JP2008506685A - スルファミド誘導体及びそれを含有する脂肪代謝促進用医学組成物 - Google Patents

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Abstract

本発明は新規なスルファミド誘導体、またはその薬剤学的に許容される塩、および成分としてこれらを含む脂肪代謝の上方調節のための医薬組成物に関する。

Description

本発明は、新規なスルファミド誘導体、その薬剤学的に許容される塩及びそれを活性成分として含む脂肪代謝促進用医学組成物に関するものである。
体内の各器官が必要とするコレステロール及び脂肪酸のような必須脂肪はリポタンパク質(lipoprotein)、例えばトリグリセリド(triglycerides、TG)、コレステロールエステル(cholesterol ester)、リン脂質(phospholipid)及びアポリポタンパク質(apolipoprotein)の形態で伝達される。
TGを含むVLDL(very low density lipoprotein)は肝から放出され、脂肪酸を各器官に伝達する役目をする。VLDLが脂肪細胞(adipocyte)に伝達されたらエネルギー貯蔵に用いられ、心筋(cardiac muscle)や骨格筋(skeletal muscle)に伝達されたらエネルギー生成に用いられる。脂肪細胞、骨格筋または大食細胞(macrophage)で生成されたリポタンパク質リパーゼ(lipoprotein lipase)によってVLDLは脂肪酸を放出し、LDL(low density lipoprotein)に変わるが、その結果得られるLDLは周辺組職に伝達されてステロイド産生(steroidogenesis)または細胞膜の維持に利用される。一方、多くの細胞に存在する過量のコレステロールはHDL(high density lipoprotein)の形態で肝に伝達され、毒性のない胆汁酸(bile acid)に代謝される。
従って、前記のようなエネルギー恒常性が失われると、インシュリン抵抗症候群(insulin resistance syndrome)または代謝(metabolic)症候群(X−syndrome)を引き起こして体内で脂肪が蓄積し、肥満、糖尿、心臓病、炎症、インシュリン抵抗性、異常脂質血症(dyslipidemia)及び高血圧(hypertension)の原因となる(Lee et al.,Endocrinology,144,2201−2207,2003)。
体内には食物に含まれた脂肪の生理的な調節を担うホルモンシステムとして働くPPAR(peroxisome proliferating−activated receptors)が存在する。PPARは、核収容体(Nuclear receptor)系に属し、第2ジンクフィンガー結合ドメイン(zinc finger binding domain)及び疎水性(hydrophobic)のリガンド結合ポケット(ligand binding pocket)で構成されており、“PPARα”、“PPARγ”及び“PPARδ”の3種の亜型(subtype)に分類される(Willson et al.,Journal of Med.Chem.,43,527−550,2000)。PPARαは、筋肉、心臓及び腎臓、特に肝に非常に多く発現されて脂肪酸の分解を制御する。PPARγは、脂肪細胞及び大食細胞で発現されて表皮角化細胞(keratinocyte)の増殖に関するだけでなく、脂肪細胞の増殖、脂肪貯蔵及びグルコース恒常性を制御する。
PPARα遺伝子のない鼠(PPARα null mouse)を用いた研究を通じて、PPARαがミトコンドリア内でのパルミチン酸(palmitic acid)のような長鎖脂肪酸(long chain fatty acid)のベータ酸化(beta oxidation)に関与すると報告されている(Costet et al.,J.Bio. Chem.,273,5678−5684,1998)。例えば、PPARα遺伝子のない鼠の肝及び心臓内の脂肪の蓄積を測定する研究を通じて、過量のトリグリセリド(triglyceride)が蓄積し、その結果、高コレステロール血症(hypercholesterolemia)や肥満が起こることが判別し、これにより脂肪恒常性(homeostasis)におけるPPARαの重要性が認識されるようになった(Costet et al.,J.Bio.Chem.,273,29577−29585,1998)。また、PPARα遺伝子のない鼠の食欲及び体重を調節するOEA(oleylethanolamide)の標的タンパク質がPPARαであることが明らかになった(Fu et al.,Nature,425(6953),90−93,2000)。
さらに、PPARαの活性化は、LDLによるTGの加水分解(hydrolysis)を抑制すると知られているアポリポタンパク質(apolipoprotein)C−IIIの発現の低下をもたらし、VCAM(vascular cell adhesion molecule)−1の発現を抑制して動脈硬化症(Marx et al.,Circulation,99,3125−3131,1999)、及び血管平滑筋(vascular smooth muscle)からIL−1によるIL−6の分泌及びプロスタグランジン(prostaglandin)の生成を抑制する(Staels et al.,Nature,393,790−793,1998)。
PPARαの三次構造は、アゴニスト(agonist)のGW409544との錯体の形態であると報告されており(Xu et al.,PNAS,98,13919−13924,2001)、PPARαのTyr(アミノ酸314番)及びPPARγのHis(アミノ酸323番)の差がPPARの選択性(selectivity)を決定すると報告されている。さらに、PPARα及びPPARγの脂肪酸結合ポケット(ligand binding pocket)はPPARδに比べて大きいと知られている(Nolte et al., Nature,395,137−143,1998)。従って、PPARαの三次構造はPPARαのアゴニストの開発に非常に重要である。
PPARαを活性化させる化合物としてはこれまでWy−14643、クロフィブレート(clofibrate)、フェノフィブラート(fenofibrate)、ベザフィブラート(bezafibrate)、GW2331、SW9578、BM17.0744が知られている(Willson et al.,J.Med.Chem., 43,527−550,2000)。かかるPPARαのアゴニスト(agonist)はマウス・モデルにおいてTG、脂肪蓄積(adiposity)及び肝または筋肉の脂肪症(steatosis)を減少させてインシュリン感受性の増加をもたらす(Chou et al.,JBC,277,24484−24489,2002;Kim et al.,Diabetes, 52,1770−1778,2003;and Peters et al.,Mol.Cell.Biol.,20,5119−5128,2000)。
前記フェノフィブラートまたはゲムフィブロジル(gemfibrozil)は高脂質症患者の血液内におけるTGを減少させ、HDLを上昇させるが(Lee et al.,Endocrinology,144,2201−2207,2003)、そのようなアゴニストは多量の一日投与量(一日当たり300〜1200mg)を必要とする。従って、PPARαに対して優れた選択性を有し、かつ一層有効なPPARαアゴニストの開発が求められている。
Lee et al.,Endocrinology,144,2201−2207,2003 Willson et al.,Journal of Med. Chem.,43,527−550,2000 Costet et al.,J.Bio.Chem.,273,5678−5684,1998 Costet et al.,J.Bio.Chem.,273,29577−29585,1998 Fu et al.,Nature,425(6953),90−93,2000 Marx et al.,Circulation,99,3125−3131,1999 Staels et al.,Nature,393,790−793,1998 Xu et al.,PNAS,98,13919−13924,2001 Nolte et al.,Nature,395,137−143,1998 Chou et al.,JBC,277,24484−24489,2002 Kim et al.,Diabetes,52,1770−1778,2003 Peters et al.,Mol.Cell.Biol.,20,5119−5128,2000
従って、本発明の目的は脂肪代謝を促進させる新規なスルファミド誘導体及びその製造方法を提供することである。
本発明の他の目的は前記スルファミド誘導体またはその薬剤学的に許容される塩を含有する脂肪代謝促進用医学組成物を提供することである。
前記目的を達成するために本発明は下記式1のスルファミド誘導体を提供する:
Figure 2008506685
式中、
、R及びRはそれぞれ独立的に水素またはC1−3アルキルであり;
及びRはそれぞれ独立的に水素;C1−5アルキル;C3−5アルケニル;C3−5アルキニル;C1−3アルキル、C1−3アルコキシ、C1−3ハロゲン化アルキルまたはハロゲンで置換されているか置換されていないフェニルであるか;それらが結合している窒素とともに互いに連結して含窒素複素環を形成し;
は水素またはC1−3アルキルであり;
はC1−3アルキル、C1−3ハロゲン化アルキルまたはC1−3アルコキシで置換されているか置換されていないフェニル;またはチオフェンであり;
Xは酸素または窒素であり、Yは、Xが酸素である場合は窒素、Xが窒素である場合は酸素であり;
mは0または1であり;
nは1または2である。
また本発明は前記スルファミド誘導体の製造方法を提供する。
さらに本発明は、前記スルファミド誘導体またはその薬剤学的に許容される塩を活性成分として含有する脂肪代謝促進用医学組成物を提供する。
本発明によるスルファミドの誘導体またはその薬剤学的に許容される塩を含有する医学組成物は、脂肪代謝関連酵素と知られたPPARαの活性を増大させるのみならず、食欲減退、体脂肪減少及び脂肪代謝関連物質の調節などの效果を提供するので、脂肪代謝促進用の新薬開発に活用できる。
本発明のスルファミド誘導体は不斉炭素を含むことができるので、立体特異的異性体(stereospecific isomer)、ラセミ化合物(racemate)またはこれらの混合物の形態で存在し得る。
また、本発明のスルファミド誘導体はその薬剤学的に許容される塩、水和物または溶媒化物の形態で使用され得る。
薬剤学的に許容される塩としては無機塩基及び有機塩基、例えばアルカリ金属またはアルカリ土類金属の化合物、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、ピリジン、グアニジン及びアルギニンのような有機アミン;または無機酸及び有機酸、例えば塩酸、 臭化水素酸、硫酸、リン酸、クエン酸、酢酸、乳酸、酒石酸、マレイン酸、フマル酸、グルコン酸、メタンスルホン酸、グリコール酸、琥珀酸、4−トルエンスルホン酸、グルトロン酸、エンボン酸、グルタミン酸またはアスパラギン酸などが使用され得る。
本発明による式1の化合物のうち好ましい化合物は、
1) [N−(アミノスルホニル)−N−[[4−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
2) (S)−3−メチル−2−[N−(スルファモイル)−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸;
3) [N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
4) [N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
5) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
6) [N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
7) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
8) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
9) [N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
10) [N−(N−メチル−N−プロパルギル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
11) [N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
12) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−]−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
13) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
14) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
15) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
16) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
17) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
18) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
19) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
20) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
21) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
22) [N−(N−p−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
23) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
24) [N−[[N−メチル−N−(p−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
25) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
26) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
27) [N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
28) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
29) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
30) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
31) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
32) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
33) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
34) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
35) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
36) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
37) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
38) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
39) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
40) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
41) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
42) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
43) [N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
44) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
45) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
46) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
47) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
48) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
49) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
50) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
51) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
52) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
53) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
54) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
55) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
56) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
57) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
58) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
59) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
60) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
61) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
62) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
63) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
64) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
65) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
66) [N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
67) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
68) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
69) [N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
70) [N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
71) [N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
72) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
73) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
74) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
75) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
76) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
77) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
78) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
79) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
80) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
81) [N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
82) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
83) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
84) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
85) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
86) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
87) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
88) [N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
89) [N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
90) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
91) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
92) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
93) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
94) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
95) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
96) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
97) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
98) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
99) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
100) [N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
101) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
102) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
103) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
104) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
105) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
106) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
107) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
108) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
109) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
110) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
111) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
112) [N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
113)N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
114) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
115) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
116) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
117) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
118) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
119) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
120) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
121) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
122) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
123) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
124) (S)−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸;
125) (S)−3−メチル−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸;
126) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
127) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
128) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
129) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
130)3−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸;
131) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
132) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
133) [N−[[N−(4−クロロフェニル)−N−メチル]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;及び
134) [N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[4−[(2−フェニル−5−イソプロピルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸である。
本発明の化1の化合物のより好ましい形態は、Rが水素であり;Rが水素またはメチルであり;Rが水素またはC1−3アルキルであり;R及びRがそれぞれ独立的に水素、メチル、エチル、イソプロピル、プロパルギル、ピペリジニル、またはメチル、メトキシ、フッ素または塩素で置換されているか置換されていないフェニルであるか;それらが結合している窒素とともに互いに連結してピペリジンまたはキノロン環を形成し;Rがメチルであり;RがCFまたはCHで置換されているか置換されていないフェニルであり;Xが窒素原子であり;Yが酸素原子であり;mが0または1であり;nが1または2である。
更に好ましくは、本発明による式(I)の化合物は、
2) (S)−3−メチル−2−[N−(スルファモイル)−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸;
7) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
8) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
9) [N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
10) [N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
11) [N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
21) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
22) [N−(N−p−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
23) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
58) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
62) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
63) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
65) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
67) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
70) [N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
71) [N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
80) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
81) [N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
82) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
101) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
102) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
111) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
112) [N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
113) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
124) (S)−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸;
125) (S)−3−メチル−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸;
126) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
127) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
129) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
130)3−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸;
131) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
132) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;及び
133) [N−[[N−(4−クロロフェニル)−N−メチル]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸である。
化1のスルファミド誘導体は下記反応式1に示した工程に従って製造され得る。
Figure 2008506685
式中、
ないしR、m及びnは前記で定義した通りであり;RはC1−3アルキル;Lは塩素、 臭素、メシラート(OMs)、トシラート(OTs)またはヒドロキシである。
前記反応式1に示したように、本発明の式(I)の化合物は次の段階を含む工程を用いて製造され得る。
段階1:
式2の化合物及び式3の化合物を還元的アミノ化(reductive amination)させて式4の二次アミン化合物を得る(収率:80〜98%)。この段階で用いられる還元剤はトリアセトキシホウ化水素ナトリウムまたは水素化ホウ素ナトリウムであることができ、前記式3の化合物が酸付加塩であれば、その反応はトリエチルアミンのような有機塩基の存在下で行ってもよく、溶媒はジクロロメタン、クロロホルムまたはジクロロエタンのようなハロゲン化有機溶媒であることができ、該温度は0〜40℃であり得る。
段階2:
前記式4の化合物を塩基の存在下で式5の化合物と縮合反応させて化6の化合物を得る(収率40〜90%)。前記式5の化合物は参考文献 [Kloek,J.A et al.,J.Org.Chem.,41,4028,1976;またはMatier et al.,J. Med.Chem.,15,538,1972] に従って製造され得る。この段階で使われる塩基としては水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキシド、リチウムビストリメチルシリルアミド、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン及びピリジンのような無機塩基または有機塩基を用いることができ;溶媒としてはジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、クロロホルム、アセトニトリルまたはアセトンなどを用いることができ;反応温度は0〜40℃であり得る。
段階3:
前記式6の化合物をパラジウム触媒/活性炭素の存在下で気体水素と反応させて式7のフェノール誘導体を得る。このとき、溶媒としてはエチルアルコールまたはテトラヒドロフランなどを用いることができ、前記反応は常温で水素気圧1〜5のもとで行うことが好ましい。
段階4:
式8の化合物においてLがCl、Br、メシラート(mesylate)またはトシラート(tosylate)などの脱離基である場合、塩基の存在下で式7の化合物とアルキル化(alkylation)させて本発明の式1aの化合物を得る。ここで、塩基としては水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキシド、ブチルリチウム、炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウムなどを用いることができ;溶媒としてはジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフランなどを用いることができ;反応温度は−20〜100℃であり得る。
また、前記式8の化合物においてLがヒドロキシである場合、式8の化合物を式7の化合物とともにミツノブ反応(Mitsunobu reaction)(参考文献:Mitsunobu,O.,Synthesis,1,1981)させて本発明の式1aの化合物を製造する。ここで、ミツノブ反応はトリフェニルホスフィン、ジイソプロピルアゾカルボン酸またはジエチルアゾカルボン酸の存在下でトルエンまたはテトラヒドロフランを用いて行われる。
段階5:
前記式1aのエステル誘導体を塩基の存在下で加水分解させて本発明の式1bの化合物を得る。ここで、塩基としては水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウムなどを用いることができ、溶媒としてはメタノール、エタノール、テトラヒドロフランまたはこれらと水の混合物を用いることができる。
本発明の式(I)の化合物は下記反応式2に記載された他の工程によって製造され得る。
Figure 2008506685
式中、
、RないしR、L、mまたはnは前記で定義した通りである。
段階1:
式9の化合物を前記反応式1の段階4と同一な方法で反応させて式10の化合物を得る。ここで、式8の化合物において、LがCl、Br、メシラートまたはトシラートなどの脱離基である場合、式8の化合物を塩基の存在下で式9の化合物とアルキル化反応させて式10の化合物を得る。塩基としては水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキシド、ブチルリチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの塩基を用いることができ;溶媒としてはジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフランを用いることができ;反応温度は−20〜100℃であり得る。
また、Lがヒドロキシである場合には、式8の化合物を式9の化合物とミツノブ反応(参考文献:Mitsunobu,O.,Synthesis,1981,1)させて式10の化合物を得る。ミツノブ反応はトリフェニルホスフィン、ジイソプロピルアゾカルボン酸またはジエチルアゾカルボン酸の存在下で、溶媒としてはトルエンまたはテトラヒドロフランを用いて行われる。
段階2:
前記式10の化合物及び式3の化合物を前記反応式1の段階1の方法で還元的アミノ化反応させて式11の二級アミン化合物を得る。
段階3:
前記式11の化合物及び式5の化合物を前記反応式1の段階2の方法で塩基の存在下で縮合反応させて本発明の式1aの化合物を得る。
本発明の式1のスルファミド誘導体またはその薬剤学的に許容される塩は脂肪代謝の促進に有効である。従って、本発明は前記式1のスルファミド誘導体またはその薬剤学的に許容される塩の治療有効量を活性成分として薬剤学的に許容される担体とともに含有する脂肪代謝促進用医学組成物を提供する。
本発明の医学組成物は、肥満、インシュリン非依存性糖尿病(NIDDM)、高脂質症、動脈硬化症、肝及び筋肉の脂肪症、脂肪代謝症候群Xまたは脂肪肝などの脂肪蓄積によって引き起こされる疾病の予防及び治療に用いられることができる。
本発明の医学組成物は、通常の方法によって静脈内、腹腔内、皮下、直腸及び局所的経路を含む経口または非経口投与のために製剤化できる。投与のための組成物は錠剤、粉剤、軟質及び硬質ゼラチンカプセル、溶液剤、懸濁剤、乳剤、シロップ剤、顆粒剤、エアロゾール剤、エリキシル剤、滅菌溶液剤、滅菌粉剤、非溶液剤及び凍結乾燥剤であってもよく、希釈剤、潤滑剤、充填剤、増量剤、湿潤剤、吸収剤、着色剤、着香剤、甘味剤、防腐剤、乳化剤などの通常の添加剤を更に含み得る。さらに、本発明の医学組成物は投与後の活性成分の迅速、持続または遅延放出のために公知の方法で製剤化され得る。
式1の化合物またはその薬剤学的に許容される塩は人を含む哺乳動物の場合、一日当り0.1〜1,000mg/kg(体重)、好ましくは1〜100mg/kg(体重)の有效量で1日1回または数回に分けて経口または非経口投与できる。しかし、前記投与量は患者の体質特異性及び体重、病気の種類及び重症度、製剤の性質及び投与期間並びに投与間隔を考慮して変化させ得る。
以下、本発明を実施例によって詳細に説明する。但し、下記実施例は本発明を例示するためのものに過ぎず、本発明の内容が下記実施例に制限されるわけではない。
実施例1
[N−(アミノスルホニル)−N−[[4−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(4−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
4−ベンジルオキシベンズアルデヒド(21.2g、0.1mol)、グリシンエチルエステル塩酸塩(15.4g、0.11mol)及びトリエチルアミン(11.4g、0.11mol)を1,2−ジクロロエタン(600ml)に溶解した後、トリアセトキシホウ化水素ナトリウム(31.8g、0.15mol)を添加して室温で5時間攪拌した。この反応物に飽和重炭酸ナトリウム(500ml)を加えてジクロロメタンで抽出した。抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮した後、残渣をシリカゲル(メルク社製、シリカゲル60、230−400メッシュ)カラムクロマトグラフィー(カラム:直径×長さ=8cm×50cm、溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物25.45g(収率85%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.43−7.30(m,5H)7.24(d,J=8.7Hz,2H)6.93(d,J=8.7Hz,2H)5.04(s,2H)4.17(q,J=7.2Hz,2H)3.73(s,2H)3.38(s,2H)1.83(brs,1H)1.26(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(4−ベンジルオキシベンジル)−N−[(t−ブトキシカルボニルアミノ)スルホニル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
クロロスルホニルイソシアン酸(16.98g、0.12mol)をジクロロメタン(120ml)に溶解した後、0℃以下でt−ブタノール(14.82g、0.2mol)を徐々に加えて30分間攪拌した。反応混合物にジクロロメタン(250ml)に溶解させた段階1で得た化合物(25.4g、0.084mol)を添加し、室温で一晩攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で精製して標題化合物38.6g(収率96%)を得た。
段階3:
[N−(4−ヒドロキシベンジル)−N−[(t−ブトキシカルボニルアミノ)スルホニル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(23.93g、0.05mol)をテトラヒドロフラン(250ml)に溶解した後、10%Pd/C触媒を添加して水素60psi下、室温で12時間攪拌した。反応混合物をろ過して触媒を除去した後、減圧濃縮して標題化合物19.23g(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.17(d,J=8.6Hz,2H)6.80(d,J=8.6Hz,2H)4.54(s,2H)4.18(q,J=7.2Hz,2H)3.98(s,2H)1.51(s,9H)1.26(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−[(t−ブトキシカルボニルアミノ)スルホニル]−N−[[4−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階3で得た化合物(0.39g、0.001mol)、2−(5−メチル−2−フェニル−オキサゾール−4−イル)エタノール(0.31g、0.0015mol)及びトリフェニルホスフィン(0.45g、0.0017mol)をトルエン(5ml)に溶解した後、ジイソプロピルアゾジカルボン酸(0.35g、0.017mol)を徐々に添加した。この混合物を室温で12時間攪拌した後、減圧濃縮して溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物0.5g(収率89%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.19(brs,1H)7.99−7.96(m,2H)7.45−7.36(m,3H)7.18(dd,J=1.89Hz,J=4.99Hz,2H)6.86(dd,J=1.89Hz,J=4.99Hz,2H)4.54(s,2H)4.23(t,J=6.6Hz,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.96(s,2H)2.98(t,J=6.6Hz,2H)2.37(s,3H)1.54(s,9H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階5:
[N−(アミノスルホニル)−N−[[4−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階4で得た化合物(0.5g、0.9mmol)をエタノール(3ml)に溶解した後、室温で塩化アセチル(0.2g,2.6mmol)を徐々に加えて1日間攪拌した。この反応混合物を減圧濃縮して溶媒を除去した後、氷(3g)及び飽和重炭酸ナトリウム水溶液(3ml)を加えてジクロロメタンで抽出し、抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物0.32g(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.99−7.96(m,2H)7.45−7.36(m,3H)7.25(dd,J=1.89Hz,J=4.89,2H)6.86(dd,J=1.89Hz,J=4.89Hz,2H)5.29(s,2H)4.30(s,2H)4.23(t,J=6.6Hz,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.87(s,3H)2.98(t,J=6.6Hz,2H)2.37(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階6:
[N−(アミノスルホニル)−N−[[4−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階5で得た化合物(0.32g、0.7mmol)をメタノール/水(3/1、v/v)混合溶液(3ml)に溶解した後、水酸化リチウム一水和物(0.34g、0.0081mol)を添加して30〜35℃で3時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮してメタノールを除去し、酢酸エチル(3ml)で希釈した後、1M塩酸(2ml)で処理した後、ジクロロメタンで抽出した。抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物0.3g(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.97−7.94(m,2H)7.42−7.40(m,3H)7.25(d,J=8.6Hz,2H)6.85(d,J=8.6Hz,2H)4.30−4.16(m,7H)3.57(s,2H)2.96(t,J=6.6Hz,2H)2.37(s,3H)
実施例2
(S)−3−メチル−2−[N−(スルファモイル)−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
3−メチル−2−[N−(スルファモイル)−N−3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸メチルエステルの製造
(S)−3−メチル−[[2−[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸メチルエステル(442mg、1mmol)、トリエチルアミン(111mg、1.1mmol)及びt−ブトキシカルボニルアミノ塩化スルホニル(260mg、1.2mmol)を用いたことを除いては前記実施例1の段階2及び5と同一な方法で反応させ、標題化合物335mg(収率65%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.89(d,J=8.1Hz,2H)7.25−7.21(m,3H)7.12(s,1H)7.00−6.91(m,2H)4.99(s,2H)4.77(s,2H)4.42(q,J=15.6Hz,J=14.1Hz,2H)3.96(d,J=10.5Hz,1H)3.69(s,3H)2.42(s,3H)2.39(s,3)2.30−2.15(m,1H)0.88−0.83(m,6H)
段階2:
(S)−3−メチル−2−[N−(スルファモイル)−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸の製造
(S)−3−メチル−2−[N−(スルファモイル)−N−3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸メチルエステル(100mg、0.245mmol)及び水酸化リチウム一水和物(15mg、0.368mmol)を用いたことを除いては前記実施例1の段階6と同一な方法で反応させ、標題化合物313mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.52(brs,1H)7.89(d,J=8.1Hz,2H)7.30(s,1H)7.01−6.96(m,2H)5.02(s,2H)4.42(s,2H)3.81(d,J=3.6Hz,1H)2.42(s,3H)2.38(s,3H)2.20−2.04(m,1H)1.02−0.83(m,6H)
実施例3
[N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(3−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
3−ベンジルオキシベンズアルデヒド(106g、0.5mol)、グリシンエチルエステル塩酸塩(77g、0.55mol)及びトリエチルアミン(57g、0.55mol)を1,2−ジクロロエタン(3L)に溶解した後、室温でトリアセトキシホウ化水素ナトリウム(159g、0.75mol)を加えた。この混合物を室温で10時間攪拌した後、飽和重炭酸ナトリウム水溶液(1.5L)を添加してジクロロメタン(1L)で抽出し、抽出物を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製して標題化合物120g(収率80%)を得た。
段階2:
[[N−(N,N−ジメチルスルホニル)−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(14.97g、0.05mol)及びN,N−塩化ジメチルスルファモイル(10.77g、0.075mol)をジクロロメタン(250ml)に溶解した後、室温でトリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を加えて2日間攪拌した。生成した反応混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物18.3g(収率90%)を得た。
段階3:
[[N−(N,N−ジメチルスルホニル)−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(18.3g、0.045mol)をTHF(250ml)に溶解した後、10%Pd/C触媒(4g)を加えて12時間水素大気(60psi)下で攪拌した。セルライト545(東洋化学社製、韓国)を用いて反応混合物をろ過した後、減圧濃縮して標題化合物14.1g(収率99%)を得た。
段階4:
[N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階3で得た化合物(0.316g、0.001mol)及び(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(0.25g、0.0012mol)をDMF(10ml)に溶解した後、60%水酸化ナトリウム(0.056g、0.0014mol)を加えた後、12時間攪拌した。氷(5g)及び水(3ml)を加えた後、1M塩酸2mlを加えてジクロロメタン20mlで抽出した。抽出物を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物0.34g(収率70%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.04−7.99(m,2H)7.45−7.41(m,3H)7.27(t,J=7.7Hz,1H)7.01−6.91(m,3H)4.98(s,2H)4.54(s,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)2.87(s,6H)2.44(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階5:
[N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階4で得た化合物(0.34g、0.7mmol)をメタノール/水(3/1、v/v)混合液1mlに溶解した後、水酸化リチウム一水和物(46mg、1.1mmol)を加えた。この混合物を室温で3時間攪拌した後、酢酸エチル1mlで希釈して1M塩酸1mlで酸処理した。反応混合物をジクロロメタン10mlで抽出した後、無水硫酸マグネシウム1gで乾燥して減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:メタノール/ジクロロメタン=1/20)で精製して標題化合物0.32g(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)9.67(brs,1H)8.02−7.98(m,2H)7.45−7.41(m,3H)7.25−7.21(m,1H)6.99−6.88(m,3H)5.00(s,2H)4.47(s,2H)3.87(s,2H)2.83(s,6H)2.43(s,3H)
実施例4
[N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例3の段階3で得た化合物(316mg、1mmol) [4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、化合物416mg(収率83%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.31−7.22(m,3H)7.00−6.91(m,3H)4.97(s,2H)4.53(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)2.86(s,6H)2.43(s,3H)2.39(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(416mg、0.83mmol)及び水酸化リチウム一水和物(54mg、1.3mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物389mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)10.21(brs,1H)7.87(d,J=8.1Hz,2H)7.26−7.20(m,3H)6.99−6.87(m,3H)4.99(s,2H)4.46(s,2H)3.86(s,2H)2.82(s,6H)2.42(s,3H)2.38(s,3H)
実施例5
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例3の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物444mg(収率80%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.5Hz,2H)7.32−7.24(m,1H)7.03−6.91(m,3H)5.00(s,2H)4.55(s,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)2.87(s,6H)2.47(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(444mg、0.8mmol)及び水酸化リチウム一水和物(50mg、1.2mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物444mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)9.29(brs,1H)8.12(d,J=8.1Hz,2H)7.70(d,J=8.1Hz,2H)7.28−7.24(m,1H)7.02−6.90(m,3H)5.01(s,2H)4.49(s,2H)3.89(s,2H)2.84(s,6H)2.47(s,3H)
実施例6
[N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(450mg、1mmol)、トリエチルアミン(111mg、1.1mmol)及びt−ブチルアミノ塩化スルホニル(210mg、1.2mmol)を一緒に入れて室温で一晩中攪拌した後、その結果得られた反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=6/1)で精製して標題化合物0.35g(収率60%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.7Hz,2H)7.68(d,J=8.7Hz,2H)7.31−7.23(m,1H)7.05−6.92(m,3H)5.26(s,1H)4.99(s,2H)4.37(s,2H)4.18(q,J=7.2Hz,2H)3.91(s,2H)2.47(s,3H)1.42(s,9H)1.26(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(350mg、0.6mmol)及び水酸化リチウム一水和物(40mg、0.9mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物330mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.11(d,J=8.8Hz,2H)7.70(d,J=8.8Hz,2H)7.29−7.21(m,1H)7.03−6.89(m,3H)5.00(s,2H)4.35(s,2H)3.91(s,2H)2.47(s,3H)1.37(s,9H)
実施例7
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(447mg、1mmol)、N,N−塩化ジエチルスルファモイル(189mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物472mg(収率81%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.31−7.23(m,1H)7.05−6.93(m,3H)5.00(s,2H)4.49(s,2H)4.14(q,J=7.1Hz,2H)3.81(s,2H)3.33(q,J=7.1Hz,4H)2.47(s,3H)1.28−1.17(m,9H)
段階2:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(472mg、0.81mmol)及び水酸化リチウム一水和物(51mg、1.2mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物445mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.19(brs,1H)8.11(d,J=8.1Hz,2H)7.68(d,J=8.1Hz,2H)7.29−7.21(m,1H)7.03−6.89(m,3H)5.00(s,2H)4.45(s,2H)3.85(s,2H)3.29(q,J=7.1Hz,4H)2.45(s,3H)1.16(t,J=7.1Hz,6H)
実施例8
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(447mg、1mmol)、N−イソプロピル−N−塩化メチルスルファモイル(189mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物461mg(収率79%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.14(d,J=8.1hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.31−7.23(m,1H)7.05−6.93(m,3H)4.99(s,2H)4.48(s,2H)4.24−4.09(m,3H)3.81(s,2H)2.74(s,3H)2.47(s,3H)1.28−1.17(m,9H)
段階2:
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(461mg、0.79mmol)及び水酸化リチウム一水和物(44mg、1.05mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物403mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.12(d,J=8.1Hz,2H)8.02(brs,1H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.30−7.22(m,1H)7.04−6.91(m,3H)5.00(s,2H)4.44(s,2H)4.21−4.15(m,1H)3.85(s,2H)2.72(s,3H)2.47(s,3H)1.19(s,3H)1.15(s,3H)
実施例9
[N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(447mg、1mmol)、N−アリル−N−塩化メチルスルファモイル(187mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物442mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.70(d,J=8.1Hz,2H)7.32−724(m,1H)7.03−6.91(m,3H)5.89−5.73(m,1H)5.31−5.21(m,2H)4.99(s,2H)4.53(s,2H)4.17(q,J=7.1Hz,2H)3.86−3.66(m,4H)2.82(s,3H)2.47(s,3H)1.25(t,J=7.1Hz,3H)
段階2:
[N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(442mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物416mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.20(brs,1H)8.11(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.30−7.22(m,1H)7.02−6.89(m,3H)5.88−5.74(m,1H)5.29−5.19(m,2H)5.01(s,2H)4.48(s,2H)3.89(s,2H)3.79(d,J=6.3Hz,2H)2.79(s,3H)2.47(s,3H)
実施例10
[N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(447mg、1mmol)、N−プロパルギル−N−塩化メチルスルファモイル(184mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物446mg(収率77%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.70(d,J=8.1Hz,2H)7.32−7.24(m,1H)7.03−6.92(m,3H)5.00(s,2H)4.53(s,2H)4.16(q,J=7.1Hz,2H)4.07(d,J=2.6Hz,2H)3.84(s,2H)2.97(s,3H)2.47(s,3H)2.35(t,J=2.6Hz,1H)1.25(t,J=7.1Hz,3H)
段階2:
[N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(446mg、0.77mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg、1.16mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物420mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.09(brs,1H)8.11(d,J=8.1Hz,2H)7.70(d,J=8.1Hz,2H)7.30−7.04(m,1H)6.97−6.90(m,3H)5.01(s,2H)4.48(s,2H)4.03(d,J=2.2Hz,2H)3.88(s,2H)2.94(s,3H)2.47(s,3H)2.35(t,J=2.2Hz,1H)
実施例11
[N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(447mg、1mmol)、塩化(ピペリジニル)スルファモイル(202mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物512mg(収率86%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.70(d,J=8.1Hz,2H)7.32−7.24(m,1H)7.03−6.92(m,3H)5.00(s,2H)4.54(s,2H)4.16(q,J=7.1Hz,2H)3.83(s,2H)3.29−3.17(m,4H)2.47(s,3H)1.71−1.43(m,6H)1.25(t,J=7.1Hz,3H)
段階2:
[N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(202mg、0.86mmol)及び水酸化リチウム一水和物(54mg、1.29mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物483mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.00(brs,1H)8.12(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.30−7.22(m,1H)7.02−6.90(m,3H)5.00(s,2H)4.49(s,2H)3.88(s,2H)3.27−3.17(m,4H)2.47(s,3H)1.65−1.44(m,6H)
実施例12
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例3の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物375mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.65−7.62(m,1H)7.41−7.39(m,1H)7.27(t,J=7.5Hz,1H)7.11−7.07(m,1H)6.98−6.92(m,3H)4.96(s,2H)4.53(s,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)2.87(s,6H)2.42(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(375mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物350mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)9.93(brs,1H)7.66−7.64(m,1H)7.42−7.40(m,1H)7.27−7.21(m,1H)6.98−6.89(m,3H)4.97(s,2H)4.48(s,2H)3.88(s,2H)2.83(s,6H)2.41(S,3H)
実施例13
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[[N−(N,N−ジメチルスルホニル)−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(316mg、1mmol) [4−メチル−5−クロロメチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物450mg(収率81%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.15(d,J=8.2Hz,2H)7.71(d,J=8.2Hz,2H)7.33−7.25(m,1H)7.04(s,1H)6.97−6.93(m,2H)5.09(s,2H)4.56(s,2H)4.17(q,J=7.2Hz,2H)3.86(s,2H)2.88(s,6H)2.31(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(450mg、0.81mmol)及び水酸化リチウム一水和物(51mg、1.22mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物423mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.14(d,J=8.1Hz,2H)7.71(d,J=8.1Hz,2H)7.03−7.25(m,1H)7.03(s,1H)6.98−6.93(m,2H)5.08(s,2H)4.54(s,2H)3.91(s,2H)2.87(s,6H)2.30(s,3H)
実施例14
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(3−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(14.97g、0.05mol)をジクロロメタン(250ml)に溶解し、トリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を加えた後、[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]塩化スルホニル(15.42g、0.075mol)を加えた。この混合物を室温で3日間攪拌した後、減圧濃縮して溶媒を除去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物18.3g(収率84%)を得た。
段階2:
[[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(18.3g、0.042mol)及び10%Pd/C触媒(4g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物14.6g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(379mg、1mmol)、(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(250mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物434mg(収率79%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.03−7.99(m,2H)7.47−7.34(m,7H)7.28−7.23(m,2H)6.95−6.93(m,2H)6.83−6.82(m,1H)4.95(s,2H)4.49(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.31(s,3H)2.43(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(434mg、0.79mmol)及び水酸化リチウム一水和物(50mg、1.2mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物408mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.01−7.96(m,2H)7.45−7.14(m,9H)6.95−6.78(m,3H)6.22(brs,1H)4.96(s,2H)4.43(s,2H)3.85(s,2H)3.26(s,3H)2.42(s,3H)
実施例15
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例14の段階2で得た化合物(316mg、1mmol) [4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物428mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.89(d,J=8.1Hz,2H)7.47−7.44(m,2H)7.39−7.34(m,2H)7.28−7.20(m,4H)6.95−6.83(m,3H)4.95(s,2H)4.49(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.30(s,3H)2.42(s,3H)2.39(s,3H)1.26(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(428mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物403mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.87(d,J=8.1Hz,2H)7.46−7.14(m,8H)6.95−6.78(m,3H)5.91(brs,1H)4.95(s,2H)4.42(s,2H)3.84(s,2H)3.26(s,3H)2.41(s,3H)2.38(s,3H)
実施例16
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例14の段階2で得た化合物(316mg、1mmol) [4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物476mg(収率77%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.4Hz,2H)7.69(d,J=8.4Hz,2H)7.46−7.21(m,6H)6.96−6.84(m,3H)4.98(s,2H)4.49(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.31(s,3H)2.46(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(476mg、0.77mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg、1.16mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物449mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.10(d,J=8.4Hz,2H)7.68(d,J=8.4Hz,2H)7.46−7.17(m,6H)6.97−6.81(m,3H)5.34(brs,1H)4.97(s,2H)4.45(s,2H)3.86(s,2H)3.28(s,3H)2.45(s,3H)
実施例17
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例14の段階2で得た化合物(316mg、1mmol) [4−クロロメチル−5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)]オキサゾール(256mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物422mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.64−7.62(m,1H)7.47−7.36(m,7H)7.25−7.21(m,2H)7.09−7.07(m,1H)6.93−6.83(m,3H)4.92(s,2H)4.48(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.84(s,2H)3.31(s,3H)2.40(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(422mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物397mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.67−7.64(m,1H)7.46−7.06(m,7H)6.94−6.79(m,4H)5.79(brs,1H)4.93(s,2H)4.44(s,2H)3.86(s,2H)3.27(s,3H)2.39(s,3H)
実施例18
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例3の段階1で得た化合物(14.97g、0.05mol)及び[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]塩化スルファモイル(18g、0.075mol)をジクロロメタン(250ml)に溶解した後、トリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を室温で加えた。この混合物を室温で3日間攪拌した後、減圧濃縮して溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物21.1g(収率84%)を得た。
段階2:
[[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(21.1g、0.042mol)及び10%Pd/C触媒(4g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物17.2g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(250mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物438mg(収率75%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.03−7.99(m,2H)7.44−7.22(m,8H)6.96−6.94(m,2H)6.86−6.83(m,1H)4.96(s,2H)4.47(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.27(s,3H)2.43(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(438mg、0.75mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.13mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物413mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.00−7.98(m,2H)7.45−7.16(m,8H)6.92−6.89(m,2H)6.81−6.78(m,1H)4.98(s,2H)4.39(s,2H)3.85(s,2H)3.23(s,3H)2.44(s,3H)
実施例19
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例18の段階3で得た化合物(413mg、1mmol) [4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物443mg(収率74%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.41−7.21(m,7H)6.96−6.93(m,2H)6.85−6.83(m,1H)4.94(s,2H)4.46(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.84(s,2H)3.27(s,3H)2.42(s,3H)2.39(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(443mg、0.74mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.11mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物418mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.87(d,J=8.1Hz,2H)7.38−7.19(m,7H)6.92−6.89(m,2H)6.81−6.78(m,1H)4.97(s,2H)4.95(brs,1H)4.38(s,2H)3.84(s,2H)3.24(s,3H)2.43(s,3H)2.39(s,3H)
実施例20
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例18の段階3で得た化合物(413mg、1mmol) [4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物496mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.70(d,J=8.1Hz,2H)7.42−7.22(m,5H)6.96−6.94(m,2H)6.86−6.84(m,2H)4.97(s,2H)4.47(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.28(s,3H)2.46(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(496mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物470mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.11(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.38−7.28(m,5H)6.94−6.90(m,2H)6.82−6.79(m,1H)5.45(brs,1H)4.98(s,2H)4.43(s,2H)3.88(s,2H)3.26(s,3H)2.47(s,3H)
実施例21
[N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(447mg、1mmol)、(N−エチル−N−m−トリルアミノ)塩化スルホニル(257mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物310mg(収率48%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.26−7.20(m,4H)7.11(d,J=7.6Hz,1H)6.95−6.92(m,2H)6.83(d,J=7.6Hz,2H)4.96(s,2H)4.50(s,2H)4.14(q,J=7.2Hz,2H)3.83(s,2H)3.70(q,J=7.2Hz,2H)2.46(s,3H)2.35(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)1.08(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(310mg、0.48mmol)及び水酸化リチウム一水和物(31mg、0.72mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物294mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.11(d,J=8.1Hz,2H)7.68(d,J=8.1Hz,2H)7.58(brs,1H)7.29−7.09(m,5H)6.96−6.89(m,2H)6.79(d,J=7.7Hz,1H)4.96(s,2H)4.45(s,2H)3.84(s,2H)3.69(q,J=7.2Hz,2H)2.45(s,3H)2.34(s,3H)1.08(t,J=7.2Hz,3H)
実施例22
[N−(N−p−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−p−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(447mg、1mmol)、(N−アニソイル−N−メチルアミノ)塩化スルホニル(259mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物557mg(収率86%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.12(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.39(d,J=8.9Hz,2H)7.24−7.16(m,1H)6.97−6.82(m,5H)4.97(s,2H)4.48(s,2H)4.16(q,J=7.0Hz,2H)3.86(s,2H)3.79(s,3H)3.26(s,3H)2.46(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N−p−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(557mg、0.86mmol)及び水酸化リチウム一水和物(54mg、1.29mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物527mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.35(brs,1H)8.18(d,J=8.1Hz,2H)7.66(d,J=8.1Hz,2H)7.28(d,J=8.9Hz,2H)7.21−7.12(m,3H)6.93−78(m,5H)4.94(s,2H)4.43(s,2H)3.84(s,2H)3.72(s,3H)3.17(s,3H)2.42(s,3H)
実施例23
[N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
[N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(447mg、1mmol)、[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]塩化スルホニル(246mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物547mg(収率86%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.12(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.34−7.17(m,4H)7.00−6.83(m,4H)4.96(s,2H)4.49(s,2H)4.14(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.31(s,3H)2.46(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(547mg、0.86mmol)及び水酸化リチウム一水和物(54mg、1.29mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物517mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.65(brs,1H)8.10(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.31−7.12(m,4H)6.99−6.80(m,4H)4.98(s,2H)4.44(s,2H)3.88(s,2H)3.27(s,3H)2.46(s,3H)
実施例24
[N−[[N−メチル−N−(p−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例18の段階3で得た化合物(256mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物425mg(収率72%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.64−7.62(m,1H)7.42−7.24(m,6H)7.10−7.07(m,1H)6.94−6.91(m,2H)6.85−6.82(m,1H)4.92(s,2H)4.46(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.27(s,3H)2.41(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(425mg、0.72mmol)及び水酸化リチウム一水和物(45mg、1.08mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物401mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.67−7.65(m,1H)7.42−7.28(m,6H)6.91−6.89(m,2H)6.84−6.81(m,1H)6.10(brs,1H)4.95(s,2H)4.41(s,2H)3.86(s,2H)3.25(s,3H)2.41(s,3H)
実施例25
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(3−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(3g、10mmol)及びN−(ピロリジニル)塩化スルホニル(2.55g、15mmol)を塩化ジクロロメタン(50ml)に溶解した後、室温でトリエチルアミン(1.62g、16mmol)を加えて2日間攪拌した。その結果得られた反応混合物を減圧濃縮して溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物3.85g(収率89%)を得た。
段階2:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(3.85g、8.9mmol)及びPd/C触媒(0.8g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物3.02g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(342mg、1mmol) [4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物436mg(収率75%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.31−7.23(m,1H)7.04(s,1H)6.99−6.93(m,2H)5.00(s,2H)4.56(s,2H)4.13(q,J=7.2Hz,2H)3.87(s,2H)3.41−3.27(m,4H)2.47(s,3H)1.98−1.87(m,4H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(436mg、0.75mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.13mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物411mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.12(d,J=8.2Hz,2H)7.70(d,J=8.2Hz,2H)7.29−7.23(m,2H)7.05(s,1H)6.96−6.92(m,2H)5.00(s,2H)4.51(s,2H)4.50(brs,1H)3.91(s,2H)3.38−3.29(m,4H)2.47(s,3H)1.23−1.18(m,4H)
実施例26
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(342mg、1mmol) [5−クロロメチル−4−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物413mg(71%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.15(d,J=8.1Hz,2H)7.71(d,J=8.1Hz,2H)7.69−7.25(m,1H)7.07(s,1H)6.98−6.91(m,3H)5.09(s,2H)4.57(s,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.87(s,2H)3.41−3.35(m,4H)2.31(s,3H)1.94−1.88(m,4H)1.25(t,J=7.2Hz,2H)
段階2:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(413mg、0.71mmol)及び水酸化リチウム一水和物(45mg、1.07mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物389mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.14(d,J=8.3Hz,2H)7.71(d,J=8.3Hz,2H)7.30−7.25(m,1H)7.04−6.95(m,3H)5.08(s,2H)4.54(s,2H)3.92(s,2H)3.91−3.75(m,4H)2.30(s,3H)1.92−1.88(m,4H)
実施例27
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(3−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(3g、10mmol)及び(4−メチル−1−ピペラジニル)塩化スルホニル(2.98g、15mmol)をジクロロメタン(50ml)に溶解した後、トリエチルアミン(1.62g、16mmol)を加えて室温で2日間攪拌した。生成した反応混合物を減圧濃縮して溶媒を除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで(溶離液:ジクロロメタン/酢酸エチル=1/1)で精製して標題化合物4.06g(収率88%)を得た。
段階2:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(4.06g、8.8mmol)及びPd/C触媒(0.8g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物3.23g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階2で得た化合物(371mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物470mg(収率77%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.2Hz,2H)7.69(d,J=8.2Hz,2H)7.32−7.24(m,1H)7.02−6.92(m,3H)5.00(s,2H)4.55(s,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.84(s,2H)3.37−3.32(m,4H)2.47(s,3H)2.46−2.43(m,4H)2.30(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(470mg、0.77mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg、1.16mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物444mg(収率90%)を得た。
H−NMR(DMSO−d6,300MHz):δ(ppm)8.09(d,J=8.2Hz,2H)7.82(d,J=8.2Hz,2H)7.28−7.22(m,1H)6.95−6.85(m,3H)4.96(s,2H)4.39(s,2H)3.70(s,3H)3.08−3.05(m,4H)2.45(s,3H)2.43−2.42(m,4H)
実施例28
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(3−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(3g、10mmol)及びN−(モルホリニル)塩化スルホニル(2.78g、15mmol)をジクロロメタン(50ml)に溶解した後、トリエチルアミン(1.62g、16mmol)を加えて室温で2日間攪拌した。その結果得られた反応混合物を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製して標題化合物3.77g(収率84%)を得た。
段階2:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(3.77g、8.4mmol)及びPd/C触媒(0.8g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物2.98g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物466mg(収率78%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.69(d,J=8.1Hz,2H)7.33−7.25(m,1H)7.02−6.91(m,3H)5.00(s,2H)4.57(s,2H)4.17(q,J=7.2Hz,2H)3.86(s,2H)3.74−3.69(m,4H)3.32−3.27(m,4H)2.47(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(466mg、0.78mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg、1.17mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物440mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.12(d,J=8.2Hz,2H)7.70(d,J=8.2Hz,2H)7.27−7.24(m,1H)7.02(s,1H)6.98−6.89(m,2H)5.01(s,2H4.53(s,2H)3.90(s,2H)3.73−3.70(m,4H)3.51(brs,1H)3.30−3.28(m,4H)2.48(s,3H)
実施例29
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例28の段階2で製造した化合物454mg(1.0mmol) [5−クロロメチル−4−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.15(d,J=8.1Hz,2H)7.71(d,J=8.1Hz,2H)7.34−7.26(m,1H)7.02−6.93(m,3H)5.08(s,2H)4.57(s,2H)4.18(q,J=7.2Hz,2H)3.87(s,2H)3.74−3.70(m,4H)3.32−3.28(m,4H)2.31(s,3H)1.26(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(454mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg、1.17mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物429mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.14(d,J=8.3Hz,2H)7.71(d,J=8.3Hz,2H)7.31−7.26(m,1H)7.01−6.95(m,3H)5.08(s,2H)4.57(s,2H)3.92(s,2H)3.74−3.71(m,4H)3.31−3.28(m,4H)2.30(s,3H)
実施例30
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[[N−(インドリニル)スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(3−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(14.97g、0.05mol)及び(インドリニル)塩化スルファモイル(16.33g、0.075mol)をジクロロメタン(250ml)に溶解した後、トリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を添加した。この混合物を3日間室温で攪拌した後、反応混合物を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物20.18g(収率84%)を得た。
段階2:
[[N−(インドリニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(20.18g、0.042mol)及びPd/C触媒(0.8g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物16.23g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(250mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物438mg(収率78%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.02−7.99(m,2H)7.43−7.41(m,4H)7.25−7.12(m,3H)6.95−6.82(m,4H)4.88(s,2H)4.62(s,2H)4.11−3.89(m,6H)3.12(t,J=8.5Hz,2H)2.43(s,3H)1.12(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(438mg、0.78mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg、1.17mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物412mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.00−7.96(m,2H)7.45−7.39(m,4H)7.14−7.08(m,3H)6.91−6.88(m,4H)5.29(s,1H)4.85(s,2H)4.47(s,2H)3.96(t,J=8.5Hz,2H)3.93(s,2H)3.05(t,J=8.5Hz,2H)2.43(s,3H)
実施例31
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例30の段階2で得た化合物(412mg) [4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物409mg(収率71%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.41(d,J=7.9Hz,1H)7.25−7.13(m,5H)6.95−6.82(m,4H)4.88(s,2H)4.62(s,2H)4.10−3.94(m,4H)3.88(s,2H)3.12(t,J=8.5Hz,2H)2.42(s,3H)2.39(s,3H)1.23(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(409mg、0.71mmol)及び水酸化リチウム一水和物(45mg、1.07mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物385mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.1Hz,2H)7.42(d,J=7.9Hz,1H)7.25−7.08(m,5H)6.94−6.76(m,4H)5.37(s,1H)4.87(s,2H)4.54(s,2H)4.00(t,J=8.5Hz,2H)3.92(s,2H)3.04(t,J=8.5Hz,2H)2.41(s,3H)2.39(s,3H)
実施例32
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例30の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物441mg(収率70%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.70(d,J=8.1Hz,2H)7.41(d,J=9.1Hz,1H)7.25−7.14(m,3H)6.97−6.84(m,4H)4.91(s,2H)4.63(s,2H)4.07(t,J=8.5Hz,2H)3.93(q,J=7.2Hz,2H)3.89(s,2H)3.13(t,J=8.5Hz,2H)2.46(s,3H)1.12(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(441mg、0.70mmol)及び水酸化リチウム一水和物(44mg、1.05mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物417mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.10(d,J=8.7Hz,2H)7.75(d,J=8.7Hz,2H)7.39(d,J=9.1Hz,1H)7.25−7.09(m,3H)6.95−6.78(m,4H)4.87(s,2H)4.83(s,1H)4.53(s,2H)4.03(t,J=8.3Hz,2H)3.95(s,2H)3.08(t,J=8.3Hz,2H)2.45(s,3H)
実施例33
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例30の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)]オキサゾール(256mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物392mg(収率69%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.64−7.62(m,1H)7.41−7.38(m,2H)7.22−7.07(m,4H)6.93−6.86(m,4H)4.86(s,2H)4.62(s,2H)4.12−3.95(m,4H)3.89(s,2H)3.12(t,J=8.5Hz,2H)2.41(s,3H)1.13(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(392mg、0.69mmol)及び水酸化リチウム一水和物(44mg、1.04mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物369mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.66−7.63(m,1H)7.44−7.39(m,2H)7.19−7.07(m,4H)6.95−6.77(m,4H)5.29(s,1H)4.83(s,2H)4.50(s,2H)4.02(t,J=8.3Hz,2H)3.94(s,2H)3.07(t,J=8.3Hz,2H)2.40(s,3H)
実施例34
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(3−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステル(14.97g、0.05mol)及び(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)塩化スルファモイル(17.38g、0.075mol)をジクロロメタン(250ml)に溶解した後、トリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を添加した。この混合物を3日間室温で攪拌した後、その結果得られた反応混合物を減圧濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して標題化合物20.03g(収率81%)を得た。
段階2:
[[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(19.78g、0.04mol)及びPd/C触媒(0.8g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物16.02g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(250mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物438mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.04−7.99(m,2H)7.63(d,J=7.7Hz,1H)7.45−7.42(m,3H)7.25−6.96(m,5H)6.94−6.76(m,2H)4.86(s,2H)4.55(s,2H)4.10(q,J=7.2Hz,2H)3.86(s,2H)3.79(t,J=5.8Hz,2H)2.79(t,J=6.8Hz,2H)2.43(s,3H)2.09−2.03(m,2H)1.20(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(438mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物412mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.04−7.99(m,2H)7.61(d,J=7.7Hz,1H)7.45−7.42(m,3H)7.18−6.98(m,4H)6.90−6.73(m,3H)4.86(s,2H)4.45(s,2H)3.89(s,2H)3.75(t,J=5.8Hz,2H)2.78(t,J=6.8Hz,2H)2.42(s,3H)2.08−2.02(m,2H)
実施例35
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例34の段階2で得た化合物(404mg、1mmol) [(4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物442mg(収率75%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.0Hz,2H)7.62(d,J=8.3Hz,1H)7.24−6.84(m,7H)6.78−6.75(m,2H)4.84(s,2H)4.55(s,2H)4.10(q,J=7.2Hz,2H)3.86(s,2H)3.79(t,J=5.8Hz,2H)2.81(t,J=6.8Hz,2H)2.42(s,3H)2.39(s,3H)2.08−2.03(m,2H)1.20(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(442g、0.75mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物417mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.87(d,J=8.0Hz,2H)7.62d,J=8.3Hz,1H)7.25−6.98(m,6H)6.89−6.73(m,3H)4.88(brs,1H)4.44(s,2H)3.89(s,2H)3.76(t,J=5.8Hz,2H)2.79(t,J=6.8Hz,2H)2.42(s,3H)2.38(s,3H)2.08−2.03(m,2H)
実施例36
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例34の段階2で得た化合物(398mg、1.0mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物476mg(収率74%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.7Hz,2H)7.70(d,J=8.7Hz,2H)7.63(d,J=8.3Hz,1H)7.27−6.77(m,7H)4.88(s,2H)4.56(s,2H)4.10(q,J=7.2Hz,2H)3.86(s,2H)3.80(t,J=5.8Hz,2H)2.83(t,J=6.8Hz,2H)2.46(s,3H2.09−2.04(m,2H)1.20(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(476g、0.74mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.11mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物451mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.11(d,J=8.7Hz,2H)7.68(d,J=8.7Hz,2H)7.61(d,J=8.3hz,1H)7.21−6.92(m,4H)6.89−6.75(m,3H)5.84(brs,1H)4.88(s,2H)4.49(s,2H)3.90(s,2H)3.65(t,J=5.8Hz,2H)2.80(t,J=6.8Hz,2H)2.45(s,3H)2.09−2.03(m,2H)
実施例37
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例34の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)]オキサゾール(256mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物407mg(収率70%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.65−7.61(m,2H)7.40(d,J=8.3Hz,1H)7.27−7.01(m,5H)6.93−6.76(m,3H)4.83(s,2H)4.54(s,2H)4.10(q,J=7.2Hz,2H)3.86(s,2H)3.79(t,J=5.8Hz,2H)2.82(t,J=6.8Hz,2H)2.41(s,3H)2.09−2.03(m,2H)1.20(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(407g、0.7mmol)及び水酸化リチウム一水和物(44mg、1.05mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物384mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.65−7.60(m,2H)7.39(d,J=8.3Hz,1H)7.19−6.98(m,5H)6.89−6.74(m,3H)6.72(brs,1H)4.84(s,2H)4.47(s,2H)3.90(s,2H)3.75(t,J=5.8Hz,2H)2.79(t,J=6.8Hz,2H)2.39(s,3H)2.09−2.03(m,2H)
実施例38
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(4−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
4−ベンジルオキシベンズアルデヒド(106g、0.5mol)、グリシンエチルエステル塩酸塩(77g、0.55mol)、トリエチルアミン(57g、0.55mol)及びトリアセトキシホウ化水素ナトリウム(159g、0.75mol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物127g(収率85%)を得た。
段階2:
[[N−(N,N−ジメチルスルファモイル)−N−(4−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(14.97g、0.05mol)、N,N−塩化ジメチルスルファモイル(10.77g、0.075mol)及びトリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物18.09g(収率89%)を得た。
段階3:
[[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−(4−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2の化合物(17.89g、0.044mol)及びPd/C触媒(4g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物13.78g(収率99%)を得た。
段階4:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階3で得た化合物(316mg、1mmol)、(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(250mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物373mg(収率78%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.03−8.00(m,2H)7.47−7.43(m,3H)7.25(d,J=8.6Hz,2H)7.00(d,J=8.6Hz,2H)4.98(s,2H)4.49(s,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.82(s,2H)2.86(s,6H)2.43(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階5:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階4で得た化合物(373mg、0.78mmol)及び水酸化リチウム一水和物(50mg、1.17mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物355mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.02−7.99(m,2H)7.46−7.44(m,3H)7.22(d,J=8.6Hz,2H)6.96(d,J=8.6Hz,2H)5.00(s,2H)4.46(s,2H)3.82(s,2H)2.84(s.6H)2.45(s,3H)
実施例39
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)、[(4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例4の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物(386mg,77%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.89(d,J=8.3Hz,2H)7.28−7.22(m,4H)7.01(d,J=8.7Hz,2H)4.97(s,2H)4.49(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.82(s,2H)2.86(s,6H)2.42(s,3H)2.39(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(386mg、0.77mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg、1.16mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物361mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)9.15(brs,1H)7.88(d,J=8.1Hz,2H)7.24−7.18(m,4H)6.94(d,J=8.4hz,2H)4.99(s,2H)4.46(s,2H)3.81(s,2H)2.84(s,6H)2.44(s,3H)2.39(s,3H)
実施例40
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物417mg(収率75%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H)7.70(d,J=8.1Hz,2H)7.25(d,J=8.7Hz,2H)7.01(d,J=8.7Hz,2H)4.99(s,2H)4.49(s,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.82(s,2H)2.87(s,6H)2.46(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(417mg、0.75mmol)及び水酸化リチウム一水和物(53mg、1.13mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物361mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)9.39(brs,1H)8.12(d,J=8.4Hz,2H)7.71(d,J=8.4Hz,2H)7.24(d,J=8.4Hz,2H)6.97(d,J=8.4Hz,2H)5.01(s,2H)4.46(s,2H)3.85(s,2H)2.84(s,6H)2.47(s,3H)
実施例41
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)]オキサゾール(256mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物365mg(収率74%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.63(dd,J=1.1Hz,J=2.4Hz,1H)7.39(dd,J=1.1Hz,J=3.9Hz,1H)7.25(d,J=8.5Hz,2H)7.12−7.09(m,1H)6.97(d,J=8.5Hz,2H)4.96(s,2H)4.49(s,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.82(s,2H)2.86(s,6H)2.41(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(365mg、1.07mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.11mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物341mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)9.76(brs,1H)7.67(dd,J=1.1Hz,J=2.4Hz,1H)7.42(dd,J=1.1Hz,J=3.9Hz,1H)7.22(d,J=8.7Hz,2H)7.12−7.09(m,1H)6.95(d,J=8.7Hz,2H)5.04(s,2H)4.46(s,2)3.83(s,2H)2.83(s,6H)2.42(s,3H)
実施例42
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−(4−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
4−ベンジルオキシベンズアルデヒド(21.2g、0.1mol)、グリシンメチルエステル(13.81g、0.11mol)及びトリエチルアミン(11.13g、0.11mol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階1と同一な方法で反応させ、[N−(4−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸メチルエステル22.5g(収率79%)を得た。得た化合物(2.85g、10mmol)、(ピロリジニル)塩化スルホニル(2.04g、12mmol)及びトリエチルアミン(1.62g、16mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物3.6g(収率86%)を得た。
段階2:
[[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−(4−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−(4−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステル(3.6g、8.6mmol))及びPd/C触媒(0.8g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物2.79g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(328mg、1mmol)、[(4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物390mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.89(d,J8.2Hz,2H)7.28−7.21(m,4H)6.98(d,J=8.2Hz,2H)4.96(s,2H)4.48(s,2H)3.85(s,2H)3.69(s,3H)3.38−3.32(m,4H)2.41(s,3H)2.38(s,3H)1.98−1.86(m,4H)
段階4:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(390mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物375mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.89(d,J=8.1Hz,2H)7.26−7.20(m,4H)6.95(d,J=8.1Hz,2H)4.98(s,2H)4.47(s,2H)3.83(s,2H)3.37−3.32(m,4H)2.43(s,3H)2.40(s,3H)1.89−1.85(m,4H)
実施例43
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−(4−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記実施例42の段階1で得た化合物(2.85g、10mmol)、(4−メチル−1−ピペラジニル)塩化スルホニル(2.38g、12mmol)及びトリエチルアミン(1.62g、16mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物3.67g(収率82%)を得た。
段階2:
[[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−(4−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(3.67g、8.2mmol)及びPd/C触媒(0.8g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物2.90g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(357mg、1mmol)、[(4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物407mg(収率75%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.25(d,J=8.6Hz,2H)7.24(d,J=8.1Hz,2H)6.99(d,J=8.6Hz,2H)4.97(s,2H)4.48(s,2H)3.82(s,2H)3.70(s,3H)3.35−3.32(m,4H)2.48−2.44(m,4H)2.43(s,3H)2.40(s,3H)2.31(s,3H)
段階4:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(407mg、0.75mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.13mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物393mg(収率99%)を得た。
H−NMR(DMSO−d6,300MHz):δ(ppm)7.83(d,J=8.1Hz,2H)7.33(d,J=8.1Hz,2H)7.27(d,J=8.5Hz,2H)7.05(d,J=8.5Hz,2H)4.99(s,2H)4.40(s,2H)3.74(s,2H)3.50(brs,1H)3.40−3.00(m,4H)2.62−2.58(m,4H)2.44(s,3H)2.37(s,3H)
実施例44
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[[N−(モルホリニル)スルホニル−N−(4−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記実施例42の段階1で得た化合物(2.85g、10mmol)、(モルホリニル)塩化スルホニル(2.23g、12mmol)及びトリエチルアミン(1.62g、16mmol)を用いて前記実施例3の段階2の方法で反応させ、標題化合物3.69g(収率85%)を得た。
段階2:
[[N−(モルホリニル)スルホニル−N−(4−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(3.69g、8.5mmol)及びPd/C触媒(0.8g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物2.90g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(344mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物392mg(収率74%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.26−7.22(m,4H)6.99(d,J=8.1Hz,2H)4.98(s,2H)4.50(s,2H)3.85−3.70(m,4H)3.71(s,2H)3.31−3.26(m,4H)2.43(s,3H)2.40(s,3H)
段階4:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(392mg、0.74mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.11mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物378mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.89(d,J=8.1Hz,2H)7.26(d,J=8.1Hz,2H)7.17(d,J=8.4Hz,2H)6.93(d,J=8.4Hz,2H)6.98(s,2H)4.48(s,2H)3.79(s,2H)3.70−3.67(m,4H)3.29−3.25(m,4H)2.44(s,3H)2.40(s,3H)
実施例45
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−(4−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階1で得た化合物(14.97g、0.05mol)、[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]塩化スルホニル(15.42g、0.075mol)及びトリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物19.21g(収率79%)を得た。
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−(4−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(18.27g、0.039mol)及びPd/C触媒(4g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物14.61g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(378mg、1mmol)、(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(250mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物423mg(収率77%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.01(m,2H)7.47−7.29(m,7H)7.28−7.23(m,1H)7.16(d,J=8.7Hz,2H)6.95(d,J=8.7Hz,2H)4.97(s,2H)4.44(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.81(s,2H)3.29(s,3H)2.43(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(423mg、0.77mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg、1.16mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物398mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.01−7.97(m,2H)7.44(m,5H)7.36−7.15(m,3H)7.10(d,J=8.6hz,2H)6.90(d,J=8.6Hz,2H)4.98(s,2H)4.42(s,2H)3.91(s,2H)3.27(s,3H)2.44(s,3H)
実施例46
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記実施例45の段階2で得た化合物(378mg、1mmol)、[(4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物406mg(収率72%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.89(d,J=8.1Hz,2H)7.47−7.23(m,9H)7.16(d,J=8.7Hz,2H)6.95(d,J=8.7Hz,2H)4.95(s,2H)4.44(s,2H)4.14(q,J=7.2Hz,2H)3.81(s,2H)3.28(s,3H)2.41(s,3H)2.39(s,3H)1.23(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(406mg、0.72mmol)及び水酸化リチウム一水和物(45mg、1.08mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物382mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.84(d,J=8.1Hz,2H)7.47−7.22(m,9H)7.18(d,J=8.7Hz,2H)6.89(d,J=8.7Hz,2H)4.85(s,2H)4.39(s,2H)3.76(s,2H)3.14(s,3H)2.36(s,3H)2.34(s,3H)
実施例47
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例45の段階2で得た化合物(364mg、1.0mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物463mg(収率75%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.12(d,J=8.3Hz,2H)7.86(d,J=8.3hz,2H)7.71−7.23(m,5H)7.17(d,J=8.5Hz,2H)6.95(d,J=8.5Hz,2H)4.98(s,2H)4.44(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.81(s,2H)3.30(s,3H)2.45(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(463mg、0.75mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.13mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物438mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.07(d,J=8.3Hz,2H)7.65(d,J=8.3hz,2H)7.37−7.18(m,5H)7.05(d,J=8.5Hz,2H)6.82(d,J=8.5Hz,2H)4.89(s,2H)4.41(s,2H)3.78(s,2H)3.18(s,3H)2.39(s,3H)
実施例48
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例45の段階2で得た化合物(378mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)]オキサゾール(256mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物422mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.63−7.62(m,1H)7.47−7.24(m,2H)7.16(d,J=8.5Hz,2H)7.10−7.07(m,1H)6.93(,J=8.5Hz,2H)4.94(s,2H)4.43(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.81(s,2H)3.29(s,3H)2.40(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(422mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物438mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.63−7.62(m,1H)7.47−7.24(m,2H)7.16(d,J=8.5Hz,2H)7.10−7.07(m,1H)6.85(,J=8.5Hz,2H)4.87(s,2H)4.40(s,2H)3.78(s,2H)3.19(s,3H)2.36(s,3H)
実施例49
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−(4−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階1で得た化合物(14.97g、0.05mol)、[[N−メチル−N−(p−クロロフェニル)]アミノ]塩化スルホニル(18.01g、0.075mol)及びトリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物18.86g(収率75%)を得た。
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−(4−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(18.61g、0.037mol)及びPd/C触媒(4g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物15.12g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(250mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物421mg(収率72%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.03−8.00(m,2H)7.47−7.30(m,7H)7.17(d,J=8.4Hz,2H)6.96(d,J=8.4Hz,2H)4.97(s,2H)4.42(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.81(s,2H)3.27(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(421mg、0.72mmol)及び水酸化リチウム一水和物(45mg、1.08mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物397mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.03−7.97(m,2H)7.47−7.19(m,7H)7.06(d,J=8.4Hz,2H)6.89(d,J=8.4Hz,2H)4.92(s,2H)4.38(s,2H)3.78(s,2H)3.16(s,3H)
実施例50
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例49の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、[(4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物461mg(収率77%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.4Hz,2H)7.42−7.23(m,6H)7.16(d,J=8.5Hz,2H)6.95(d,J=8.5Hz,2H)4.96(s,2H)4.42(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.81(s,2H)3.27(s,3H)2.42(s,3H)2.39(s,3H)1.24(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(461mg、0.77mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.16mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物435mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.88(d,J=8.4Hz,2H)7.39−7.23(m,6H)7.08(d,J=8.5Hz,2H)6.89(d,J=8.5Hz,2H)4.97(s,2H)4.39(s,2H)3.78(s,2H)3.23(s,3H)2.44(s,3H)2.39(s,3H)
実施例51
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例49の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物489mg(収率75%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.12(d,J=8.1Hz,2H)7.07(d,J=8.1Hz,2H)7.42−7.31(m,4H)7.18(d,J=8.5Hz,2H)6.96(d,J=8.5Hz,2H)4.98(s,2H)4.43(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.82(s,2H)3.27(s,3H)2.46(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(489mg、0.75mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.13mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物463mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.06(d,J=8.1Hz,2H)7.65(d,J=8.1Hz,2H)7.25−7.21(m,4H)7.03(d,J=8.5Hz,2H)6.85(d,J=8.5Hz,2H)4.89(s,2H)4.36(s,2H)3.78(s,2H)3.11(s,3H)2.40(s,3H)
実施例52
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例49の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)]オキサゾール(256mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物425mg(収率72%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.62(m,1H)7.42−7.31(m,5H)7.15(d,J=8.5Hz,2H)7.11−7.08(m,1H)6.94(d,J=8.5Hz,2H)4.95(s,2H)4.42(s,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.82(s,2H)3.27(s,3H)2.41(s,3H)1.25(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(425mg、0.72mmol)及び水酸化リチウム一水和物(45mg、1.08mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物401mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.61−7.59(m,1H)7.38−7.36(m,1H)7.27−7.18(m,4H)7.07−7.00(m,3H)6.82(d,J=8.5Hz,2H)5.29(brs,1H)4.86(s,2H)4.35(s,2H)3.77(s,2H)3.08(s,3H)2.35(s,3H)
実施例53
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−(4−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階1で得た化合物(14.97g、0.05mol)、(インドリニル)塩化スルホニル(16.33g、0.075mol)及びトリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を前記実施例4の段階2の方法で反応させ、標題化合物18.5g(収率77%)を得た。
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−(4−ヒドロキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(18.26g、0.038mol)及びPd/C触媒(4g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物14.69g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(390mg、1mmol)及び(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(250mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物395mg(収率72%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.03−7.98(m,2H)7.47−7.42(m,4H)7.17−7.11(m,4H)6.96−6.92(m,3H)4.97(s,2H)4.57(s,2H)4.06(t,J=8.6Hz,2H)3.95(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.12(t,J=8.6Hz,2H)2.43(s,3H)1.12(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(395mg、0.72mmol)及び水酸化リチウム一水和物(45mg、1.08mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物380mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.00−7.97(m,2H)7.46−7.42(m,4H)7.14−7.08(m,4H)6.96−6.89(m,3H)4.96(s,2H)4.48(s,2H)4.02(t,J=8.4Hz,2H)3.88(s,2H)3.08(t,J=8.4Hz,2H)2.44(s,3H)
実施例54
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例53の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、[(4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物432mg(収率75%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.87(d,J=8.7Hz,2H)7.43(d,J=8.4Hz,1H)7.24(d,J=8.7Hz,2H)7.17−7.04(m,4H)6.97−6.91(m,3H)4.99(s,2H)4.57(s,2H)4.06(t,J=8.4Hz,2H)3.95(q,J=7.2Hz,2H)3.86(s,2H)3.12(t,J=8.4Hz,2H)2.41(s,3H)2.39(s,3H)1.12(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(432mg、0.75mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.13mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させて標題化合物407mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.1Hz,2H)7.43(d,J=8.1Hz1H)7.25−7.23(m,2H)7.16−7.06(m,4H)6.95−6.07(m,3H)4.94(s,2H)4.46(s,2H)4.01(t,J=8.4Hz,H)3.85(s,2H)3.06(t,J=8.4Hz,2H)2.43(s,3H)2.40(s,3H)
実施例55
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例53の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、[(4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物447mg(収率71%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.3Hz,2H)7.85(d,J=8.3Hz,2H)7.70(d,J=8.4Hz,1H)7.19−7.11(m,4H)6.97−6.93(m,3H)5.01(s,2H)4.59(s,2H)4.07(t,J=8.4Hz,2H)3.95(q,J=7.2Hz,2H)3.86(s,2H)3.13(t,J=8.4Hz,2H)2.46(s,3H)1.12(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(447mg、0.71mmol)及び水酸化リチウム一水和物(45mg、1.07mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物423mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.10(d,J=8.4Hz,2H)7.70(d,J=8.4hz,2H)7.43(d,J=8.4Hz,1H)7.17−7.12(m,4H)6.97−6.91(m,3H)4.98(s,2H)4.51(s,2H)4.03(t,J=8.4Hz,2H)3.90(s,2H)3.10(t,J=8.4Hz,2H)2.46(s,3H)
実施例56
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例53の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)]オキサゾール(256mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物414mg(収率73%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.63−7.62(m,1H)7.44−7.39(m,2H)7.17−7.08(m,5H)6.97−6.91(m,3H)4.94(s,2H)4.57(s,2H)4.06(t,J=8.7Hz,2H)3.95(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.12(t,J=8.7Hz,2H)2.40(s,3H)1.12(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(414mg、0.73mmol)及び水酸化リチウム一水和物(46mg、1.10mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物390mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.66−7.64(m,1H)7.42−7.40(m,2H)7.14−7.07(m,5H)6.94−6.87(m,3H)4.93(s,2H)4.49(s,2H)4.02(t,J=8.4Hz,2H)3.88(s,2H)3.08(t,J=8.4Hz,2H)2.41(s,3H)
実施例57
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−(4−ベンジルオキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階1で得た化合物(14.97g、0.05mol)、(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)塩化スルホニル(17.38g、0.075mol)及びトリエチルアミン(8.1g、0.08mol)を用いたことを除いては実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物18.79g(収率76%)を得た。
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−(4−ヒドロキシベンジル)アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階1で得た化合物(18.79g、0.038mol)及びPd/C触媒(4g)を用いたことを除いては前記実施例3の段階3と同一な方法で反応させ、標題化合物15.22g(収率99%)を得た。
段階3:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、(4−クロロメチル−5−メチル−2−フェニル)オキサゾール(250mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物432mg(収率75%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.02(m,2H)7.59(d,J=8.1Hz,1H)7.44(m,3H)7.12−7.06(m,5H)6.92(d,J=8.7Hz,2H)4.97(s,2H)4.49(s,2H)4.07(q,J=7.2Hz,2H)3.78(m,4H)2.82(t,J=6.7Hz,2H)2.43(s,3H)2.09(m,2H)1.20(t,J=7.2Hz,3H)
段階4:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階3で得た化合物(432mg、0.75mmol)及び水酸化リチウム一水和物(47mg、1.13mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物411mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.00−7.98(m,2H)7.59(d,J=8.1Hz,1H)7.44−7.42(m,3H)7.14−7.00(m,5H)6.88(d,J=8.4Hz,2H)4.97(s,2H)4.46(s,2H)3.83(s,2H)3.75(t,J=5.9Hz,2H)2.79(t,J=6.6Hz,2H)2.43(s,3H)2.04(s,3H)
実施例58
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例57の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、[(4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−メチルフェニル)]オキサゾール(266mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物448mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.89(d,J=8.2Hz,2H)7.60(d,J=8.2Hz,1H)7.24(d,J=8.6Hz,2H)7.15−7.03(m,5H)6.91(d,J=8.6Hz,2H)4.95(s,2H)4.49(s,2H)4.07(q,J=7.2Hz,2H)3.82(s,2H)3.78(t,J=5.8Hz,2H)2.82(t,J=6.7Hz,2H)2.41(s,3H)2.39(s,3H)2.08−2.03(m,2H)1.19(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(432mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物423mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.87(d,J=8.2Hz,2H)7.60(d,J=8.2Hz,1H)7.24(d,J=8.6Hz,2H)7.10−7.03(m,5H)6.94(d,J=8.6Hz,2H)4.95(s,2H)4.45(s,2H)3.81(s,2H)3.77(t,J=5.8Hz,2H)2.79(t,J=6.7Hz,2H)2.42(s,3H)2.39(s,3H)2.06−2.03(m,2H)
実施例59
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例57の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)]オキサゾール(330mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物463mg(収率72%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.12(d,J=8.4Hz,2H)7.86(d,J=8.4Hz,2H)7.60(d,J=8.2Hz,1H)7.17−7.01(m,5H)6.93(d,J=8.6Hz,2H)4.97(s,2H)4.50(s,2H)4.08(q,J=7.2Hz,2H)3.82(s,2H)3.79(t,J=5.8Hz,2H)2.83(t,J=6.6Hz,2H)2.45(s,3H)2.11−2.02(m,2H)1.19(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(463mg、0.72mmol)及び水酸化リチウム一水和物(45mg、1.08mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物439mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.10(d,J=8.4Hz,2H)7.69(d,J=8.4Hz,2H)7.53(d,J=8.2Hz,1H)7.10−6.91(m,5H)6.84(d,J=8.6Hz,2H)4.90(s,2H)4.40(s,2H)3.84(s,2H)3.74(t,J=5.8Hz,2H)2.75(t,J=6.6Hz,2H)2.40(s,3H)2.08−2.02(m,2H)
実施例60
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例57の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、[4−クロロメチル−5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)]オキサゾール(256mg、1.2mmol)及び60%水酸化ナトリウム(56mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階4と同一な方法で反応させ、標題化合物442mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.63−7.59(m,2H)7.39(d,J=5.9Hz,1H)7.15−7.04(m,6H)6.89(d,J=8.6Hz,2H)4.93(s,2H)4.49(s,2H)4.08(q,J=7.2Hz,2H)3.82(s,2H)3.78(t,J=5.8Hz,2H)2.82(t,J=6.7Hz,2H)2.40(s,3H)2.10−2.04(m,2H)1.19(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(442mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物417mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.82(brs,1H)7.66−7.57(m,2H)7.41(d,J=5.9Hz,1H)7.10−7.00(m,6H)6.86(d,J=8.6Hz,2H)4.94(s,2H)4.46(s,2H)3.84(s,2H)3.78(t,J=5.8Hz,2H)2.79(t,J=6.7Hz,2H)2.40(s,3H)2.08−2.02(m,2H)
実施例61
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例3の段階3で得た化合物(302mg、1.0mmol),2−[[5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]]エタノール(305mg、1.5mmol)及びトリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)をトルエン(10ml)に溶解した後、ジイソプロピルアゾジカルボン酸(344mg、1.7mmol)を添加して室温で12時間攪拌した。この混合物を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:酢酸エチル=20:1(v:v))で精製して標題化合物466mg(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.00−7.95(m,2H)7.43−7.39(m,3H)7.28−7.21(m,1H)6.89−6.87(m,3H)4.51(s,2H)4.24(t,J=6.7Hz,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.83(s,2H)2.98(t,J=6.7Hz,2H)2.86(s,6H)2.34(s,3H)1.23(t,J=7.2Hz,3H)
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(466mg、0.93mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物436mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.92(brs,1H)7.98−7.93(m,2H)7.44−7.39(m,3H)7.25−7.18(m,1H)6.97−6.86(m,3H)4.49(s,2H)4.23(t,J=6.7Hz,2H)3.89(s,2H)2.97(t,J=6.7Hz,2H)2.84(s,6H)2.37(s,3H)
実施例62
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例3の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物469mg(収率91%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.27−7.19(m,3H),6389−6.86(m,3H),4.50(s,2H),4.26−4.13(m,4H),3.83(s,2H),2.97(t,J=6.7Hz,2H),2.86(s,6H),2.38(s,3H),2.36(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(469mg、0.91mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物439mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)10.05(brs,1H),7.84(d,J=8.1Hz,2H),7.25−7.18(m,3H),6.97−6.86(m,3H),4.50(s,2H),4.22(t,J=6.7Hz,2H),3.89(s,2H),2.96(t,J=6.7Hz,2H),2.85(s,6H),2.38(s,3H),2.37(s,3H).
実施例63
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(380mg、1mmol)、N,N−塩化ジエチルスルファモイル(189mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物413mg(収率76%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.3Hz,2H),7.26−7.19m,3H),6.90−6.81(m,3H),4.45(s,2H),4.23(t,J=6.5Hz,2H),4.13(q,J=7.1Hz,2H),3.79(s,2H),3.32(q,J=7.1Hz,4H),2.97(t,J=6.5Hz,2H),2.37(s,3H),2.36(s,3H),1.25−1.15(m,9H).
段階2:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(413mg、0.76mmol)及び水酸化リチウム一水和物(48mg、1.14mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物388mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.79(brs,1H),7.84(d,J=8.3Hz,2H),7.26−7.18(m,3H),7.02−6.81(m,3H),4.45(s,2H),4.22(t,J=6.5Hz,2H),3.86(s,2H),3.32(q,J=7.1Hz,4H),2.95(t,J=6.5Hz,2H),2.38(s,3H),2.36(s,3H),1.17(t,J=7.1Hz,6H).
実施例64
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(380mg、1mmol)、(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)塩化スルホニル(189mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物468mg(収率86%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.1Hz,2H),7.26−7.19(m,3H),6.89−6.81(m,3H),4.43(s,2H),4.26−4.08(m,5H),3.79(s,2H),2.97(t,J=6.5Hz,2H),2.73(s,3H),2.38(s,3H),2.37(s,3H),1.26−1.16(m,9H).
段階2:
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(468mg、0.86mmol)及び水酸化リチウム一水和物(54mg、1.29mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物439mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.91(brs,1H),7.84(d,J=8.1Hz,2H),7.26−7.17(m,3H),7.02−6.81(m,3H),4.43(s,2H),4.26−4.14(m,3H),3.85(s,2H),2.94(t,J=6.5Hz,2H),2.73s,3H), 2.38(s,3H),2.35(s,3H),1.17(s,3H),1.14(s,3H).
実施例65
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例3の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物524mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.08(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=6.1Hz,2H),7.25−7.24(m,1H),6.89−6.82(m,3H),4.52(s,2H),4.28−4.10(m,4H),3.84(s,2H),2.98(t,J=6.7Hz,2H),2.87(s,6H),2.41(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(524mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物493mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.65(brs,1H),8.07(d,J=8.1Hz,2H),7.67(d,J=8.1Hz,2H),7.23−7.19(m,1H),6.95−6.87(m,3H),4.49(s,2H),4.24(t,J=6.7Hz,2H),3.89(s,2H),2.98(t,J=6.7Hz,2H),2.85(s,6H),2.40(s,3H).
実施例66
[N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(462mg、1mmol)、トリエチルアミン(0.11g、1.1mmol)及びt−ブチルアミノ塩化スルホニル(0.21g、1.2mmol)を用いたことを除いては前記実施例1の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物538mg(収率90%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.09(d,J=8.7Hz,2H),7.68(d,J=8.7Hz,2H),7.28−7.19(m,1H),6.89−6.82(m,3H),5.23(s,1H),4.34(s,2H),4.27−4.12(m,4H),3.89(s,2H),2.99(t,J=6.5Hz,2H),2.41(s,3H),1.40(s,9H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(538mg、0.9mmol)及び水酸化リチウム一水和物(57mg、1.35mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物507mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.00(d,J=8.7Hz,2H),7.61(d,J=8.7Hz,2H),7.06−6.98(m,1H),6.84−6.66(m,3H),5.71(brs,1H),4.30(s,2H),4.11(t,J=6.5Hz,2H),3.69(s,2H),2.88(t,J=6.5Hz,2H),2.31(s,3H),1.17(s,9H).
実施例67
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(462mg、1mmol)、N,N−塩化ジエチルスルファモイル(189mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物490mg(収率82%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.08(d,J=8.1Hz,2H),7.66(d,J=8.1Hz,2H),7.28−7.19(m,1H),6.90−6.81(m,3H),4.46(s,2H),4.24(t,J=6.5Hz,2H),4.14(q,J=7.1Hz,2H),3.79(s,2H),3.32(q,J=7.1Hz,4H),2.99(t,J=6.5Hz,2H),2.40(s,3H),1.29−1.16(m,9H).
段階2:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(490mg、0.82mmol)及び水酸化リチウム一水和物(53mg、1.23mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物462mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.99(brs,1H), 8.07(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.28−7.19(m,1H),6.98−6.81(m,3H),4.45(s,2H),4.24(t,J=6.5Hz,2H),3.86(s,2H),3.32(q,J=7.1Hz,4H),2.98(t,J=6.5Hz,2H),2.40(s,3H),1.29−1.14(m,6H).
実施例68
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(462mg、1mmol) [N−イソプロピル−N−メチルアミノ]塩化スルホニル(189mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物514mg(収率86%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.09(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.23−7.19(m,1H),6.91−6.81(m,3H),4.45(s,2H),4.28−4.08(m,5H),3.79(s,2H),2.99(t,J=6.5Hz,2H),2.74(s,3H),2.40(s,3H),1.26−1.16(m,9H).
段階2:
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(514mg、0.86mmol)及び水酸化リチウム一水和物(54mg、1.29mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物485mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.43(brs,1H),8.07(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.26−7.19(m,1H),7.00−6.82(m,3H),4.43(s,2H),4.27−4.13(m,3H),3.85(s,2H),2.97(t,J=6.5Hz,2H),2.73(s,3H),2.40(s,3H),1.18(s,3H),1.15(s,3H).
実施例69
[N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(462mg、1mmol)、(N−アリル−N−メチルアミノ)塩化スルホニル(187mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物477mg(収率80%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.08(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.28−7.20(m,1H),6.89−6.83(m,3H),5.89−5.73(m,1H),5.31−5.21(m,2H),4.49(s,2H),4.24(t,J=6.5Hz,2H),4.14(q,J=7.1Hz,2H),3.85−3.76(m,2H),3.83(s,2H),3.00(t,J=6.5Hz,2H),2.81(s,3H),2.41(s,3H),1.23(t,J=7.1Hz,3H).
段階2:
[N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(477mg、0.8mmol)及び水酸化リチウム一水和物(50mg、1.2mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物450mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.92(brs,1H),8.08(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.28−7.20(m,1H),7.00−6.83(m,3H),5.88−5.71(m,1H),5.29−5.19(m,2H),4.48(s,2H),4.25(t,J=6.5Hz,2H),3.89(s,2H),3.80(d,J=6.3Hz,2H),2.98(t,J=6.5Hz,2H),2.80(s,3H),2.41(s,3H).
実施例70
[N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(462mg、1mmol)、(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)塩化スルホニル(184mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物489mg(収率81%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.08(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.27−7.19(m,1H),6.89−6.81(m,3H),4.49(s,2H),4.24(t,J=6.5Hz,2H),4.16(q,J=7.1Hz,2H),4.05(d,J=2.4Hz,2H),3.83(s,2H),2.98(t,J=6.5Hz,2H),2.95(s,3H),2.40(s,3H),2.34(t,J=2.4Hz,1H),1.23(t,J=7.1Hz,3H).
段階2:
[N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(489mg、0.81mmol)及び水酸化リチウム一水和物(53mg、1.22mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物454mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.23(brs,1H),8.07(d,J=8.1Hz,2H),7.69(d,J=8.1Hz,2H),7.28−7.20(m,1H),7.03−6.83(m,3H),4.48(s,2H),4.25(t,J=6.5Hz,2H),4.06(d,J=2.4Hz,2H),3.89(s,2H),2.97(t,J=6.5Hz,2H),2.96(s,3H),2.41(s,3H),2.34(t,J=2.4Hz,1H).
実施例71
[N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(462mg、1mmol)、(ピペリジニル)塩化スルホニル(202mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物518mg(収率85%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.08(d,J=8.1Hz,2H), 7.67(d,J=8.1Hz,2H),7.28−7.19(m,1H),6.89−6.80(m,3H),4.51(s,2H),4.24(t,J=6.5Hz,2H),4.14(q,J=7.1Hz,2H),3.81(s,2H),3.28−3.17(m,4H),2.98(t,J=6.5Hz,2H),2.40(s,3H),1.68−1.43(m,6H),1.23(t,J=7.1Hz,3H).
段階2:
[N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(518mg、0.85mmol)及び水酸化リチウム一水和物(54mg、1.28mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物489mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.91(brs,1H),8.08(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.28−7.19(m,1H),6.99−6.82(m,3H),4.49(s,2H),4.25(t,J=6.5Hz,2H),3.89(s,2H),3.26−3.17(m,4H),2.97(t,J=6.5Hz,2H),2.41(s,3H),1.68−1.43(m,6H).
実施例72
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例3の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物456mg(収率90%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.59−7.57(m,1H),7.38−7.35(m,1H),7.25−7.23(m,1H),7.09−7.06(m,1H),6.89−6.85(m,3H),4.50(s,2H),4.25−4.13(m,4H),3.83(s,2H),2.95(t,J=6.7Hz,2H),2.86(s,6H),2.36(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(456mg、0.9mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物427mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.39(brs,1H),7.65−7.62(m,1H),7.40−7.37(m,1H),7.22−7.18(m,1H),7.10−7.06(m,1H),6.96−6.86(m,3H),4.49(s,2H),4.21(t,J=6.7Hz,2H),3.89(s,2H),2.94(t,J=6.7Hz,2H),2.85(s,6H),2.35(s,3H).
実施例73
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例14の段階2で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[(5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(305mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物530mg(収率94%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.99−7.96(m,2H),7.46−7.33(m,7H),7.27−7.17(m,2H),6.83−6.79(m,3H),4.46(s,2H),4.19(t,J=6.6Hz,2H),4.15(q,J=7.2Hz,2H),3.83(s,2H),3.29(s,3H),2.96(t,J=6.6Hz,2H),2.37(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(530mg、0.94mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物498mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.98−7.93(m,2H),7.46−7.13(m,9H),6.92−6.78(m,3H),4.46(s,2H),4.19(t,J=6.6Hz,2H),3.86(s,2H),3.29(s,3H),2.94(t,J=6.6Hz,2H),2.36(s,3H).
実施例74
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例14の段階2で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物537mg(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.1Hz,2H),7.46−7.33(m,4H),7.27−7.17(m,4H),6.83−6.79(m,3H),4.46(s,2H),4.19(t,J=6.6Hz,2H),4.13(q,J=7.2Hz,2H),3.83(s,2H),3.29(s,3H),2.95(t,J=6.6Hz,2H),2.38(s,3H),2.36(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(537mg、0.93mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物506mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl3,200MHz):δ(ppm)7.84(d,J=8.1Hz,2H),7.47−7.14(m,8H),6.97−6.96(m,1H),6.85−6.78(m,2H),6.25(brs,1H),4.46(s,2H),4.20(t,J=6.6Hz,2H),3.85(s,2H),3.30(s,2H),2.91(t,J=6.6Hz,2H),2.38(s,3H),2.35(s,3H).
実施例75
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例14の段階2で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物575mg(収率91%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.07(d,J=8.1Hz,2H),7.67(d,J=8.1Hz,2H),7.47−7.44(m,2H),7.38−7.33(m,2H),7.28−7.19(m,2H),6.83−6.78(m,3H),4.46(s,2H),4.20(t,J=6.6Hz,2H),4.14(q,J=7.2Hz,2H),3.83(s,2H),3.29(s,3H),2.97(t,J=6.6Hz,2H),2.39(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(575mg、0.91mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物544mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.06(d,J=8.1Hz,2H),7.65(d,J=8.1Hz,2H),7.46−7.15(m,6H),6.93−6.77(m,3H),5.41(brs,1H),4.45(s,2H),4.21(t,J=6.6Hz,2H),3.85(s,2H),3.29(s,3H),2.95(t,J=6.6Hz,2H),2.39(s,3H).
実施例76
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例14の段階2で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、化合物541mg(収率95%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.58−7.57(m,1H),7.46−7.33(m,5H),7.28−7.19(m,2H),7.08−7.06(m,1H),6.82−6.79(m,3H),4.46(s,2H),4.19−4.11(m,4H),3.83(s,2H),3.29(s,3H),2.94(t,J=6.6Hz,2H),2.35(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(541mg、0.95mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物509mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.64−7.62(m,1H),7.47−7.05(m,8H),6.91−6.78(m,3H),4.17(brs,1H),4.46(s,2H),4.18(t,=6.6Hz,2H),3.86(s,2H),3.29(s,3H),2.91(t,J=6.6Hz,2H),2.34(s,3H).
実施例77
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例18の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、2−[(5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(305mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物556mg(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.99−7.96(m,2H),7.42−7.20(m, 8H),6.81−6.78(m,3H),4.44(s,2H),4.21(t,J=6.6Hz,2H),4.14(q,J=7.2Hz,2H),3.84(s,2H),3.26(s,3H),2.96(t,J=6.6Hz,2H),2.37(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(556mg、0.93mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物525mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.02(brs,1H),7.96−7.94(m,2H),7.44−7.42(m,3H),7.36(d,J=8.7Hz,2H),7.27(d,J=8.7Hz,2H),7.21−7.17(m,1H),6.91(s,1H),6.84−6.79(m,2H),4.44(s,2H),4.20(t,J=6.6Hz,2H),3.87(s,2H),3.26(s,3H),2.94(t,J=6.6Hz,2H),2.37(s,3H).
実施例78
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例18の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物575mg(収率94%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.39(d,J=8.7Hz,2H),7.31(d,J=8.7Hz,2H),7.25−7.17(m,3H),6.84−6.78(m,3H),4.44(s,2H),4.20(t,J=6.6Hz,2H),4.14(q,J=7.2Hz,2H),3.83(s,2H),3.27(s,3H),2.97(t,J=6.6Hz,2H),2.38(s,3H),2.36(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(p−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(575mg、0.94mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物544mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.62(brs,1H),7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.38−7.15(m,7H),6.91(s,1H),6.90−6.78(m,2H),4.45(s,2H),4.19(t,J=6.6Hz,2H),3.86(s,2H),3.26(s,3H),2.93(t,J=6.6Hz,2H),2.38(s,3H),2.35(s,3H).
実施例79
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例18の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−トリフルオロメチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物613mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.07(d,J=8.4Hz,2H),7.67(d,J=8.4Hz,2H),7.41−7.30(m,4H),7.23−7.18(m,1H),6.84−6.78(m,3H),4.44(s,2H),4.21(t,J=6.6Hz,2H),4.14(q,J=7.2Hz,2H),3.84(s,2),3.27(s,3H),2.97(t,J=6.6Hz,2H),2.39(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(613mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物581mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.06(d,J=8.4Hz,2H),7.67(d,J=8.4Hz,2H),7.38−7.17(m,6H),6.89−6.78(m,3H),4.44(s,2H),4.21(t,J=6.6Hz,2H),3.87(s,2H),3.26(s,3H),2.96(t,J=6.6Hz,2H),2.39(s,3H).
実施例80
[N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(462mg、1mmol)、(N−エチル−N−m−トリルアミノ)塩化スルホニル(257mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物270mg(収率41%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.08(d,J=8.1Hz,2H),7.67(d,J=8.1Hz,2H),7.25−7.12(m,5H),6.83−6.76(m,3H),4.47(s,2H),4.24−4.08(m,4H),3.81(s,2H),3.69(q,J=7.2Hz,2H),2.97(t,J=6.5Hz,2H),2.39(s,3H),2.35(s,3H),1.22(t,J=7.2Hz,3H),1.07(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(270mg、0.41mmol)及び水酸化リチウム一水和物(26mg、0.62mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物256mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.07(d,J=8.1Hz,2H),7.95(brs,1H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.30−7.09(m,5H),6.95−6.75(m,3H),4.45(s,2H),4.21(t,J=6.5Hz,2H),3.83(s,2H),3.71(q,J=7.2Hz,2H),2.94(t,J=6.5Hz,2H),2.39(s,3H),2.34(s,3H),1.08(t,J=7.2Hz,3H).
実施例81
[N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(462mg、1mmol)、(N−アニソイル−N−メチルアミノ)塩化スルホニル(259mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物351mg(収率53%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.08(d,J=8.1Hz,2H),7.67(d,J=8.1Hz,2H),7.38(d,J=8.9Hz,2H),7.24−7.16(m,1H),6.89−6.79(m,5H),4.45(s,2H),4.25−4.09(m,4H),3.84(s,2H),3.79(s,3H),3.25(s,3H),2.97(t,J=6.5Hz,2H),2.39(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(351mg、0.53mmol)及び水酸化リチウム一水和物(34mg、0.8mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物332mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.07(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H), 7.40−7.16(m,4H),6.99−6.80(m,5H),4.45(s,2H),4.23(t,J=6.5Hz,2H),3.85(s,2H),3.78(s,3H),3.25(s,3H),2.94(t,J=6.5Hz,2H),2.39(s,3H).
実施例82
[N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(462mg、1mmol) [N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]塩化スルホニル(246mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物266mg(収率41%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.80(d,J=8.1Hz,2H),7.67(d,J=8.1Hz,2H),7.33−7.16(m,4H),6.96−6.91(m,1H),6.85−6.79(m,3H),4.46(s,2H),4.24−4.09(m,4H),3.83(s,2H),3.29(s,3H),2.97(t,J=6.5Hz,2H),2.39(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(266mg、0.41mmol)及び水酸化リチウム一水和物(26mg、0.62mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物252mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.07(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.33−7.14(m,4H),7.00−6.79(m,5H),4.46(s,2H),4.22(t,J=6.5Hz,2H),3.88(s,2H),3.30(s,3H),2.95(t,J=6.5Hz,2H),2.40(s,3H).
実施例83
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例18の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物556mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.58−7.57(m,1H),7.41−7.20(m,6H),7.08−7.06(m,1H),6.82−6.78(m,3H),4.44(s,2H),4.20−4.11(m,4H),3.84(s,2H),3.27(s,3H),2.94(t,J=6.6Hz,2H),2.35(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(556mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物525mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.63−7.61(m,1H),7.45(brs,1H),7.39−7.19(m,6H),7.07−7.06(m,1H),6.89−6.79(m,3H),4.44(s,2H),4.18(t,J=6.6Hz,2H),3.89(s,2H),3.27(s,3H),2.91(t,J=6.6Hz,2H),2.35(s,3H).
実施例84
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステル(328mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物470mg(収率89%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.3Hz,2H),7.27−7.19(m,3H),6.90−6.82(m,3H),4.51(s,2H),4.23(t,J=6.7Hz,2H),3.87(s,2H),3.69(s,3H),3.39−3.32(m,4H),2.97(t,J=6.7Hz,2H),2.38(s,3H),2.37(s,3H),1.92−1.86(m,4H).
段階2:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(470mg、0.89mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物453mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.1Hz,2H),7.25(d,J=8.1Hz,2H),7.24−7.20(m,1H),6.92−6.84(m,3H),5.42(s,1H),4.51(s,2H),4.26(t,J=7.5Hz,2H),3.92(s,2H),3.96−3.35(m,4H),2.91(t,J=7.5Hz,2H),2.39(s,3H),2.37(s,3H),1.88−1.81(m,4H).
実施例85
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−(3−ベンジルオキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(342mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物524mg(収率88%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.08(d,J=7.8Hz,2H),7.68(d,J=7.8Hz,2H),7.27−7.19(m,1H),6.90−6.81(m,3H),4.52(s,2H),4.24(t,J=6.5Hz,2H),4.18(q,J=7.2Hz,2H),3.85(s,2H),3.40−3.27(m,4H),2.99(t,J=6.5Hz,2H),2.41(s,3H),1.94−1.86(m,4H),1.23(t,J=7.3Hz,3H).
段階2:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(524mg、0.88mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物495mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.09(d,J=8.3Hz,2H),7.69(d,J=8.3Hz,2H),7.26−7.21(m,2H),7.04(s,1H),6.88−6.83(m,3H),5.04(brs,1H),4.50(s,2H),4.25(t,J=7.2Hz,2H),3.92(s,2H),3.38−3.29(m,4H),2.96(t,J=7.1Hz,2H),2.41(s,3H),1.93−1.85(m,4H).
実施例86
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
N−(モルホリニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステル(344mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物473mg(収率87%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.4Hz,2H),7.26−7.20(m,3H),6.89−6.83(m,3H),4.51(s,2H),4.23(t,J=6.7Hz,2H),3.86(s,2H),3.73−3.71(m,4H),3.70(s,3H),3.30−3.26(m,4H),3.76(t,J=6.7Hz,2H),2.38(s,3H),2.36(s,3H).
段階2:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(473mg、0.87mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物456mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.1Hz,2H),7.25(d,J=8.1Hz,2H),7.24−7.22(m,1H),6.94(s,1H),6.91−6.86(m,2H),4.52(s,2H),4.50(brs,1H),4.25(t,J=7.8Hz,2H),3.92(s,2H),3.69−3.66(m,4H),3.33−3.29(m,4H),2.91(t,J=7.8Hz,2H),2.39(s,3H),2.38(s,3H).
実施例87
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(358mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物538mg(収率88%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.08(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.28−7.20(m,1H),6.88−6.83(m,3H),4.53(s,2H),4.25(t,J=6.4Hz,2H),4.16(q,J=7.2Hz,2H),3.85(s,2H),3.74−3.69(m,4H),3.31−3.26(m,4H),2.99(t,J=6.4Hz,2H),2.41(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(538mg、0.88mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物508mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.09(d,J=8.1Hz,1H),7.71(d,J=8.1Hz,2H),7.28−7.23(m,2H),7.04(s,1H),6.93−6.89(m,2H),4.52(s,2H),4.26(t,J=7.4Hz,2H),3.92(s,2H),3.71−3.68(m,4H),3.32−3.29(m,4H),2.95(t,J=7.4Hz,2H),2.42(s,3H).
実施例88
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸メチルエステル(357mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物507mg(収率91%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.1Hz,2H),7.27−7.23(m,1H),7.22(d,J=8.1Hz,2H),6.89−6.83(m,3H),4.49(s,2H),4.23(t,J=6.6Hz,2H),3.84(s,2H),3.70(s,3H),3.35−3.32(m,4H),2.97(t,J=6.6Hz,2H),2.47−2.43(m,4H),2.38(s.3H),2.36(s,3H),2.29(s,3H).
段階2:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(507mg、0.91mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物489mg(収率99%)を得た。
H−NMR(DMSO−d,200MHz):δ(ppm)7.99(d,J=8.1Hz,2H),7.49(d,J=8.1Hz,2H),7.45−7.42(m,1H),7.08−7.04(m,3H),4.61(s,2H),4.39(t,J=6.6Hz,2H),3.91(s,2H),3.33−3.30(m,4H),3.11(t,J=6.6Hz,2H),2.69(s,3H),2.54(s,3H),2.53−2.50(m,4H),2.34(s,3H).
実施例89
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−(3−ヒドロキシベンジル)]アミノ]酢酸エチルエステル(371mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物562mg(収率90%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.09(d,J=8.1Hz,2H),7.67(d,J=8.1Hz,2H),7.26−7.21(m,1H),6.89−6.82(m,3H),4.51(s,1H),4.24(t.J=6.6Hz,2H),4.15(q,J=7.2Hz,2H),3.82(s,2H),3.35−3.32(m,4H),2.99(t,J=6.6Hz,2H),2.46−2.43(m,4H),2.41(s,3H),2.29(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(562mg、0.91mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物532mg(収率99%)を得た。
H−NMR(DMSO−d,300MHz):δ(ppm)8.16(d,J=8.2Hz,2H),7.92(d,J=8.2Hz,2H),7.34−7.29(m,1H),6.95−6.92(m,3H),4.47(s,2H),4.27(t,J=6.6Hz,2H),3.81(s,2H),3.65(brs,1H),3.23−3.19(m,4H),3.02(t,J=6.6Hz,2H),2.55−2.50(m,4H),2.45(s,3H),2.30(s,3H).
実施例90
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例30の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、2−[(5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(305mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物553mg(収率96%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.02−7.99(m,2H),7.43−7.41(m,4H),7.25−7.12(m,3H),6.95−6.82(m,4H),4.88(s,2H),4.62(s,2H),4.11−3.89(m,6H),3.12(t,J=8.5Hz,2H),2.43(s,3H),1.12(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(553mg、0.96mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物520mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.00−7.96(m,2H),7.45−7.39(m,4H),7.14−7.08(m,3H),6.91−6.88(m,4H),5.29(s,1H),4.85(s,2H),4.47(s,2H),3.96(t,J=8.5Hz,2H),3.93(s,2H),3.05(t,J=8.5Hz,2H),2.43(s,3H).
実施例91
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例30の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物554mg(収率94%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H),7.41(d,J=7.9Hz,1H),7.25−7.13(m,5H),6.95−6.82(m,4H),4.88(s,2H),4.62(s,2H),4.10−3.94(m,4H),3.88(s,2H),3.12(t,J=8.5Hz,2H),2.42(s,3H),2.39(s,3H),1.25(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(554mg、0.94mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物523mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.1Hz,2H),7.42(d,J=7.9Hz,1H),7.25−7.08(mm,5H),6.94−6.76(m,4H),5.37(s,1H),4.87(s,2H),4.54(s,2H),4.00(t,J=8.5Hz,2H),3.92(s,2H),3.04(t,J=8.5Hz,2H),2.41(s,3H),2.39(s,3H).
実施例92
[[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例30の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物592mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.13(d,J=8.1Hz,2H),7.70(d,J=8.1Hz,2H),7.41(d,J=9.1Hz,1H),7.25−7.14(m,3H),6.97−6.84(m,4H),4.91(s,2H),4.63(s,2H),4.07(t,J=8.5Hz,2H),3.93(q,J=7.2Hz,2H),3.89(s,2H),3.13(t,J=8.5Hz,2H),2.46(s,3H),1.12(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(592mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物561mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.10(d,J=8.7Hz,2H),7.75(d,J=8.7Hz,2H),7.39(d,J=9.1Hz,1H),7.25−7.09(m,3H),6.95−6.78(m,4H),4.87(s,2H),4.83(s,1H),4.53(s,2H),4.03(t,J=8.3Hz,2H),3.95(s,2H),3.08(t,J=8.3Hz,2H),2.45(s,3H).
実施例93
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例30の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物529mg(収率91%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.64−7.62(m,1H),7.41−7.38(m,2H),7.22−7.07(m,4H),6.93−6.86(m,4H),4.86(s,2H),4.62(s,2H),4.12−3.95(m,4H),3.89(s,2H),3.12(t,J=8.5Hz,2H),2.41(s,3H),1.13(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(529mg、0.91mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物499mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.66−7.63(m,1H),7.44−7.39(m,2H),7.19−7.07(m,4H),6.95−6.77(m,4H),5.29(s,1H),4.83(s,2H),4.50(s,2H),4.02(t,J=8.3Hz,2H),3.94(s,2H),3.07(t,J=8.3Hz,2H),2.40(s,3H).
実施例94
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例34の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、2−[(5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(305mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物560mg(収率95%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.01−7.96(m,2H),7.60(d,J=7.9Hz,1H),7.43−7.38(m,3H),7.25−6.99(m,4H),6.83−6.70(m,3H),4.51(s,2H),4.15−4.02(m,4H),3.84(s,2H),3.78(t,J=6.8Hz,2H),2.94(t,J=6.6Hz,2H),2.79(t,J=6.8Hz,2),2.37(s,3H),2.07−2.01(m,2H),1.18(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(560mg、0.95mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物528mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.01−7.96(m,2H),7.63(d,J=7.9Hz,1H),7.43−7.38(m,3H),7.18−6.99(m,4H),6.83−6.70(m,3H),4.48(s,2H),4.14(t,J=6.6Hz,2H),3.91(s,2H),3.78(t,J=5.8Hz,2H),2.89(t,J=6.6Hz,2H),2.78(t,J=6.8Hz,2H),2.36(s,3H),2.07−2.01(m,2H).
実施例95
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例34の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物568mg(収率94%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.3Hz,2H),7.60(d,J=8.3Hz,2H),7.25−6.99(m,6H),6.83−6.69(m,3H),4.51(s,2H),4.14−4.02(m,4H),3.83(s,2H),3.78(t,J=5.8Hz,2H),2.93(t,J=6.6Hz,2H),2.79(t,J=6.8Hz,2H),2.38(s,3H),2.35(s,3H),2.07−2.00(m,2H),1.18(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(568mg、0.94mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物523mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.83(d,J=8.3Hz,2H),7.63(d,J=8.3Hz,1H),7.36(brs,1H),7.24−6.98(m,6H),6.96(s,1H),6.89−6.70(m,2H),4.48(s,2H),4.13(t,J=6.6Hz,2H),3.91(s,2H),3.78(t,J=5.8Hz,2H),2.83(t,J=6.6Hz,2H),2.77(t,J=6.8Hz,2H),2.38(s,3H),2.34(s,3H),2.07−2.00(m,2H).
実施例96
[N−(1、2、3、4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例34の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物605mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.09(d,J=8.4Hz,2H),7.68(d,J=8.4Hz,2H),7.61(d,J=8.3Hz,1H),7.22−7.00(m,4H),6.83−6.72(m,3H),4.52(s,2H),4.16−4.02(m,4H),3.84(s,2H),3.78(t,J=5.8Hz,2H),2.96(t,J=6.6Hz,2H),2.81(t,J=6.8Hz,2H),2.39(s,3H),2.08−2.02(m,2H),1.18(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(605mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物573mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.04(d,J=8.4Hz,2H),7.67(d,J=8.4Hz,2H),7.62(d,J=8.3Hz,1H),7.19−7.00(m,4H),6.97−6.71(m,3H),6.53(brs,1H),4.48(s,2H),4.14(t,J=6.6Hz,2H),3.91(s,2H),3.77(t,5.8Hz,2H),2.93(t,J=6.6Hz,2H),2.79(t,J=6.8Hz,2H),2.39(s,3H),2.08−2.02(m,2H).
実施例97
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例34の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物548mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.62−7.57(m,2H),7.37−7.35(m,1H),7.25−6.99(m,5H),6.82−6.68(m,3H),4.50(s,2H),4.13−4.02(m,4H),3.84(s,2H),3.79(d,J=5.8Hz,2H),2.91(t,J=6.6Hz,2H),2.80(t,J=6.8Hz,2H),2.34(s,3H),2.07−2.01(m,2H),1.19(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(548mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物517mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.64−7.57(m,2H),7.37−7.35(m,1H),7.25−6.99(m,5H),6.82−6.68(m,3H),6.44(brs,1H),4.48(s,2H),4.12(t,J=6.6Hz,2H),3.91(s,2H),3.79(t,J=5.8Hz,2H),2.87(t,J=6.6Hz,2H),2.78(t,J=6.8Hz,2H),2.34(s,3H),2.07−2.01(m,2H).
実施例98
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[(5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(305mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物482mg(収率96%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.99−7.96(m,2H),7.46−7.27(m,3H),7.22(d,J=8.7Hz,2H),6.87(d,J=8.7Hz,2H),4.47(s,2H),4.23(t,J=7.5Hz,2H),4.15(q,J=7.2Hz,2H),2.98(t,J=7.5Hz,2H),2.85(s,6H),2.37(s,3H),1.26(t,J=7.1Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(482mg、0.96mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物450mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.98−7.92(m,2H),7.68(brs,1H),7.45−7.40(m,3H),7.21(d,J=8.5Hz,2H),6.84(d,J=8.5Hz,2H),4.48(s,2H),4.20(t,J=6.5Hz,2H),3.84(s,2H),3.02(t,J=6.5Hz,2H),2.84(s,6H),2.38(s,3H).
実施例99
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階3で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[5メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物485mg(収率94%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.27−7.11(m,4H),6.85(d,J=8.6Hz,2H),4.46(s,2H),4.20(t,J=6.5Hz,2H),4.15(q,J=7.2Hz,2H),2.96(t,J=6.5Hz,2H),2.85(s,6H),2.37(s,3H),2.36(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(485mg、0.94mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物454mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)10.55(brs,1H),7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.26−7.11(m,4H),6.77(d,J=8.4Hz,2H),4.48(s,2H),4.18(t,J=6.3Hz,2H),3.84(s,2H),3.02(t,J=6.3Hz,2H),2.84(s,6H),2.38(s,6H).
実施例100
[N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg、1mmol)、トリエチルアミン(111mg、1.1mmol)及びt−ブチルアミノ塩化スルホニル(210mg、1.2mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物307mg(収率58%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.22(m,4H),6.86(d,J=8.9Hz,2H),5.13(s,1H),4.30(s,2H),4.23(t,J=6.9Hz,2H),3.86(s,2H),3.71(s,3H),2.96(t,J=6.9Hz,2H),2.38(s,3H),2.36(s,3H),1.40(s,9H).
段階2:
[N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(307mg、0.58mmol)及び水酸化リチウム一水和物(37mg、0.87mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物296mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)10.15(brs,1H),7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.25−7.20(m,4H),6.83(d,J=8.7Hz,2H),5.36(brs,1H),4.33(s,2H),4.17(t,J=6.9Hz,2H),3.89(s,2H),3.02(t,J=6.9Hz,2H),2.38(s,6H),1.43(s,9H).
実施例101
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg、1mmol)、N,N−塩化ジエチルスルファモイル(193mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物456mg(収率86%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.24−7.19(m,4H),6.86(d,J=8.5Hz,2H),4.41(s,2H),4.23(t,J=6.5Hz,2H),3.78(s,2H),3.67(s,3H),3.30(q,J=7.1Hz,4H),2.95(t,J=6.5Hz,2H),2.37(s,3H),2.35(s,3H),1.19(t,J=7.1Hz,6H).
段階2:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(456mg、0.81mmol)及び水酸化リチウム一水和物(51mg、1.2mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物413mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)10.65(brs,1H),7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.24−7.20(m,4H),6.83(d,J=8.5Hz,2H),4.43(s,2H),4.19(t,J=6.5Hz,2H),3.79(s,2H),3.30(q,J=7.1Hz,4H),3.00(t,J=6.5Hz,2H),2.36(s,6H),1.17(t,J=7.1Hz,6H).
実施例102
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg、1mmol)、(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)塩化スルホニル(193mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物387mg(収率73%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.24−7.19(m,4H),6.85(d,J=8.5Hz,2H),4.39(s,2H),4.26−4.15(m,3H),3.77(s,2H),3.67(s,3H),2.96(t,J=6.5Hz,2H),2.72(s,3H),2.38(s,3H),2.35(s,3H),1.19(s,3H),1.16(s,3H).
段階2:
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(387mg、0.73mmol)及び水酸化リチウム一水和物(46mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物373mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)10.99(brs,1H),7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.25−7.20(m,4H),6.84(d,J=8.5Hz,2H),4.41(s,2H),4.21−4.11(m,3H),3.79(s,2H),3.00(t,J=6.5Hz,2H),2.71(s,3H),2.37(s,3H),2.36(s,3H),1.18(s,3H),1.15(s,3H).
実施例103
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階2で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(446mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物518mg(収率91%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.07(d,J=8.2Hz,2H),7.67(d,J=8.3Hz,2H),7.25(d,J=8.5Hz,2H),6.87(d,J=8.5Hz,2H),4.48(s,2H),4.24(t,J=6.5Hz,2H),4.15(q,J=7.2Hz,2H),3.80(s,2H),2.99(t,J=6.5Hz,2H),2.86(s,6H),2.39(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(518mg、0.91mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物488mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)10.25(brs,1H),8.07(d,J=8.1Hz,2H),7.68(d,J=8.1Hz,2H),7.23(d,J=8.4Hz,2H),6.86(d,J=8.4Hz,2H),4.47(s,2H),4.22(t,J=6.3Hz,2H),3.92(s,2H),3.02(t,J=6.3Hz,2H),2.84(s,6H),2.41(s,3H).
実施例104
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例38の段階2で得た化合物(316mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物472mg(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.58−7.57(m,1H),7.36−7.35(m,1H),7.20(d,J=8.4Hz,2H),7.08−7.05(m,1H),6.86(d,J=8.4Hz,2H),4.47(s,2H),4.21(t,J=6.6Hz,2H),4.15(q,J=7.2Hz,2H),3.80(s,2H),2.95(t,J=6.6Hz,2H),2.85(s,6H),2.35(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(472mg、0.93mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物442mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)10.09(brs,1H),7.63−7.62(m,1H),7.39−7.38(m,1H),7.27−7.15(m,2H),7.12−7.06(m,1H),6.85−6.79(m,2H),4.47(s,2H),4.18(t,J=6.6Hz,2H),4.09(s,2H),2.98(t,J=6.6Hz,2H),2.84(s,6H),2.34(s,3H).
実施例105
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例45の段階2で得た化合物(378mg、1mmol)、2−[(5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(305mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物519mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.98−7.95(m,2H),7.45−7.28(m,6H),7.25−7.24(m,1H),7.12(d,J=8.6Hz,2H),6.82(d,J=8.6Hz,2H),4.42(s,2H),4.21(t,J=6.6Hz,2H),4.15(q,J=7.2Hz,2H),3.78(s,2H),3.29(s,3H),2.69(t,J=6.6Hz,2H),2.36(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(519mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物488mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.60(brs,1H),7.96−7.94(m,2H),7.45−7.25(m,8H),7.10(d,J=8.4Hz,2H),6.79(d,J=8.4Hz,2H),4.43(s,2H),4.16(t,J=6.4Hz,2H),3.82(s,2H),3.27(s,3H),3.00(t,J=6.4Hz,2H),2.38(s,3H).
実施例106
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例45の段階2で得た化合物(378mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物555mg(収率96%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.46−7.42(m,2H),7.38−7.33(m,2H),7.25−7.21(m,3H),7.12(d,J=8.4Hz,2H),6.83(d,J=8.4Hz,2H),4.42(s,2H),4.22(t,J=6.6Hz,2H),4.17(q,J=7.2Hz,2H),3.78(s,2H),3.29(s,3H),2.96(t,J=6.6Hz,2H),2.38(s,3H),2.34(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(555mg、0.96mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物522mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.46−7.43(m,2H),7.37−7.32(m,2H),7.28−7.21(m,3H),7.10(d,J=8.7Hz,2H),6.80(d,J=8.7Hz,2H),4.43(s,2H),4.17(t,J=6.6Hz,2H),3.82(s,2H),3.28(s,3H),3.00(t,J=6.6Hz,2H),2.37(s,6H).
実施例107
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例45の段階2で得た化合物(378mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物581mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.07(d,J=8.3Hz,2H),7.67(d,J=8.3Hz,2H),7.46−7.44(m,2H),7.38−7.33(m,2H),7.28−7.24(m,1H),7.13(d,J=8.4Hz,2H),6.83(d,J=8.4Hz,2H),4.42(s,2H),4.22(t,J=6.6Hz,2H),4.14(q,J=7.2Hz,2H),3.78(s,2H),3.29(s,3H),2.98(t,J=6.6Hz,2H),2.39(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(581mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物550mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.06(d,J=8.3Hz,2H),7.67(d,J=8.3Hz,2H),7.44−7.40(m,2H),7.37−7.32(m,2H),7.28−7.23(m,2H),7.11(d,J=8.4Hz,2H),6.80(d,J=8.4Hz,2H),5.54(brs,1H),4.42(s,2H),4.19(t,J=6.6Hz,2H),3.82(s,2H),3.27(s,3H),2.99(t,J=6.6Hz,2H),2.39(s,3H).
実施例108
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例45の段階2で得た化合物(378mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物530mg(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.58−7.57(m,1H),7.46−7.33(m,6H),7.12(d,J=8.4Hz,2H),7.08−7.07(m,1H),6.82(d,J=8.4Hz,2H),4.42(s,2H),4.19(t,J=6.6Hz,2H),4.13(q,J=7.2Hz,2H),3.78(s,2H),3.29(s,3H),2.94(t,J=6.6Hz,2H),2.34(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(530mg、0.93mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物499mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.62−7.61(m,1H),7.45−7.25(m,6H),7.11(d,J=8.4Hz,2H),7.08−7.06(m,1H),6.89(d,J=8.4Hz,2H),5.16(brs,1H),4.43(s,2H),4.16(t,J=6.6Hz,2H),3.82(s,2H),3.27(s,3H),2.97(t,J=6.6Hz,2H),2.35(s,3H).
実施例109
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例49の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、2−[(5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(305mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物556mg(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.98−7.95(m,2H),7.43−7.28(m,7H),7.05(d,J=8.4Hz,2H),6.74(d,J=8.4Hz,2H),4.39(s,2H),4.22(t,J=6.6Hz,2H),4.15(q,J=7.2Hz,2H),3.90(s,2H),3.25(s,3H),2.96(t,J=6.6Hz,2H),2.37(s,3H),1.26(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(556mg、0.93mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物525mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.97−7.94(m,2H),7.42−7.29(m,7H),7.05(d,J=8.4Hz,2H),6.75(d,J=8.4Hz,2H),4.38(s,2H),4.15(t,J=6.6Hz,2H),3.79(s,2H),3.20(s,3H),2.99(t,J=6.6Hz,2H),2.37(s,3H).
実施例110
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例49の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)及びトリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物582mg(収率95%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.39(d,J=8.5Hz,2H),7.32(d,J=8.5Hz,2H),7.22(d,J=8.1Hz,2H),7.20(d,J=8.4Hz,2H),6.83(d,J=8.4Hz,2H),4.40(s,2H),4.22(t,J=6.6Hz,2H),4.16(q,J=7.2Hz,2H),3.79(s,2H),3.26(s,3H),2.96(t,J=6.6Hz,2H),2.38(s,3H),2.36(s,3H),1.23(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(582mg、0.95mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物549mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.39(d,J=8.5Hz,2H),7.29(d,J=8.5Hz,2H),7.23(d,J=8.1Hz,2H),7.13(d,J=8.4Hz,2H),6.81(d,J=8.4Hz,2H),4.42(s,2H),4.16(t,J=6.6Hz,2H),3.84(s,2H),3.26(s,3H),3.03(t,J=6.6Hz,2H),2.38(s,3H),2.37(s,3H).
実施例111
[N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
実施例[N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg、1mmol)、(N−エチル−N−m−トリルアミノ)塩化スルホニル(257mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物260mg(収率44%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.25−7.20(m,5H),7.13−7.07(m,3H),6.83−6.79(m,2H),4.42(s,2H),4.21(t,J=6.5Hz,2H),3.77(s,2H),3.69(q,J=7.2Hz,2H),3.66(s,3H),2.96(t,J=6.5Hz,2H),2.38(s,3H),2.35(s,6H),1.08(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(260mg、0.44mmol)及び水酸化リチウム一水和物(28mg、0.66mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物252mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.26−7.12(m,6H),7.09(d,J=8.7Hz,2H),6.78(d,J=8.7Hz,2H),4.43(s,2H),4.17(t,J=6.5Hz,2H),3.79(s,2H),3.69(q,J=7.2Hz,2H),3.01(t,J=6.5Hz,2H),2.37(s,6H),2.34(s,3H),1.07(t,J=7.2Hz,3H).
実施例112
[N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg、1mmol)、(N−アニソイル−N−メチルアミノ)塩化スルホニル(259mg、1.1mmol)、トリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物356mg(収率60%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.86(d,J=8.1Hz,2H),7.60(d,J=8.1Hz,2H),7.26−7.16(m,4H),7.12−6.81(m,4H),4.40(s,2H),4.21(t,J=6.5Hz,2H),3.80(s,2H),3.79(s,3H),3.67(s,3H),3.24(s,3H),2.96(t,J=6.5Hz,2H),2.38(s,3H),2.35(s,3H).
段階2:
[N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(356mg、0.60mmol)及び水酸化リチウム一水和物(38mg、0.9mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物344mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.38(d,J=8.1Hz,2H),7.26−7.12(m,),6.88−6.78(m,4H),4.43(s,2H),4.17(t,J=6.5Hz,2H),3.83(s,2H),3.78(s,3H),3.24(s,3H),3.02(t,J=6.5Hz,2H),2.38(s,6H).
実施例113
[N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg、1mmol) [N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]塩化スルホニル(246mg、1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg、1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物192mg(収率33%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.34−7.14(m,7H),7.10−6.92(m,1H),6.87(d,J=8.9Hz,2H),4.42(s,2H),4.21(t,J=6.5Hz,2H),3.80(s,2H),3.67(s,3H),3.28(s,3H),2.95(t,J=6.5Hz,2H),2.37(s,3H),2.35(s,3H).
段階2:
[N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(192mg、0.33mmol)及び水酸化リチウム一水和物(23mg、0.5mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物185mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.35−7.14(m,7H),7.10−6.89(m,1H),6.79(d,J=8.7Hz,2H),4.43(s,2H),4.16(t,J=6.5Hz,2H),3.84(s,2H),3.27(s,3H),3.03(t,J=6.5Hz,2H),2.38(s,6H).
実施例114
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記実施例49の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(446mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物613mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.07(d,J=8.3Hz,2H),7.67(d,J=8.3Hz,2H),7.39(d,J=8.7Hz,2H),7.32(d,J=8.7Hz,2H),7.13(d,J=8.5Hz,2H),6.83(d,J=8.5Hz,2H),4.40(s,2H),4.23(t,J=6.6Hz,2H),4.15(q,J=7.2Hz,2H),3.79(s,2H),3.26(s,3H),2.98(t,J=6.6Hz,2H),2.39(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(613mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物581mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.06(d,J=8.3Hz,2H),7.68(d,J=8.3Hz,2H),7.36(d,J=8.7Hz,2H),7.29(d,J=8.7Hz,2H),7.12(d,J=8.5Hz,2H),6.82(d,J=8.5Hz,2H),4.41(s,2H),4.19(t,J=6.6Hz,2H),3.84(s,2H),3.25(s,3H),3.01(t,J=6.6Hz,2H),2.41(s,3H).
実施例115
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例49の段階2で得た化合物(413mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物544mg(収率90%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.58−7.57(m,1H),7.41−7.30(m,5H),7.12(d,J=8.5Hz,2H),7.09−7.06(m,1H),6.83(d,J=8.5Hz,2H),4.40(s,2H),4.20(t,J=6.6Hz,2H),4.14(q,J=7.2Hz,2H),3.79(s,2H),3.26(s,3H),2.94(t,J=6.6Hz,2H),2.35(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(544mg、0.9mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物513mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.58−7.57(m,1H),7.41−7.30(m,5H),7.12(d,J=8.5Hz,2H),7.09−7.06(m,1H),6.83(d,J=8.5Hz,2H),4.40(s,2H),4.20(t,J=6.6Hz,2H),4.14(q,J=7.2Hz,2H),3.79(s,2H),3.26(s,3H),2.94(t,J=6.6Hz,2H),2.35(s,3H),1.24(t,J=7.2Hz,3H).
実施例116
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例53の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、2−[(5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(305mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物553mg(収率96%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.98−7.95(m,2H),7.43−7.39(m,4H),7.15−6.96(m,4H),6.94−6.81(m,1H),6.79(d,J=8.4Hz,2H),4.55(s,2H),4.21(t,J=6.6Hz,2H),4.05(t,J=8.7Hz,2H),3.96(s,2H),3.83(s,2H),3.11(t,J=8.4Hz,2H),2.96(t,J=6.6Hz,2H),2.37(s,3H),1.10(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(553mg、0.96mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物520mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.81(brs,1H),7.95−7.92(m,2H),7.44−7.39(m,4H),7.12−7.07(m,4H),6.94−6.92(m,1H),6.78(d,J=8.4Hz,2H),4.49(s,2H),4.14(t,J=6.3Hz,2H),4.02(q,J=7.2Hz,2H),3.90(s,2H),3.07(t,J=8.4Hz,2H),2.98(t,J=6.3Hz,2H),2.38(s,3H).
実施例117
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例53の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物554mg(収率94%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.85(d,J=8.1Hz,2H),7.42(d,J=7.9Hz,1H),7.25−7.09(m,6H),6.98−6.90(m,1H),6.82(d,J=8.4Hz,2H),4.55(s,2H),4.21(t,J=6.7Hz,2H),4.05(t,J=8.5Hz,2H),3.95(q,J=7.2Hz,2H),3.83(s,2H),3.11(t,J=8.5Hz,2H),2.95(t,J=6.7Hz,2H),2.38(s,3H),2.35(s,3H),1.12(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(554mg、0.94mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物523mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.82(d,J=8.4Hz,2H),7.43(d,J=8.4Hz,2H),7.25−7.08(m,6H),6.96−6.91(m,1H),6.79(d,J=8.4Hz,2H),4.51(s,2H),4.16(t,J=6.6Hz,2H),4.04(t,J=8.5Hz,2H),3.09(t,J=8.5Hz,2H),2.98(t,J=6.6Hz,2H),2.38(s,3H),2.37(s,3H).
実施例118
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例53の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物599mg(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.09(d,J=8.7Hz,2H),7.67(d,J=8.7Hz,2H),7.43(d,J=7.9Hz,1H),7.25−7.09(m,4H),6.97−6.90(m,1H),6.82(d,J=8.4Hz,2H),4.56(s,2H),4.22(t,J=6.5Hz,2H),4.09−3.89(m,4H),3.83(s,2H),3.12(t,J=8.3Hz,2H),2.98(t,J=6.5Hz,2H),2.39(s,3H),1.11(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(599mg、0.93mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物567mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.06(d,J=8.7Hz,2H),7.67(d,J=8.7Hz,2H),7.43(d,J=7.9Hz,1H),7.25−7.09(m,4H),6.97−6.90(m,1H),6.80(d,J=8.4Hz,2H),4.50(s,2H),4.18(t,J=6.5Hz,2H),4.02(t,J=8.5Hz,2H),3.89(s,2H),3.08(t,J=8.3Hz,2H),2.98(t,J=6.5Hz,2H),2.39(s,3H).
実施例119
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例53の段階2で得た化合物(390mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物547mg(収率94%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.58−7.56(m,1H),7.44−7.25(m,2H),7.16−7.05(m,5H),6.97−6.90(m,1H),6.80(d,J=8.4Hz,2H),4.55(s,2H),4.19(t,J=6.7Hz,2H),4.09−3.89(m,4H),3.83(s,2H),3.11(t,J=8.5Hz,2H),2.94(t,J=6.6Hz,2H),2.34(s,3H),1.12(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(547mg、0.94mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物515mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.60−7.59(m,1H),7.45−7.37(m,2H),7.16−7.06(m,5H),6.97−6.94(m,1H),6.79(d,J=8.4Hz,2H),4.51(s,2H),4.16(t,J=6.7Hz,2H),4.03(t,J=8.5Hz,2H),3.90(s,2H),3.10(t,J=8.5Hz,2H),2.96(t,J=6.5Hz,2H),2.36(s,3H).
実施例120
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例57の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、2−[(5−メチル−2−フェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(305mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物554mg(収率94%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.97(m,2H),7.59(d,J=8.1Hz,2H),7.42(m,3H),7.03(m,5H),6.79(d,J=8.7Hz,2H),4.47(s,2H),4.21(t,J=6.7Hz,2H),4.08(q,J=7.2Hz,2H),3.80(m,4H),2.98(t,J=6.4Hz,2H),2.79(t,J=6.7Hz,2H),2.37(s,3H),2.07(m,2H),1.19(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(554mg、0.94mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物523mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm),9.61(brs,1H),7.96−7.93(m,2H),7.59(d,J=8.1Hz,1H),7.39−7.38(m,3H),7.15−6.99(m,5H),6.77(d,J=8.7Hz,2H),4.46(s,2H),4.13(t,J=7.2Hz,2H),3.84(s,2H),3.76(t,J=5.9Hz,2H),2.99(t,J=6.5Hz,2H),2.79(t,J=6.6Hz,2H),2.37(s,3H),2.09(m,2H).
実施例121
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例57の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(4−メチルフェニル)オキサゾール−4−イル]エタノール(326mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物574mg(収率95%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.84(d,J=8.1Hz,2H),7.59(d,J=8.1Hz,1H),7.25−7.01(m,7H),6.79(d,J=8.4Hz,2H),4.47(s,2H),4.20(t,J=6.6Hz,2H),4.07(q,J=7.2Hz,2H),3.79−3.76(m,4H),2.95(t,J=6.3Hz,2H),2.81(t,J=6.6Hz,2H),2.38(s,3H),2.35(s,3H),2.07−2.03(m,2H),1.19(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(574mg、0.95mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物541mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.83(d,J=8.1Hz,2H),7.59(d,J=8.1Hz,2H),7.25−6.99(m,7H),6.76(d,J=8.4Hz,2H),5.04(brs,1H),4.46(s,2H),4.16(t,J=6.6Hz,2H),3.84(s,2H),3.76(t,J=5.7Hz,2H),2.98(t,J=6.3Hz,2H),2.80(t,J=6.6Hz,2H),2.37(s,3H),2.33(s,3H),2.08−1.99(m,2H).
実施例122
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例57の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−[(4−トリフルオロメチル)フェニル]オキサゾール−4−イル]エタノール(407mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物605mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)8.08(d,J=8.4Hz,2H)7.68(d,J=8.4Hz,2H)7.60(d,J=8.1Hz,1H)7.17−7.01(m,5H)6.79(d,J=8.4Hz,2H)4.48(s,2H)4.22(t,J=6.6Hz,2H)4.06(q,J=7.2Hz,2H)3.79−3.76(m,4H)2.97(t,J=6.3Hz,2H)2.82(t,J=6.6Hz,2H)2.39(s,3H)2.09−2.01(m,2H)1.18(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(605mg、0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物573mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz): δ(ppm)8.06(d,J=8.4Hz,2H)7.67(d,J=8.4Hz,2H)7.58(d,J=8.1Hz,1H)7.16−6.99(m,5H)6.77(d,J=8.4Hz,2H)5.89(br s,1H)4.45(s,2H)4.19(t,J=6.6Hz,2H)3.84(s,2H)3.76(t,J=5.8Hz,2H)2.98(t,J=6.3Hz,2H)2.80(t,J=6.6Hz,2H)2.39(s,3H)2.08−1.99(m,2H).
実施例123
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
前記実施例57の段階2で得た化合物(404mg、1mmol)、2−[5−メチル−2−(チオフェン−2−イル)オキサゾール−4−イル]エタノール(314mg、1.5mmol)、トリフェニルホスフィン(446mg、1.7mmol)及びジイソプロピルアゾカルボン酸(344mg、1.7mmol)を用いたことを除いては前記実施例61の段階1と同一な方法で反応させ、標題化合物554mg(収率93%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.61−7.57(m,2H)7.37−7.35(m,1H)7.14−7.01(m,6H)6.78(d,J=8.4Hz,2H)4.46(s,2H)4.18(t,J=6.6Hz,2H)4.07(q,J=7.2Hz,2H)3.79−3.76(m,4H)2.94(t,J=6.3Hz,2H)2.82(t,J=6.6Hz,2H)2.34(s,3H)2.09−2.01(m,2H)1.19(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(554mg、0.93mmol)及び水酸化リチウム一水和物(59mg、1.4mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物523mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz): δ(ppm)8.06(d,J=8.4Hz,2H)7.67(d,J=8.4Hz,2H)7.58(d,J=8.1Hz,1H)7.16−6.99(m,5H)6.77(d,J=8.4Hz,2H)5.89(br s,1H)4.45(s,2H)4.19(t,J=6.6Hz,2H)3.84(s,2H)3.76(t,J=5.8Hz,2H)2.98(t,J=6.3Hz,2H)2.80(t,J=6.6Hz,2H)2.39(s,3H)2.08−1.99(m,2H).
実施例124
(S)−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
(S)−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸エチルエステルの製造
(S)−[2−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸エチルエステル(408mg,1mmol)、N,N−塩化ジメチルスルファモイル(158mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物170mg(収率33%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.29−7.21(m,3H)7.08−689(m,3H)4.98(s,2H)4.61−4.07(m,5H)2.77(s,6H)2.42(s,3H)2.39(s,3H)1.40(d,J=6.9Hz,3H)1.26(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
(S)−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸の製造
前記段階1で得た化合物(170mg、0.33mmol)及び水酸化リチウム一水和物(23mg、0.5mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物159mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.74(brs,1H)7.87(d,J=8.1Hz,2H)7.26−7.17(m,4H)6.97−6.85(m,2H)5.02(s,2H)4.42−4.29(m,3H)2.73(s,6H)2.43(s,3H)2.39(s,3H)1.39(d,J=6.9Hz,3H).
実施例125
(S)−3−メチル−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
(S)−3−メチル−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸メチルエステルの製造
(S)−3−メチル−2−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸メチルエステル(423mg,1mmol)、N,N−塩化ジメチルスルファモイル(158mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物344mg(収率65%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.26−7.20(m,3H)7.09(s,1H)7.03−7.01(m,1H)6.93−6.89(m,1H)4.97(s,2H)4.60(d,J=2.4Hz,2H)3.97(d,J=10.6Hz,1H)3.72(s,3H)2.65(s,6H)2.42(s,3H)2.39(s,3H)2.13−2.05(m,1H)0.87−0.83(m,6H).
段階2:
(S)−3−メチル−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸の製造
前記段階1で得た化合物(344mg,0.65mmol)及び水酸化リチウム一水和物(41mg,0.98mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物332mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)10.18(brs,1H)7.86(d,J=8.1Hz,2H)7.25−7.18(m,4H)7.14−7.11(m,1H)7.00−6.82(m,1H)5.05(s,2H)4.48(s,2H)4.04(d,J=10.7Hz,1H)2.60(s,6H)2.43(s,3H)2.38(s,3H)2.20−2.08(m,1H)0.98−0.85(m,6H).
実施例126
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[[1−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg,1mmol)、N,N−塩化ジメチルスルファモイル(158mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物221mg(収率44%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.32−7.22(m,3H)7.13−6.92(m,3H)5.06(q,J=6.9Hz,1H)4.98(s,2H)3.71(q,J=18.3Hz,J=22.7Hz,2H)3.61(s,2H)2.89(s,6H)2.43(s,3H)2.38(s,3H)1.57(d,J=6.9Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(221mg,0.44mmol)及び水酸化リチウム一水和物(28mg,0.66mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物212mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.94(brs,1H)7.86(d,J=8.1Hz,2H)7.28−7.14(m,4H)7.03−6.92(m,1H)6.88−6.87(m,1H)5.06(q,J=7.3Hz,1H)4.99(s,2H)3.74(q,J=10.9Hz,J=18.3Hz,2H)2.86(s,6H)2.42(s,3H)2.38(s,3H)1.57(d,J=7.3Hz,3H).
実施例127
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg,1mmol)、(ピロリジニル)塩化スルホニル(187mg,1.1mmol)及びトライエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物269mg(収率51%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.31−7.22(m,3H)7.14−6.92(m,3H)5.10(q,J=7.3Hz,1H)4.98(s,2H)3.72(q,J=18.0Hz,J=24.4Hz,2H)3.61(s,3H)3.59−3.35(m,4H)2.43(s,3H)2.38(s,3H)1.93−1.86(m,4H)1.58(d,J=7.3Hz,3H).
段階2:
[N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得られた化合物(269mg,0.51mmol)及び水酸化リチウム一水和物(33mg,0.77mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物259mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.08(brs,1H)7.87(d,J=8.1Hz,2H)7.29−7.14(m,4H)7.03−6.92(m,1H)6.89−6.87(m,1H)5.10(q,J=7.3Hz,1H)4.99(s,2H)3.76(q,J=18.3Hz,J=14.2Hz,2H)3.39−3.33(m,4H)2.42(s,3H)2.38(s,3H)1.89−1.82(m,4H)1.57(d,J=7.3Hz,3H).
実施例128
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[[1−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg,1mmol)、(N,N−ジエチルアミノ)塩化スルホニル(189mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物159mg(収率30%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.2Hz,2H)7.31−7.22(m,3H)7.14−6.96(m,3H)5.02(q,1H)4.98(s,2H)3.70(q,J=18.3Hz,2H)3.61(s,3H)3.37(q,J=7.1Hz,4H)2.43(s,3H)2.39(s,3H)1.57(d,J=7.1Hz,3H)1.19(t,J=7.1Hz,6H).
段階2:
[N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(159mg,0.30mmol)及び水酸化リチウム一水和物(20mg,0.45mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物153mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.87(d,J=8.1Hz,2H)7.59(brs,1H)7.29−7.21(m,4H)7.17−6.99(m,1H)6.92−6.87(m,1H)5.04(q,1H)4.99(s,2H)3.73(d,J=4.9Hz,2H)3.34(q,J=7.1Hz,4H)2.43(s,3H)2.39(s,3H)1.57(d,J=7.1Hz,3H)1.17(t,J=7.1Hz,6H).
実施例129
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸メチルエステルの製造
[[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸メチルエステル(394mg,1mmol)、(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)塩化スルホニル(189mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物132mg(収率25%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.89(d,J=8.1Hz,2H)7.31−7.22(m,3H)7.14−6.92(m,3H)5.00(q,1H)4.98(s,2H)4.32−4.24(m,1H)3.68(q,J=18.3Hz,2H)3.61(s,3H)2.76(s,3H)2.43(s,3H)2.39(s,3H)1.57(d,J=7.1Hz,3H)1.20(s,3H)1.17(s,3H).
段階2:
[N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(132mg,0.25mmol)及び水酸化リチウム一水和物(16mg,0.38mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物128mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.87(d,J=8.1Hz,2H)7.49(brs,1H)7.29−7.17(m,4H)7.03−6.87(m,2H)5.02(q,1H)4.99(s,2H)4.28−4.22(m,1H)3.72(d,J=3.3Hz,2H)2.72(s,3H)2.43(s,3H)2.39(s,3H)1.57(d,J=6.9Hz,3H)1.19(s,3H)1.15(s,3H).
実施例130
3−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
3−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸エチルエステルの製造
3−[[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸エチルエステル(408mg,1mmol)、N,N−塩化ジメチルスルファモイル(158mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物474mg(収率92%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)7.90(d,J=8.1Hz,2H)7.28−7.22(m,3H)7.04−6.93(m,3H)4.98(s,2H)4.35(s,2H)4.07(q,J=7.2Hz,2H)3.45(t,J=6.5Hz,2H)2.79(s,6H)2.54(t,J=6.5Hz,2H)2.43(s,3H)2.39(s,3H)1.22(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
3−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸の製造
前記段階1で得た化合物(474mg,0.92mmol)及び水酸化リチウム一水和物(58mg,1.38mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物444mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ(ppm)10.39(brs,1H)7.87(d,J=8.1Hz,2H)7.28−7.22(m,3H)7.03−6.90(m,3H)5.00(s,2H)4.33(s,2H)3.44(t,J=6.5Hz,2H)2.78(s,6H)2.55(t,J=6.5Hz,2H)2.42(s,3H)2.38(s,3H).
実施例131
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[[3−[2−(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(380mg,1mmol)、N,N−塩化ジメチルスルファモイル(158mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物375mg(収率77%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.04−8.00(m,2H)7.58(s,1H)7.45−7.43(m,3H)7.28−7.22(m,1H)6.91−6.85(m,3H)4.52(s,2H)4.28(t,J=6.5Hz,2H)4.16(q,J=7.2Hz,2H)3.85(s,2H)3.08(t,J=6.5Hz,2H)2.87(s,6H)1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(375mg,0.77mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg,1.16mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物350mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.37(brs,1H)8.01−7.89(m,2H)7.58(s,1H)7.46−7.44(m,3H)7.28−7.22(m,1H)6.98−6.85(m,3H)4.51(s,2H)4.28(t,J=6.5Hz,2H)3.91(s,2H)3.07(t,J=6.5Hz,2H)2.86(s,6H).
実施例132
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[[4−[2−(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(380mg,1mmol)、N,N−塩化ジメチルスルファモイル(158mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物419mg(収率86%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.04−7.99(m,2H)7.57(s,1H)7.46−7.43(m,3H)7.24(d,J=8.6Hz,2H)6.88(d,J=8.6Hz,2H)4.48(s,2H)4.28(t,J=6.5Hz,2H)4.18(q,J=7.2Hz,2H)3.81(s,2H)3.08(t,J=6.5Hz,2H)2.86(s,6H)1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(419mg,0.86mmol)及び水酸化リチウム一水和物(54mg,1.29mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物391mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)11.32(brs,1H)8.03−7.97(m,2H)7.58(s,1H)7.47−7.42(m,3H)7.24(d,J=8.6Hz,2H)6.88(d,J=8.6Hz,2H)4.48(s,2H)4.25(t,J=6.5Hz,2H)3.87(s,2H)3.10(t,J=6.5Hz,2)2.85(s,6H).
実施例133
[N−[[N−(4−クロロフェニル)−N−メチル]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[[N−(4−クロロフェニル)−N−メチル]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[[4−[2−(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(380mg,1mmol)、[N−[(4−クロロフェニル)−N−メチル]アミノ]塩化スルホニル(264mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物456mg(収率78%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.02(m,2H)7.56(s,1H)7.46−7.29(m,7H)7.15(d,J=8.6Hz,2H)6.86(d,J=8.6Hz,2H)4.42(s,2H)4.27(t,J=6.5Hz,2H)4.15(q,J=7.2Hz,2H)3.81(s,2H)3.27(s,3H)3.08(t,J=6.5Hz,2H)1.24(t,J=7.2Hz,3H).
段階2:
[N−[[N−(4−クロロフェニル)−N−メチル]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(456mg,0.78mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg,1.17mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物429mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.46(brs,1H)8.02−7.95(m,2H)7.58(s,1H)7.48−7.25(m,6H)7.14(d,J=8.6Hz,2H)6.84(d,J=8.6Hz,2H)4.42(s,2H)4.24(t,J=6.5Hz,2H)3.85(s,2H)3.25(s,3H)3.09(t,J=6.5Hz,2H).
実施例134
[N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[4−[(2−フェニル−5−イソプロピルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
Figure 2008506685
段階1:
[N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[4−[(2−フェニル−5−イソプロピルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステルの製造
[[3−[(5−イソプロピル−2−フェニルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸エチルエステル(408mg,1mmol)、N,N−塩化ジメチルスルファモイル(158mg,1.1mmol)及びトリエチルアミン(111mg,1.1mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階2と同一な方法で反応させ、標題化合物402mg(収率78%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)8.05−7.98(m,2H)7.47−7.40(m,3H)7.31−7.23(m,1H)6.99−6.91(m,3H)4.99(s,2H)4.54(s,2H)4.16(q,J=7.1Hz,2H)3.85(s,2H)3.29−3.15(m,1H)2.87(s,6H)1.36(s,3H)1.32(s,3H)1.25(t,J=7.1Hz,3H)
段階2:
[N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[4−[(2−フェニル−5−イソプロピルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸の製造
前記段階1で得た化合物(402mg,0.78mmol)及び水酸化リチウム一水和物(49mg,1.17mmol)を用いたことを除いては前記実施例3の段階5と同一な方法で反応させ、標題化合物371mg(収率99%)を得た。
H−NMR(CDCl,200MHz):δ(ppm)9.96(br s,1H)8.03−7.97(m,2H)7.47−7.41(m,3H)7.28−7.19(m,1H)6.99−6.87(m,3H)5.03(s,2H)4.47(s,2H)3.88(s,2H)3.27−3.17(m,1H)2.83(s,6H)1.36(s,3H)1.32(s,3H).
試験例1
PPARαアゴニストの分析(agonist assay)
段階1)
外因性PPARαのアゴニストの分析
本発明による実施例1〜134の化合物のヒトPPARαに対する交差活性化分析を行った。リガンド結合ドメイン及びGAL4 DNA結合ドメインを含むPPARαのDNA構造体(construct)(Sher et.al.Biochemistry 32,5598−5604,1993)を用いて行い、この構造体により発現されたPPARαのリガンド結合ドメインに前記実施例の化合物が結合してPPARαの活性に影響を与えるか否かを分析した。ホタルシフェラーゼ(firefly−luciferase)のUAS(upstream activation sequence)に前記PPARαのリガンド結合ドメインと融合されているGAL4 DNA結合ドメインが結合すると、ルシフェラーゼが発現するので、ルシフェラーゼの活性化の程度を分析して合成化合物がPPARαの活性に及ぼす影響を評価した。
具体的に、96ウェルプレートに2×10細胞数/ウェルになるようにHepG2(ATCCHB−8065)または293T細胞(ATCC CRL−1573)を分株して37℃,CO培養器(培養条件:DMEM、10%FBS,1%antibiotics)で一晩中培養した。
PPARα DNAの形質感染は次のように行った。まず、ウェル当り、50ng全長ヒトPPAR−α DNA、50ngホタルシフェラーゼ構造体,5ngウミシイタケルシフェラーゼ(RenillaLuciferase)構造体、1.0μlプラス試薬(PLUSTM Reagent)及び8.3μlの抗生物質を含有しない無血清培地(serum−free medium with no antibiotics)を含む溶液A(Promega社製)を作って室温で15分中放置した。ウェル当り0.5μlリポフェクタミン試薬(LipofectamineTM Reagent)及び9.5μlの抗生物質を含有しない無血清培地を含む溶液B、及びウェル当り50μl無血清培養を含む溶液Cを用意した。溶液A、B及びCを交ぜてリポフェクタミン−DNA錯体(lipofectamin−DNA complex)を作った後、常温で15分間放置した。96ウェルプレートの各ウェルに単一層になっている細胞を無血清DMEMで洗浄した後、前記のように製造したリポフェクタミン−DNA錯体を70μlずつ加えた。次いで、形質感染が起こるように37℃の5%CO培養器で3時間培養させ、前記実施例1〜134で得た化合物を50uMで希釈液をウェル当り最終濃度25μmになるように添加した後、37℃、CO培養器で48時間培養した。次いで、培地を取り除き、50μlの受動溶解緩衝液(passive lysis buffer;Promega社製)を加えて20分間常温で振って細胞を溶解した。デュアルルシフェラーゼキット(Dual Luciferase Kit,Invitrogen社製)のルシフェラーゼ分析試薬(Luciferase Assay Reagent)を細胞溶解緩衝液20μl当り40μlで加えて20℃で8秒間反応させた後、停止液(stop solution)であるストップアンドグロー試薬(Stop & Glo Reagent,Promega社製)40μl加えて反応を終えた。F−ルシフェラーゼ及びR−ルシフェラーゼの発光(luminescence)値をマイクロルマットプラス(MicroLumat Plus,Berthord Technology社製)で測定した。測定結果は対照群対比実施例の化合物を25μMで処理した時の活性増加及び対照群に比べて活性が50%増加した時の実施例の化合物の濃度(EC50)で分析してそれぞれ下記の表1a〜表1cに示した(この時、NDは実施例の化合物で処理していないことを意味する)。
段階2)
内因性(endogenous)PPARαアゴニストの分析
ウミシイタケルシフェラーゼ構造体、全長ヒトPPARα、RXR(retinoid X receptor)及びPPRE(peroxisome proliferator−responsive element)を含むホタルシフェラーゼDNA構造体(Sher et.al.Biochemistry 32,5598−5604,1993:Fleischhauer et.al.Hum Genet 90,505−510,1993)を用いたことを除いては前記段階1と同一な方法で293T細胞を形質感染させて内因性(endogenous)PPARαに対するアゴニストの分析を行った。実施例の各化合物で48時間処理して、化合物が結合された全長PPARαにR/R(PPARの内因性の結合パートナー)が結合されたヘテロ二量体(heterodimer)のルシフェラーゼの活性を前記段階1のような方法で測定した。測定結果は下記表1a〜表1cに示し、この時、NDは実施例の化合物で処理していないことを意味する。
下記表1a〜表1cに示したように、本発明の化合物は、脂肪代謝に関する酵素であるPPARの活性を顕著に増大させる效果を奏する。
Figure 2008506685
Figure 2008506685
Figure 2008506685
試験例2:
抗肥満実験
本発明による化合物の抗肥満活性を評価するために、B6.V−Lepob/Jマウス(韓国化学研究院の実験動物研究チーム)及び対照群として痩せた(lean)マウスを用いた。ob/obマウスはインシュリン非依存性糖尿病モデル動物であって、抗肥満薬剤の效能研究に適する。
7〜9週齢のob/obマウスプール(pool)から42匹(体重38.6±1.4g)を選び、7匹ずつの群に分けた。飼育環境条件は常温(24±0.5℃)、常湿(55±5%)換気(ventilation)システム(10−12回/時)及び12時間毎に自動点滅機能が作動する特定病原体未感染(Specific pathogen free,SPF)の環境で維持しながら、動物の評価実験を行った。
各群は賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラート(fenofibrate)で処理した陽性対照群及び実施例2、62及び65の化合物で処理した試験群に区分し、各動物当たりの投与用量は100mg/10ml/kg体重とした。各試験化合物及び対照化合物を0.5%CMCに希釈して前記濃度で投与した。投与方法は注射器を胃内に1日2回(例えば、09:00時及び18:00時)、4週間毎日経口投与し、次の項目に関する測定をした。
1)一般症状及び死亡動物に関する観察
一般状態の変化、試験動物の行動変化、中毒症状及び死亡率を試験期間中絶えずに観察した。その結果、図1a及び図1bに示すように、実施例2、62及び65の化合物で処理した試験群の一日飼料の摂取量は、試験開始してから1週間顕著に低減し(P<0.005有意水準、図1a)、総飼料攝取量の累積量も同様の結果を示した(P<0.05有意水準、図1b)。従って、本発明の化合物は飼料攝取量を減少させる陽性の效果を示す。
2)体重測定
各群の平均体重を試料の投与を始めてから3日毎に測定して、平均体重の変化及び体重増加量の変化(測定された体重−初期体重)を分析した。その結果、図2a(平均体重の変化)及び図2b(体重増加量の変化)に示したように、各試験群の体重は対照群に比べて顕著に減少した。特に、実施例62の化合物で処理した試験群の平均体重変化は、試料を投与し始めてから10日目に対照群に比べて顕著に減少し(P<0.01、P<0.005有意水準、図2)、各化合物の体重増加量の変化は投与し始めてから7日目に対照群に比べて低くなることを確認した(P<0.01有意水準、図2)。実施例62の化合物で処理した試験群は、フェノフィブラート(fenofibrate)で処理した陽性対照群に比べて極めて優れた效果を示し、実施例5及び65の化合物は陽性対照群と同様の効果を奏した。
3)脂肪代謝に関する物質及びインシュリンの血中濃度の測定
28日間の投与を終わってから16時間の間、実験マウスを絶食させ、トリグリセリド(triglyceride)、遊離脂肪酸及びコレステロールのような脂肪代謝と係わる物質の濃度及びインシュリンの血中濃度を測定した。具体的に、血液を各マウスの眼球静脈叢(ocular venous plexus)から採取して遠心分離で血漿を分離した後、グルコース(GLU)、HDL−コレステロール(HDL)、LDL−コレステロール(LDL)、トリグリセリド(TG)及び遊離脂肪酸(NEFA)などを自動生化学分析装置であるセレトラー(Selectra;Vital Lab社製)2機種を使用して酵素分析により測定し、血中インシュリンの濃度はインシュリン(Insulin)測定用キット(シバヤギ社製)を使用してELISA法で測定し、その結果を次の表2に示す。
Figure 2008506685
前記表2に示したように、遊離脂肪酸の濃度は各群間とも類似しており、トリグリセリドの濃度は実施例62の化合物で処理した対照群に比べて顕著に低くなることを確認した(P<0.05有意水準)。実施例5の化合物で処理した群のLDLの濃度は低かった(P<0.05有意水準)。HDLの濃度はそれぞれの実施例62及び65の化合物で処理した群で顕著に高く、グルコース(GLU)の濃度は実施例5、62及び65の化合物で処理した各群において対照群または陽性対照群に比べて極めて低かった。
4)経口的ブドウ糖負荷試験(oral glucose tolerance test、OGTT)
28日間の投与が終わった後から16時間実験マウスを絶食させた後、2g/kgのグルコース(glucose)を投与してから0、15、30、60及び120分に血液を眼球静脈叢から採取し、グルコース濃度及び曲線下面積(AUC、area under the curve、Skrumsager et al.,J Clin Pharmacol.43,1244−1256,2003))を測定した。
その結果、図3aないし図3cに示すように、絶食中のグルコースの濃度は実施例5、62及び65の化合物で処理した各試験群において対照群に比べて顕著に低かった(P<0.05有意水準、図3c)。それぞれの実施例62及び65の化合物で処理した各試験群でのグルコース投与後30分及び60分におけるグルコース濃度は対照群に比べて顕著に低く(P<0.01、P<0.05有意水準、図3a)、AUCによるグルコース濃度の総変化量は、実施例5、62及び65化合物で処理した各試験群において対照群に比べて極めて低かった(P<0.05、P<0.005及びP<0.01有意水準、図3b)。
従って、本発明の化合物は動物にグルコースの耐性(glucose tolerance)を付与することができる。
5)解剖
全ての試験が終わった後、実施例5及び62の化合物で処理した試験群、及びフェノフィブラートで処理した陽性対照群の動物を犠牲して、全血、肝、筋肉及び脂肪組職を摘出した後、それらの白色脂肪組職(white adipose tissue)は、腹部脂肪(visceral fat)及び皮下脂肪(subcutaneous fat)に分離して各脂肪量及び肝の重量をそれぞれ測定した。
その結果、図4aないし4dに示すように、実施例の5及び62化合物で処理した試験群において観察された脂肪量は絶対的に減少した(P<0.01、P<0.005有意水準、図4a)。肥満指数(adiposity index=[脂肪量/(体重−脂肪量)]、図4b)、及び腹部脂肪(図4d)及び皮下脂肪(図4c)量も全て減少した。
賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5、62及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした飼料攝取率の経時変化を示すグラフである。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5、62及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした総飼料攝取量の累積量の経時変化を示すグラフである。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5、62及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした平均体重量及び体重増加量の経時変化を示すグラフである。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5、62及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした平均体重量及び体重増加量の経時変化を示すグラフである。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5、62及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした経口的ブドウ糖負荷試験の結果を示すグラフである。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5、62及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした経口的ブドウ糖負荷試験の結果を示すグラフである。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5、62及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象とした経口的ブドウ糖負荷試験の結果を示すグラフである。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象として解剖を行った後、総脂肪量を測定した結果を示す図である。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象として解剖を行った後、肥満指数を測定した結果を示す図である。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象として解剖を行った後、皮下脂肪量を測定した結果を示す図である。 賦形剤のみで処理した対照群、フェノフィブラートで処理した陽性対照群、及び実施例5及び65の化合物でそれぞれ処理した試験群を対象として解剖を行った後、腹部脂肪量を測定した結果を示す図である。

Claims (6)

  1. 下記式1のスルファミド誘導体、またはその薬剤学的に許容される塩、水和物または溶媒和物:
    Figure 2008506685
    式中、
    、R及びRはそれぞれ独立的に水素またはC1−3アルキルであり;
    及びRはそれぞれ独立的に水素;C1−5アルキル;C3−5アルケニル;C3−5アルキニル;C1−3アルキル、C1−3アルコキシ、C1−3ハロゲン化アルキルまたはハロゲンで置換されているか置換されていないフェニルであるか;それらが結合している窒素とともに互いに連結して含窒素複素環を形成し;
    は水素またはC1−3アルキルであり;
    はC1−3アルキル、C1−3ハロゲン化アルキルまたはC1−3アルコキシで置換されているか置換されていないフェニル;またはチオフェンであり;
    Xは酸素または窒素であり、Yは、Xが酸素である場合は窒素、Xが窒素である場合は酸素であり;
    mは0または1であり;
    nは1または2である。
  2. 1) [N−(アミノスルホニル)−N−[[4−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    2) (S)−3−メチル−2−[N−(スルファモイル)−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸;
    3) [N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    4) [N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    5) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    6) [N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    7) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    8) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    9) [N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    10) [N−(N−メチル−N−プロパルギル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    11) [N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    12) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−]−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    13) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    14) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    15) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    16) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    17) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    18) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    19) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    20) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    21) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    22) [N−(N−p−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    23) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    24) [N−[[N−メチル−N−(p−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    25) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    26) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    27) [N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    28) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    29) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−4−メチルオキサゾール−5−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    30) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    31) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    32) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    33) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    34) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    35) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    36) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    37) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    38) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    39) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    40) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    41) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    42) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    43) [N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    44) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    45) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    46) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    47) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    48) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    49) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    50) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    51) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    52) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    53) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    54) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    55) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    56) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    57) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    58) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    59) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    60) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    61) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    62) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    63) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    64) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    65) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    66) [N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    67) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    68) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    69) [N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    70) [N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    71) [N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    72) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    73) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    74) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    75) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    76) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    77) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    78) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    79) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    80) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    81) [N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    82) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    83) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    84) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    85) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    86) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    87) [N−(モルホリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    88) [N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    89) [N−(4−メチル−1−ピペラジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    90) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    91) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    92) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    93) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    94) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    95) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    96) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    97) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    98) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    99) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    100) [N−(N−t−ブチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    101) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    102) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    103) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    104) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    105) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    106) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    107) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    108) [N−[(N−メチル−N−フェニル)アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    109) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    110) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    111) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    112) [N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    113)N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    114) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    115) [N−[[N−メチル−N−(4−クロロフェニル)]アミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    116) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    117) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    118) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    119) [N−(インドリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    120) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−(2−フェニル−5−メチルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    121) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    122) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    123) [N−(1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル)スルホニル−N−[4−[2−[2−(チオフェン−2−イル)−5−メトキシオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    124) (S)−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸;
    125) (S)−3−メチル−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸;
    126) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
    127) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
    128) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
    129) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
    130)3−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸;
    131) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    132) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    133) [N−[[N−(4−クロロフェニル)−N−メチル]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;及び
    134) [N−[(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル]−N−[4−[(2−フェニル−5−イソプロピルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸で構成された群から選ばれることを特徴とする請求項1記載のスルファミド誘導体。
  3. が水素であり;
    が水素またはメチルであり;
    が水素またはC1−3アルキルであり;
    及びRがそれぞれ独立的に水素、メチル、エチル、イソプロピル、プロパルギル、ピペリジニル、またはメチル、メトキシ、フッ素または塩素で置換されているか置換されていないフェニルであるか;それらが結合している窒素とともに互いに連結してピペリジンまたはキノロン環を形成し;
    がメチルであり;
    がCFまたはCHで置換されているか置換されていないフェニルであり;
    Xが窒素原子であり;
    Yが酸素原子であり;
    mが0または1であり;
    nが1または2であることを特徴とする請求項1記載のスルファミド誘導体。
  4. 2) (S)−3−メチル−2−[N−(スルファモイル)−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸;
    7) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    8) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    9) [N−(N−アリル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    10) [N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    11) [N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    21) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    22) [N−(N−p−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    23) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    58) [N−(1,2,3,4−テトラキノリニル)スルホニル−N−[4−[[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]メトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    62) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    63) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    65) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    67) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    70) [N−(N−メチル−N−プロパルギルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    71) [N−(ピペリジニル)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    80) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    81) [N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    82) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[3−[2−[2−(4−トリフルオロメチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    101) [N−(N,N−ジエチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    102) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    111) [N−(N−エチル−N−m−トリルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    112) [N−(N−アニソイル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    113) [N−[N−(3−フルオロフェニル)−N−メチルアミノ]スルホニル−N−[4−[2−[2−(4−メチルフェニル)−5−メチルオキサゾール−4−イル]エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    124) (S)−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸;
    125) (S)−3−メチル−2−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]酪酸;
    126) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
    127) [N−(ピロリジニル)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
    129) [N−(N−イソプロピル−N−メチルアミノ)スルホニル−N−[1−[[3−(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]フェニル]エチル]アミノ]酢酸;
    130)3−[N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(5−メチル−2−p−トリルオキサゾール−4−イル)メトキシ]ベンジル]アミノ]プロピオン酸;
    131) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[3−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;
    132) [N−(N,N−ジメチルアミノ)スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸;及び
    133) [N−[[N−(4−クロロフェニル)−N−メチル]アミノ]スルホニル−N−[4−[(2−フェニルオキサゾール−4−イル)エトキシ]ベンジル]アミノ]酢酸で構成された群から選ばれることを特徴とする請求項3記載のスルファミド誘導体。
  5. 前記請求項1のスルファミド誘導体、またはその薬剤学的に許容される塩、水和物または溶媒和物を活性成分として含むことを特徴とする脂肪代謝促進用医学組成物。
  6. 肥満(obesity)、インシュリン非依存性糖尿病(NIDDM、non−insulin dependent diabetes mellitus)、高脂血症(hyperlipidemia)、動脈硬化症(arteriosclerosis)、肝または筋肉の脂肪症(steatosis)及び脂肪肝(fatty liver)の予防及び治療に用いられることを特徴とする請求項5記載の組成物。
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