JP2008525956A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. レーザ、
   内部に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートが配置されるイオン源又はイオンイメージングデバイス、及び、
   使用時に前記標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのスポットサイズを制御する装置、を含む質量分析計であって、前記装置は、
   １つ以上のズームレンズ
   を含む、質量分析計。
2. 前記１つ以上のズームレンズは、第１のレンズ、及び前記第１のレンズの軸方向位置を変更又は変動するように構成及び適合される手段を含む、請求項１記載の質量分析計。
3. 前記１つ以上のズームレンズは、レーザビームを拡大及び／又は縮小するように構成される、請求項１又は２に記載の質量分析計。
4. 前記１つ以上のズームレンズは、レーザビームのビーム発散を増加及び／又は低減するように構成される、請求項１から３のいずれか一項に記載の質量分析計。
5. 前記１つ以上のズームレンズは、可変倍率ズームレンズ又はビーム拡大器を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の質量分析計。
6. レーザ、
   内部に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートが配置されるイオン源又はイオンイメージングデバイス、及び、
   使用時に前記標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのサイズを制御する装置、を含む質量分析計であって、前記装置は、
   １つ以上のレーザビームを第１のレーザビームと第２のレーザビームとに分割する少なくとも１つのビームスプリッタと、
   第１のレーザビームと第２のレーザビームとを少なくとも部分的若しくは全体的に重ね合わすオーバラップ手段と
   を含む、質量分析計。
7. 前記第１のレーザビーム及び／又は前記第２のレーザビームは、実質的に一定、一様又は均一なフルエンス又は放射照度プロファイルを有する、請求項６記載の質量分析計。
8. 前記第１のビームと前記第２のビームとの重なり合いの度合いを変動するように構成及び適合される手段をさらに含む、請求項６又は７に記載の質量分析計。
9. 前記重なり合い又は再結合の度合いを変動するように構成及び適合される手段は、平行移動又は移動されるように構成される１つ以上のミラーを含む、請求項８記載の質量分析計。
10. レーザ、
    内部に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートが配置されるイオン源又はイオンイメージングデバイス、及び、
    使用時に前記標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのサイズを制御する装置、を含む質量分析計であって、前記装置は、
    プログラム可能なミラーアレイ又はデジタルマイクロミラーアレイ
    を含み、
    前記プログラム可能なミラーアレイ又は前記デジタルマイクロミラーアレイは、複数の個別制御可能なピクセル又はミラー素子、及び、
    レーザ光を前記標的領域、試料表面又は標的プレートに集束させるために前記ピクセル又はミラー素子を制御するように構成及び適合される手段を含む、質量分析計。
11. レーザスポットのイメージ位置は、前記倍率を変更又は変化させる際に実質的に不変のままであるか、又は、重なり合いの度合いを変更又は変化させる際に実質的に不変のままであるか、又は、前記プログラム可能なミラーアレイ又はデジタルマイクロミラーアレイを変更又は変化させる際に実質的に不変のままである、請求項１から１０のいずれかに記載の質量分析計。
12. 前記レーザビームの直径又はサイズは、連続的に可変である、請求項１から１１のいずれか一項に記載の質量分析計。
13. 真空チャンバをさらに含み、
    前記標的領域、試料表面又は標的プレートは、前記真空チャンバ内に位置し、
    前記真空チャンバは、使用時にレーザビームが透過するウィンドウを含む、請求項１から１２のいずれかに記載の質量分析計。
14. レーザビームを前記標的領域、試料表面又は標的プレートへ方向付ける１つ以上のミラーをさらに含む、請求項１から１３のいずれか一項に記載の質量分析計。
15. レーザビームを前記標的領域、試料表面又は標的プレートへ集束する集束レンズをさらに含む、請求項１から１４のいずれか一項に記載の質量分析計。
16. 前記標的領域、試料表面又は標的プレートの下流に配置される抽出レンズ又はイオンオプティカル構成体をさらに含み、
    前記抽出レンズ又はイオンオプティカル構成体は、前記標的領域、試料表面又は標的プレートからイオンを加速、引き寄せ、又は抽出するように構成される、請求項１から１５のいずれか一項に記載の質量分析計。
17. レーザビームのスポットサイズを制御する方法であって、
    前記レーザビームは、質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とし、前記方法は、
    質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのスポットサイズを制御するために１つ以上のズームレンズを使用すること、
    を含む、レーザビームのスポットサイズを制御する方法。
18. レーザビームのサイズを制御する方法であって、
    前記レーザビームは、質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とし、前記方法は、
    １つ以上のレーザビームを第１のレーザビームと第２のレーザビームとに分割すること、及び、
    第１のレーザビームと第２のレーザビームとを重ね合わすこと、
    を含む、レーザビームのサイズを制御する方法。
19. レーザビームのサイズを制御する方法であって、
    前記レーザビームは、質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とし、前記方法は、
    質量分析計のイオン源又はイオンイメージングデバイス内に配置された標的領域、試料表面又は標的プレートを標的とするレーザビームのサイズを制御するために、複数の個別制御可能なピクセル又はミラー素子を含む、プログラム可能なミラーアレイ又はデジタルマイクロミラーアレイを使用すること、
    前記標的領域、試料表面又は標的プレートにレーザ光を集束させるために前記ピクセル又はミラー素子を制御すること、
    を含む、レーザビームのサイズを制御する方法。
20. 請求項１７から１９のいずれかに記載の方法を含む質量分析方法。