JP2008543744A

JP2008543744A - 有機金属ベンゼンホスホナートカップリング剤

Info

Publication number: JP2008543744A
Application number: JP2008511271A
Authority: JP
Inventors: ダニエルピー．ジマー; ジョンジェー．タレー
Original assignee: Microbia Inc
Current assignee: Microbia Inc
Priority date: 2005-05-09
Filing date: 2006-05-09
Publication date: 2008-12-04
Also published as: WO2006122117A3; BRPI0611531A2; CA2608108A1; EP1885378A2; NO20076314L; KR20080023296A; CN101212978A; WO2006122117A2; AU2006244125A1; IL187288A0; MX2007014162A; EA200702450A1; EP1885378A4; MA29534B1; US20090292135A1

Abstract

本発明は、有機合成のクロスカップリングに有用で、Ｒがホウ素、亜鉛、スズ、及びケイ素残基から選択される、一般式（I）有機金属ベンゼンホスホナートの化学属に関する。

Description

発明の分野

本発明は有機合成における化学合成でカップリング剤として有用な有機金属ベンゼンホスホナート化合物の化学属に関する。

発明の背景

炭素−炭素結合の形成は有機合成にとって基本的であり、金属−触媒によるクロスカップリング反応は化学者にとり定型（ルーチン）となってきた。鈴木、スチル（Ｓｔｉｌｌｅ）及び根岸のカップリング反応は、金属−触媒反応における有機金属求核試薬と有機求電子試薬のカップリングで、定型的に行われている。

米国特許番号６，８６７，３２３は、塩基及び求核性活性化アニオン及び第１０族金属触媒存在下での、有機シリコンと有機求電子試薬との反応を含む、炭素−炭素結合の形成方法を教示している。

クロスカップリングの使用の方法論は、有機金属試薬の可用性により限定される。

発明の要旨

本発明は、クロスカップリングによるビフェニルホスホナート調製のために有用な金属ベンゼンホスホナートを提供する。得られるビフェニルホスホナートはコレステロール吸収阻害剤として有用である（同時係属米国出願整理番号１０／９８６，５７０参照）

一つの観点では、本発明は
式Ｉ：

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、フェニル基、ベンジル基、第１族の塩（ｇｒｏｕｐ１ｓａｌｔｓ）、第２族の塩（ｇｒｏｕｐ２ｓａｌｔｓ）、及びアンモニウム塩から独立に選択され；そして
Ｒ^３は、ＺｎＸ（Ｘはハロゲン原子である）、及びＢ（ＯＲ^４）（ＯＲ^５）（式中Ｒ^４及びＲ^５がＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、から独立に選択されるか、又は、Ｒ^４及びＲ^５が一緒に５〜６員環を形成する）からなる群から選択される））
で表わされる化合物に関する。

他の観点では、本発明は
式ＩＩ：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ａは、Ｓｎ（Ｒ^１０）（Ｒ^１１）（Ｒ^１２）であり、ここで、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２はそれぞれ（Ｃ_１〜Ｃ_８）アルキル基である）
で表わされる化合物に関する。

他の観点では、本発明は、
式ＩＩＩ：

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｂはＳｉ（Ｒ^１３）（Ｒ^１４）（Ｒ^１５）であり、ここで、Ｒ^１３はＯＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から選択され；
Ｒ^１４及びＲ^１５は、（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から独立に選択され；
但し、Ｒ^１及びＲ^２が共にＣＨ_２ＣＨ_３である場合には、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５が、エチルオキシ基以外である）
で表わされる化合物に関する。

更に他の観点では、本発明は、
式：ＩＶ

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｃは、［Ｓｉ（Ｒ^１６）（Ｒ^１７）（Ｒ^１８）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１６がＯＨ又は（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基であり；
Ｒ^１７及びＲ^１８は、Ｈ、ＯＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から独立に選択され；
Ｘは、Ｆ、ＯＡｃ、ＯＲ、ＯＳｉＣＨ_３からなる群から選択され；
Ｍ^＋は対イオンであり、そして、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基より選択される）
で表わされる化合物に関する。特定の実施態様では、ＸはＦである。他の実施態様では、ＸはＯＲである。前記の特定の実施態様ではＲはメチル基である。

他の観点では、本発明は
式：Ｖ

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｅは、［Ｓｎ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１が（Ｃ_１〜Ｃ_８）アルキル基から独立に選択され；そして
Ｘは、ハロゲン原子、ＯＡｃ、ＯＲ、及びＯＳｉＣＨ_３からなる群から選択され、ここで、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から選択され、そして、Ｍ^＋は対イオンである）
で表わされる化合物に関する。
特定の実施態様では、ＸはＦである。他の実施態様ではＸはＯＲである。前記の特定の実施態様ではＲはメチル基である。

他の観点では、本発明は、
式：Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ、又はＶで表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から独立に選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること、を含む炭素−炭素結合の形成方法に関する。特定の実施態様では、本発明は更に前記炭素−炭素結合を含む化合物の回収を含む。

いくつかの実施態様では金属触媒は第１０族金属である。他の実施態様では第１０族金属触媒はニッケル、白金及びパラジウムから選択される。特別の実施態様では第１０族金属触媒はパラジウムである。

本発明の前記及び他の実施態様は以下の記載及び請求項との関連から明らかになろう。

発明の詳細な説明

本発明は、クロス−カップリング反応において炭素−炭素結合形成に有用なベンゼンホスホナート誘導体に関する。

本発明は、
式：I

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、フェニル基、ベンジル基、第１族の塩、第２族の塩、及びアンモニウム塩から独立に選択され；そして
Ｒ^３は、ＺｎＸ（Ｘはハロゲン原子である）、及びＢ（ＯＲ^４）（ＯＲ^５）（式中Ｒ^４及びＲ^５がＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、から独立に選択されるか、又は、Ｒ^４及びＲ^５が一緒に５〜６員環を形成する）からなる群から選択される））
で代表される属の化合物を提供する。

前記の特定化を通じて、用語及び置換基はそれらの定義を維持する。

前記の属は、R³残基の選択に従い、
一般式：ＩＡ、一般式：ＩＢを有する、二つの亜属に形式的に更に分けることができる。

亜属ＩＡは、Ｒ^１及びＲ^２はＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基、フェニル基、第１族の塩、第２族の塩、及びアンモニウム塩より独立に選択され；そして
Ｒ^４及びＲ^５はＨである、
式：

で表わされるホウ酸ベンゼンホスホナート誘導体を含む。

或る実施態様は、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４及びＲ^５がＨである、
式：

で表わされる4−ホスホナートフェニルホウ酸である。

更に、亜属ＩＡは、Ｒ^１及びＲ^２はＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そしてＲ^４及びＲ^５は一緒に５又は６員環を形成する、ジオキサボロールベンゼンホスホン酸誘導体を含む。

いくつかの実施態様では、Ｒ^４及びＲ^５は、５員環を一緒に形成し
式：

（式中、
Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９はＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から独立に選択される）
で表わされる化学式を有する。

いくつかの実施態様では、Ｒ^４及びＲ^５は一緒に５員環を形成し；そしてＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９はメチル基であり、
式：

で表わされる化学式を有する。

他の実施態様では、Ｒ^４及びＲ^５は一緒に５員飽和環を形成し；Ｒ^１及びＲ^２はＨであり；そしてＲ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９はメチル基であり、
式：

で表わされる化学式を有する。

他の実施態様では、Ｒ^４及びＲ^５は、６員環を形成し、
式：

（式中、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は独立にＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から選択される）
で表される化学式を有する。

いくつかの実施態様では、Ｒ^４及びＲ^５は、６員環を形成し、
式：

（式中、Ｒ^７及びＲ^８はＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から独立に選択される）
で表わされる化学式を有する。

或る実施態様では、Ｒ^１及びＲ^２はエチル基、及びＲ^７及びＲ^８はメチル基であり、
式：

で表わされる化学式を有する。

亜属ＩＢは、Ｒ^１及びＲ^２はＣＨ_３、そしてＸはハロゲン原子である
式：

で表わされる亜鉛ベンゼンホスホン酸誘導体を含む。

いくつかの実施態様ではＸはＩである。他の実施態様ではＸはＦ、Ｂｒ又はＣｌである。

また、本発明は式：ＩＡ及びＩＢの化合物の塩を提供し、式中Ｒ^１及びＲ^２はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ又はアンモニウム塩、例えば、テトラブチルアンモニウム及びトリメチルベンジルアンモニウム、であることができる。

属ＩＩは
式：

で表わされるベンゼンホスホナートスズ誘導体を含む。

特定の実施態様では、Ｒ^１及びＲ^２はＨ、ＣＨ_３及びＣＨ_２ＣＨ_３から選択される。いくつかの実施態様では、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２はブチル基である。他の実施態様ではＲ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２はメチル基である。

いくつかの実施態様ではＲ^１及びＲ^２はエチル基であり、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２はｎ−ブチル基であり、
式：

で表わされる化学式を有する。

属ＩＩＩは、
式：

で表わされるベンゼンホスホナートシリコン誘導体を含む。

特定の実施態様ではＲ^１及びＲ^２はＨ、メチル基及びエチル基から選択される。

いくつかの実施態様では、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５はＯＣＨ_３である。他の実施態様ではＲ^１３及びＲ^１４はＯＣＨ_３であり；そしてＲ^１５はＣＨ_３である。更に他の実施態様ではＲ^１３及びＲ^１４はＣＨ_３であり；そしてＲ^１５はＯＣＨ_３である。

特定の実施態様ではＲ^１及びＲ^２はエチル基であり；Ｒ^１３はＯＨであり；そしてＲ^１４及びＲ^１５はメチル基であり、
式：

で表わされる化学式を有する。

属ＩＶは
式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｃは、［Ｓｉ（Ｒ^１６）（Ｒ^１７）（Ｒ^１８）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１６がＯＨ又は（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基であり；
Ｒ^１７及びＲ^１８は、Ｈ、ＯＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から独立に選択され；
Ｘは、Ｆ、ＯＡｃ、ＯＲ、ＯＳｉＣＨ_３からなる群から選択され；
Ｍ^＋は対イオンであり、そして、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基より選択される）
で表わされる超原子価フルオロシリコンベンゼンホスホナート中間体を含む。

いくつかの実施態様ではＲ^１６、Ｒ^１７及びＲ^１８はＯＣＨ_３である。他の実施態様ではＲ^１６はＯＣＨ_３であり；そしてＲ^１７及びＲ^１８はＣＨ_３である。特定の実施態様では、ＸはＦである。他の実施態様では、ＸはＯＲである。特定の前記の実施態様ではＲはメチル基である。

属Ｖは
式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｅは、［Ｓｎ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１が（Ｃ_１〜Ｃ_８）アルキル基から独立に選択され；そして
Ｘは、ハロゲン原子、ＯＡｃ、ＯＲ、及びＯＳｉＣＨ_３からなる群から選択され、ここで、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から選択され、そして、Ｍ^＋は対イオンである）
で表わされるハロゲノチンベンゼンホスホナート（halogenotin benzenephosphonates）を含む。

或る実施態様では、Ｒ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１はＣ_４Ｈ_９である。特定の実施態様では、ＸはＦである。他の実施態様ではＸはＯＲである。前記の特定の実施態様ではＲはメチル基である。

また、本発明は炭素−炭素結合の形成方法に関し、式：Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ、又はＶの化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から独立に選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させることを含む。
特定の実施態様では、本方法は更に前記炭素−炭素結合を含む化合物の回収を含む。

従って、本発明は
a)式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２はＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｄは、Ｓｉ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）であり、ここで、Ｒ^１９はＯＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から選択される；そして
Ｒ^２０及びＲ^２１はＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から独立に選択される）
で表わされる有機金属ベンゼンホスホナート化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること、を含む炭素−炭素結合の形成方法に関する。特定の実施態様では、更に前記方法は前記炭素−炭素結合を含む化合物の回収に関する。

いくつかの実施態様ではＲ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１はＯＣＨ_３である。他の実施態様ではＲ^１９及びＲ^２０はＯＣＨ_３であり；そしてＲ^２１はＣＨ_３である。更に他の実施態様ではＲ^１９はＯＣＨ_３であり、Ｒ^２０及びＲ^２１はＣＨ_３である。いくつかの実施態様では金属触媒は第１０族金属である。他の実施態様では第１０族金属触媒はニッケル、白金及びパラジウムから選択される。特別の実施態様では第１０族金属触媒はパラジウムである。

従って、本発明はa)
式：

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、フェニル基、ベンジル基、第１族の塩、第２族の塩、及びアンモニウム塩から独立に選択され；
Ｒ^３は、ＺｎＸ（Ｘがハロゲン原子である）及びＢ（ＯＲ^４）（ＯＲ^５）（式中Ｒ^４及びＲ^５がＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から独立に選択され、又はＲ^４及びＲ^５が一緒に５〜６員環を形成する）からなる群から選択される）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること、を含む炭素−炭素結合形成方法に関する。

特定の実施態様では、前記方法は更に前記炭素−炭素結合を含む化合物の回収を含む。

また、本発明は
ａ）式：

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基、フェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ａは、Ｓｎ（Ｒ^１０）（Ｒ^１１）（Ｒ^１２）であり、ここで、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２がそれぞれ（Ｃ_１−Ｃ_８）アルキル基から選択される）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること、を含む炭素−炭素結合の形成方法に関する。特定の実施態様では、前記方法は更に前記炭素−炭素結合を含む化合物の回収を含む。

更に、本発明はまた、
ａ）式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｃは、［Ｓｉ（Ｒ^１６）（Ｒ^１７）（Ｒ^１８）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１６がＯＨ又は（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基であり；そして
Ｒ^１７及びＲ^１８は、Ｈ、ＯＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から独立に選択され；
ＸはＦ、ＯＡｃ、ＯＲ、ＯＳｉＣＨ_３からなる群より選択され；
Ｍ^＋は対イオンであり、そして、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から選択される）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること、を含む炭素−炭素結合の形成方法に関する。

特定の実施態様では、ＸはＦである。他の実施態様では、ＸはＯＲである。前記の特定の実施態様ではＲはメチル基である。

更に、本発明は、
ａ）式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｅは、［Ｓｎ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１が（Ｃ_１−Ｃ_８）アルキル基から独立に選択され；そして
Ｘは、ハロゲン原子、ＯＡｃ、ＯＲ、及びＯＳｉＣＨ_３からなる群から選択され、ここで、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から選択され、そして、Ｍ^＋は対イオンである）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること、を含む炭素−炭素結合の形成方法に関する。

いくつかの実施態様では金属触媒は第１０族金属である。他の実施態様では第１０族金属触媒はニッケル、白金及びパラジウムから選択される。特定の実施態様では第１０族金属触媒はパラジウムである。

本発明の方法は、一部又は全てが固相又は液相で行われることができることは了解されたい。鈴木、ヘック（Ｈｅｃｋ）及びスチル（Ｓｔｉｌｌｅ）反応を用いた固相支持体での炭素−炭素結合への制限のない導入例はFranzen (Franzen R., Can J. Chem. 78:957-62, 2000) により教示される。

更に、本発明の方法は通常の合成方法又は、一部又は全てがマイクロ波照射により実施されることができる；以下の方法は米国特許番号６，１３６，１５７に開示されているものを含む。

定義

この明細書を通して用語及び置換基はその定義を維持する。

アルキル基は直鎖状、分岐状、又は環状の炭化水素構造及びその組み合わせを含むことを意味する。特に指定されない限り、前記用語は２０個以下の炭素原子からなるアルキル基を指す。低級アルキル基は１、２、３、４、５及び６炭素原子からなるアルキル基を指す。低級アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−及びｔ−ブチル基などを挙げることができる。好ましいアルキル基及びアルキレン基は、Ｃ_２０以下のものである（例えば、Ｃ_１，Ｃ_２，Ｃ_３，Ｃ_４，Ｃ_５，Ｃ_６，Ｃ_７，Ｃ_８，Ｃ_９，Ｃ_１０，Ｃ_１１，Ｃ_１２，Ｃ_１３，Ｃ_１４，Ｃ_１５，Ｃ_１６，Ｃ_１７，Ｃ_１８，Ｃ_１９，Ｃ_２０）。シクロアルキル基は、アルキル基の下位集合であり、３、４、５、６、７、及び８炭素原子の環状炭化水素基を含む。シクロアルキル基の例としては、ｃ−プロピル基、ｃ−ブチル基、ｃ−ペンチル基、ノルボニル基、アダマンチル基などを挙げることができる。

Ｃ_１〜Ｃ_２０炭化水素基（例えば、Ｃ_１，Ｃ_２，Ｃ_３，Ｃ_４，Ｃ_５，Ｃ_６，Ｃ_７，Ｃ_８，Ｃ_９，Ｃ_１０，Ｃ_１１，Ｃ_１２，Ｃ_１３，Ｃ_１４，Ｃ_１５，Ｃ_１６，Ｃ_１７，Ｃ_１８，Ｃ_１９，Ｃ_２０）は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基及びその組み合わせを含む。例としては、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシルメチル基、カンホリル基及びナフチルエチル基を挙げることができる。

アルコキシ基又はアルコキシル基は、直鎖状、分岐状、環状の形状又はその組み合わせの基であり、親構造に酸素を介して結合する１、２、３、４、５、６、７又は８炭素原子の基を指す。例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基などを挙げることができる。低級アルコキシ基は１〜４個の炭素原子を含む基を指す。

オキサアルキル基は、１個以上の炭素原子（及びそれに付属する水素原子）を酸素原子で置き換えたアルキル残基を指す。例としては、メトキシプロポキシ基、３，６，９−トリオキサデシル基などを挙げることができる。用語オキサアルキル基は文献［American Chemical Society，¶１９６刊行のNaming and Indexing of Chemical Substances for Chemical Abstractsを参照］における意味と理解される。即ち化合物中の酸素原子がその隣接する原子に単結合で結合（エーテル結合を形成）している化合物を指す。同様に、チアアルキル基及びアザアルキル基は、１個以上の炭素原子をそれぞれ硫黄原子又は窒素原子で置き換えたアルキル残基を指す。例としては、エチルアミノエチル基及びメチルチオプロピル基を挙げることができる。

アシル基は、親構造にカルボニル官能基を介して結合する、直鎖状、分岐状、環状形状、飽和、不飽和、及び芳香族、及びその組み合わせの、１、２、３、４、５、６、７及び８炭素原子の基を指す。アシル残基の１個以上の炭素原子は、親構造に結合する点がカルボニル基にとどまる限り窒素原子、酸素原子又は硫黄原子で置き換えることができる。例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ベンゾイル基、ベンジルオキシカルボニル基などを挙げることができる。低級アシル基は１〜４個の炭素原子を含む基を指す。

アリール基及びヘテロアリール基は置換基としての、それぞれ芳香環基又は複素芳香環基を指す。ヘテロアリール基はＯ、Ｎ、又はＳから選択されるヘテロ原子１、２、又は３個を含む。両方ともに、単環５員又は６員芳香環基又は複素芳香環基、二環式９員又は１０員芳香環基又は複素芳香環基、三環式１３員又は１４員芳香環基又は複素芳香環基、を示す。芳香族６、７、８、９、１０、１１、１２、１３及び１４員炭素環式環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、インダン、テトラリン、及びフルオレンを挙げることができ、そして、５、６、７、８、９及び１０員芳香族複素環式環としては、例えば、イミダゾール、ピリジン、インドール、チオフェン、ベンゾピラノン、チアゾール、フラン、ベンズイミダゾール、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、ピリミジン、ピラジン、テトラゾール及びピラゾールを挙げることができる。

アリールアルキル基は、アリール環に結合するアルキル残基を意味する。例としては、ベンジル基、フェニネチル基などを挙げることができる。

置換されたアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクリル基などは、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクリル基の各残基における３個までの水素原子が、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、カルボアルコキシ基（アルコキシカルボニル基とも言う）、カルボキシアミド基（アルキルアミノカルボニル基とも言う）、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、スルホキシド基、スルホン基、アシルアミノ基、アミジノ基、フェニル基、ベンジル基、ヘテロアリール基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、又はヘテロアリールオキシ基で置き換えられる、前記アルキル基、前記アリール基、前記シクロアルキル基、前記ヘテロシクリル基などを指す。

用語「ハロゲン原子」又は「ハロ」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を意味する。

第１族の塩は、リチウム、ナトリウム、カリウム及びセシウム塩を含む。第２族の塩は、マグネシウム及びカルシウム塩を含む。アンモニウム塩の例示としては、テトラブチルアンモニウム及びトリメチルベンジルアンモニウムを挙げることができる。

可変基は、導入された時点で定義され、その定義は通して維持される。従って、例えば、Ｒ^１は常にＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基、フェニル基、第１族の塩、第２族の塩及びアンモニウム塩より選択される；ただし、標準の特許実施に際しては、従属項では、これらの基は一部に限られることができる。

特定の実施態様では、有機金属ベンゼンホスホナートは超原子価ケイ酸塩中間体であり、例えば、式ＩＶで表わされるものである。シリケートアニオン、例えば、テトラブチルアンモニウムトリフェニルジフルオロシリケートは、ハロゲン化アリール及びアリールトリフラートと金属触媒によりカップリングを行うことが示されている。例えば、テトラブチルフッ化アンモニウムで処理したフェニルシロキサン誘導体は超原子価フルオロアニオンを生成し、それはハロゲン化アリールとクロスカップリングを行い、ビアリール化合物を生成することができる（Mowry and DeShong, J. org. Chem. 64:1684-88, 1999）。

特に限定されない例では、Ｍ^＋は、第１族のカチオン（例、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ）；第２族のカチオン（例、Ｍｇ、Ｃａ）；そしてテトラブチル基アンモニウム及びトリメチル基ベンジル基アンモニウムを含むアンモニウム塩、から選択されるカチオンの対イオンである。

金属触媒は、好ましくは、第８族、第９族、又は第１０族遷移金属から選択される、すなわち、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、及び白金から選択される、金属である。いくつかの実施態様では金属触媒は、第１０族遷移金属から選択される。第１０族金属とは、パラジウム、白金、又はニッケルで、通常はパラジウムである。第１０族金属は、ゼロ価状態から金属が利用できる任意のより高い変域価の任意の酸化状態で存在することができる。縮合用触媒の例示としては：酢酸パラジウム、塩化パラジウム、臭化パラジウム、パラジウムアセチルアセトン、ビス（トリ−ｏ−トリル）ホスヒンパラジウムジクロリド、ビス（トリフェニルホスヒン）パラジウムジクロリド、テトラキス（トリフェニルホスヒン）パラジウム［（Ｐｈ_３Ｐ）_４Ｐｄ］、ジクロロ［１、１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタン付加化合物、及びビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム［（ｄｂａ）_２Ｐｄ］、が挙げられる。金属触媒は市販されており、当業者には周知である。

金属触媒によるカップリングの条件は文献：Diederich and Stang, Metal-Catalyzed Cross-coupling Reactions; Wiley-VCH (1998)に記載されている。

本発明の方法は、有機求電子試薬の選択によって制限されることを意図してはいない。有機求電子試薬は、ハロゲン化アリール及びアリールスルホネート、例えば、トリフラート（トリフルオロメタンスルホナート）、から選択されることができる。他の許容可能な有機求電子試薬は有機金属求電子試薬及び脂肪族求電子試薬を含む。

本明細書に現れるどの炭素−炭素二重結合の配置も便宜のためにのみ選択されており、特定の配置を示すことを意図するものではない。従って、本明細書に任意にＥとして描かれる炭素−炭素二重結合は、Ｚ、Ｅ、又は任意の割合の両者の混合物であることができる。

「「保護」、「脱保護」及び「保護した」官能基に関する用語は、当業者によく理解されており、一連の試薬を用いる逐次的処理を含む工程の前後関係において使用される。その前後関係において、保護基は、保護しないと反応してしまいその反応が望ましくないような工程段階において、官能基をマスクするために使用する。保護基は、その段階での反応を防ぐ、その後で除去して元の官能基を露出することができる。その除去又は「脱保護」は、その反応（つまり、官能基が妨害となる反応）の完結後に行なわれる。従って、本発明の工程におけるように一続きの試薬を指定する場合、当業者は「保護基」としてふさわしい基を容易に想定することができる。その目的にふさわしい基は、化学のその分野の標準的教科書、［例えば、Protective Groups in Organic Synthesis by T.W.Greene 及び Peter G. M. Wuts [John Wiley & Sons, New York, 1999]、で論じられており、これは本明細書で引用文献に取込まれている。

略語Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｈ、Ｔｆ、Ｔｓ及びＭｓは、メチル基、エチル基、フェニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、トルエンスルホニル基及びメタンスルホニル基をそれぞれ示す。有機化学者（すなわち、当業者）により使用されている略語の総合リストはJournal of Organic Chemistryの各巻の創刊号に掲載されている。通常は“Standard List of Abbreviations”という題で表に示されているそのリストは本明細書に文献として組み込まれている。

以下の例示は、単なる例証として、また、性質上特に限定されるのではないものとして、考慮されるべきである。多くの修飾、置換及び変形が本発明の視野から外れずことなしに可能なことは、本発明が属する技術分野における当業者にとり明らかであろう。

一般に、本発明の化合物は、容易に利用可能な出発物質、試薬及び通常の合成手順を用いて、例えば下記に記載の一般的反応工程式に例証された方法により、又はその修飾した方法により調製することもできるであろう。これらの反応では、また、それ自身は周知であるが、本明細書では述べていない変法を用いることも可能である。

《実施例１：ジエチル［４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル］ホスホナート（４）の調製》

マグネシウム及びパラ−ジブロモベンゼン（１）の反応から由来するグリニャール（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）試薬は、ジエチルクロロホスフェートとEdder et al. [Org. Lett., 2003, 5, 1879-1882]の方法に従い反応させた結果、ジエチル４−ブロモフェニルホスホナート（２）を生成した。２の対応するピナコールボロン酸エステル４への変換は、パラジウム触媒の影響下で、基本的にはIshiyama et al. [J. org. Chem. 1995, 60, 7508-7510]の方法に従い、ビス（ピニコラト）ジボロン（bis(pinicolato)diboron）（Ａ）と反応させることで完遂した。（パラジウム触媒によるクロスカップリングに関する追加文献は：A. Furstner, G. Seidel org. Lett. 2002, 4, 541-543 及び T. Ishiyama, M. Murata, T. Ahiko, N. Miyaura org. Synth. 2000, 77, 176-185を参照）。

《実施例２：ジメチル［４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル］ホスホナート（３）の合成》

市販の４−ブロモフェニルホウ酸（１８，２５３．０ｇ，１．２４ｍｏｌ）のアセトニトリル中の懸濁液（１０００ｍｌ）は室温で攪拌した。ピナコール（１５０．９ｇ，１．２７ｍｏｌ）を添加し、清澄な溶液が得られるまで攪拌を１．５時間継続した。溶媒を真空下、３０°〜３５℃で除去した結果、４−ブロモ−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン（２０，３４９．９ｇ，収率９９．７％）の粗生成物が淡黄色の固体として生成した；（^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．６６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈｚ），１．３４（ｓ，１２Ｈ）ｐｐｍ）。４−ブロモ−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼン（２０，７４．３ｇ，９３．５％，０．２４５ｍｏｌ）の粗生成物はトルエン（３００ｍＬ，０．８２Ｍ）に溶解した。溶液にはトリメチルホスフィット（９４．０ｍＬ、０．７９７ｍｏｌ）を、漏斗を介して添加し、反応物は１０５℃に加熱した。１，１’−アゾビス−シクロヘキサンカルボニトリル（ＡＣＢＮ，９．８ｇ、０．０４ｍｏｌ、代替として、ＡＩＢＮ（２，２’−アゾビイソブチロニトリル）が使用可能）及びトリス（トリメチルシリル）シラン（９７．２ｍＬ、０．３１５ｍｏｌ）のトルエン溶液（２００ｍＬ）は、フラスコに４．５時間にわたり１ｍＬ／分の速度で、滴下しながら添加した。

トルエンは真空下の蒸留により除去し、ヘキサン（２００ｍｌ）を添加し、反応混合物は大気温度で１２時間、次いで氷−水浴で２時間攪拌した。固体は濾過し、冷ヘキサン（１５０ｍＬ）で洗浄し、風乾してから、一定重量になるまで真空乾燥した結果ジメチル［４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル］ホスホナート（３、４６．０ｇ、収率５６％）が淡クリーム色の結晶状固体として生成した；融点８４．２±０．８℃；Ｒ_ｆ０．２９（２：１酢酸エチル−ヘキサン）；ｈｐｌｃ２．０６分；ＮＭＲ純度＞９９Ａ％；^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ７．８９（ｄｄ，Ｊ＝８．２、４．６Ｈｚ，２Ｈ），７８１（ｄｄ，Ｊ＝１３．２、８．２Ｈｚ，２Ｈ），３．７５（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），１．３４（ｓ，１２Ｈ）ｐｐｍ；ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］３１２，［２Ｍ＋Ｈ］６２５。

代替として、ジメチルホスフィットとトリエチルアミンをテトラキス［トリフェニルホスフィン］パラジウム（０）存在下で行う反応条件も、化合物２０からの化合物３の合成に用いることができる。

《実施例３：スズ含有アリールホスホナートの調製》

２とヘキサブチルジチン（５）のパラジウム触媒、例えば、（Ｐｈ_３Ｐ）_４Ｐｄ，によるカップリングは、ジエチル［４−（トリブチルスタンニル）フェニル］ホスホナート（６）を提供する。これは、Kosugi et al. (Chem. Lett. 6, 829-830, 1981)の方法の適用である。

《実施例４：ジエチル｛４−［ヒドロキシ（ジメチル）シリル］フェニル｝ホスホナート（９）の合成》

市販の４−（ジエトキシホスホリル）安息香酸（７ａ）は対応する酸塩化物（７ｂ）へ、塩化チオニルを用いて変換した。７ｂの１，２−ジクロロテトラメチルジシランとのパラジウム触媒、例えば、ビス（ベンゾニトリル）塩化パラジウム及びトリフェニルホスヒン、の存在下における反応は、シリルアティブ脱カルボニル反応（silylative decarbonylation）及びジエチル｛４−［クロロ（ジメチル）シリル］フェニル｝ホスホナート（８）の形成を促進する。これは、Rich (J. Am. Chem. Soc.111:886-5893, 1991)の方法の適用である。次いで、８の加水分解は対応するヒドロキシ誘導体９を生成する。

《実施例５：有機亜鉛誘導体の調製及びその有機ホウ素誘導体調製への利用》

２の活性化亜鉛（Zhu et al. [J. org. Chem.56:1445-1453, 1991]の方法により調製）との反応は、ブロモ［４−（ジエトキシホスホリル）フェニル］亜鉛（１０）を生成する。２−クロロ−５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサボリナン（１１）（刊行されている方法により調製；米国特許３、０６４、０３２）を１０とカップリングさせると、ジエチル［４−（５，５−ジメチル−１，３，２−ジオキサボリナン−２−イル）フェニル］ホスホナート（１２）を生成する。１０の２−クロロ−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランとの反応は４を提供する。

《実施例６：１，３−ジブロモベンゼン（１３）からのジエチル（３−ブロモフェニル）ホスホナート（１４）の調製》

Hirao et al. (Synthesis 1:56-57, 1981)の方法を用いて、１３をジエチルホスフィットとトリエチルアミン及び（Ｐｈ_３Ｐ）_４Ｐｄ存在下でカップリングさせると、１４が生成する。

《実施例７：ジエチル［３−（ジメトキシボリル）フェニル］ホスホナート（１５）の調製》

１４をテトラヒドロフラン中のｎ−ブチルリチウムと低温で処理すると対応する有機リチウムが生成し、これはトリメチルボレートで濃縮した結果、１５を生成する。

《実施例８：ジエチル［３−（トリメトキシシリル）フェニル］ホスホナート（１６）の調製》

１４をテトラヒドロフラン中のｎ−ブチルリチウムと低温で処理すると対応する有機リチウムを生成し、これはテトラメチルオルトシリケートで濃縮すると１６を生成する。

《実施例９：ジエチル［３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル］ホスホナート（１７）の調製》

１４を４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン中でパラジウム触媒存在下で処理すると、１７を生成する。（刊行された方法を参照；C. Christophersen, M. Begtrup, S. Ebdrup, H. Petersen, P. Vedso J. Org. Chem. 68:9513-9516, 2003; P. E. Broutin, I. Cerna, M. Campaniello, F. Leroux, F. Colobert Org. Lett.4419-4422, 2004; M. Murata, T. Oyama, S. Watanabe, Y. Masuda J. Org. Chem. 65:164-168,.2004）。

《実施例１０：［４−（ジメトキシホスホリル）フェニル］ホウ酸（１９）の調製》

２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）（ＡＩＢＮ）及びトリブチルチン水素化物を含む沸騰トルエン中の市販の４−ブロモフェニルホウ酸（１８）をトリメチルホスフィットで処理すると、１９が生成した。^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ７．４５−７．８０（ｍ，４Ｈ），３．７８（ｄ，Ｊ＝０．７０Ｈｚ，３Ｈ），３．７４（ｄ，Ｊ＝０．７０Ｈｚ，３Ｈ）ｐｐｍ。（Jiao， X.Y.; Bentrude, W. G. J. Org. Chem. 68:3303-3306, 2003参照）。

《実施例１１：ジメチル［４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル］ホスホナート（３）の調製》

１９とピナコールの反応は化合物３を生成した。（Jiao, X.Y.; Bentrude, W. G. J. Org. Chem 68:3303-3306, 2003を参照）。^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．８９（ｄｄ，Ｊ＝４．５、８．２Ｈｚ，２Ｈ），７．７８（ｄｄ，Ｊ＝８．２、１３．１Ｈｚ，２Ｈｚ），３．７５（ｓ，３Ｈ）３．７２（ｓ，３Ｈ）１．３５（ｓ，１２Ｈ）ｐｐｍ。

《実施例１２：［４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル］ホスホン酸（２１）の調製》

前記で合成したピナコールエステル２０粗生成物（２１０．０ｇ、０．７４２ｍｏｌ）はクロロベンゼン（５００ｍＬ、１．４８Ｍ）に溶解し、トリメチルホスフィット（２７０．７ｍＬ、２．２３ｍｏｌ）を添加漏斗により添加してから、反応物は１１０℃まで加熱した。１，１’−アゾビス−シクロヘキサンカルボニトリル（１９．９ｇ、０．０８２ｍｏｌ）及びトリ−ｎ−ブチルチン水素化物（２３５．７ｍＬ、０．８５ｍｏｌ）のクロロベンゼン溶液（２５０ｍＬ）は滴下しながらフラスコに４．５時間にわたり添加した。混合物は１．５時間、１１０℃で攪拌し、次いで加熱を停止し、フッ化カリウム（１７２．４ｇ、２．９７ｍｏｌ）及び水（５３．４２ｍｌ、２．９７ｍｏｌ）を添加してから、反応物は一夜大気温度で攪拌した。硫酸ナトリウム（５０ｇ）を添加し、混合物はセライト（Ｃｅｌｉｔｅ（商標））のパッド及び硫酸ナトリウムを通して濾過した。ケーキはジクロロメタン（２ｘ７５０ｍｌ）で洗浄し、一緒にした濾液は真空下で濃縮した結果、ジメチル［４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル］ホスホナート３が黄色固体として得られた。３Ｌフラスコに粗生成物３（理論量、０．７４２ｍｏｌ）を室温で入れた。無水ジクロロメタン（７４０ｍｌ）及びブロモトリメチルシラン（２２５．２ｍｌ、１．７１ｍｏｌ）は、添加漏斗を介して順次添加した。混合物は大気温度で２時間攪拌し、次いで水（５３．２ｍｌ、３．３４ｍｏｌ）を添加してから、攪拌は更に１時間継続した。溶媒は真空で除去した結果、ホスホン酸２１粗生成物が黄色の固体として生成した。粗生成物はｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（７５０ｍＬ）から再結晶した結果、［４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル］ホスホン酸（２１、１３２．５ｇ、収率６３％）が生成した；^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ_３ＯＤ）δ ７．７２−７．８７（ｍ，４Ｈ），１．３５（ｓ，１２Ｈ）ｐｐｍ。

《実施例１３：ジメチル（３’−｛［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシ｝−４’−｛（２Ｓ，３Ｒ）−３−［（３Ｓ）−３−｛［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシ｝−３−（４−フルオロフェニル）プロピル］−４−オキソ−１−フェニルアゼチジン−２−イル｝ビフェニル３−イル）ホスホナート》

（３Ｒ，４Ｓ）−４−（４−ブロモ−２−｛［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシ｝フェニル）−３−［（３Ｓ）−３−｛［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシ｝−３−（４−フルオロフェニル）プロピル］−１−フェニルアゼチジン−２−オン（０．０８０ｇ、０．１１ｍｍｏｌ），ジメチル［３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル］ホスホナート（全量、０．０５４ｇ、計算量、０．０３０ｇ、０．０９６ｍｍｏｌ）の粗生成物及び２Ｍ炭酸カリウム水溶液（０．１２ｍＬ、０．２４ｍｍｏｌ）はエタノール（１．０ｍＬ）及びトルエン（３．０ｍＬ）中で混合した。溶液は、攪拌しながら混合物中を、５分間窒素で泡立てながら通すことで脱酸素を行った。テトラキス（トリフェニルホスヒン）パラジウム（０）（０．０５ｇ）を添加し、反応物は窒素の気相下で、３時間７０℃で加熱した。反応物は室温まで冷却し、酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥してから、減圧下の回転蒸発により濃縮した。生成物はシリカゲルクロマトグラフィーにより酢酸エチル−ヘキサン（勾配：１０％酢酸エチルから８０％）を用いて精製した結果、ジメチル（３’−｛［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシ｝−４’−｛（２Ｓ，３Ｒ）−３−［（３Ｓ）−３−｛［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシ｝−３−（４−フルオロフェニル）プロピル］−４−オキソ−１−フェニルアゼチジン−２−イル｝ビスフェニル３−イル）ホスホナートが無色のシロップとして生成した（０．０６５ｇ、８４％）。^１ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ６．９−８．０（ｍ，１６Ｈ），５．０９（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ），４．６４（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），３．７９（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，３Ｈ），３．７６（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，３Ｈ），３．０５−３．１５（ｍ，１Ｈ），１．８−２．０（ｍ，４Ｈ），１．０６（ｓ，９Ｈ），０．８５（ｓ，９Ｈ），０．３６（ｓ，３Ｈ），０．３３（ｓ，３Ｈ），０．００（ｓ，３Ｈ），−０．２０（ｓ，３Ｈ）ｐｐｍ

本発明が特定された形で記載されている一方で、当業者であれば多くの変形及び修飾が可能であることは理解するであろう。従って、本発明は特定して記載された実施態様には限定されるとは理解されず、むしろ本発明の視野、精神及び概念は以下の請求項を参照することで、より容易に理解されるであろう。

Claims

式Ｉ：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、フェニル基、ベンジル基、第１族の塩、第２族の塩、及びアンモニウム塩から独立に選択され；そして
Ｒ^３は、ＺｎＸ（Ｘはハロゲン原子である）、及びＢ（ＯＲ^４）（ＯＲ^５）（式中Ｒ^４及びＲ^５がＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、から独立に選択されるか、又は、Ｒ^４及びＲ^５が一緒に５〜６員環を形成する）からなる群から選択される）
で表わされる化合物。
Ｒ^３が、Ｂ（ＯＲ^４）（ＯＲ^５）である、
式：

で表わされる、請求項１に記載の化合物。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、及びＲ^５が、Ｈである、
式：

で表わされる、請求項２に記載の化合物。
Ｒ^４及びＲ^５が、一緒に５員飽和環を形成する、
式：

（式中、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、Ｈ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から独立に選択される）
で表わされる、請求項２に記載の化合物。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９が、メチル基である、
式：

で表わされる、請求項４に記載の化合物。
Ｒ^１及びＲ^２が、Ｈであり；そして、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９が、メチル基である、
式：

で表わされる、請求項４に記載の化合物。
Ｒ^４及びＲ^５が、一緒に５員飽和環を形成する、
式：

（式中、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、Ｈ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から独立に選択される）
で表わされる、請求項２に記載の化合物。
Ｒ^４及びＲ^５が一緒に６員飽和環を形成する、
式：

（式中、Ｒ^７及びＲ^８は、Ｈ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から独立に選択される）
で表わされる、請求項２に記載の前記化合物。
Ｒ^１及びＲ^２が、エチル基であり；そして、Ｒ^７及びＲ^８が、メチル基である、
式：

で表わされる、請求項８に記載の化合物。
Ｒ^３が、ＺｎＸである、
式：

で表わされる、請求項１に記載の化合物。
Ｒ^１及びＲ^２が、ＣＨ_３である、請求項１０に記載の化合物。
式ＩＩ：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ａは、Ｓｎ（Ｒ^１０）（Ｒ^１１）（Ｒ^１２）であり、ここで、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２はそれぞれ（Ｃ_１〜Ｃ_８）アルキル基である）
で表わされる化合物。
Ｒ^１及びＲ^２が、Ｈ、メチル基及びエチル基から独立に選択される、請求項１２に記載の化合物。
Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２が、ｎ−ブチル基である、
式：

で表わされる、請求項１２に記載の化合物。
式ＩＩＩ：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｂはＳｉ（Ｒ^１３）（Ｒ^１４）（Ｒ^１５）であり、ここで、Ｒ^１３はＯＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から選択され；
Ｒ^１４及びＲ^１５は、（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から独立に選択され；
但し、Ｒ^１及びＲ^２が共にＣＨ_２ＣＨ_３である場合には、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５が、エチルオキシ基以外である）
で表わされる化合物。
Ｒ^１及びＲ^２が、Ｈ、メチル基及びエチル基から独立に選択される、請求項１５に記載の化合物。
Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１５が、ＯＣＨ_３である、請求項１５又は１６に記載の化合物。
Ｒ^１３が、ＯＣＨ_３であり；そして、Ｒ^１４及びＲ^１５が、ＣＨ_３である、請求項１５又は１６に記載の化合物。
Ｒ^１及びＲ^２が、エチル基であり、Ｒ^１３が、ＯＨであり；そして、Ｒ^１４及びＲ^１５が、ＣＨ_３である、
式：

で表わされる請求項１６に記載の化合物。
式ＩＶ：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｃは、［Ｓｉ（Ｒ^１６）（Ｒ^１７）（Ｒ^１８）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１６がＯＨ又は（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基であり；
Ｒ^１７及びＲ^１８は、Ｈ、ＯＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から独立に選択され；
Ｘは、Ｆ、ＯＡｃ、ＯＲ、ＯＳｉＣＨ_３からなる群から選択され；
Ｍ^＋は対イオンであり、そして、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基より選択される）
で表わされる化合物。
Ｒ^１６、Ｒ^１７及びＲ^１８が、ＯＣＨ_３である、請求項２０に記載の化合物。
Ｒ^１６が、ＯＣＨ_３であり；そして、Ｒ^１７及びＲ^１８が、ＣＨ_３である、請求項２０に記載の化合物。
式Ｖ：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｅは、［Ｓｎ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１が（Ｃ_１〜Ｃ_８）アルキル基から独立に選択され；そして
Ｘは、ハロゲン原子、ＯＡｃ、ＯＲ、及びＯＳｉＣＨ_３からなる群から選択され、ここで、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から選択され、そして、Ｍ^＋は対イオンである）
で表わされる化合物。
Ｒ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１が、Ｃ_４Ｈ_９である、請求項２５に記載の化合物。
ＸがＦである、請求項２０〜２４のいずれか一項に記載の化合物。
ＸがＯＲである、請求項２０〜２４のいずれか一項に記載の化合物。
Ｒがメチル基である、請求項２６に記載の化合物。
ａ）請求項１〜２７のいずれか一項に記載の化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から独立に選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること；
を含む、炭素−炭素結合の形成方法。
式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｄは、Ｓｉ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）であり、ここで、Ｒ^１９はＯＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から選択される；そして
Ｒ^２０及びＲ^２１は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から独立に選択される）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること；
を含む炭素−炭素結合の形成方法。
式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｆは、Ｓｎ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）であり、ここで、Ｒ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１が（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基から独立に選択される）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒の存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること；
を含む炭素−炭素結合の形成方法。
ａ）式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、フェニル基、ベンジル基、第１族の塩、第２族の塩、及びアンモニウム塩から独立に選択され；
Ｒ^３は、ＺｎＸ（Ｘがハロゲン原子である）及びＢ（ＯＲ^４）（ＯＲ^５）（式中Ｒ^４及びＲ^５がＨ及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から独立に選択され、又はＲ^４及びＲ^５が一緒に５〜６員環を形成する）からなる群から選択される）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること；
を含む炭素−炭素結合の形成方法。
ａ）式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基、フェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ａは、Ｓｎ（Ｒ^１０）（Ｒ^１１）（Ｒ^１２）であり、ここで、Ｒ^１０、Ｒ^１１及びＲ^１２がそれぞれ（Ｃ_１−Ｃ_８）アルキル基から選択される）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること；
を含む炭素−炭素結合の形成方法。
ａ）式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｃは、［Ｓｉ（Ｒ^１６）（Ｒ^１７）（Ｒ^１８）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１６がＯＨ又は（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基であり；そして
Ｒ^１７及びＲ^１８は、Ｈ、ＯＨ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）炭化水素基及び（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルコキシ基から独立に選択され；
ＸはＦ、ＯＡｃ、ＯＲ、ＯＳｉＣＨ_３からなる群より選択され；
Ｍ^＋は対イオンであり、そして、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から選択される）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること；
を含む炭素−炭素結合の形成方法。
ａ）式：

（式中、
Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基、ベンジル基及びフェニル基から独立に選択され；そして
Ｒ^３ｅは、［Ｓｎ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）Ｘ］⁻Ｍ^＋であり、ここで、Ｒ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１が（Ｃ_１−Ｃ_８）アルキル基から独立に選択され；そして
Ｘは、ハロゲン原子、ＯＡｃ、ＯＲ、及びＯＳｉＣＨ_３からなる群から選択され、ここで、Ｒは（Ｃ_１〜Ｃ_６）アルキル基から選択され、そして、Ｍ^＋は対イオンである）
で表わされる化合物を、第８族、第９族及び第１０族金属から選択される金属触媒存在下で、ハロゲン化アリール、アリールトリフラート及びアリールスルホネートから選択される有機求電子試薬と反応させること；
を含む炭素−炭素結合の形成方法。
ＸがＦである、請求項３３〜３４のいずれか一項に記載の方法。
ＸがＯＲである、請求項３３〜３４のいずれか一項に記載の方法。
Ｘがメチル基である、請求項３６に記載の方法。
前記炭素−炭素結合を含む化合物を、回収することを更に含む、請求項２８〜３７のいずれか一項に記載の方法。
金属触媒が第１０族金属である、請求項２８〜３７のいずれか一項に記載の方法。
第１０族金属触媒が、ニッケル、白金及びパラジウムから選択される、請求項３９に記載の方法。
第１０族金属触媒がパラジウムである、請求項４０に記載の方法。