JP2008514010A - Esd保護用の装置 - Google Patents

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Abstract

第1の電圧基準電位(VDD)と第2の電圧基準電位(VSS)の間に結合されたトリガ部分回路(204)と、ESD保護されるべき回路デバイスと第2の電圧基準電位(VSS)の間のトリガ部分回路(204)に結合されたESD分路部分回路(202)とを含むESD回路保護用装置。ESD分路部分回路(202)は、集積回路(IC)接続のパッド(110)によって接続されるように適合される。ESD分路部分回路(202)は、ESD保護されるべき回路デバイスに接続されたアノードと、第2の電圧基準電位(VSS)に接続されたカソードとを有するシリコン制御整流器(SCR)である。トリガ部分回路(204)は、RCトリガ型PMOS(304)、またはGGNMOS(402)および直列接続された抵抗器(406)である。

Description

本出願は、参照により組み込まれている、2004年9月16日に出願した米国特許仮出願第60/610,294号の利益を主張するものである。
本発明は、一般に静電放電(ESD)保護回路に関し、より具体的には、集積回路(IC)の保護回路内のシリコン制御整流器(SCR)構造の改善に関する。
集積回路(IC)およびその他の半導体デバイスは、ESD事象との接触によって生じ得る高電圧の影響を非常に受けやすい。したがって、集積回路にとって静電放電(ESD)保護回路は不可欠である。一般にESD事象は、高電圧電位(通常、数キロボルト)の放電に起因し、短い持続時間(通常、100ナノ秒)の大電流(数アンペア)パルスを生じる。例示的にはESD事象は、たとえば人がICのリード線に接触することにより、またはICの他のリード線において電気的に荷電した機械類が放電されることによって、IC内で発生される。製品への集積回路の組み込み時に、これらの静電放電がICの機能を破壊しまたは損ない、それによって製品への費用のかかる修理が必要になることがあり、これはICが受け得る静電放電を散逸させるための機構を設ければ避けられる。
通常、ESD保護回路は、「局所的」デバイスである。すなわち、このような保護回路は、ESD損傷を受けやすい回路のノード(すなわち半導体デバイスまたはICの入力ピン)に直接に接続される。このように直接に接続すると、ESD事象時に電圧をたとえば接地へ分流することによって、ノードの電圧が低減される。このような構成の一例を、図1の概略回路図に示す。
ESD保護回路100が、入力パッド110から接地112へ結合されているのが示されている。この構成では回路100は、ESD事象を受けると、その事象たとえば高電圧をパッド110から接地112へ分流し、それによって保護を必要とする集積回路内の回路を保護する。このようなESD保護回路は、本願の譲受人に譲渡された米国特許第6,791,122号に記載されており、同特許をここに参照により組み込む。
より具体的には、ESD保護回路100は、保護回路(たとえばシリコン制御整流器(SCR)116)に結合されたトリガ回路(たとえばnMOSトランジスタ102)を含む。nMOSトランジスタ102のドレイン104は入力パッド110に接続され、そのソース106は抵抗器114を介して接地電位112に接続される。トランジスタ102のゲート108は、抵抗器114を介してソース106に接続される。SCR116は、パッド110に接続された第1の端子118と、接地電位112に接続された第2の端子120とを有する。第3の端子122すなわちトリガ端子は、トランジスタ102のソース106に接続される。動作時は、ESD事象がトリガ回路102によって「検出」されると、SCR116の導通(すなわち「ターン・オン」)を始めさせるためのトリガ信号が発生する。SCR116を通る電流経路が、ESD事象をパッドから接地へ分流する。
米国特許第6,791,122号
残念ながら、このような設計による解決策には、いくつかの欠点がある。(1)ESD保護回路102は、もとの回路設計時には考慮されていなかった「占有面積」(footprint)を生じ得る(すなわち各パッド近傍の集積回路上で追加の面積を占める)。(2)ESD保護回路により、パッド110(ICと他の回路デバイスの間の接続点)に、寄生容量が導入される。(3)トリガ回路がパッドから接地へ電流を漏洩し、一部のICでは、この漏洩が、保護される回路およびIC全体の通常の動作に干渉し得る。
したがって、ESD保護をもたらすことができ、かつ利用可能な設計スペースおよび回路性能への影響が最小な装置が必要である。
従来技術の欠点は、第1の電圧基準電位と第2の電圧基準電位の間に結合されたトリガ部分回路と、トリガ部分回路に結合され、かつESD保護されるべき回路デバイスと第2の電圧基準電位の間に結合されたESD分路部分回路を含むESD回路保護用装置によって克服される。ESD分路部分回路は、集積回路(IC)接続のパッドに結合される。トリガ部分回路にESD電流を供給するために、導電路によってトリガ部分回路が分路部分回路に結合される。一実施形態では、ESD分路部分回路は、ESD保護されるべき回路デバイスに接続されたアノードと、第2の電圧基準電位に接続されたカソードとを有するシリコン制御整流器(SCR)である。
上に記載されたような本発明の特徴を詳細に理解するために、一部が添付の図面で示される実施形態を参照することによって、上記で簡単に要約した本発明についてより具体的に説明する。しかし、添付の図面は、本発明の典型的な実施形態だけを示すものであり、本発明は他の同等に有効な実施形態を許容し得るので、したがって、本発明の範囲を限定すると見なされるものではないことに留意されたい。
分かりやすくするために、各図に共通な同一の要素を示すのに、可能な場合は常に同一の参照番号を用いている。1つの実施形態の一部の要素は、他の実施形態中に有利に組み込み得ることが企図されている。
本発明の実施形態は、全体的な回路設計によって課されるスペース制限への影響が最小であり、かつ保護ポイントにおけるESDの導入によって生じる寄生容量および電流漏洩の可能性を低減または除去するESD保護デバイスを提供する。これらの利点は、まず、ESD保護デバイスを2つの別々な部分として取り組み、次いで必要な結果を得るために、これらの部分のそれぞれを戦略的に配置することによって実現される。この手法の詳細、および全体的な利点は、以下の説明および添付の図面で示される。
図2は、本発明によるESD保護回路(ESDPC)200のブロック図を示す。ESDPC 200は、分路部分回路202と、トリガ部分回路204とを含む。トリガ部分回路204は、どの場合に分路部分回路202が動作状態(すなわち低抵抗)になるべきかを決定し、分路部分回路202は、ESD事象によって生じる電流を、たとえば接地に分流することによって実際の回路保護動作を行う。図2から分かるように、分路部分回路202、およびトリガ部分回路204は、異なるノードに接続されている。トリガ部分回路204は、ノードNthの第1の電圧基準電位206と、ノードNtlの第2の電圧基準電位216の間に接続される。分路部分回路202は、ノードNehの局所/信号ピン110(すなわちIC接続またはESD保護を必要とする他の同様なデバイスのパッド)と、第2の信号ピン208(ノードNeh)の間に接続される。したがって、本発明は、局所ピンに接続されるのではなく基準電位源(たとえばVSS、VDD、Vref)に接続されたトリガ経路を介して、局所的な分流をトリガすることを目指している。ESD事象は、基準電位ピンまたはパッド上に生じ、保護される入力パッド110または208に接続されたクリティカルな回路からESD事象を分流するための分路部分回路をトリガするのに用いることができるものする。
パッド110上のESD事象は、214を介してNtlに、またはパッド212を介してNthに結合される。以下で述べるように、電流経路214または212は、トリガ部分回路204と分路部分回路202の間の短絡接続でよく、経路210として明示的に追加することができ、または分路部分回路202内の内因性経路とすることができる。
動作時は、局所的に印加されたESD事象が発生すると、2つの基準電位源それぞれ206と216の間で、導電回路212を通ってトリガ電流が流れる。このような動作により、次いで、局所/信号パッド110と基準電位源216の間の局所保護がトリガされる。トリガ動作は、トリガ部分回路204の出力210に沿って送られる、分路部分回路202活動化信号を通して行われる。したがって、本発明の一実施形態では、単一のトリガ部分回路204がICの電源端子VDDとVSSの間に結合され、個々の分路部分回路202がICの各入力信号パッドに結合される。端子206と216の間でESD事象が検出されると、単一のトリガ部分回路204が、すべての個々の分路回路202を活動化する。
図3は、図2に示されるような本発明の第1の実施形態であるESDPC 200の回路図を示す。この実施形態では、分路部分回路の実装は、シリコン制御整流器(SCR)302によって実現される。SCR302は、パッド110(パッド=SCRアノード=Neh)と第2の電圧基準電位(VSS)208(SCRカソード/G1=VSS=Nel)の間に結合される。この実施形態では、電流経路214は、ノード208をノード216に接続した短絡である。第1のベース/コレクタ・ノード(G2)306は、第1の電圧基準電位VDDに結合される。SCR302をトリガするために、VDD(Nth)とVSS(Ntl)の間にトリガ回路が付加されている。本発明の一実施形態では、図2のトリガ回路204は、PMOS 304であり、それに接続されたRC回路308/310によってトリガされる。ノード306(G2)とVDDパッド206の間の接続310は、トリガ接続210(図2)として、およびNehとNthの間の導電路(図2の経路212)として働く。
動作時には、最初の電流がパッド110から、SCR302のアノード−G2−ダイオードを通ってVDD(ESDの時点ではフローティング)へ流れる。RC−PMOSの容量が充電されてしまわないうちは、第1の電圧基準電位(VDD)206と第2の電圧基準電位(VSS)208の間で、PMOSトリガ回路304が電流を引き込む。この電流はSCR302のアノード−G2ダイオードを通って流れるので、SCR302はトリガし、パッド110(およびそれに接続されたICピン/デバイス)からESD電流を分流することになる。トリガ回路が動作する必要があるのはSCR302のターン・オン時間の間だけであるので、PMOSの時定数は小さい(SCRのトリガ速度に応じて、約5〜30ns)。第1の電圧基準電位(VDD)206とパッド110の間に交番電流経路(たとえばPMOS出力ドライバ)がある場合は、RC−PMOSは比較的大きな電流レベル(約数100mA程度)に耐えるように設定されることに留意されたい。これは、SCR 302をトリガするのに、トリガ回路を通るすべての電流は用いられないので必要である。
既存の局所クランプに対する、この第1の実施形態の利点は次の通りである。
(1)トリガ回路を複数のIOセルにわたって共有することができ、それにより、部品の重複を避けることによって面積が節約される。
(2)トリガ回路はパッドには付加されず、したがってそれに接続されるデバイスには寄生容量または追加的ノイズが付加されない。
(3)トリガ回路はパッドには付加されず、したがってパッド110と第2の電圧基準電位の間の漏洩電流が少ない。
図4は、図2に示されるような本発明の第2の実施形態であるESDPC 200の回路図を示す。この実施形態では、分路部分回路の実装は、やはりSCR 302によって実現される。SCR 302は、パッド110とVSSの間に結合される(アノード/G2はパッドに結合され、カソードはVSSに結合される)。トリガ回路404は、先の実施形態のように、第1の電圧基準電位VDD 206と第2の電圧基準電位VSS 208の間に構成される。しかし、トリガ回路404は、直列抵抗器406を有するGGNMOS 402を含む。ESD動作時にSCR 302をトリガするために、GGNMOS 402と直列抵抗器406の間のノード408は、SCR 302のG1ノードに(経路410を通して)結合される。さらに、パッド110と第1の電圧基準電位VDD 206の間に、ダイオード412が接続される。パッド110での容量を低減するために、任意選択で、SCR 302のG2ノードを第1の電圧基準電位VDD 206に結合することができる。
ESD事象がパッド110に到達すると、最初の電流が、ダイオード412を通って第1の電圧基準電位VDD 206へ、次いでトリガ回路404を通って流れる。これに応答してGGNMOS 402は、NPNモードとなり、それによってG1ノード408の電位を上昇させる。この電位の上昇により、SCR 302のG1−カソードの「内因性ダイオード」が順バイアスされ、それによってSCR 302がトリガされる。ESD電流は、次いでSCR 302によって分流される。上述の利点(1)、(2)および(3)に加え、この設計の利点は、すべての場合で、トリガ回路404を通る電流がすべてSCR 302をトリガするのに用いられることである。GGNMOS 402は、SCR 302をトリガするために機能するが、一部の場合ではこのトランジスタは、ゲートが内部のノードに結合されて通常の動作機能を有することができることに留意されたい。この場合直列抵抗器406は、通常動作時にSCR 302をトリガしないように注意深く選ばなければならない。
上記は、本発明の実施形態を対象とするものであるが、その基本的な範囲から逸脱することなく本発明のその他の実施形態を考案することができ、その範囲は添付の特許請求の範囲によって定められる。
集積回路の電源パッドに接続された、典型的なESD保護回路の概略回路図である。 本発明によるESD保護回路のブロック図である。 図2に示すESD保護回路の第1の実施形態の概略回路図である。 図2に示すESD保護回路の第2の実施形態の概略回路図である。

Claims (9)

  1. 第1の電圧基準電位と第2の電圧基準電位の間に結合された、能動回路を備えるトリガ部分回路と、
    前記トリガ部分回路に結合され、かつESD保護されるべき回路デバイスと前記第2の電圧基準電位との間に結合された、少なくとも1つのESD分路部分回路とを含むことを特徴とするESD回路保護用装置。
  2. 前記少なくとも1つのESD分路部分回路が、集積回路(IC)接続のパッドを介して、ESD保護されるべき回路デバイスに結合されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
  3. ESD事象が発生したときに、前記トリガ部分回路が、前記少なくとも1つのESD分路部分回路にトリガ信号を送出することを特徴とする請求項1に記載の装置。
  4. 前記少なくとも1つのESD分路部分回路はシリコン制御整流器(SCR)であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
  5. 保護されるべきパッドから離れた場所でのESD事象発生を検出する工程と、
    前記ESD事象を検出に応動して、前記保護されるべきパッドから前記ESD事象を分流する工程とを含むことを特徴とする静電放電(ESD)事象から回路を保護する方法。
  6. 前記分流する工程が、シリコン制御整流器を活動化する工程をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。
  7. 前記離れた場所が、第1の電圧基準電位と第2の電圧基準電位との間であることを特徴とする請求項5に記載の方法。
  8. 前記検出する工程が離れた単一の場所に対して行われ、そして、前記分流する工程が、前記離れた単一の場所でESD事象が検出されたときに、複数の保護されるべきパッドに対して行われることを特徴とする請求項5に記載の方法。
  9. 前記離れた単一の場所が、集積回路の電源入力端子の間であることを特徴とする請求項8に記載の方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013131771A (ja) * 2013-02-11 2013-07-04 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路
JP2016174119A (ja) * 2015-03-18 2016-09-29 セイコーエプソン株式会社 回路装置及び電子機器

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009534845A (ja) * 2006-04-21 2009-09-24 サーノフ コーポレーション 電力状態の検出によるesdクランプ制御
DE102006052949A1 (de) 2006-11-09 2008-05-15 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Beleuchtungsvorrichtung mit einer Lichtquelle und einer Tastvorrichtung
FR2955699B1 (fr) 2010-01-26 2013-08-16 St Microelectronics Rousset Structure de protection d'un circuit integre contre des decharges electrostatiques
US9608437B2 (en) * 2013-09-12 2017-03-28 Qualcomm Incorporated Electro-static discharge protection for integrated circuits
US10446537B2 (en) * 2017-06-20 2019-10-15 Texas Instruments Incorporated Electrostatic discharge devices
CN109887912B (zh) * 2019-03-06 2021-07-13 西安微电子技术研究所 一种面向冷备份系统双极型集成电路应用的静电保护电路
US11418027B1 (en) * 2021-04-07 2022-08-16 Winbond Electronics Corp. Electrostatic discharge protection circuit

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5600525A (en) * 1994-08-17 1997-02-04 David Sarnoff Research Center Inc ESD protection circuit for integrated circuit
TW312047B (en) * 1996-07-19 1997-08-01 Winbond Electronics Corp Low voltage triggered electrostatic discharge protection circuit
US6618233B1 (en) * 1999-08-06 2003-09-09 Sarnoff Corporation Double triggering mechanism for achieving faster turn-on
TW479342B (en) * 2001-01-05 2002-03-11 Macronix Int Co Ltd Electrostatic discharge protection circuit of input/output pad
WO2002075891A1 (en) * 2001-03-16 2002-09-26 Sarnoff Corporation Electrostatic discharge protection structures for high speed technologies with mixed and ultra-low voltage supplies
US6690555B1 (en) * 2001-03-25 2004-02-10 National Semiconductor Corporation Electrostatic discharge protection circuit with cascoded trigger-switch suitable for use with over-voltage tolerant CMOS input/output buffers
JP4008744B2 (ja) * 2002-04-19 2007-11-14 株式会社東芝 半導体装置
TWI264106B (en) * 2002-04-30 2006-10-11 Winbond Electronics Corp Static charge protection circuit of adopting gate-coupled MOSFET (metal-oxide-semiconductor field effect transistor)
US6724603B2 (en) * 2002-08-09 2004-04-20 Motorola, Inc. Electrostatic discharge protection circuitry and method of operation

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013131771A (ja) * 2013-02-11 2013-07-04 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路
JP2016174119A (ja) * 2015-03-18 2016-09-29 セイコーエプソン株式会社 回路装置及び電子機器

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