JP2008546540A - 50〜200010−3mmの直径のレーザスポットを用いて、物品、特に生理用品及びその構成要素をレーザ処理するための方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本出願によれば、物品(A)、特に生理用品及び前記生理用品の構成要素から選択される物品(A)をレーザ処理に晒すための装置は、50μm〜2000μmの直径を有するレーザスポットを物品(A)に対して当てるように構成(2,3)されたレーザビーム源(1)を備えている。優先的に、レーザスポットは9.0μm〜11.0μmの波長を有し、また、レーザスポットは、00 モード、D モード及びQ モードの間で選択されるビームモードを伴っている。好ましい態様では、レーザ源(1)が非平行ビームを形成するとともに、前記レーザビームの直径を調整するために前記レーザ源(1)と前記偏向器(3)との間の光学距離を変えることができる。レーザビームを物品(A)に向けて伝えるために、加圧パイプが設けられるとともに、反射システム(2)及び偏向システム(3)が設けられる。レーザスポットと物品(A)との間の走査移動を生み出すために動作システム(3,9)が設けられるとともに、物品を方向(z)で供給するコンベア(9)によって優先的に得られる前記相対移動の瞬間速度に応じてレーザスポットに関連する出力を調整するように構成されたリアルタイム制御ユニット(4)と、物品(A)の進行方向(z)を横切る方向(x)における少なくとも1つの成分を有する偏向移動をレーザスポットに対して与える少なくとも1つの偏向ユニット(3)とが設けられる。
【選択図】図1
Description
d=1.27 .f .λ/D
但し、
dは、スポットの最小断面(回折の限界)、
1.27は比例定数K、
fは、使用されるレンズの焦点距離、
λは、レーザビームの波長、
Dは、スキャナに入射するレーザビームの直径である。
レーザビームの出力P、
処理されるべき材料のシートに対するレーザビームの瞬間相対速度V、
処理スポットの瞬間直径D
である。
Claims (65)
- 物品(A)、特に、生理用品及び前記生理用品の構成要素から選択される物品(A)をレーザ処理に晒し、前記レーザ処理が前記物品に対してレーザスポットを当てる工程を含む方法であって、前記レーザスポットが50μm〜2000μmの直径を有していることを特徴とする方法。
- 前記処理がカッティング処理であり、前記レーザスポットが50μm〜800μmの直径を有していることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記処理がカッティング処理であり、前記レーザスポットが100μm〜300μmの直径を有していることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記処理が溶着処理であり、前記レーザスポットが100μm〜2000μmの直径を有していることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記処理が溶着処理であり、前記レーザスポットが100μm〜1000μmの直径を有していることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記レーザスポットが9.6μm〜11.0μmの波長を有していることを特徴とする、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記レーザスポットは、9.6μm〜10.6μmの間で選択される波長、好ましくは10.2μmの領域の波長を有していることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 前記レーザスポットは、00 モード、D モード及びQ モードの間で選択されるビームモードを伴っていることを特徴とする、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記処理がカッティング処理であり、前記レーザスポットが、00 モードのビームモードを伴っていることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- 前記処理が溶着処理であり、前記レーザスポットがD モード又はQ モードの間で選択されるビームモードを伴っていることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- 非平行レーザビーム源(1)を用いて前記レーザスポットを生成する工程、及び、
前記レーザビーム源(1)と前記物品(A)との間の光学距離を変えることによってレーザスポットの直径を調整する工程
を含むことを特徴とする、請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の方法。 - 少なくとも1つの偏向ユニット(3)を介して前記物品(A)に対して前記レーザスポットを当てる工程、及び、
前記レーザビーム源(1)と前記少なくとも1つの偏向ユニット(3)との間の距離を変えることによってレーザスポットの直径を調整する工程
を含むことを特徴とする、請求項11に記載の方法。 - レーザビーム源(1)を用いて前記レーザスポットを生成する工程、及び、
前記レーザビーム源(1)から加圧パイプを通じて前記物品(A)へと前記レーザビームを伝える工程
を含むことを特徴とする、請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の方法。 - レーザビーム源(1)を用いて前記レーザスポットを生成する工程、及び、
前記レーザビーム源(1)から少なくとも1つの反射システム(2)を介して前記物品(A)へと前記レーザビームを伝える工程
を含むことを特徴とする、請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の方法。 - 前記反射システム(2)を冷却する工程を含むことを特徴とする、請求項14に記載の方法。
- 前記レーザスポットに関連する出力を、100W〜1000Wの範囲で調整する工程を含むことを特徴とする、請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の方法。
- 前記レーザスポットと前記物品(A)との間の相対的な走査移動を生じさせる工程(3,9)を含むことを特徴とする、請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の方法。
- 前記レーザスポットに関連する出力を、物品(A)の速度と、前記スポット自体による前記物品(A)の走査ライン上における前記スポットの瞬間位置との間の少なくとも一方に応じて調整する工程を含むことを特徴とする、請求項17に記載の方法。
- レーザスポットによる前記物品(A)の走査の瞬間速度を実質的に一定に維持する工程を含むことを特徴とする、請求項17に記載の方法。
- 方向(z)における前記物品(A)の進行移動と前記レーザスポットの偏向移動(3)との間の合成として、前記相対的な走査移動をもたらす工程(3,9)を含み、前記偏向移動は、物品(A)の前記進行移動の方向(z)を横切る方向(x)における少なくとも1つの成分を有していることを特徴とする、請求項17に記載の方法。
- 前記走査移動で達する位置に従って、前記レーザスポットを励起状態又は非励起状態に選択的に維持する工程を含むことを特徴とする、請求項17に記載の方法。
- 前記閾値(K)が、25kJ/m2〜1000kJ/m2の間で選択されることを特徴とする、請求項22に記載の方法。
- 前記閾値(K)が、100kJ/m2〜300kJ/m2の間で選択されることを特徴とする、請求項22に記載の方法。
- 前記レーザスポットの周辺が楕円化する欠陥を、特定の光学素子によって妨げる工程を含むことを特徴とする、請求項1から請求項24のいずれか1項に記載の方法。
- ベルト及び/又はドラム要素によって前記物品(A)を支持する工程を含むことを特徴とする、請求項1から請求項25のいずれか1項に記載の方法。
- 温度制御された要素によって前記物品(A)を支持する工程を含むことを特徴とする、請求項1から請求項26のいずれか1項に記載の方法。
- 中性シリコーンなどの抗接着性材料の層でコーティングされた少なくとも1つの要素によって、前記物品(A)を支持する工程を含むことを特徴とする、請求項1から請求項27のいずれか1項に記載の方法。
- 物品(A)、特に、生理用品及び前記生理用品の構成要素から選択される物品(A)をレーザ処理に晒すための装置であって、前記レーザ処理が前記物品に対してレーザスポットを当てることを含んでいるところの装置において、50μm〜2000μmの直径を有するレーザスポットを前記物品(A)に対して当てるように構成される(2,3)レーザビーム源(1)を備えていることを特徴とする装置。
- 前記処理がカッティング処理であり、前記レーザスポットが50μm〜800μmの直径を有していることを特徴とする、請求項29に記載の装置。
- 前記処理がカッティング処理であり、前記レーザスポットが100μm〜300μmの直径を有していることを特徴とする、請求項30に記載の装置。
- 前記処理が溶着処理であり、前記レーザスポットが100μm〜2000μmの直径を有していることを特徴とする、請求項29に記載の装置。
- 前記処理が溶着処理であり、前記レーザスポットが100μm〜2000μmの直径を有していることを特徴とする、請求項29に記載の装置。
- 前記レーザスポットが9.6μm〜11.0μmの波長を有していることを特徴とする、請求項29から請求項33のいずれか1項に記載の装置。
- 前記レーザスポットは、9.6μm〜10.6μmの間で選択される波長、好ましくは10.2μmの領域の波長を有していることを特徴とする、請求項29に記載の装置。
- 前記レーザスポットは、00 モード、D モード及びQ モードの間で選択されるビームモードを伴っていることを特徴とする、請求項29から請求項35のいずれか1項に記載の装置。
- 前記処理がカッティング処理であり、前記レーザスポットが、00 モードのビームモードを伴っていることを特徴とする、請求項36に記載の装置。
- 前記処理が溶着処理であり、前記レーザスポットがD モード又はQ モードの間で選択されるビームモードを伴っていることを特徴とする、請求項36に記載の装置。
- 前記レーザビーム源(1)が非平行レーザビーム源であり、前記レーザスポットの直径を調整するために、前記レーザビーム源(1)と前記物品(A)との間の光学距離を変えることができることを特徴とする、請求項29から請求項38のいずれか1項に記載の装置。
- 前記物品(A)に対して前記レーザスポットを当てるための少なくとも1つの偏向ユニット(3)を備え、前記レーザスポットの直径を調整するために、前記レーザビーム源(1)と前記少なくとも1つの偏向ユニット(3)との間の距離を変えることができることを特徴とする、請求項39に記載の装置。
- 前記レーザビームを前記レーザビーム源(1)から前記物品(A)へと伝えるための加圧パイプを備えることを特徴とする、請求項29から請求項40のいずれか1項に記載の装置。
- 前記レーザビームを前記レーザビーム源(1)から前記物品(A)へと伝えるための少なくとも1つの反射システム(2)を備えることを特徴とする、請求項29から請求項41のいずれか1項に記載の装置。
- 前記反射システム(2)が冷却され、そして/又は分極されることを特徴とする、請求項42に記載の装置。
- 前記レーザスポットに関連する出力が100W〜1000Wの範囲にあることを特徴とする、請求項29から請求項43のいずれか1項に記載の装置。
- 前記レーザスポットと前記物品(A)との間の走査移動を生じさせるための少なくとも1つの移動システム(3,9)を備えることを特徴とする、請求項29から請求項44のいずれか1項に記載の装置。
- 前記レーザスポットに関連する出力を、物品(A)の速度と、前記スポット自体による前記物品(A)の走査ライン上における前記スポットの瞬間位置との間の少なくとも一方に応じて調整し、そして/又は変調するように構成された制御ユニット(4)を備えることを特徴とする、請求項45に記載の装置。
- 物品(A)の速度、及び、マーキングの所定の周辺に沿うスポットの瞬間位置、延いては、結果として得られるベクトルの瞬間強度を実質的に一定に維持するように構成された制御ユニット(4)を備えることを特徴とする、請求項45に記載の装置。
- 前記移動システムは、
方向(z)における前記物品(A)の進行移動を生じさせるためのコンベア(9)と、
物品(A)の前記進行移動の方向(z)を横切る方向(x)における少なくとも1つの成分を有する前記レーザスポットの偏向移動(3)を調整し、又は、生じさせるための少なくとも1つの偏向ユニット(3)と
を備えることを特徴とする、請求項45に記載の装置。 - 前記走査移動で達する位置に従って、前記レーザスポットを選択的に励起させ又は励起動作を停止させるように構成された制御ユニット(4)を備えることを特徴とする、請求項45に記載の装置。
- 前記閾値(K)が、25kJ/m2〜1000kJ/m2の間で選択されることを特徴とする、請求項50に記載の装置。
- 前記閾値(K)が、100kJ/m2〜300kJ/m2の間で選択されることを特徴とする、請求項50に記載の装置。
- 前記レーザスポットの周辺が楕円化する」欠陥を妨げるための光学ユニットを備えることを特徴とする、請求項29から請求項52のいずれか1項に記載の装置。
- 前記光学ユニットが、SE光学素子、DE光学素子、TCE光学素子の間で選択されることを特徴とする、請求項53に記載の装置。
- 前記物品(A)を支持するためのベルト及び/又はドラム要素を備えることを特徴とする、請求項29から請求項54のいずれか1項に記載の装置。
- 前記物品(A)を支持するための温度制御された要素を備えることを特徴とする、請求項29から請求項55のいずれか1項に記載の装置。
- 前記物品(A)を支持するための、中性シリコーンなどの抗接着性材料の層でコーティングされた少なくとも1つの要素を備えることを特徴とする、請求項29から請求項56のいずれか1項に記載の装置。
- 物品(A)、例えば、生理用品及び前記生理用品の構成要素から選択される物品(A)を連続的にレーザカットするための方法であって、前記レーザカットは、100μm〜300μmの直径を有するレーザスポットを前記物品に対して当てる工程と、前記レーザスポットに関連する出力を100W〜1000Wの範囲で調整する工程とを含むことを特徴とする方法。
- 前記閾値(K)が、25kJ/m2〜1000kJ/m2の間で選択されることを特徴とする、請求項59に記載の方法。
- 前記閾値(K)が、100kJ/m2〜300kJ/m2の間で選択されることを特徴とする、請求項59に記載の方法。
- 物品(A)、例えば、生理用品及び前記生理用品の構成要素から選択される物品(A)を連続的にレーザカットするための装置であって、前記レーザカットが前記物品に対してレーザスポットを当てることを含むところの装置において、100μm〜300μmの直径を有するレーザスポットを前記物品(A)に対して当てるように構成(2,3)されたレーザビーム源(1)を備え、前記レーザスポットに関連する出力が100W〜1000Wの範囲にあることを特徴とする装置。
- 前記閾値(K)が、25kJ/m2〜1000kJ/m2の間で選択されることを特徴とする、請求項63に記載の装置。
- 前記閾値(K)が、100kJ/m2〜300kJ/m2の間で選択されることを特徴とする、請求項63に記載の装置。
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