JP2008506692A - 炎症性障害の処置のためのヒダントイン誘導体 - Google Patents
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Abstract
Description
(発明の分野)
本発明は、概して、マトリックスメタロプロテイナーゼ(MMP)、メタロプロテアーゼ・ディスインテグリン(ADAM)ならびに/または腫瘍壊死因子α−変換酵素(TACE)を阻害し得、そしてその際に腫瘍壊死因子α(TNF−α)の放出を防ぐ新規なヒダントイン誘導体、そのような化合物を含む薬学的組成物、およびそのような化合物を使用する処置方法に関する。
変形性関節症(OA)および関節リウマチ(RA)は、軟骨表面の限局性侵食によって特徴付けられる関節軟骨の破壊性疾患である。OAを有する患者の大腿骨頭に由来する関節軟骨は、例えば、コントロールよりも放射標識された硫酸塩の取り込みが少ないという知見が示されており、これは、OAにおいて軟骨の分解速度が促進されているはずであることを示唆している(非特許文献1)。哺乳動物細胞では4つのクラスのタンパク質分解酵素が存在する:セリンプロテアーゼ、システインプロテアーゼ、アスパラギン酸プロテアーゼおよびメタロプロテアーゼ。入手可能な証拠は、OAおよびRAにおける関節軟骨細胞外マトリックスの分解に関与するものがメタロプロテイナーゼであるという考えを支持する。コラゲナーゼおよびストロメライシンの活性の増加はOAの軟骨で見出されており、この活性は、病変の重篤度と関連する(非特許文献2、非特許文献3および非特許文献4)。さらに、アグリカナーゼ(新たに同定されたメタロプロテアーゼ)は、RA患者およびOA患者に見出されるプロテオグリカンの特定の切断産物を提供すると同定されている(非特許文献5)。
その多くの実施形態において、本発明は、TACE、TNF−α、MMP、ADAMまたはそれらの任意の組み合わせの産生のインヒビターとして新規なクラスの化合物、そのような化合物を調製する方法、そのような化合物を1つ以上含む薬学的組成物、そのような化合物を1つ以上含む薬学的処方物を調製する方法、ならびにそのような化合物または訴を用いてTACE、TNF−α、MMPADAMまたはそれらの任意の組み合わせに関連する1以上の疾患を処置、予防、阻害または改善する方法を提供する。
Xは、−S−、−C(R4)2−または−N(R4)−からなる群より選択され;
Tは、H(UおよびVは存在しない)、アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択され、該アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルは、必要に応じて、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアルールおよびアリールアルキルから選択される1以上の部分と縮合され、ここで、Tの該アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキル基のいずれかの各々は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR10部分で独立して置換され、該R10部分は、同じであるかまたは異なり得、各R10部分は独立して、以下のR10部分の群から選択され;
Uは、存在しないか、または存在し、存在する場合、Uは、共有結合、−N(R4)−、−N(R4)C(R4)2−、−N(R4)C(O)−−O−、−N(R4)S(O)2−、−N(R4)C(O)N(R4)−、および−N(R4)C(S)N(R4)−から選択され;
Vは、存在しないか、または存在し、存在する場合、Vは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリルおよびシクロアルキルからなる群より選択され、該アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルは、必要に応じて、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択される1以上の部分と縮合され、ここで、該アルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリルおよびシクロアルキルのいずれかの各々は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR10部分で独立して置換され、該R10部分は、同じであるかまたは異なり得、各R10部分は独立して、以下のR10部分の群から選択され;
Yは、存在しないか、または存在し、存在する場合、Yは、共有結合、−N(R4)−、−C(O)N(R4)−、−N(R4)C(O)−、−N(R4)C(O)N(R4)−、−S(O)2N(R4)−、−N(R4)−S(O)2−、−O−、−S−、−C(O)−、−S(O)−、および−S(O)2−からなる群より選択され;
Zは、存在しないか、または存在し、存在する場合、Zは、共有結合、−(C(R4)2)n−、−N(R4)−、−C(O)N(R4)−、−N(R4)C(O)−、−N(R4)C(O)N(R4)−、−S(O)2N(R4)−、−N(R4)−S(O)2−、−O−、−S−、−C(O)−、−S(O)−、および−S(O)2−からなる群より選択され;
nは、1〜3であり;
R1は、H、−OR4、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択され、R1の該アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアリールアルキル基の各々は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR20部分で独立して置換され、該R20部分は、同じであるかまたは異なり得、各R20部分は独立して、以下のR20部分の群から選択され、但し、Yが存在しかつYがN、SまたはOである場合、R1はハロゲンではなく;
R2は、H、−OR4、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択され、ここで、R2の該アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアリールアルキル基は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR20部分で独立して置換され、該R20部分は、同じであるかまたは異なり得、各R20部分は独立して、以下のR20部分の群から選択され、但し、Zが存在しかつZがN、SまたはOである場合、R2はハロゲンではなく;
各R4は、同じであるかまたは異なり、独立してHおよびアルキルからなる群より選択され;
R10は、−OR4、−N(R4)2、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R4)S(O)2−、−S(O)2N(R4)−、−O(フルオロアルキル)、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択され、ここで、R10の該アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキル基の各々は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR30部分で独立して置換され、該R30部分は、同じであるかまたは異なり得、各R30部分は独立して、以下のR30部分の群から選択され;
R20は、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキルからなる群より選択され;
R30は、ハロゲン、アルキルおよびフルオロアルキルからなる群より選択される。
その数個の実施形態において、本発明は、TACE、TNF−α、MMP、ADAMまたはそれらの任意の組み合わせの産生の新規なクラスのインヒビター、その化合物を1つ以上含む薬学的組成物、そのような化合物を1つ以上含む薬学的処方物を調製する方法、および炎症の1つ以上の症状を処置、予防または改善する方法を提供する。
以下の表Aに示される化合物を開示する:
以下の表Bに示される好ましい化合物を開示する:
以下の表Cに示されるより好ましい化合物を開示する:
「患者」は、ヒトおよび動物の両方を包含する。
を意味し、その鎖は直鎖状であっても分枝であってもよい。適切なアルケニル基の非限定的な例としては、エテニル、プロペニル、n−ブテニル、3−メチルブト−2−エニル、n−ペンテニル、オクテニルおよびデセニルが挙げられる。
本発明に関する化合物は、適切な経鼻腔用ビヒクルの局所使用を通じ、経鼻腔形態で投与されるか、または当業者に周知である経皮用皮膚パッチの形態を使用し、経皮経路を通じて投与され得る。経皮送達系の形態で投与するために、調剤投与は、当然、投薬レジメンを通じて断続的というよりむしろ継続的である。本発明の化合物はまた、基剤(例えば、カカオ脂、グリセリンゼラチン、水素化植物油、多様な分子量のポリエチレングリコールの混合物、およびポリエチレングリコールの脂肪酸エステル)を使用した坐薬として送達され得る。
ACN アセトニトリル
AcOH 酢酸
Aq 水
BOC tert−ブトキシカルボニル
BOC−ON [2−(tert−ブトキシカルボニルオキシイミノ)−2−フェニルアセトニトリル]
BOC2O BOC無水物
C 摂氏度
CBZCl クロロギ酸ベンジル
DBU 1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エン
DCM ジクロロメタン
DEAD アゾジカルボン酸ジエチル
(DHQ)2PHAL ヒドロキニン1,4−フタラジンジイルジエーテル
DIAD ジイソプロピルアゾジカルボキシレート
DIPEA ジイソプロピルエチルアミン
DMA N,N−ジメチルアセトアミド
DMAP 4−ジメチルアミノピリジン
DME ジメトキシエタン
DMF ジメチルホルムアミド
DMFDMA N,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール
DMPU 1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1h)−ピリミジノン
DMSO ジメチルスルホキシド
EDCl 1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩
EI 電子衝撃イオン化
Eq 当量
EtOAc 酢酸エチル
EtOH エタノール
g グラム
h. 時間
1H プロトン
HATU N,N,N’,N’−テトラメチル−O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)ウロニウムヘキサフルオロホスフェート
Hex ヘキサン
HOBT 1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
HPLC 高圧液体クロマトグラフィ
LAH 水素化アルミニウムリチウム
LDA リチウムジイソプロピルアミド
M モル
mmol ミリモル
mCPBA メタ−クロロペルオキシ安息香酸
Me メチル
MeCN アセトニトリル
MeOH メタノール
min 分
mg ミリグラム
MHZ メガヘルツ
mL ミリリットル
MPLC 中圧液体クロマトグラフィ
NMR 核磁気共鳴
MS 質量分析
NBS N−ブロモコハク酸イミド
NMM N−メチルモルホリン
NMP 1−メチル−2−ピロリドン
ON 一晩
PCC 塩化クロム酸ピリジウム
PTLC 分取薄層クロマトグラフィ
PyBrOP ブロモ−トリス−ピロリジノ−ホスホニウム−ヘキサフルオロホスフェート
Pyr ピリジン
RT 室温
sgc シリカゲル60クロマトグラフィ
tBOC tert−ブトキシカルボニル
TACE TNF−α変換酵素
TEA トリエチルアミン
TFA トリフルオロ酢酸
THF テトラヒドロフラン
TLC 薄層クロマトグラフィ。
(実施例1)
工程1において、化合物1A(市販のものか、Abdalla,G.M.and Sowell,J.W.Journal of Heterocyclic Chemistry,1987,24(2),297−301によって記載される手順と類似の手順により調製される)を、極性溶媒(例えば、DMF)中の1当量の二炭酸ジ−tert−ブチルで、30分間〜12時間処置した。溶媒を除去し、化合物1Bをさらなる精製なしに使用するか、またはシリカゲルクロマトグラフィにより生成し得た。
化合物2A(Abdalla,G.M.and Sowell,J.W.Journal of Heterocyclic Chemistry,1987,24(2),297−301)(塩酸塩、8.60g、45.4mmol)、トリエチルアミン(19.0mL、136mmol)、および二炭酸ジ−tert−ブチル(11.9g、54.4mmol)を、塩化メチレン(100mL)中で、25℃にて16時間攪拌した。飽和NaHCO3水(150mL)を加えた。水相を、CH2Cl2(100mL)で2回、抽出した。有機相をブライン(100mL)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。溶媒をロータリーエバポレータにより除去し、化合物2Bを得、この得られた化合物2Bを、さらなる精製なしに使用した。
化合物2B(9.06g、35.8mmol)、KCN(3.49g、53.7mmol)、および(NH4)2CO3(12.0g、125.2mmol)を、EtOH(35mL)と水(35mL)との混合物中に懸濁させた。この溶液を、70℃にて3日間攪拌した。完全に冷却した後、水(35mL)を加えた。固体を濾過し、水で3回洗浄した。この固体を、真空下で40℃にて16時間乾燥させ、化合物2C(7.9g、68%)を得た。
化合物2C(4.0g)を、メタノール(50mL)中に懸濁させ、HCl(ジオキサン中4M、20mL)を加えた。この溶液を、25℃にて3時間攪拌した。エチルエーテル(50ml)を加えた。固体を濾過し、エチルエーテルで2回洗浄し、真空下で12時間乾燥させ、化合物2D(2.7g、84%)を得た。
工程1において、5−ヒドロキシ−2−ニトロ−安息香酸(化合物3A)を、適切な溶媒(例えば、DMF)に溶解させ、炭酸セシウムの存在下、室温にて2時間〜16時間、アルキルクロリドまたはアルキルブロミドと反応させた。水およびEtOAcを加えた。有機相を、水で1回〜5回洗浄し、DMFを除去した。有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、濃縮させて、粗生成物(化合物3B)を得、この得られた粗生成物を、さらなる精製なしに使用した。
25mLフラスコを、化合物4C(331mg、1.68mmol)、化合物4D(Stratford,E.S.and Curley,R.W.Jr,J.Med.Chem.1983,26,1463−1469)(200mg、1.4mmol)、EDCl(403mg、2.1mmol)、HOBT(227mg、1.68mmol)、NMM(0.46mL、4.2mmol)、およびDMF(7mL)で満たした。この溶液を、室温にて一晩攪拌した。飽和NaHCO3水(30mL)およびEtOAc(50mL)を加えた。有機相を分離し、水(20mL)およびブライン(20mL)で洗浄し、次いで、Na2SO4で乾燥させた。溶媒をエバポレートし、粗生成物を、シリカゲルクロマトグラフィ(CH2Cl2/MeOH/NH4OH 20:1:0.1〜10:1:0.1)により単離して、化合物4E(201mg、45%)を得た。
10mLフラスコに、化合物4E(50mg、0.155mmol)、NaOH(25mg、0.62mmol)、亜鉛粉末(62mg、0.47mmol)、MeOH(0.5mL)および水(0.5mL)を加えた。この溶液を、75℃にて16時間攪拌した。室温に冷却後、固体を濾過により除去した。濾液を、2N HClを加えることにより、pH=5に調節した。水相を、EtOAc(10mL)により抽出した。有機溶液をNa2SO4で乾燥させ、濃縮した。生成物を、シリカゲルクロマトグラフィ(CH2Cl2/MeOH/NH4OH 40:1:0.1〜20:1:0.1〜10:1:0.1)により単離して、化合物4F6.5mg(14%)を得た。
化合物5A(1.33g、7.26mmol)、臭化ベンジル(2.73g、16.0mmol)、およびCs2CO3(7.1g、22.0mmol)を、DMF(30mL)中で混合し、室温にて一晩攪拌した。飽和NaHCO3水(100mL)を加え、水相をEtOAc(100mL)で2回、抽出した。合わせた有機相をブライン(50mL)で洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、濾過し、ロータリーエバポレータにより濃縮した。生成物を、シリカゲルクロマトグラフィ(ヘキサン/EtOAc: 10;1〜5:1)により単離して、化合物5B(2.25g、89%)を得た。
化合物5B(2.25g、6.44mmol)を、ジオキサン/水(3:1、35mL)に溶解させ、LiOH(810mg、19.3mmol)を加えた。この溶液を、室温にて3時間、攪拌した。水(30mL)を加え、続いて2N HCl(30mL)を加えた。水相を、EtOAc(50mL)で3回、抽出した。有機相を、ブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、濾過し、ロータリーエバポレータにより濃縮した。粗生成物を、シリカゲルクロマトグラフィ(CH2Cl2/MeOH/HCO2H 40:1:0.1〜20:1:0.1)により精製して、化合物5C(1.6g、91%)を得た。
工程1において、4−ブロモ−2−ニトロ−安息香酸(化合物6A)を、適切な溶媒(例えば、DMF)に溶解させ、炭酸セシウムの存在下、室温にて2時間〜16時間、ヨウ化メチルと反応させた。水およびEtOAcを加え、有機相を水により1回〜5回洗浄して、DMFを除去した。有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、濃縮し、そして乾燥させて、粗生成物(化合物6B)を得、この得られた粗生成物を、さらなる精製なしに使用した。
化合物7A(10.0g、40.7mmol)を、DMF(100mL)に溶解させた。Cs2CO3(27.0g、81.3mmol)およびヨウ化メチル(7.60mL、122.0mmol)を加えた。この溶液を室温にて一晩攪拌した。EtOAc(250mL)および水(100mL)を加えた。有機相を分離し、水(100mL)で3回およびブライン(50mL)で洗浄し、次いで、Na2SO4で乾燥させ、濾過し、ロータリーエバポレータを使用して濃縮した。生成物を真空下で乾燥させて、化合物7B(10.3g、97%)を得た。
Pd(OAc)2(43mg、0.19mmol)、ラセミ−2−(ジ−t−ブチルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(92mg、0.23mmol)、およびCs2CO3(1.88g、5.76mmol)を、50mLフラスコに入れた。このフラスコを、2分間、真空下に置き、N2で再び満たした。化合物7B(1.00g、3.84mmol)およびMeOH(0.311mL、7.69mmol)を、トルエン(10mL)に溶解させた。得られた溶液を、ピペットにより上記のフラスコに加えた。この反応混合物を、70℃の油浴にて48時間攪拌した。室温に冷却後、固体を濾過し、ロータリーエバポレータを使用して溶媒を除去した。生成物を、シリカゲルクロマトグラフィ(ヘキサン/EtOAc 20:1〜10:1)により単離して、化合物7C(380mg、47%)を得た。
化合物7C(380mg、1.80mmol)を、ジオキサン/水(3:1、8mL)に溶解させ,LiOH(378mg、9.0mmol)を加えた。この溶液を、室温にて3時間攪拌した。水(5mL)を加え、続いて2N HClを加えて、pH=2〜4に調節した。水相を、EtOAc(10mL)で3回、抽出した。有機相をブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮した。粗生成物を真空下で乾燥させて、化合物7Dを得、この得られた化合物7Dを、さらなる精製なしに使用した。
工程1において、化合物8Aを、適切な溶媒(例えば、DMF)に溶解させ、炭酸セシウムの存在下で、室温にて2時間〜16時間、ヨウ化メチルと反応させた。水およびEtOAcを加え、有機相を水により1回〜5回洗浄して、DMFを除去した。この有機相をブラインで洗浄し、乾燥させ、濃縮し、そして乾燥させて、粗生成物(化合物8B)を得、この得られた粗生成物を、さらなる精製なしに使用した。
化合物9C(Wyrick,S.D.et al.Journal of Medicinal Chemistry,1987,30(10),1798−806によって記載される手順に従って調製される)(3.33g、18.5mmol)を、乾燥ベンゼン(40mL)に溶解させた。NBS(3.45g、19.4mmol)および過酸化ベンゾイル(134mg、0.55mmol)を加えた。この溶液を、75℃の油浴中で約2時間攪拌した。完全に冷却した後、固体を濾過し、Et2O(150mL)で洗浄した。次いで、有機溶液を水(50mL)で2回洗浄し、Na2SO4またはMgSO4で乾燥させて、濾過し、ロータリーエバポレータにより濃縮した。粗生成物を真空下で乾燥させて、化合物9Dを得、この得られた粗生成物を、さらなる精製なしに使用した。この物質の約75%が化合物9Dであることを示す、1H−NMRが得られた。
化合物9D(4.62mmol)、化合物9E(824mg、4.62mmol)およびK2CO3(1.28g、9.24mmol)を、DMF(30mL)中で混合した。この溶液を、室温にて20時間攪拌した。DMF(15mL)を加え、固体を濾過し、DMFで洗浄した。全てのDMF溶液を合わせ、25mLに濃縮した。得られた溶液を、逆相MPLC(CH3CN/水、5%〜90%、0.1%HCO2Hを含む)に適用し、化合物9F(198mg、15%)を得た。
化合物10D(実施例9で調製される)(902mg、2.07mmol、ファクター=0.75)、化合物10E(実施例1に記載のように調製される、500mg、2.07mmol)およびK2CO3(629mg、4.56mmol)を、DMF(15mL)中で混合した。この溶液を、室温にて20時間攪拌した。DMF(15mL)を加え、固体を濾過し、DMFで洗浄した。全てのDMF溶液を合わせ、20mLに濃縮した。これを逆相MPLC(CH3CN/水、5%〜90%、0.1%HCO2Hを含む)に適用し、化合物10Fを得た。
化合物10F(工程4で調製される)を、MeOH(5mL)に溶解させ、65℃にて5時間攪拌し、次いで、濃縮乾固した。この化合物を水中に懸濁させ、凍結乾燥器で乾燥させて、化合物10G(68.3mg、9.4%)を得た。
化合物11B(500mg、2.18mmol)、2−トリブチルスタンニルチアゾール(0.97mL、2.84mmol)、Pd(PPh3)2Cl2、および乾燥CH3CNを、窒素下で、還流温度にて一晩攪拌した。室温に冷却後、固体を濾過した。生成物を、シリカゲルクロマトグラフィ(ヘキサン/EtOAc 20:1〜10:1〜5:1)により単離して、化合物11C(480mg、94%)を得た。
工程1において、ラセミ化合物12Aを、極性溶媒(例えば、DMF)中の1当量の二炭酸ジ−tert−ブチル、および4−N,N−ジメチルアミノピリジンで、30分間〜12時間、処理した。溶媒を除去し、生成物(化合物12B)を、シリカゲル(ヘキサン中の1%トリエチルアミンで予め処理)クロマトグラフィにより単離した。
化合物13A(810mg、2,07mmol)、二炭酸ジ−tert−ブチル(429mg、1.97mmol)、および4−ジメチルアミノピリジン(20mg)を、DMF(10mL)とTHF(20mL)との混合物に溶解させた。この溶液を、25℃にて一晩攪拌した。溶媒を、ロータリーエバポレータにより除去した。生成物を、C18クロマトグラフィ(CH3CN/水:5%〜90%)により単離して、生成物13B(650mg、70%)を得た。
化合物13B(600mg)を、イソ−プロパノール(6mL)とCHCl3(4mL)との混合物に溶解させた。2.5mLを、分取chiralcel ODカラム(移動相:イソプロパノール/ヘキサン: 1:4)を用いたHPLCにより分離した。各ピークの画分を回収し、ロータリーエバポレータにより濃縮して、化合物13C(第一ピーク、197mg)および化合物13D(第二ピーク、178mg)を得た。
化合物13C(197mg)を、メタノール(3mL)に溶解させた。HCl(ジオキサン中4M、0.5mL)を加えた。この溶液を、60℃の油浴中で3時間攪拌した。メタノールをロータリーエバポレータにより除去して、化合物13Eを得た。
工程1において、化合物14A(実施例1に記載のように調製される)を、25℃〜60℃にて、12時間〜24時間、DMF中の臭化ベンジル(化合物14B)およびDIPEA塩基で処理した。この反応溶液を、C18逆相クロマトグラフィにより精製して、化合物14Cを得た。
化合物15A(実施例1に記載のように調製される、1.0g、3.12mmol)、化合物15B(実施例9で調製される、1.06g、3.12mmol、ファクター=0.76)およびDIPEA塩基(1.14mL、6.55mmol)を、DMF(22mL)中で混合した。この溶液を、55℃にて20時間攪拌した。この反応溶液を、C18逆相MPLC(130gカラム、CH3CN/水/0.1%HCO2H、5%〜90%、2回分離)により精製して、化合物15C(900mg、67%)を得た。
化合物15C(2.7g、6.28mmol)を、DMF(20mL)およびTHF(40mL)の混合物中に懸濁させた。二炭酸ジ−tert−ブチル(1.51g、6.91mmol)および4−ジメチルアミノピリジン(dimethyaminopyridine)(38mg、0.31mmol)を加えた。この溶液を、25℃にて16時間攪拌した。溶媒を、ロータリーエバポレータにより除去した。この残留物をシリカゲルクロマトグラフィ(ヘキサン/EtOAc: 2:1〜1:1)に供して、化合物15D(2.36g、71%)を得た。
化合物15D(100mg、0.19mmol)、3,4,5−トリフルオロフェニルボロン酸(40mg、0.23mmol)、1,1’−ビス(トリフェニルホスフィノ)フェロセンパラジウム(II)クロリド(15mg、0.02mmol)、炭酸カリウム(水中1M、1mL)およびアセトニトリル(1mL)を、マイクロ波反応器用チューブに加えた。このチューブを密閉し、150℃にて10分間、マイクロ波反応器中で反応させた。完全に冷却した後、水層を除去し、有機層を濃縮した。粗生成物を、シリカゲルクロマトグラフィ(CH2Cl2/MeOH/NH3: 40:1:0.1)により精製して、化合物15Eを得た。
工程3から得た化合物15Eを、MeOH中に懸濁させた。HCl(エチルエーテル中2M、0.5mL)を加えた。反応混合物を、50℃にて5時間攪拌した。溶媒を除去した。生成物を、C18逆相クロマトグラフィ(CH3CN/水/0.1%HCO2H、5%〜90%)により精製して、化合物15F(8mg、化合物15Dから8.8%)を得た。
化合物16D(50mg、0.094mmol、実施例13で調製される)、2−トリブチルスタンニルチアゾール(53mg、0.14mmol)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)(7mg、0.01mmol)およびアセトニトリル(1mL)を、マイクロ波反応器用チューブに加えた。このチューブを密閉し、150℃にて10分間、マイクロ波反応器中で反応させた。溶媒をエバポレートし、生成物を、シリカゲルクロマトグラフィ(CH2Cl2/MeOH/NH3: 40:1:0.1〜20:1:0.1)により精製して、化合物16F(15mg、37%)を得た。
化合物17D(100mg、0.19mmol、実施例13で調製される)、ピラゾール(15.4mg、0.23mmol)、炭酸セシウム(124mg、0.38mmol)、ヨウ化銅(7.2mg、0.038mmol)、1,10−フェナントロリン(14mg、0.076mmol)およびN,N−ジメチルアセトアミド(0.5mL)を、乾燥反応チューブに加え、窒素で満たした。この反応チューブを密閉し、120℃の油浴中で2日間、加熱した。完全に冷却した後、反応溶液を、C18クロマトグラフィ(CH3CN/水/0.1%HCO2H、5%〜90%)により精製して、化合物17F(5mg、6.4%)を得た。
化合物18A(1.0g、6.4mmol)および化合物18B(1.324g、7.68mmol)を、トルエン(4mL)に溶解させ、80℃にて24時間攪拌した。室温に冷却後、溶媒をロータリーエバポレータにより除去した。粗生成物の半分を、THF/1N HCl(1:1、14mL)に溶解させ、室温にて2時間攪拌した。EtOAc(15mL)および水(5mL)を加えた。有機相を分離し、水相を、EtOAc(15mL)で2回、抽出した。合わせた有機相をNa2SO4で乾燥させ、ロータリーエバポレータにより濃縮して化合物18Cを得、この得られた化合物18Cを、さらなる精製なしに使用した。
化合物18C(工程1で調製される)を、DMF(15mL)に溶解させ、氷水浴中で0℃に冷却した。化合物18D(571mg、3.2mmol)を、一度に加えた。この溶液を、2時間かけて室温まで温め、室温にて3日間攪拌した。2N HCl溶液(20mL)を加え、水相を、EtOAc(50mL)で3回抽出した。有機相を合わせ、Na2SO4で乾燥させ、濃縮乾固した。生成物を、逆相LC(CH3CN/水/0.1%HCO2H:5%〜90%)により単離して、化合物18E(65mg、工程1から7.4%)および化合物18F(16mg、工程1から1.8%)を得た。
工程1において、化合物19Aを、30分間〜12時間、適切な溶媒(例えば、ジクロロメタン)中の2当量のBoc2Oで処理した。溶媒を除去し、化合物19Bをさらなる精製なしに使用するか、またはシリカゲルクロマトグラフィにより精製し得た。
工程1において、化合物20Aを、2時間〜12時間、適切な溶媒(例えば、ジクロロメタン)中のBOC−ONで処理した。化合物20Bを、シリカゲルクロマトグラフィにより精製した。
無水DMF(35mL)中の化合物1001A(1.65g、3.95mmol)の溶液に、塩化2−(トリメチルシリル)エトキシメチル(SEMCl、0.93mL、4.73mmol)およびDIPEA(0.9mL、5.14mmol)を加えた。この溶液を、25℃にて一晩攪拌した。DMFを、真空下で除去した。生成物1001Bを、SGC(ヘキサン/EtOAc、2:1、収率:1.6g、74%)により精製した。
化合物1001Bを、Chiralcel ODカラム(移動相:ヘキサン/2−プロパノール 3:1)により分離した。第一ピークを回収し、濃縮して、化合物1001Cを得た。
乾燥フラスコに、化合物1001C(1.5g、2.73mmol)および4−ピリジルボロン酸(670mg、5.50mmol)を加えた。このフラスコを、真空にし(vacuum)、窒素で再び満たした(3回)。Pd(dppf)Cl2(220mg、0.30mmol)を加え、続いてCH3CN(20mL)およびK2CO3水(1M、15mL)を加えた。この溶液を、80℃(油浴)にて16時間攪拌した。完全に冷却した後、CH3CN(100mL)を加え、固体を濾過により除去した。水層を分離し、EtOAc(20mL)で1回、抽出した。有機溶液を合わせ、濃縮した。生成物をSGC(CH2Cl2/MeOH/NH4OH: 20:1:0.1)により精製して、化合物1001Dを得た。
化合物1001Dを、メタノールとHCl(ジオキサン中4M)との混合(2:1,30mL)に溶解させ、90℃(油浴)にて一晩、密閉した耐圧フラスコ(pressure flask)中で攪拌した。この溶液を冷却後、溶液を250mL丸底フラスコに入れ変えた。この溶液を濃縮し、真空下で乾燥させた。粗混合物を、メタノール(50mL)に溶解させ、Et3N(0.5mL)を加え、25℃にて一晩攪拌した。次いで、溶媒を除去し、生成物を、C18逆相クロマトグラフィ(CH3CN/水 5%〜90%、0.1%HCO2Hを添加)により精製して、化合物1001E(815g、化合物1001Cから71%)を得た。
CH3CN(3mL)中の化合物1004B(60mg、0.10mmol)、3−ブロモイミダゾ[1,2−a]ピリジン(30mg、0.15mmol)および[PdCl2(dppf)]CH2Cl2(8.2mg、0.01mmol)の溶液を、炭酸カリウム(0.6mL、0.6mmol、H2O中1M)で処理した。この混合物を真空にし、アルゴンで再度満たした(3回)。この反応混合物を、90℃(油浴)にて17時間、攪拌した。冷却後、この混合物を、EtOAc(20mL)中に希釈し、セライトパッドに通して濾過した。濾液を真空中で濃縮し、残留物質を分取TLC(CH2Cl2中の10%MeOH)により精製して、化合物1004C(42mg、収率71%)を得た。
化合物1005Aを、約5時間、クロロホルムまたは他の適切な溶媒中の1当量のヘキサメチレンテトラアミンで処理した。生成物を濾過により回収し、次いで、1日〜3日の間、エタノール中のHClで処理した。次いで、濾過により固体を回収して、化合物1005Bを得た。
火炎乾燥したフラスコに、2−ブロモ−1H−ベンズイミダゾール(1007A、2.94g、14.92mmol)、無水THF(75mL)およびNaH(95%、490mg、19.4mmol)を加えた。この溶液を、25℃にて45分間攪拌した;SEMCI(3.17mL、17.9mmol)を加えた。この溶液を、25℃にて2.5時間、攪拌した。水(50mL)およびEtOAc(100mL)で1回、抽出した。水層を分離し、EtOAc(100mL)を加えた。有機層を合わせ、真空下で濃縮した。生成物を、SGC(ヘキサン/EtOAc: 3:1)により精製して、化合物1007B(3.6g、74%)を得た。
火炎乾燥したフラスコに、化合物1007B(1.427g、4.35mmol)および無水エチルエーテル/THF(2:1,15mL)を加えた。この溶液を、−78℃に冷却した。n−ブチルリチウム(1.6M、0.46mL、0.73mmol)を加え、−78℃にて30分間、攪拌した。火炎乾燥した別の梨形フラスコに、N−(tert−ブトキシカルボニル)グリシン−N’−メトキシ−N’−メチルアミド(949mg、4.35mmol)および無水THF(2mL)を加えた。塩化イソプロピルマグネシウム(2M、2.5mL、5.0mmol)を、0℃にて加えた。この溶液を、0℃にて5分間攪拌し、−78℃にて、化合物1003C溶液にカニューレを通じて加えた。次いでこの溶液を、−20℃まで徐々に温めて、−20℃と10℃の間で4時間攪拌した。飽和NH4Cl溶液を加え、この水溶液をEtOAc(50mL)で3回、抽出した。有機相を合わせ、濃縮した。生成物をSGC(ヘキサン/EtOAc: 3:1)により精製して、化合物1007C(1.0g、57%)を得た。
化合物1009A(1.18g、3.36mmol)および塩酸ピリジン(2.33g、20.17mmol)を、20mLマイクロ波反応器用チューブに加え、200℃にて1時間、反応させた。完全に冷却した後、固体をDMFに溶解させ、C18クロマトグラフィ(CH3CN/水 5%〜90%、0.1%HCO2H)により精製して、化合物1009B(0.87g、77%)を得た。
化合物1009B(0.75g、2.22mmol)を、DMF(12mL)中に溶解させた。SEMCl(0.48mL、2.44mmol)およびDIPEA(0.775mL、4.44mmol)を加え、この溶液を、25℃にて4時間攪拌した。DMFを真空下で除去し、生成物をSGC(ヘキサン/EtOAc: 3:1〜1:1)により精製して、化合物1009C(0.81g、78%)を得た。
化合物1009Cを、ヘキサンおよび2−プロパノールを移動相として使用することにより、Chiralcel ODカラムを用いて分離した。第一ピークを回収し、濃縮して、化合物1009Dを得た。
化合物1009D(100mg、0.214mmol)、1−ブロモ−2−ブチン(34mg、0.257mmol)およびCs2CO3(140mg、0.428mmol)を、DMF(2mL)中で、0℃にて2時間攪拌し、次いで、25℃にて一晩攪拌した。水(5mL)を加え、この水溶液を、EtOAc(10mL)で3回、抽出した。有機相を合わせ、濃縮した。生成物をSGC(ヘキサン/EtOAc: 3:1)により精製して、化合物1009E(81mg)を得た。
化合物1010A(1.03g、1.88mmol)、(BOC)2O(493mg、2.26mmol)およびCs2CO3(741mg、2.26mmol)を、CHCl3(20mL)中で一晩攪拌した。水を加えた。水層を、EtOAc(3×50mL)で抽出した。合わせた有機層を濃縮し、SGC(ヘキサン/EtOAc 5%〜90%)により精製して、化合物1010B(1.01g、83%)を得た。
乾燥フラスコに、化合物1010B(500mg、0.77mmol)および4−ピリジルボロン酸(190mg、1.55mmol)を加えた。このフラスコを真空にし、窒素で再び満たした(3回)。Pd(dppf)Cl2(28mg、0.04mmol)を加え、続いてCH3CN(5mL)およびK2CO3(1M、4mL)を加えた。この溶液を、80℃(油浴)にて16時間攪拌した。完全に冷却した後、CH3CN(100mL)を加え、固体を濾過により除去した。水層を分離し、EtOAc(20mL)で1回、抽出した。有機溶液を合わせ、濃縮した。生成物をSGC(CH2Cl2/MeOH/NH4OH: 20:1:0.1)により精製して、化合物1010Cを得た。
工程2で得られた化合物1010Cを、MeOH(10mL)に溶解させ、HCl(ジオキサン中4M、3mL)を加え、25℃にて一晩攪拌した。次いで、MeOHを除去し、生成物を真空下で乾燥させて、化合物1010D(315mg、化合物1010Bから75%)を得た。
化合物1014Bを、カルボン酸無水物およびDIPEAで処理して化合物1014Cを得、この得られた化合物1014Cを、シリカゲルクロマトグラフィにより精製した。
化合物1014Bを、塩化スルホニル化合物と結合させて化合物1014Dを得、この得られた化合物1014Dを、シリカゲルクロマトグラフィにより精製した。
化合物1014Bを、還元アミン化条件下でカルボニル化合物と反応させて、化合物1014Eを得た。あるいは、化合物1014Bを、適切な求電子試薬および塩基で処理して化合物1014Eを得、この得られた化合物1014Eを、シリカゲルクロマトグラフィにより精製した。
化合物1014Bを、イソシアネート化合物およびDIPEAと反応させて化合物1014Fを得、この得られた化合物1014Fを、シリカゲルクロマトグラフィにより精製した。
DMF(100mL)、炭酸セシウム(41.13g、126mmol)および2−クロロ−5−メチルフェノール(1021A)(15.0g、105mmol)を、フラスコに加えた。ヨウ化メチル(17.92g、126mmol)を、付加漏斗(addition funnel)により滴下した。この反応混合物を、室温にて一晩攪拌した。この反応混合物を、EtOAcで希釈し、水およびブラインで洗浄し、Na2SO4で乾燥させた。得られた物質を濾過し、濃縮乾固した。粗生成物を、1:4 EtOAc:ヘキサンを移動相として使用したフラッシュsgcにより精製し、15.93gの1021Bを得た。
AlCl3(2.55g、19.1mmol)およびLiCl(0.41g、9.6mmol)を含むフラスコを、−30℃の冷浴中に置いた。20mLのCH2Cl2中の1021B(1.0g、6.38mmol)および塩化アセチル(0.75g、9.5mmol)の溶液を滴下した。この反応混合物を、−30℃にて1時間攪拌し、次いで、室温に温めさせ、室温にて一晩攪拌した。この反応混合物を、氷とEtOAcとの混合物に注いだ。有機層を水、飽和NaHCO3水、そして水で洗浄し、次いで、Na2SO4で乾燥させ、濃縮乾固して、1.18gの化合物1021Cを得た。
水酸化ナトリウム(58g、1.45mol)を、水(260mL)に溶解させ、このフラスコを、氷水浴中で冷却した。臭素(19mL)を、攪拌しながらフラスコに滴下した。添加の完了後、この反応混合物を、0.5時間攪拌した。得られた溶液を、化合物1021C(18.5g、93.1mmol)含む氷水で冷却したフラスコに滴下した。添加の完了後、この反応混合物を室温に温めさせ、一晩攪拌しておいた。この反応混合物を、40℃にて2時間加熱した。NaHSO3(55g)を加えた。この反応混合物を、1時間攪拌した。得られた物質を、10%NaOH水で希釈し、EtOAcで抽出して出発物質を除去した。水層をpH1に調節し、さらなるEtOAcで抽出した。有機層をNa2SO4で乾燥させ、濾過し、濃縮乾固して、12.31gの1021Dを得た。
DMF(10mL)、化合物1021D(0.50g、2.49mmol)およびK2CO3(0.41g、2.96mmol)を、フラスコに加えた。ヨウ化メチル(0.42g、2.96mmol)を滴下した。この反応混合物を、室温にて一晩攪拌した。この反応混合物を濃縮乾固して、0.52gの1021Eを得た。
Claims (98)
- 式(I):
Xは、−S−、−C(R4)2−または−N(R4)−からなる群より選択され;
Tは、H(UおよびVは存在しない)、アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択され、該アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルは、必要に応じて、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアルールおよびアリールアルキルから選択される1以上の部分と縮合され、ここで、Tの該アルキル、アルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキル基のいずれかの各々は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR10部分で独立して置換され、該R10部分は、同じであるかまたは異なり得、各R10部分は独立して、以下のR10部分の群から選択され;
Uは、存在しないか、または存在し、存在する場合、Uは、共有結合、−N(R4)−、−N(R4)C(R4)2−、−N(R4)C(O)−−O−、−N(R4)S(O)2−、−N(R4)C(O)N(R4)−、および−N(R4)C(S)N(R4)−から選択され;
Vは、存在しないか、または存在し、存在する場合、Vは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリルおよびシクロアルキルからなる群より選択され、該アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルは、必要に応じて、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択される1以上の部分と縮合され、ここで、該アルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリルおよびシクロアルキルのいずれかの各々は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR10部分で独立して置換され、該R10部分は、同じであるかまたは異なり得、各R10部分は独立して、以下のR10部分の群から選択され;
Yは、存在しないか、または存在し、存在する場合、Yは、共有結合、−N(R4)−、−C(O)N(R4)−、−N(R4)C(O)−、−N(R4)C(O)N(R4)−、−S(O)2N(R4)−、−N(R4)−S(O)2−、−O−、−S−、−C(O)−、−S(O)−、および−S(O)2−からなる群より選択され;
Zは、存在しないか、または存在し、存在する場合、Zは、共有結合、−(C(R4)2)n−、−N(R4)−、−C(O)N(R4)−、−N(R4)C(O)−、−N(R4)C(O)N(R4)−、−S(O)2N(R4)−、−N(R4)−S(O)2−、−O−、−S−、−C(O)−、−S(O)−、および−S(O)2−からなる群より選択され;
nは、1〜3であり;
R1は、H、−OR4、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択され、R1の該アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアリールアルキル基の各々は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR20部分で独立して置換され、該R20部分は、同じであるかまたは異なり得、各R20部分は独立して、以下のR20部分の群から選択され、但し、Yが存在しかつYがN、SまたはOである場合、R1はハロゲンではなく;
R2は、H、−OR4、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択され、ここで、R2の該アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アルキルアリール、アルキルヘテロアリールおよびアリールアルキル基は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR20部分で独立して置換され、該R20部分は、同じであるかまたは異なり得、各R20部分は独立して、以下のR20部分の群から選択され、但し、Zが存在しかつZがN、SまたはOである場合、R2はハロゲンではなく;
各R4は、同じであるかまたは異なり、独立してHおよびアルキルからなる群より選択され;
R10は、−OR4、−N(R4)2、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R4)S(O)2−、−S(O)2N(R4)−、−O(フルオロアルキル)、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキルからなる群より選択され、ここで、R10の該アルキル、フルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、シクロアルキル、アルキルアリールおよびアリールアルキル基の各々は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR30部分で独立して置換され、該R30部分は、同じであるかまたは異なり得、各R30部分は独立して、以下のR30部分の群から選択され;
R20は、ハロゲン、アルキル、フルオロアルキルからなる群より選択され;
R30は、ハロゲン、アルキルおよびフルオロアルキルからなる群より選択される、
化合物。 - 前記異性体が立体異性体である、請求項1に記載の化合物。
- Tがアルキルまたはアリールであり;Xが−C(R4)2−であり;Yが存在せず;Zが存在しないかまたは存在し;R2が、H、ハロゲンおよびアルキルからなる群より選択され;そしてZが存在する場合、Zが−O−である、請求項1に記載の化合物。
- Tがアルキルまたはアリールであり;Xが−C(R4)2−であり;Yが存在せず;Zが存在しないかまたは存在し、存在する場合、Zが−O−であり;そしてR2が、アルキルアリールおよびアルキルヘテロアリールからなる群より選択される、請求項1に記載の化合物。
- Tがアルキルまたはアリールであり;Xが−N(R4)−であり;Yが存在せず;Zが存在しないかまた存在し;R2が、H、ハロゲンおよびアルキルからなる群より選択され;そしてZが存在する場合、Zが−O−である、請求項1に記載の化合物。
- Xが−CH2−または−N(R4)−である、請求項1に記載の化合物。
- Xが−CH2−である、請求項6に記載の化合物。
- Xが−N(R4)−である、請求項6に記載の化合物。
- R4がHである、請求項8に記載の化合物。
- Tがアルキルである、請求項1に記載の化合物。
- Tが−CH3である、請求項10に記載の化合物。
- Tがアリールであり、該アリールは非置換であるか、または必要に応じて、1〜5個のR10部分で独立して置換され、該R10部分は同じであるかまたは異なり得、各R10部分は独立して、前記R10部分の群から選択される、請求項1に記載の化合物。
- R10がハロゲンである、請求項12に記載の化合物。
- R10がヘテロアリールである、請求項12に記載の化合物。
- R10がアリールである、請求項12に記載の化合物。
- Uが、共有結合、−N(R4)−、−N(R4)C(O)−、および−N(R4)S(O)2−からなる群より選択される、請求項1に記載の化合物。
- Uが共有結合である、請求項16に記載の化合物。
- Uが−N(R4)−である、請求項16に記載の化合物。
- Uが−N(R4)C(O)−である、請求項16に記載の化合物。
- Vが、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリルおよびシクロアルキルからなる群より選択され、該アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリルおよびシクロアルキルは必要に応じて、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリルまたはシクロアルキルから選択される1以上の部分と縮合され、ここで、該アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリルおよびシクロアルキルのいずれかの各々は、非置換であるか、または必要に応じて、1〜4個のR10部分で独立して置換され、該R10部分は、同じであるかまたは異なり得、各R10部分は独立して、前記R10部分の群から選択される、請求項1に記載の化合物。
- Yが、共有結合、−(C(R4)2)n−、−C(O)−および−O−からなる群より選択される、請求項1に記載の化合物。
- Yが−O−である、請求項21に記載の化合物。
- Yが−(C(R4)2)n−である、請求項21に記載の化合物。
- Yが−C(O)−である、請求項21に記載の化合物。
- Yが共有結合である、請求項21に記載の化合物。
- R1が、−OR4、H、アルキル、フルオロアルキル、アルキルアリール、ハロゲンおよびヘテロアリールからなる群より選択される、請求項1に記載の化合物。
- R1がHである、請求項26に記載の化合物。
- R1がアルキルアリールである、請求項26に記載の化合物。
- R1がアルキルである、請求項26に記載の化合物。
- R1がフルオロアルキルである、請求項26に記載の化合物。
- R1がハロゲンである、請求項26に記載の化合物。
- R1が−OR4である、請求項26に記載の化合物。
- R4が−CH2C≡CCH3である、請求項32に記載の化合物。
- R4が−CH2C≡CCH2OHである、請求項32に記載の化合物。
- 前記アルキルが−CH3である、請求項29に記載の化合物。
- 前記アルキルが−CH2CH3である、請求項29に記載の化合物。
- 前記フルオロアルキルが−CH2CF3である、請求項30に記載の化合物。
- 前記ハロゲンが、−Br、−Clおよび−Fからなる群より選択される、請求項31に記載の化合物。
- R4が−CH3である、請求項32に記載の化合物。
- 前記アルキルが、1〜4個のR20部分で置換され、該R20部分は、同じであるかまたは異なり得、各R20部分は独立して、前記R20部分の群から選択される、請求項29に記載の化合物。
- R20がアリールである、請求項51に記載の化合物。
- Zが、共有結合、−N(R4)−、−(C(R4)2)n−、−C(O)−および−O−からなる群より選択される、請求項1に記載の化合物。
- Zが−O−である、請求項53に記載の化合物。
- Zが共有結合である、請求項53に記載の化合物。
- Zが−N(R4)−である、請求項53に記載の化合物。
- Zが−C(O)−である、請求項53に記載の化合物。
- R4がアルキルである、請求項53に記載の化合物。
- 前記アルキルが−CH3である、請求項58に記載の化合物。
- R2が、−OR4、水素、アルキル、フルオロアルキル、アルキルアリール、ハロゲンおよびヘテロアリールからなる群より選択される、請求項53に記載の化合物。
- R2が水素である、請求項60に記載の化合物。
- R2がアルキルである、請求項60に記載の化合物。
- R2がアルキルアリールである、請求項60に記載の化合物。
- R2がフルオロアルキルである、請求項60に記載の化合物。
- 前記フルオロアルキルが−CH2CF3である、請求項60に記載の化合物。
- R2がハロゲンである、請求項60に記載の化合物。
- 前記ハロゲンが、−Br、−Clおよび−Fからなる群より選択される、請求項66の記載の化合物。
- R2がヘテロアリールである、請求項60に記載の化合物。
- R4が−CH3である、請求項60に記載の化合物。
- R4が−CH2C≡CCH3である、請求項60に記載の化合物。
- R4が−CH2C≡CCH2OHである、請求項60に記載の化合物。
- 前記アルキルが−CH3である、請求項60に記載の化合物。
- 少なくとも1つの薬学的に受容可能なキャリアをさらに含む、請求項1に記載の薬学的組成物。
- TACE、TNF−α、MMP、ADAMまたはそれらの任意の組み合わせに関連する障害を処置する方法であって、該方法は、そのような処置を必要とする患者に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物の治療有効量を含む薬学的組成物を投与する工程を包含する、方法。
- TACE、TNF−α、MMP、ADAMまたはそれらの任意の組み合わせに関連する障害を処置するための医薬の製造のための、請求項1に記載の化合物の使用。
- TACE、TNF−α、MMP、ADAMまたはそれらの任意の組み合わせに関連する障害を処置するための薬学的組成物を調製する方法であって、該方法は、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物と少なくとも1つの薬学的に受容可能なキャリアとを密接に接触させる工程を包含する、方法。
- 被験体において、TACE、TNF−α、MMP、ADAMまたはそれらの任意の組み合わせに関連する障害を処置する必要のある被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与することを含む、該被験体において、TACE、TNF−α、MMP、ADAMまたはそれらの任意の組み合わせに関連する障害を処置するための薬学的組成物。
- 純粋形態の請求項1に記載の化合物。
- 被験体において、TACE、TNF−α、MMP、ADAMまたはそれらの任意の組み合わせによって媒介される状態または疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 被験体において、関節リウマチ、変形性関節症、歯周炎、歯肉炎、角膜潰瘍形成、固形腫瘍増殖および二次転移による腫瘍浸潤、血管新生緑内障、炎症性腸疾患、多発性硬化症ならびに乾癬からなる群より選択される状態または疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 被験体において、発熱、心血管状態、出血、凝固、悪液質、食欲不振、アルコール症、急性期反応、急性感染、ショック、対宿主性移植片反応、自己免疫疾患およびHIV感染からなる群より選択される状態または疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 被験体において、敗血性ショック、血行動態性ショック、敗血症症候群、虚血後再灌流障害、マラリア、ミコバクテリア感染、髄膜炎、乾癬、うっ血性心不全、線維性の疾患、悪液質、移植片拒絶、皮膚T細胞性リンパ腫のような癌、新脈管形成に関する疾患、自己免疫疾患、皮膚炎症性疾患、クローン病および大腸炎のような炎症性腸疾患、変形性関節症および関節リウマチ、強直性脊椎炎、乾癬性関節炎、成人スティル病、ブドウ膜炎、ウェゲナー肉芽腫症、Behcehe病、シェーグレン症候群、サルコイドーシス、多発性筋炎、皮膚筋炎、多発性硬化症、坐骨神経痛、複合性局所疼痛症候群、放射線障害、高酸素症肺胞傷害、歯周疾患、HIV、非インスリン依存性真性糖尿病、全身性エリテマトーデス、緑内障、サルコイドーシス、特発性肺線維症、気管支肺形成異常、網膜疾患、強皮症、骨粗鬆症、腎虚血、心筋梗塞、脳卒中、脳虚血、腎炎、肝炎、糸球体腎炎、特発性線維化肺胞炎、乾癬、移植片拒絶、アトピー性皮膚炎、脈管炎、アレルギー、季節性アレルギー性鼻炎、可逆性気道閉塞、成人呼吸促進症候群、喘息、慢性閉塞性肺疾患(COPD)ならびに気管支炎からなる群より選択される状態または疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- COPDに関連する状態および疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 関節リウマチに関連する状態および疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- クローン病に関連する状態および疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 乾癬に関連する状態および疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 強直性脊椎炎に関連する状態および疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 坐骨神経痛に関連する状態および疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 複合性局所疼痛症候群に関連する状態および疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 乾癬性関節炎に関連する状態および疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を投与する工程を包含する、方法。
- 多発性硬化症に関連する状態および疾患を処置する方法であって、そのような処置を必要とする該被験体に、少なくとも1つの請求項1に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩、溶媒和物もしくは異性体の治療有効量を、Avonex(登録商標)、Betaseron、Copaxoneまたは多発性硬化症の処置に用いられる他の化合物からなる群より選択される化合物と組み合わせて投与する工程を包含する、方法。
- 前記被験体に、疾患修飾抗リウマチ薬(DMARD)、非ステロイド性抗炎症性薬(NSAID)、シクロオキシゲナーゼ−2選択的インヒビター、COX−1インヒビター、免疫抑制薬、生物反応修飾物質(BRM)、抗炎症剤およびH1アンタゴニストからなる群より選択される少なくとも1つの医薬の治療有効量を投与する工程をさらに包含する、請求項83に記載の方法。
- 前記被験体に、DMARD、NSAID、COX−2インヒビター、COX−1インヒビター、免疫抑制薬、BRM、抗炎症剤およびH1アンタゴニストからなる群より選択される少なくとも1つの医薬の治療有効量を投与する工程をさらに包含する、請求項84に記載の方法。
- 前記被験体に、DMARD、NSAID、COX−2インヒビター、COX−1インヒビター、免疫抑制薬、BRM、抗炎症剤およびH1アンタゴニストからなる群より選択される少なくとも1つの医薬の治療有効量を投与する工程をさらに包含する、請求項85に記載の方法。
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