeegee.
前記洗浄液供給部は、前記スキージに対して前記洗浄液を吐出する複数の吐出口を有することを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。   The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning liquid supply unit includes a plurality of discharge ports that discharge the cleaning liquid to the squeegee. 複数の前記吐出口は、隣接する前記吐出口から吐出されて前記スキージの面上を伝う前記洗浄液同士が、前記スキージの先端に至って一体化するように設けられていることを特徴とする請求項2に記載の洗浄装置。   The plurality of discharge ports are provided such that the cleaning liquid discharged from the adjacent discharge ports and transmitted on the surface of the squeegee reaches the tip of the squeegee and is integrated. 2. The cleaning apparatus according to 2. 前記各吐出口は等間隔に配列されていることを特徴とする請求項2又は3に記載の洗浄装置。   The cleaning apparatus according to claim 2 or 3, wherein the discharge ports are arranged at equal intervals. 前記スキージを複数備えることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の洗浄装置。   The cleaning apparatus according to claim 1, comprising a plurality of the squeegees. 前記洗浄液供給部は、前記複数のスキージのうち、少なくとも摺動方向最後尾の前記スキージを除いて前記洗浄液を供給することを特徴とする請求項5に記載の洗浄装置。   The cleaning apparatus according to claim 5, wherein the cleaning liquid supply unit supplies the cleaning liquid except at least the squeegee at the tail end in the sliding direction among the plurality of squeegees. 各々の前記スキージに対応して複数の前記吐出口が設けられており、
摺動方向先頭の前記スキージに対応する前記吐出口の数は、摺動方向後方の前記スキージに対応する前記吐出口の数よりも多いことを特徴とする請求項5又は6に記載の洗浄装置。
A plurality of the discharge ports are provided corresponding to each of the squeegees,
The cleaning device according to claim 5 or 6, wherein the number of the discharge ports corresponding to the squeegee at the head in the sliding direction is larger than the number of the discharge ports corresponding to the squeegee at the rear in the sliding direction. .
塗布装置における予備吐出動作に用いられる予備吐出装置の予備吐出面を洗浄する方法であって、
液状体が塗布された略平面の前記予備吐出面を摺動するスキージの前記摺動方向側の面に洗浄液を供給しつつ、前記スキージによって前記洗浄液とともに前記液状体を掻き取ることを特徴とする洗浄方法。
A method of cleaning a preliminary discharge surface of a preliminary discharge device used for a preliminary discharge operation in a coating apparatus,
The liquid material is scraped off together with the cleaning liquid by the squeegee while supplying the cleaning liquid to the surface on the sliding direction side of the squeegee sliding on the substantially flat preliminary discharge surface coated with the liquid material. Cleaning method.
前記スキージの前記面上の複数個所に前記洗浄液を供給することを特徴とする請求項8に記載の洗浄方法。   The cleaning method according to claim 8, wherein the cleaning liquid is supplied to a plurality of locations on the surface of the squeegee. 前記スキージの前記面上において、少なくとも隣接する位置に供給されて前記面上を伝う前記洗浄液が前記スキージの先端に至って一体化するように前記洗浄液を供給することを特徴とする請求項9に記載の洗浄方法。   10. The cleaning liquid is supplied on the surface of the squeegee so that the cleaning liquid supplied to at least adjacent positions and transmitted on the surface reaches the tip of the squeegee and is integrated. Cleaning method. 複数の前記スキージを用いるとともに、複数の前記スキージをそれらの配列方向に摺動して前記予備吐出面を洗浄するに際して、
少なくとも摺動方向最後尾に位置する前記スキージを除いた他の前記スキージに対して前記洗浄液を供給することを特徴とする請求項8から請求項10のいずれか1項に記載の洗浄方法。
When using the plurality of squeegees and cleaning the preliminary discharge surface by sliding the plurality of squeegees in their arrangement direction,
11. The cleaning method according to claim 8, wherein the cleaning liquid is supplied to at least one of the squeegees excluding the squeegee located at the rearmost end in the sliding direction.
複数の前記スキージを用いるとともに、複数の前記スキージをそれらの配列方向に摺動して前記予備吐出面を洗浄するに際して、
摺動方向の先頭側に位置する前記スキージに対する前記洗浄液の供給量を、他の前記スキージに対する前記洗浄液の供給量よりも多くすることを特徴とする請求項8から請求項11のいずれか1項に記載の洗浄方法。
When using the plurality of squeegees and cleaning the preliminary discharge surface by sliding the plurality of squeegees in their arrangement direction,
The supply amount of the cleaning liquid to the squeegee located on the leading side in the sliding direction is made larger than the supply amount of the cleaning liquid to the other squeegees. The cleaning method according to 1.
請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の洗浄装置を備えることを特徴とする予備吐出装置。   A preliminary discharge device comprising the cleaning device according to claim 1. 請求項13に記載の予備吐出装置を備えることを特徴とする塗布装置。   A coating apparatus comprising the preliminary ejection device according to claim 13.
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