JP2008508560A - 深紫外スペクトル域拡張型カタジオプトリック結像系 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に従来型対物系の一例構成を示す。この図に示すカタジオプトリック対物系は紫外(ultra violet;UV)域内広スペクトル域イメージング用に特化されたものであり、その使用可能スペクトル域は約0.285〜0.320μmという波長領域を占めている。この対物系のNAは比較的高くまた物体側像面も比較的広い。また、この図の装置は、シュップマン(Schupmann)原理をオフナ(Offner)型像面レンズと組み合わせることによって、軸方向色収差及び一次横方向色収差が補正されるよう構成されている。また、この図から読み取れるように、像面レンズ105が中間像106形成位置から僅かにずれた位置に配置されており、これによって性能向上が図られている。
ここに、図1に示した装置においては、使用するガラス素材を一種類に限っていた。即ち、紫外−深紫外域における光透過率が高いことを理由に、熔融シリカを用いていた。熔融シリカには、熱的安定性が割合によい、研磨が割合に容易である等の利点もある。
図2に本発明の一実施形態に係る装置を示す。この図に示す装置は約212〜267nmの波長域で動作する装置であり、熔融シリカ製レンズによって構成されている。また、その像面レンズ205はドーム状マンジャンレンズ/ミラー素子206側に偏った位置にある。更に、この図の構成における像面サイズは約0.13mmであり、その像面辺縁部における多色シュトレール(Strehl)比は約0.90超である。その構成要素のうち第1レンズ群210は第1レンズ201、第2レンズ202、第3レンズ203及び第4レンズ204を含んでおり、この第1レンズ群210によって中間像220が形成される。また、この装置は、更に、ドーム状マンジャンレンズ/ミラー素子206、それと中間像220の間に配置された像面レンズ205、並びに標本(図示せず)に近づけることができる内側レンズ207を備えている。マンジャンレンズ/ミラー素子206及び内側レンズ207はカタジオプトリック群208を構成している。
Claims (22)
- 光エネルギを捉えて合焦光エネルギをもたらし中間像を形成する合焦レンズを少なくとも1個含むレンズ群と、
中間像を捉えて中間光エネルギを出射するようその向きが設定された少なくとも1個の像面レンズと、
像面レンズからの中間光エネルギを捉えて制御光エネルギをもたらすよう配置されたマンジャンミラー列と、
を備え、
像面レンズのうち少なくとも1個を形成する素材が本対物系内のレンズのうち他の少なくとも1個を形成する素材と異なり、
使用可能スペクトル域が広い標本イメージング用の対物系。 - 請求項1記載の対物系であって、未補正使用可能スペクトル域が少なくとも212〜266nmの領域に亘る対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、その像面位置における多色シュトレール比が約0.9超である対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、そのマンジャンミラー列が、マンジャンレンズ/ミラー素子に更に他のレンズを随伴させた構成を有する対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、その像面レンズのうち少なくとも1個が弗化カルシウムによって、他のレンズのうち少なくとも1個が熔融シリカによって、それぞれ形成された対物系。
- 請求項5記載の対物系であって、像面レンズのうち少なくとも1個に加え、他のレンズのうち少なくとも1個が弗化カルシウムによって形成された対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、その像面レンズのうち少なくとも1個が中間像とマンジャンミラー列の間に配置された対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、標本に射突した光エネルギのうち少なくとも一部が標本から戻り、マンジャンミラー列、像面レンズのうち少なくとも1個、並びにレンズ群のうち少なくとも一部を通り抜ける対物系。
- 請求項2記載の対物系であって、その使用可能スペクトル域が少なくとも193〜266nmの領域に亘る対物系。
- 光エネルギを捉えて中間像に変換する複数個のレンズと、
中間像を捉えて像面結像光エネルギをもたらす少なくとも1個の像面レンズと、
像面結像光エネルギを捉え標本にカタジオプトリックエネルギを供給するカタジオプトリック群と、
を備え、使用可能スペクトル域が広い標本イメージング用の対物系。 - 請求項10記載の対物系であって、その使用可能スペクトル域が少なくとも193〜266nmの領域に亘る対物系。
- 請求項10記載の対物系であって、その像面位置における多色シュトレール比が約0.9超である対物系。
- 請求項10記載の対物系であって、そのカタジオプトリック群が、マンジャンレンズ/ミラー素子に更に他のレンズを随伴させた構成を有する対物系。
- 請求項10記載の対物系であって、その像面レンズのうち少なくとも1個が弗化カルシウムによって、他のレンズのうち少なくとも1個が熔融シリカによって、それぞれ形成された対物系。
- 請求項14記載の対物系であって、像面レンズのうち少なくとも1個に加え、他のレンズのうち少なくとも1個が弗化カルシウムによって形成された対物系。
- 請求項10記載の対物系であって、その像面レンズのうち少なくとも1個が中間像とカタジオプトリック群の間に配置された対物系。
- 請求項10記載の対物系であって、標本に射突した光エネルギのうち少なくとも一部が標本から戻り、カタジオプトリック群、並びに上記複数個のレンズのうち少なくとも1個を通り抜ける対物系。
- 請求項11記載の対物系であって、その使用可能スペクトル域が少なくとも193〜266nmの領域に亘る対物系。
- 標本をイメージングする方法であって、
光エネルギを捉えるステップと、
その光エネルギを中間像に変換するステップと、
少なくとも1個の像面レンズを用いその中間像から像面結像光エネルギを生成するステップと、
マンジャンレンズ/ミラー素子を用いてその像面結像光エネルギをカタジオプトリックエネルギに変換し更にそのカタジオプトリックエネルギを標本に供給するステップと、
を有する方法。 - 請求項19記載の方法であって、上記各ステップの実行によって少なくとも193〜266nmの領域に亘る使用可能スペクトル域を得る方法。
- 請求項19記載の方法であって、上記各ステップの実行によって像面位置にて約0.9超の多色シュトレール比を得る方法。
- 請求項20記載の方法であって、上記各ステップの実行によって少なくとも193〜266nmの領域に亘る使用可能スペクトル域を得る方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012150245A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Canon Inc | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
JP2013029654A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-02-07 | Canon Inc | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3358387A1 (en) | 2010-08-27 | 2018-08-08 | The Board of Trustees of The Leland Stanford Junior University | Microscopy imaging device with advanced imaging properties |
JP5656682B2 (ja) * | 2011-02-22 | 2015-01-21 | キヤノン株式会社 | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
CN103309019A (zh) * | 2013-06-24 | 2013-09-18 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 紫外多波段全景成像仪光学系统 |
DE102013112212B4 (de) * | 2013-11-06 | 2022-03-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Zoomeinrichtung, optische Abbildungseinrichtung, optisches Zoomverfahren und Abbildungsverfahren für die Mikroskopie |
JP6493087B2 (ja) * | 2015-08-24 | 2019-04-03 | 株式会社デンソー | 車載カメラ装置 |
WO2021101592A1 (en) * | 2019-11-22 | 2021-05-27 | Howard Hughes Medical Institute | Catadioptric microscopy |
KR102507043B1 (ko) * | 2022-04-18 | 2023-03-07 | (주)그린광학 | 고 분해능을 갖도록 하는 이미징용 광학계 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000039623A1 (fr) * | 1998-12-25 | 2000-07-06 | Nikon Corporation | Systeme optique de formation d'image par reflexion refraction et appareil d'exposition par projection comprenant le systeme optique |
JP2003161886A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-06-06 | Nikon Corp | 対物レンズ及びそれを用いた光学装置 |
Family Cites Families (62)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE108181C (ja) | ||||
US1973066A (en) * | 1932-11-11 | 1934-09-11 | Zeiss Carl Fa | Microscope for examining the profiles of surfaces |
US2661658A (en) * | 1948-07-19 | 1953-12-08 | Ass Elect Ind | Optical system for increasing the working distances of microscope objectives |
US3237515A (en) * | 1963-04-16 | 1966-03-01 | Bausch & Lomb | Afocal telecentric catadioptric optical system for measuring instruments |
US5449597A (en) * | 1966-04-21 | 1995-09-12 | Sawyer; George M. | Lippmann process of color photography, which produces a photograph with a 2-dimensional image, to result in another process of color photography which produces a photograph with a 3-dimensional image |
US4155630A (en) * | 1977-11-17 | 1979-05-22 | University Of Delaware | Speckle elimination by random spatial phase modulation |
US4511220A (en) * | 1982-12-23 | 1985-04-16 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Laser target speckle eliminator |
GB8410973D0 (en) * | 1984-04-30 | 1984-06-06 | Crosfield Electronics Ltd | Modifying coherent radiation |
US4779966A (en) * | 1984-12-21 | 1988-10-25 | The Perkin-Elmer Corporation | Single mirror projection optical system |
US4795244A (en) * | 1985-09-20 | 1989-01-03 | Nikon Corporation | Projection type exposure apparatus |
US4758088A (en) * | 1987-05-01 | 1988-07-19 | Laser Precision Corporation | Microscope accessory which facilitates radiation transmission measurements in the reflectance mode |
US4898471A (en) | 1987-06-18 | 1990-02-06 | Tencor Instruments | Particle detection on patterned wafers and the like |
DE3742806A1 (de) | 1987-12-17 | 1989-07-13 | Zeiss Carl Fa | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von fluoreszenzbildern |
US5110505A (en) * | 1989-02-24 | 1992-05-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Small-particle semiconductors in rigid matrices |
US4971428A (en) | 1989-03-27 | 1990-11-20 | Lenzar Optics Corporation | Catadioptric zoom lens |
US5140459A (en) * | 1989-08-29 | 1992-08-18 | Texas Instruments | Apparatus and method for optical relay and reimaging |
JPH058576Y2 (ja) * | 1989-11-07 | 1993-03-03 | ||
US4989471A (en) * | 1989-12-01 | 1991-02-05 | Ford New Holland, Inc. | Method of calibrating clutches in transmissions |
US4974094A (en) * | 1989-12-04 | 1990-11-27 | Yuhkoh Morito | Direct lighting/illuminating system for miniature CCD camera |
US5114238A (en) * | 1990-06-28 | 1992-05-19 | Lockheed Missiles & Space Company, Inc. | Infrared catadioptric zoom relay telescope |
US5089913A (en) * | 1990-07-11 | 1992-02-18 | International Business Machines Corporation | High resolution reduction catadioptric relay lens |
US5031976A (en) * | 1990-09-24 | 1991-07-16 | Kla Instruments, Corporation | Catadioptric imaging system |
US5274494A (en) * | 1991-04-25 | 1993-12-28 | Hughes Aircraft Company | Speckle suppression illuminator |
US5177559A (en) * | 1991-05-17 | 1993-01-05 | International Business Machines Corporation | Dark field imaging defect inspection system for repetitive pattern integrated circuits |
US5668673A (en) * | 1991-08-05 | 1997-09-16 | Nikon Corporation | Catadioptric reduction projection optical system |
US5233460A (en) * | 1992-01-31 | 1993-08-03 | Regents Of The University Of California | Method and means for reducing speckle in coherent laser pulses |
US5264912A (en) | 1992-02-07 | 1993-11-23 | Tencor Instruments | Speckle reduction track filter apparatus for optical inspection of patterned substrates |
US6219015B1 (en) * | 1992-04-28 | 2001-04-17 | The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images |
GB9215595D0 (en) | 1992-07-22 | 1992-09-02 | Univ Nottingham | Optical systems |
US5337170A (en) * | 1992-07-29 | 1994-08-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Quadratic optical processor for reducing multiplicative noise and other uses |
US5309456A (en) * | 1992-10-30 | 1994-05-03 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Pulse stretcher |
US5323263A (en) * | 1993-02-01 | 1994-06-21 | Nikon Precision Inc. | Off-axis catadioptric projection system |
US5636066A (en) * | 1993-03-12 | 1997-06-03 | Nikon Corporation | Optical apparatus |
JP3635684B2 (ja) * | 1994-08-23 | 2005-04-06 | 株式会社ニコン | 反射屈折縮小投影光学系、反射屈折光学系、並びに投影露光方法及び装置 |
JPH09311278A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-12-02 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
US5428442A (en) * | 1993-09-30 | 1995-06-27 | Optical Specialties, Inc. | Inspection system with in-lens, off-axis illuminator |
US5515207A (en) * | 1993-11-03 | 1996-05-07 | Nikon Precision Inc. | Multiple mirror catadioptric optical system |
US5434662A (en) * | 1993-12-23 | 1995-07-18 | Hughes Aircraft Company | Speckle resistant method and apparatus with chirped laser beam |
DE4413832C2 (de) * | 1994-04-20 | 2000-05-31 | Siemens Ag | Vorrichtungen zur Kontrolle von Halbleiterscheiben |
JP3395801B2 (ja) * | 1994-04-28 | 2003-04-14 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法 |
US5990983A (en) * | 1994-09-30 | 1999-11-23 | Laser Power Corporation | High resolution image projection system and method employing lasers |
US5488229A (en) * | 1994-10-04 | 1996-01-30 | Excimer Laser Systems, Inc. | Deep ultraviolet microlithography system |
US5621529A (en) * | 1995-04-05 | 1997-04-15 | Intelligent Automation Systems, Inc. | Apparatus and method for projecting laser pattern with reduced speckle noise |
US6512631B2 (en) * | 1996-07-22 | 2003-01-28 | Kla-Tencor Corporation | Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system |
US5729374A (en) * | 1995-07-03 | 1998-03-17 | The Regents Of The University Of California | Speckle averaging system for laser raster-scan image projection |
WO1997012226A1 (en) | 1995-09-25 | 1997-04-03 | Tencor Instruments | Improved system for surface inspection |
US5748365A (en) | 1996-03-26 | 1998-05-05 | Hughes Electronics | Catadioptric one-to-one telecentric image combining system |
DE19616922A1 (de) * | 1996-04-27 | 1997-10-30 | Zeiss Carl Fa | Hochauflösendes lichtstarkes Objektiv |
JPH103041A (ja) * | 1996-06-14 | 1998-01-06 | Nikon Corp | 反射屈折縮小光学系 |
JPH1020195A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
US6064517A (en) * | 1996-07-22 | 2000-05-16 | Kla-Tencor Corporation | High NA system for multiple mode imaging |
US5717518A (en) * | 1996-07-22 | 1998-02-10 | Kla Instruments Corporation | Broad spectrum ultraviolet catadioptric imaging system |
US6483638B1 (en) * | 1996-07-22 | 2002-11-19 | Kla-Tencor Corporation | Ultra-broadband UV microscope imaging system with wide range zoom capability |
US5999310A (en) * | 1996-07-22 | 1999-12-07 | Shafer; David Ross | Ultra-broadband UV microscope imaging system with wide range zoom capability |
WO2000011766A1 (en) * | 1998-08-20 | 2000-03-02 | Orbotech Ltd. | Laser repetition rate multiplier |
US6370178B1 (en) * | 1998-12-21 | 2002-04-09 | Imed Lasers | Wide area laser and multi-pass laser optical cavity for use therein |
US6191887B1 (en) * | 1999-01-20 | 2001-02-20 | Tropel Corporation | Laser illumination with speckle reduction |
US6362923B1 (en) * | 2000-03-10 | 2002-03-26 | Kla-Tencor | Lens for microscopic inspection |
JP2002083766A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-03-22 | Nikon Corp | 投影光学系、該光学系の製造方法、及び前記光学系を備えた投影露光装置 |
US6842298B1 (en) * | 2000-09-12 | 2005-01-11 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Broad band DUV, VUV long-working distance catadioptric imaging system |
US6548797B1 (en) * | 2000-10-20 | 2003-04-15 | Nikon Corporation | Apparatus and method for measuring a wavefront using a screen with apertures adjacent to a multi-lens array |
US8675276B2 (en) * | 2003-02-21 | 2014-03-18 | Kla-Tencor Corporation | Catadioptric imaging system for broad band microscopy |
-
2004
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2013
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000039623A1 (fr) * | 1998-12-25 | 2000-07-06 | Nikon Corporation | Systeme optique de formation d'image par reflexion refraction et appareil d'exposition par projection comprenant le systeme optique |
JP2003161886A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-06-06 | Nikon Corp | 対物レンズ及びそれを用いた光学装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012150245A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Canon Inc | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
JP2013029654A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-02-07 | Canon Inc | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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