JP2008525750A - 凍結乾燥処理中に脱水運転を監視するための装置及び方法 - Google Patents

凍結乾燥処理中に脱水運転を監視するための装置及び方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008525750A
JP2008525750A JP2007547594A JP2007547594A JP2008525750A JP 2008525750 A JP2008525750 A JP 2008525750A JP 2007547594 A JP2007547594 A JP 2007547594A JP 2007547594 A JP2007547594 A JP 2007547594A JP 2008525750 A JP2008525750 A JP 2008525750A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
gas
analyzing
analyzer
housing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007547594A
Other languages
English (en)
Inventor
ノミネ,シリル
Original Assignee
アルカテル−ルーセント
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by アルカテル−ルーセント filed Critical アルカテル−ルーセント
Publication of JP2008525750A publication Critical patent/JP2008525750A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B5/00Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • F26B5/04Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
    • F26B5/06Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum the process involving freezing
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B25/00Details of general application not covered by group F26B21/00 or F26B23/00
    • F26B25/22Controlling the drying process in dependence on liquid content of solid materials or objects
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/66Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence
    • G01N21/68Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence using high frequency electric fields
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/62Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating the ionisation of gases, e.g. aerosols; by investigating electric discharges, e.g. emission of cathode

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Centrifugal Separators (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

本発明は、真空ライン18に連結されたチャンバ10内で行われる凍結乾燥処理中の脱水運転を監視するための装置に関する。この装置は、チャンバ10内に含まれる気体を分析するための手段を備え、この手段は、プラズマを発生するように構成された発生器と結合された気体と接触しているプラズマ源3を含む、気体をイオン化するためのシステム1、及び、プラズマにより放出される放射スペクトルの発生を分析する装置22に連結されたプラズマ発生区域の近くに配置された放射線センサ20を含む、イオン化された気体を分析するためのシステムを含む。このプラズマ源は誘導結合によって生成されることが好ましく、放射スペクトルを分析する装置は発光分析装置である。

Description

本発明は、真空乾燥プロセス中に生成物の脱水を監視し制御することに関し、詳細には、凍結乾燥にかけられた生成物に含まれる水の昇華の終わりを検出することに関する。
凍結乾燥は、生成物に含まれる水の大部分を昇華によって取り除く低温プロセスである。このプロセスが最も直接的に関連する産業は、食料品工業、医薬品工業(ワクチン、血清、薬物)、及び生物工業(酵母菌)であり、このプロセスにより、室温に近い温度で貯蔵される生成物の有効成分(生物学的活性及び/または薬剤活性を示す)の長期間の保存が確保される。
凍結乾燥中に脱水の動力学を監視することは、製造コストを管理するために、さらに良品質の凍結乾燥生成物を得るために不可欠である。これらの条件下で貯蔵された生成物の安定性は、それが含む残留水の量の非常に小さな変化に極めて敏感である。コストは低減されるが、あまりにも短いサイクルはあまりにも湿気の多い生成物を生む。次いで、一般にその生成物の品質の急速な劣化が観察される。逆に、運転サイクルがあまりにも長いと、生成物が過熱により劣化し、ならびに少しも利益なくコストの追加を招く。このプロセスの際に温度があまりにも早く上昇を続けると、生成物の融解または部分的な融解に至ることがあり、結果として欠陥のある外観を生じることになる。この製作のアクシデントは通常、重大な、または最終生成物に要求される使用特性(再水和作用の純度、適合性)の一部について容認できない劣化さえも伴う。したがって、この種の生成物の脱水についての信頼できる監視は不可欠であることが分かる。
凍結乾燥プロセスは、2つの連続する運転を含む。すなわち凍結及び脱水である。脱水運転は2つの異なる物理現象に対応する2つのステップを含む。すなわち、凍結中に形成される氷結晶の昇華(「一次乾燥」と呼ばれることが多い)、及び凍結されない水の最終脱着(「二次乾燥」と呼ばれることが多い)である。昇華は通常、熱を入力し全圧を低下する(真空凍結乾燥)ことによって行われる。問題は、あるステップから別のステップへの移行、及びできるだけ正確な運転の終わりを判定することである。
通常、凍結運転は大気圧で行われる。脱水運転は三重点より低く水蒸気圧を低下させることが必要であり、その後、蒸気状態への水の移行が圧力低下によって促進される。昇華のステップを通して、及び生成物が氷を含む間は、生成物の温度はそれが凍結された温度と依然として同一である。生成物がもはや氷を含まない時、すなわち一次乾燥の終わりで、生成物の温度が上昇する。
工業環境で最も広く使用される凍結乾燥を監視する方法では、生成物の温度が処理中にいかに漸進的に変化するかを測定する。具体的にはそれにより一次乾燥の終わりを判定することができる。温度プローブが凍結前に生成物の中心に配置され、次いで、温度信号の漸進的変化が凍結乾燥の間、記録される。プローブが依然として凍結された生成物の中心にある限り、測定される温度は非常にゆっくりと漸進的に変化する。一方、プローブがもはや氷と接触していないと直ちに、測定される温度は非常に急速に変化し、それにより乾燥層内に熱の蓄積をはね返す。処理筐体内の異なる位置の温度プローブのすべてが同じ値を示すと(または設定値が二次乾燥ステップを開始するように変更されると)、凍結乾燥は停止する。同じ筐体内に配置された生成物が異なる乾燥速度を示すことがあり、基準温度に到達する時間について数時間の差異が様々なプローブ間で観察されることもある。サイクルを停止する前に温度値のすべてが同一になるまで数時間待つことから成る安全対策は、追加の処理コストを負わせ、このコストは高い場合があり、効率を低下させる。さらに、通常使用されるプローブの数は少なく(凍結乾燥されるべき150000個の生成物に対してプローブが4個または5個程度である)、それにより生成物1バッチ当たり10%までの廃棄率が生じることがある。
真空凍結乾燥の動力学を監視するための他の測定システムが考えられてきており、例えば、処理中に生成物の電気抵抗または誘電率を測定することによるものである。生成物に配置された電極にその前部が移動するとこれらの大きさが変化する。さらに、液体水の誘電率は氷の誘電率よりも非常に高いので、溶融現象を検出することが可能である。
上記の間接的な方法の主な欠点は、その局所特性及び感度の欠如である。例えば、温度曲線の精度が不足しており、一次乾燥の正確な終わりを判定することができない。
したがって、システム全体を考慮に入れる制御方法が考えられた。詳細には、加熱板の熱収支及び凍結乾燥機のアイストラップに基づくプロセスの動力学を監視する方法を用いることが提案された。コールドトラップの液体窒素消費量を監視すると、熱収支を引き上げることができる。理論上は、この方法はいつでも熱の伝達の強さ、したがって生成される水蒸気の量の強さをもたらす。しかし熱収支の質は、温度プローブの精度によって及び熱損失によって悪影響を受け、それにより定量化することが困難である。
生成物を含むトレーの質量、または凝縮器の質量を測定することは、処理中に水損失の動力学を監視する1つの方法である。トレー支持システムまたはフレームに固定されたコールドトラップは、その変形が生成物から抽出されそして氷の形で閉じ込められた水の量と相互に関係があり得る、歪みゲージを備えている。残念ながらこの明らかに信頼できる方法は、すでに据え付けられた大多数の凍結乾燥装置に容易には適合できず、そのコストは依然として高い。筐体内に放出された水蒸気の物質収支は、水蒸気圧センサを用いた直接測定によって均等に得ることができる。しかし、これらの方法すべてについて依然としてプロセスの終わりでの測定精度の問題がある。
凝縮器が凍結乾燥筐体の外側にある場合、筐体をトラップに連結する弁を閉じた後、凍結乾燥筐体の全圧の漸進的変化を監視することが可能である(これは気圧法(barometric method)と呼ばれる)。空気の漏れを無視すると、いかなる急速な圧力上昇も高速の昇華を示し、残留氷の存在をはね返す。この方法の解明(凍結乾燥の動力学に関する圧力上昇の衝撃)、及びサイクル(水蒸気がほとんど放出されない場合)の終わりでのその精度がその限界を規定する。
より最近には、凍結乾燥筐体を通して物質収支を分析する質量分析装置の測定に基づく方法が考えられてきた。この方法は、最も正確で最も均一な測定値を提示し、脱水の真の監視へ導く。残念ながら、医薬品工業などの一部の無菌処理産業では測定装置を滅菌することが要求される。質量分析装置は滅菌のストレスに耐えることができず、したがって滅菌することができない。この問題を解決するために、フィルタを装着した弁が質量分析装置と筐体との間に挿入される。しかしこの方法は、特にフィルタの目詰まりに起因する一定の限界を有する。フィルタを介して凍結乾燥筐体の汚染という危険がある。さらに質量分析装置の使用は、二次ポンプの使用、及びフィラメントのような消耗部品の頻繁な更新を必要とするため高価である。
また、質量分析装置を用いる方法と同様な他の提案された方法も、滅菌が必要であると判明する場合は問題が生じる。
したがって本発明の目的は、先に引用した先行技術の問題の欠点を有さない、凍結乾燥中の脱水を制御するための装置及び方法を提案することである。詳細には、本発明は一次乾燥ステップの終わりを正確に判定するための装置及び方法を提案する。また本発明は、無菌状態という形の厳格な必要条件と両立できる、特に滅菌に頼ることを回避する装置及び方法を提案する。
本発明は、真空ラインに連結された筐体内での凍結乾燥中の脱水を制御するための装置であって、この装置は前記筐体内に含まれる気体を分析するための分析器を含み、この気体分析器は、
前記気体からプラズマを発生するように構成された発生器と結合された前記気体と接触しているプラズマ源を備える、気体をイオン化するためのシステムと、
前記プラズマにより放出される放射スペクトルの発生を分析するための装置に連結されたプラズマ発生区域の近くに配置された放射線センサを備える、イオン化された気体を分析するためのシステムと
を備える。
本発明の装置は、励起された種から成るプラズマにより放出される光の光スペクトルを分析することによって、脱水中に凍結乾燥筐体内に存在する種の発生を監視することができる。
プラズマとは、気体をイオン化することによって人工的に造ることができる荷電粒子及び中性粒子から形成される統計的なシステムである。この目的のために、気体粒子から電子を引きはがし、それによってイオン、電子、及び原子のシステムを得るためにエネルギーを入力することが必要である。これは、すべての方向にランダムに動く粒子の全体的に中性の集合体である。励起分子がその初期状態に復帰すると電磁放射の放出を引き起こす。コールドプラズマとしても知られている非熱プラズマは減圧状態で現れる。すなわち、コールドプラズマはその殺菌特性のために最も広く使用されるプラズマである。大腸菌、バチルスサブチリス、カンジダアルビカンス、連鎖球菌等のような参照微生物によってプラズマの殺菌特性及び殺ウイルス性特性について多数の研究が行われてきた。
プラズマ源は前記処理筐体に通じている励起チャンバ内に配置される。この筐体内の気体は励起チャンバ内で、脱水されるべき生成物を含む凍結乾燥筐体の内部と接触する。この気体はイオン化されてプラズマを形成し、前記チャンバの壁を介して放出された光が分析される。
通常一部分に真空を含む密閉筐体内で、放電を造ることによって、すなわち
電極を含むシステム(低圧でのルミネセンス型もしくは大気圧でのコロナ型の電場における放電)によって、
または、電極なしのシステム(可変の無線周波数もしくはマイクロ波周波数の電磁場における放電)によって
プラズマを発生する気体にエネルギーを伝達することができる。
適切なシステムの設計、ならびにプラズマを発生するために使用される気体及び蒸気の適切な選択のおかげで、高度に反応性の雰囲気中でさえも比較的低い周囲温度を達成することができる。さらに、微生物を急速に破壊できる活性種はシステムが電力供給されているときにのみ造られ、入力電力が切り離されると直ちに取り除かれる。したがって、いったんプロセスが終了すると環境への危険はない。
本発明の1つの実施形態では、前記チャンバの壁が石英、光学ガラス(特に、BK7ガラス)、または酸化アルミニウム(特に、サファイア)である。
この装置は、滅菌の必要条件に完全に適合する利点を有するという点で先行技術の装置と異なる。この装置は物質を動かすことなくこれを定量化するように物質に作用するのでいかなる物質の移転も必要としない。この目的のために、装置の励起チャンバの内部だけが凍結乾燥筐体の内部雰囲気と接触する。通常このチャンバは、一般に石英から作られる管の形を採るが、BK7ガラスなどの光学ガラス、またはサファイアなどの酸化アルミニウム、あるいは光に接近しながら電磁波がそれを通過できる他の任意の材料から同等に作ることができる。これは困難なく滅菌されることができる。
さらに、プラズマ自体がその滅菌特性について知られている。その第1の強さはプラズマからの紫外線の放射であり、これには殺菌性がある。次いで、OH成分及びO成分が、医療分野で使用されるようにプラズマ滅菌の本質的な成分である。これらの成分は、水分子が「分解」されてOH成分及びO成分が発生するので凍結乾燥の適用の際に遭遇する。プラズマプロセスは、その可能性が滅菌を含めていくつかの分野で特に将来有望である新生の技術であり、プラズマ技術の有効性はいくつかの敏感な医療装置において立証され、応用されてきた。
さらにこの装置は、バッチから少ないサンプルだけでなく1バッチの生成物のうちのすべての生成物の昇華を観察できるので全体の測定を保証する。
プラズマ源は誘導結合によって生成されることが好ましく、この場合、発生器は無線周波数発生器である。またプラズマ源は、表面波または共振空洞タイプの伝播の原理を用いたマイクロ波源であってもよく、その場合、発生器はマイクロ波発生器である。
第1の変形では、前記発生器は、前記チャンバの外側の周りに巻き付けられた誘導ソレノイドによって誘導的に前記プラズマを発生する。
他の変形では、前記発生器は、前記チャンバの内側に配置された励起アンテナによって誘導的に前記プラズマを発生する。この場合、アンテナは事前に滅菌した絶縁体で覆われる。このアンテナはペニングマノメータであることが有利である。この圧力ゲージの理論は、プラズマを形成するために2つの電極間に高電圧を印加することにある。放電電流は圧力に比例する。圧力測定に広く使用されるこのタイプのゲージは、ここで新しい適用を見出す。
放射スペクトルの発生を分析するための装置は発光分析装置であることが好ましい。分解能は少し良好ではないが、特に、蒸気に特有のスペクトル線を選択するための明るさセンサが分光器の代わりに使用できる。また、光学フィルタまたは複数の光学フィルタの組合せも有利に使用でき、監視のもとに波長の選択が可能になる。複数のスペクトル線を選択すると、圧力から独立した情報を得るために例えばHO/Nスペクトル線の割当量を利用するように考えることができる。この実施形態は、光学分光計を含めた装置と比べて装置のコストを低減するという利点を有する。
本発明の装置は工業用凍結乾燥設備に容易に適用できる。これは質量分析装置と異なり、凍結乾燥の筐体の主要な改変は必要とせず、装置が機能するのに必要な真空度が凍結乾燥プロセスに必要な真空度と同一であるため、いかなる追加のポンピングも必要としない。
本発明はまた、請求項1から9のいずれかに記載の装置によって筐体の凍結乾燥中に脱水を制御する方法に存する。脱水運転の一次乾燥ステップの終わりが、前記プラズマにより放出される放射スペクトルの発生を分析するための装置に連結されたプラズマ源によって、前記筐体内の気体を分析することにより判定される。この装置は発光分析装置であることが好ましい。前記プラズマ源は誘導結合によって生成されることが好ましい。
本発明は、工業用凍結乾燥中に脱水を監視する、特に一次乾燥ステップの終わりを判定することができる正確で、均一な無菌の方法という利点を有する。この方法は生産性を向上させ、ならびにサイクル終末の不合格品を低減する。
この方法は、凍結乾燥処理の変動性を回避する。様々なプロセスのステップは、凍結乾燥されるべき生成物の量及び性質に応じて異なる持続時間を有してもよい。またこの方法はかなりの時間が節約できる。すなわち、工業用プロセスにおいて今のところ実験的に判定される二次乾燥ステップの始まりが、本発明の装置によって自動的に判定できる。これは圧力を調整するのに使用される窒素について節減することを意味する。この装置は凍結乾燥されるべき生成物の量及び性質に応じて、脱水中に効果をもたらし得るプロセスパラメータの変化をありのままに考慮に入れる。また、この方法はあるバッチから別のバッチへのプロセスについてその繰り返し性を明らかにすることができる。同一の生成物の量及び同一のプロセスパラメータに対して信号が異なる場合、これは例えば漏れなどの凍結乾燥機についての問題を示すことができる。
本発明の他の特徴及び利点は、例証となるが非限定的な例示として添付の図面に示す本発明の実施形態についての次の説明から明らかになるであろう。
図1は、本発明の装置に関してイオン化システム1の1つの特定の実施形態についての図である。石英管2は、そこで凍結乾燥が起る筐体に通じている開放端部2a、及び効率のよい光の収集を可能にする非球面形レンズの形をとった閉鎖端部2bを有する。プラズマ源3は、誘導ソレノイド4の高さで管2内に形成される。ソレノイド4または励起アンテナは、プラズマの形成部位または励起チャンバ2cの周りの管2の外面上に巻き付けられる。
継手5(ISO−KFの規格に従うDN16を参照されたい)は316ステンレス鋼製である。シール6は管2と継手5との間の密封を行う。このシール6は、「バイトン(Viton)(登録商標)」などのフルオロエラストマーから成り、したがって高温に耐えることができる。
上記の装置は、凍結乾燥の分野(蒸気温度が150℃、及び蒸気圧が2バールである)に存在する滅菌の必要条件に適合する。すなわち、ガス状媒体に接触している部分は、その中でプラズマが形成される管、シール、及びDN16継手だけである。プラズマは外部アンテナによって造られ、それにより凍結乾燥筐体の内側のいかなる汚染または堆積をも回避する。プラズマ源は比較的コンパクトであり(例えば、86mm×50mm×115mmである)、したがって凍結乾燥筐体に容易に配置できる。
図2は、本発明の装置に関して1つの特定の実施形態を示す。イオン化システム1は、その接合点6及び弁11を担持する管2によって凍結乾燥筐体10と結合される。脱水されるべき生成物12を含む凍結乾燥筐体10は従来、3つの構成要素、すなわち熱源13、水蒸気回収トラップ14、及び一次真空ポンプ15を備える。トラップ14は弁17を含むパイプ16によって筐体10に連結される。真空ポンプは弁19を含むパイプ18によって筐体10に連結される。いったん凍結(これは凍結乾燥筐体10の内側または外側で行われ得る)が完了すると、真空ポンプ15が始動する。ポンプ15によってポンピングを行う目的は、筐体10内の全圧を低下させ、次いで脱水を通して昇華条件と両立する値に圧力を維持することである。昇華は熱源13からの生成物へ熱を入力することによって行われ(伝導または輻射による)、溶融は三重点より低い温度を維持することによって防止される。トラップ4は形成された水蒸気を回収する。
脱水が始まると、筐体10の内部の圧力が低下し、プラズマが励起チャンバ2cの高さで管2の内側に形成される。プラズマにより放出された光は、光ファイバなどのセンサ20によって管2の閉鎖端部2bのところで検出される。次いでこの光は、例えば光ファイバ21を介してそこで分析するための発光分析装置22に導かれる。放出された光はプラズマ内に、したがって凍結乾燥筐体10内に存在する成分に特有である。この適用の場合、水素(例えば、656nm)及び窒素(例えば、337nm)に特有のスペクトル線が脱水中に監視される。情報は記録され、連結部23を使ってコンピュータ24で処理することができる。
一次乾燥ステップの間、凍結乾燥筐体10内の圧力は、窒素供給パイプ26の調整弁25によって安定化される。昇華速度が低下するために圧力が低下すると、弁25が開口されてより多くの窒素を注入する。水の昇華速度が高い場合、窒素はほとんど注入されない。
脱水は、通常0.005ミリバールから0.5ミリバールまでの真空で行われる。この事については、誘導結合プラズマ(ICP)タイプの誘導結合によって生成されるプラズマ源が、その作動圧力が−0.005ミリバールから10ミリバールであるために非常に適切である。したがって、質量分析装置が必要とされる恐れがあるような、二次ポンピングの必要はない。
図3は、光スペクトルを分析することによって得られた曲線30及び曲線31を示す。曲線30及び曲線31は、脱水運転中の、水蒸気を示す656nm(曲線30)の波長の水素のスペクトル線、及び337nm(曲線31)の波長の窒素のスペクトル線についてその経時的な発生を示す。一次乾燥ステップの間、氷の昇華(部分A)によって引き起こされる大量の水が検出される。この量の水蒸気は昇華段階を通してほとんど放出されない。昇華が完了すると、水素の信号波が急速に低下し窒素の信号波が上昇する。この過渡期の間、水蒸気は凍結乾燥機に注入される窒素によって置き換えられる(部分B)。結局、2本の曲線が安定すること(部分C)が昇華の終わり、したがって一次乾燥の終わりを示す。図3のプロセス曲線30及びプロセス曲線31は、二次脱水の変化に対応する設定点の変化が点Dで開始されることを示す。温度センサを用いる一次乾燥の終わりについての先行技術の測定ではこれより前に示されてしまい、このステップはまだ完全には終わっていないであろう。
もちろん、ほんの今説明した一次乾燥ステップの終わりの検出方法は、二次乾燥ステップの終わりの検出にも同様に適用できる。
本発明は、明示的に説明した実施形態に限定されず、当業者に明白である本発明の変形及び一般化を含むものである。
本発明の装置に関して1つの特定の実施形態のイオン化システムを示す図である。 本発明を用いた凍結乾燥生成物用の装置を示す図である。 時間t(秒)の関数として水素のスペクトル線及び窒素のスペクトル線について光度I(任意の単位)の変化を示す図である。

Claims (12)

  1. 筐体内に含まれる気体を分析するための分析器を含む、真空ラインに連結された前記筐体内での凍結乾燥中の脱水を制御するための装置であって、前記気体分析器が、
    前記気体からプラズマを発生するように構成された発生器と結合された前記気体と接触しているプラズマ源を備える、気体をイオン化するためのシステムと、
    前記プラズマにより放出される放射スペクトルの発生を分析するための装置に連結されたプラズマ発生区域の近くに配置された放射線センサを備える、イオン化された気体を分析するためのシステムと
    を備えることを特徴とする、装置。
  2. 前記プラズマ源が前記筐体に通じている励起チャンバ内にある、請求項1に記載の装置。
  3. 前記プラズマ源が誘導結合によって生成される請求項1または、請求項2に記載の装置。
  4. 前記発生器が無線周波数発生器である、請求項3に記載の装置。
  5. 前記発生器が、前記チャンバの外側の周りに巻き付けられた誘導ソレノイドによって誘導的に前記プラズマを発生する、請求項4に記載の装置。
  6. 前記発生器が、前記チャンバの内側の励起アンテナによって誘導的に前記プラズマを発生する、請求項4に記載の装置。
  7. 前記アンテナがペニングマノメータである、請求項6に記載の装置。
  8. 前記放射スペクトルの発生を分析するための前記分析器が発光分析装置である、請求項1から7のいずれか一項に記載の装置。
  9. 前記チャンバの壁が石英、光学ガラス、または酸化アルミニウムである、請求項2から8のいずれかに記載の装置。
  10. 請求項1から9のいずれかに記載の装置によって筐体内での凍結乾燥中の脱水を制御する方法であって、脱水運転の一次乾燥ステップの終わりが、前記プラズマにより放出される放射スペクトルの発生を分析するための装置に連結されたプラズマ源を用いて前記筐体内の気体を分析することによって検出されることを特徴とする、方法。
  11. 前記放射スペクトルの発生を分析するための前記分析器が発光分析装置である、請求項10に記載の装置。
  12. 前記プラズマ源が誘導結合によって生成される、請求項10または請求項11に記載の方法。
JP2007547594A 2004-12-23 2005-12-19 凍結乾燥処理中に脱水運転を監視するための装置及び方法 Pending JP2008525750A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0453161A FR2880105B1 (fr) 2004-12-23 2004-12-23 Dispositif et procede de pilotage de l'operation de deshydratation durant un traitement de lyophilisation
PCT/FR2005/051110 WO2006070149A1 (fr) 2004-12-23 2005-12-19 Dispositif et procede de pilotage de l'operation de deshydratation durant un traitement de lyophilisation

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008525750A true JP2008525750A (ja) 2008-07-17

Family

ID=34953211

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007547594A Pending JP2008525750A (ja) 2004-12-23 2005-12-19 凍結乾燥処理中に脱水運転を監視するための装置及び方法

Country Status (10)

Country Link
US (1) US7334346B2 (ja)
EP (1) EP1674812B1 (ja)
JP (1) JP2008525750A (ja)
KR (1) KR20070095942A (ja)
CN (1) CN101084406B (ja)
AT (1) ATE389155T1 (ja)
DE (1) DE602005005280T2 (ja)
ES (1) ES2300947T3 (ja)
FR (1) FR2880105B1 (ja)
WO (1) WO2006070149A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014523636A (ja) * 2011-05-31 2014-09-11 ラム リサーチ コーポレーション 基板凍結乾燥装置及び方法

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004007526A1 (de) * 2004-02-17 2005-09-01 Oetjen, Georg-Wilhelm, Dr. Verfahren und Einrichtung zur Gefriertrocknung von Produkten
TWI251472B (en) * 2005-06-02 2006-03-21 Kurotech Co Ltd System for drying and sterilizing foods and method therefor
EP2008047B1 (en) * 2006-04-10 2012-11-14 F. Hoffmann-La Roche AG Apparatus for monitoring freeze-drying process
US20080256825A1 (en) * 2007-04-17 2008-10-23 Hokwang Industries Co., Ltd. Hand dryer with visible light indicated sensing area
FR2920046A1 (fr) 2007-08-13 2009-02-20 Alcatel Lucent Sas Procede de post-traitement d'un support de transport pour le convoyage et le stockage atmospherique de substrats semi-conducteurs, et station de post-traitement pour la mise en oeuvre d'un tel procede
US20090044420A1 (en) * 2007-08-16 2009-02-19 Hokwang Industries Co., Ltd. Light directing hand dryer
US8371039B2 (en) 2009-12-30 2013-02-12 Baxter International Inc. Thermal shielding to optimize lyophilization process for pre-filled syringes or vials
FR2955927B1 (fr) 2010-02-01 2012-04-06 Alcatel Lucent Dispositif et procede de pilotage d'une operation de deshydratation durant un traitement de lyophilisation
CA2811428A1 (en) 2010-09-28 2012-04-26 Baxter International Inc. Optimization of nucleation and crystallization for lyophilization using gap freezing
US8966782B2 (en) * 2010-09-28 2015-03-03 Baxter International Inc. Optimization of nucleation and crystallization for lyophilization using gap freezing
DE102010050281A1 (de) * 2010-11-02 2012-05-03 Hof Sonderanlagenbau Gmbh Verfahren zur Überwachung eines Gefriertrocknungsprozesses und Gefriertrocknungsanlage hierfür
JP5876424B2 (ja) * 2011-02-08 2016-03-02 共和真空技術株式会社 凍結乾燥装置に適用される被乾燥材料の昇華面温度、底部品温及び昇華速度の算出方法及び算出装置
CN102230718B (zh) * 2011-07-26 2014-05-14 湖南千山制药机械股份有限公司 控制西林瓶自动进出冻干机的装置
US8898928B2 (en) * 2012-10-11 2014-12-02 Lam Research Corporation Delamination drying apparatus and method
US10309722B1 (en) 2013-03-14 2019-06-04 International Research Institute Inc. Microwave and vacuum drying device, system, and related methods
EP3004767B1 (en) * 2013-05-29 2017-12-06 GEA Process Engineering A/S Method of providing inline sterile freeze drying of a product in trays accommodated in a trolley, system for carrying out the method, and use of the method
PL3177359T3 (pl) * 2014-08-04 2020-09-21 F. Hoffmann-La Roche Ag Urządzenie i sposoby do uszczelniania lekarstwa w obrębie medycznego urządzenia dostarczającego
BE1022362B1 (nl) * 2014-10-01 2016-03-17 Quathem Piet Van Procedé voor het bewerken van huiden
CN104677057B (zh) * 2015-03-03 2017-02-01 华南理工大学 变频交流电场辅助冻干药物脂质体粉的方法和设备
CN104810135B (zh) * 2015-03-28 2016-12-07 山东达驰电气有限公司 一种变压器器身煤油气相清洁与干燥系统及方法
ES2589964B1 (es) * 2015-04-17 2017-09-05 Abengoa Solar New Technologies, S.A. Sistema y método de análisis del gas presente en el espacio interanular de receptores solares de tubo
US10194672B2 (en) 2015-10-23 2019-02-05 NanoGuard Technologies, LLC Reactive gas, reactive gas generation system and product treatment using reactive gas
JPWO2018186343A1 (ja) 2017-04-04 2020-02-13 日東電工株式会社 凍結乾燥体の製造方法及びその製造装置
US20180306763A1 (en) * 2017-04-21 2018-10-25 Mks Instruments, Inc. End point detection for lyophilization
ES2774058T3 (es) * 2017-04-21 2020-07-16 Gea Lyophil Gmbh Un liofilizador y un método para inducir la nucleación en los productos
US10648730B1 (en) * 2017-05-08 2020-05-12 Cenorin, Llc Medical implement drying apparatus
CN108375281A (zh) * 2018-03-19 2018-08-07 嘉兴市秀洲区天禾生态农场 一种用于藏红花的快速烘干设备
CN109440202B (zh) * 2018-10-18 2023-09-08 青岛即发集团股份有限公司 一种湿法纺丝真空冷冻干燥方法及干燥设备
DE102018218758A1 (de) * 2018-11-02 2020-05-07 OPTIMA pharma GmbH Vorrichtung und Verfahren zum Gefriertrocknen
IT201900002463A1 (it) * 2019-02-20 2020-08-20 Officine Di Cartigliano S P A Macchina combinata per il trattamento termico di essiccazione di prodotti dielettrici
US10925144B2 (en) 2019-06-14 2021-02-16 NanoGuard Technologies, LLC Electrode assembly, dielectric barrier discharge system and use thereof
US11896731B2 (en) 2020-04-03 2024-02-13 NanoGuard Technologies, LLC Methods of disarming viruses using reactive gas
US20220057138A1 (en) * 2020-08-21 2022-02-24 Ziel Equipment, Sales And Services, Inc. Rf treatment systems and methods
CN113758158B (zh) * 2021-09-24 2022-05-17 四川大学 微波真空冻干装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62184334A (ja) * 1986-02-07 1987-08-12 Japan Atom Energy Res Inst 強磁場下での分圧測定方法
JPH04290428A (ja) * 1990-12-03 1992-10-15 Applied Materials Inc Uhf/vhf共振アンテナ供給源を用いたプラズマリアクタ
JPH0914834A (ja) * 1988-12-30 1997-01-17 Shiyoujimisao Seisakusho:Kk 放射性廃棄物の前処理装置
JPH11354297A (ja) * 1998-05-29 1999-12-24 Leybold Syst Gmbh プラズマを発生させるための装置
JP2000214092A (ja) * 1999-01-22 2000-08-04 Alcatel 気体排出物を識別する方法とシステム、およびそのようなシステムを備えた設備
JP2002228356A (ja) * 2000-09-08 2002-08-14 Boc Group Inc:The 圧縮ガスシリンダのプラズマ乾燥及び不動態化
JP2003194460A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Okawara Mfg Co Ltd 液体原料を用いる粉粒体製造装置及びこの装置を用いた粉粒体の製造方法
JP2004288462A (ja) * 2003-03-20 2004-10-14 Nippon Sanso Corp プラズマ源

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3020645A (en) * 1959-01-26 1962-02-13 Raytheon Co Method and apparatus for control of freeze drying
SU1272067A1 (ru) * 1984-07-19 1986-11-23 Государственный научно-исследовательский институт стандартизации и контроля медицинских биологических препаратов им.Л.А.Тарасевича Способ определени момента окончани процесса сублимационной сушки биопрепаратов
US5656238A (en) * 1994-10-11 1997-08-12 Johnson & Johnson Medical, Inc. Plasma-enhanced vacuum drying
SE0001453D0 (sv) * 2000-04-19 2000-04-19 Astrazeneca Ab Method of monitoring a freeze drying process
FR2808098B1 (fr) * 2000-04-20 2002-07-19 Cit Alcatel Procede et dispositif de conditionnement de l'atmosphere dans une chambre de procedes
KR100414360B1 (ko) * 2002-11-08 2004-01-16 주식회사 휴먼메디텍 플라즈마 처리기가 부착된 멸균장치 및 멸균방법

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62184334A (ja) * 1986-02-07 1987-08-12 Japan Atom Energy Res Inst 強磁場下での分圧測定方法
JPH0914834A (ja) * 1988-12-30 1997-01-17 Shiyoujimisao Seisakusho:Kk 放射性廃棄物の前処理装置
JPH04290428A (ja) * 1990-12-03 1992-10-15 Applied Materials Inc Uhf/vhf共振アンテナ供給源を用いたプラズマリアクタ
JPH11354297A (ja) * 1998-05-29 1999-12-24 Leybold Syst Gmbh プラズマを発生させるための装置
JP2000214092A (ja) * 1999-01-22 2000-08-04 Alcatel 気体排出物を識別する方法とシステム、およびそのようなシステムを備えた設備
JP2002228356A (ja) * 2000-09-08 2002-08-14 Boc Group Inc:The 圧縮ガスシリンダのプラズマ乾燥及び不動態化
JP2003194460A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Okawara Mfg Co Ltd 液体原料を用いる粉粒体製造装置及びこの装置を用いた粉粒体の製造方法
JP2004288462A (ja) * 2003-03-20 2004-10-14 Nippon Sanso Corp プラズマ源

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014523636A (ja) * 2011-05-31 2014-09-11 ラム リサーチ コーポレーション 基板凍結乾燥装置及び方法
US9673037B2 (en) 2011-05-31 2017-06-06 Law Research Corporation Substrate freeze dry apparatus and method

Also Published As

Publication number Publication date
WO2006070149A1 (fr) 2006-07-06
US7334346B2 (en) 2008-02-26
EP1674812A1 (fr) 2006-06-28
DE602005005280T2 (de) 2009-04-30
KR20070095942A (ko) 2007-10-01
CN101084406B (zh) 2010-12-08
ES2300947T3 (es) 2008-06-16
US20060137212A1 (en) 2006-06-29
ATE389155T1 (de) 2008-03-15
EP1674812B1 (fr) 2008-03-12
CN101084406A (zh) 2007-12-05
DE602005005280D1 (de) 2008-04-24
FR2880105A1 (fr) 2006-06-30
FR2880105B1 (fr) 2007-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008525750A (ja) 凍結乾燥処理中に脱水運転を監視するための装置及び方法
US11482435B2 (en) Plasma processing apparatus
US9841345B2 (en) Detection method and facility for checking sealed products for leaks
US7456633B2 (en) Apparatus for and method of measuring composition and pressure of the discharged gas from ion gauge using residual gas analyzer
JP2017022216A (ja) プラズマ処理装置
EP3510332B1 (en) Repeated sterile use of a gauge in a steam sterilizable freeze-drying system
Ganguly et al. Mass spectrometry in freeze-drying: Motivations for using a bespoke PAT for laboratory and production environment
US5284547A (en) Plasma-process system with batch scheme
Pollak et al. Low-temperature low-damage sterilization based on UV radiation through plasma immersion
KR101063089B1 (ko) 탈기체 측정 장치 및 그 측정 방법
JP4091977B2 (ja) フーリエ変換方式イオンサイクロトロン共鳴質量分析方法
KR101937335B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
JP2007149681A (ja) 質量分析装置における気体導入装置
KR102232784B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
CN105609365B (zh) 真空断路器真空度在线检测的方法及其检测装置
JP3713057B2 (ja) 質量分析装置における気体導入装置
CN104422676B (zh) 快速老化设备
JP2012064819A (ja) リークチェック方法、リークチェック装置及びプログラム
RU2338135C2 (ru) Способ сушки натрия йодистого
CN117347149A (zh) 一种镀层材料的氢含量检测装置和方法
CN103868660B (zh) 卤素气体专用检漏装置及辅助开机结构
KR20010058418A (ko) 고주파 시료반응기를 이용한 중금속검출기 및중금속검출방법
CN116165494A (zh) 沿面放电电离区域可视化检测装置和方法
JPH04129156A (ja) プラズマイオン源極微量元素質量分析装置
Zendehnam Excitation processes in the positive column of electrical discharges in inert gases

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081117

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110801

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110816

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20111114

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20111121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120731

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20121030

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20121106

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20121109

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20130128

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130723