JP2008504493A - タイミング弁 - Google Patents

Abstract

本発明は、閉鎖体（１８）と、該閉鎖体（１８）と協働する弁座（２２）とを備えたタイミング弁（１０）であって、閉鎖体（１８）が、第１の切換位置では流入通路（１２）と流出通路（１４）との間の通流接続を形成し、第２の切換位置では前記通流接続を遮断するようになっており、閉鎖体（１８）が、当該タイミング弁（１０）の操作時に第１第２の両切換位置の間で周期的に切り換えられ、しかも閉鎖体（１８）の運動が、絞り部（７０）によってハイドロリック的に減衰されている形式のものに関する。本発明によれば、ハイドロリック的な減衰が所定の部分範囲（６２）にわたってのみ有効であることが提案される。

Description

背景技術
本発明は、請求項１の上位概念部に記載の形式のタイミング弁（Taktventil）、つまり閉鎖体と、該閉鎖体と協働する弁座とを備えたタイミング弁であって、閉鎖体が、第１の切換位置では流入通路と流出通路との間の通流接続を形成し、第２の切換位置では前記通流接続を遮断するようになっており、閉鎖体が、当該タイミング弁の操作時に第１第２の両切換位置の間で周期的に切り換えられ、しかも閉鎖体の運動が、絞り部によってハイドロリック的に減衰されている形式のタイミング弁に関する。

タイミング弁は、特に車両暖房装置の暖房出力の冷却水側の制御のために使用される。タイミング弁は一般に電磁石により操作される。この電磁石は場合によっては弁ばねと協働して閉鎖体を第１の切換位置と第２の切換位置との間で場合によっては周期的に往復運動させる。第１の切換位置では、流入通路と流出通路との間に通流接続が形成され、第２の切換位置ではこの通流が遮断されている。タイミング弁は一般に「座弁」として形成されており、この座弁では、たとえば閉鎖体の弁円錐体が弁座と協働する。座弁は頑丈でかつ廉価である。座弁は高いシール性を有している。しかし、弁座への弁円錐体の高速の衝突および／または逆方向でのソレノイドアクチュエータシステムの高速の衝突は空気伝播音および固体伝播音を発生させる。この騒音振動は快適性を損なう。さらに、圧力ピークが、循環路内の、冷却水を案内する構成部分を負荷して、これらの構成部分の早期故障、たとえば漏れ等を招く恐れがある。

ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９７５４２５７号明細書に基づき、液体制御された冷暖房設備のためのこのような電磁弁が知られている。電磁石によって閉鎖体は弁ばねの力に抗して閉鎖方向に操作される。閉鎖体およびこの閉鎖体に結合された弁ステムの速度は、弁ステムもしくは閉鎖体に作用する減衰装置によって減じられる。これにより、閉鎖体もしくは弁ステムが弁部材の載着後に後振動することが阻止されるだけではなく、減衰装置が既に弁運動時における磁気アーマチュアと弁ステムと弁部材との速度を制動するようになる。減衰装置は弁ステムに取り付けられた減衰ディスクを有している。この減衰ディスクは弁ハウジングの、液体で充填された部分、たとえば減衰室内に、小さな遊びを持って案内されている。減衰ディスクの運動時に液体は環状ギャップを介して減衰ディスクの一方の側から他方の側へ押しのけられる。減衰ディスクに設けられた付加的な絞り孔により減衰特性を調整することができる。十分に有効な減衰を達成するためには、環状ギャップをできるだけ狭く寸歩設定することが重要となる。しかし、これにより、液体中に存在する汚染粒子が環状ギャップ内に固着するか、または減衰シリンダ内に溜まり、摩耗を招きかつ減衰装置の機能を損なってしまうことを回避することができなくなる。

発明の利点
本発明によれば、ハイドロリック的な減衰が所定の部分範囲にわたってのみ有効となる。閉鎖体の閉鎖前０．５ミリメートルのオーダにあってよい、行程運動の非減衰部分範囲では、汚染粒子がハイドロリック式の減衰装置から除去され得るので、堆積物は発生せず、絞り横断面は自己浄化作用を発揮する。これにより、摩耗や機能故障は回避される。さらに、有効な減衰を行う極めて狭い絞りギャップを実現することができる。強力な減衰により、短い開放パルスにおいてはもはや全行程が利用されなくなることを達成することができる。改善された分解能および小さな通流量の際の迅速なリアクションが得られるので有利である。通流量が大きくなるとリアクション時間は比較的緩慢となるが、このような緩慢なリアクション時間は、システム全体の僅かな補強、たとえば弁特性曲線および熱交換器特性曲線の僅かな補強により補償され得る。

本発明の有利な構成では、絞り横断面が、閉鎖体の行程運動の経過中に、減衰される部分範囲（「減衰部分範囲」と呼ぶ）に続いて増大しているか、または行程運動の絞られない部分範囲（「非減衰部分範囲」と呼ぶ）において、前記絞りギャップに対して平行に延びるバイパスが開制御されていることにより、非減衰部分範囲を得ることができる。

この目的のためには、閉鎖体が減衰ディスクに結合されており、該減衰ディスクが、減衰シリンダ内に設けられていて、該減衰シリンダと共にその周面に絞りギャップを形成しており、該絞りギャップが、閉鎖体の行程運動の経過中に所定の部分範囲の間、拡張するようになっていると有利である。このことは、たとえば減衰シリンダが一方の端面側で開いており、減衰ディスクが、閉鎖体の行程運動の終了直前に減衰シリンダから進出し、これにより減衰作用が解消されるようになっていることにより実現され得る。閉鎖体が弁座に載着されるまで閉鎖体は僅か約０．５ｍｍの小さなストロークを進むだけでよいので、閉鎖体は小さな速度で弁座に載着される。なぜならば、閉鎖体はこのような短い区間では質量慣性に基づき著しく加速されることはないからである。

行程運動の減衰部分範囲と、非減衰部分範囲との間には、有利には移行範囲を設定することができる。この移行範囲では絞り作用が減じられている。このことは、たとえば減衰シリンダの流過横断面が、移行範囲において減衰シリンダの開いた端部で連続的に拡張していることによって実現され得る。この場合、たとえば減衰シリンダの開いた端部が、内側の面取り部を有している。面取り部の輪郭は、所望の減衰低下が得られるように設計され得る。さらに、減衰シリンダの開いた端部が、少なくとも１つの内側の溝および／または切欠きを有していてよい。この溝および／または切欠きは減衰シリンダの開いた側に向かって拡張している。所望の減衰特性線に応じて、全周にわたって分配された複数の溝および／または切欠きを設けることができる。この場合、移行範囲における減衰特性曲線は前記溝の側縁および前記切欠きの輪郭によっても形成され得る。この場合、たとえば前記溝の側縁および前記切欠きの輪郭は曲げられた延在形状を有している。

本発明のさらに別の有利な構成では、減衰シリンダが、真ん中もしくは中間の範囲に内側の環状溝を有しており、該環状溝の幅が、減衰ディスクの厚さよりも大きく形成されている。これにより、閉鎖体がその終端位置では最適に減衰され、そして中間の位置では非減衰範囲において環状溝を介した減衰シリンダの十分なすすぎが可能となることが達成される。この場合にも、前記環状溝の側縁が移行範囲を形成していて、これにより減衰特性曲線におけるなだらかでない特性線経過が回避されることが有利である。

環状溝の代わりに、バイパスを設けることもできる。このバイパスは減衰シリンダ内で、非減衰部分範囲を開始させたい位置に開口している。バイパスは非減衰部分範囲における絞りギャップを跨いでいて、減衰シリンダの十分なすすぎをもたらす。

減衰特性曲線は減衰ディスクの形状およびサイズによって変えることができる。すなわち、減衰ディスクの周面が、軸方向に突出した縁部を有していてよい。この縁部により、絞りギャップの軸方向の延在長さが増大される。さらに、減衰ディスクが、円形とは異なる形状の面、たとえば卵形の面、楕円形の面、正多角形または非正多角形の面または円区分の形の面を有していてよい。これにより、絞りギャップの長さを全周にわたって変化させることができる。さらに、これにより、減衰ディスクにより押しのけられた容積対絞りギャップの長さの割合を変えることができる。さらに、減衰ディスクが極めて薄く形成されていて、微細な孔構造を有していてよい。有利にはマイクロメートル（μｍ）領域にある横断面を有するこれらの孔は、減衰ディスクの往復運動時に自由にすすがれる。この場合、減衰ディスクがある程度の弾性率を有していて、ひいては僅かな撓みを有することにより、絞り通路の閉塞が阻止される。

減衰ディスクの代わりに、液体透過性のダイヤフラムによりハイドロリック的な絞り装置を形成することができる。このダイヤフラムの周面は弁ハウジングに結合されており、該ダイヤフラムの中央の範囲は、弁ステムもしくは該弁ステムに結合されたロッドによって行程運動の方向に連行されるようになっている。この場合、ダイヤフラムは半剛性的半弾性的に形成されていてよい。ダイヤフラムの弾性特性は閉鎖体の所望の減衰特性曲線に調和されており、特にダイヤフラムは閉鎖体の非減衰部分範囲においては、液体に対して小さな圧力しか加えないので、無視し得る程度の減衰しか生ぜしめない。ダイヤフラムは、細目メッシュの網構造もしくは織物構造を有するプラスチック糸または金属糸から製造されると有利である。この場合、織物構造のメッシュにより形成された液体通路の横断面がマイクロメートル領域にあると有利である。

行程運動の非減衰部分が、弁ステムもしくは該弁ステムに結合されたロッドと、減衰ディスクもしくはダイヤフラムとの間の相応するクリアランス（Freigang）により形成されていてもよい。このクリアランスにより、ダイヤフラムもしくは減衰ディスクは減衰部分範囲においてしか閉鎖体の行程運動に従動しなくなり、それに対して、非減衰部分範囲では、弁ステムもしくはこの弁ステムに結合されたロッドに沿ってスライドし、したがって減衰を生ぜしめない。減衰ディスクもしくはダイヤフラムは弁ステムに対して同軸的に流れ方向で閉鎖体の手前、つまり閉鎖体の上流側または閉鎖体の背後、つまり閉鎖体の下流側に設けられている。減衰ディスクもしくはダイヤフラムは弁ハウジング内に設けられた拡張された弁室内に収納されると有利である。なぜならば、この場合、良好なスペース利用において、閉鎖体の直径もしくは面よりも大きく形成された大きな直径もしくは面が実現され得るからである。このような大きな直径もしくは面は良好な減衰を可能にする。

図面
本発明のさらに別の利点は以下に図面につき説明する実施例に記載されている。図面には、本発明の実施例が図示されている。図面、明細書および特許請求の範囲には、多数の特徴が組み合わされた形で含まれている。当業者であれば、これらの特徴を個々に単独の形で考察して、好都合な別の組合せにまとめ上げることもできる。

図面中、
図１は、タイミング弁を概略的に示す縦断面図であり、
図２は、減衰シリンダの拡大縦断面図であり、
図３〜図５は、それぞれ図２に示した実施例に対する変化実施例を示す拡大縦断面図であり、
図６および図７は、減衰ディスクの平面図であり、
図８および図９は、それぞれ図１に示したタイミング弁の別の実施例を示す縦断面図であり、
図１０は、織物構造を有するダイヤフラムの平面図であり、
図１１および図１２は、それぞれクリアランスを有する減衰装置の実施例を示す部分縦断面図である。

実施例の説明
図１には、タイミング弁１０が図示されている。このタイミング弁１０弁はハウジング１６を有している。この弁ハウジング１６は流入通路１２と流出通路１４とを備えている。タイミング弁１０を通る通流量は閉鎖体１８によって制御される。この閉鎖体１８の弁円錐体２０は弁座リング４８に設けられた弁座２２と協働する。弁座リング４８は弁ハウジング１６内に設けられた弁座ハウジング４６内に嵌め込まれている。閉鎖体１８が操作されると、この閉鎖体１８は開放された位置と、閉鎖位置との間を周期的に往復運動させられる。この場合、閉鎖体１８は行程運動８２を実施する。図１には、閉鎖体１８の中間位置が実線で描かれており、閉鎖位置は一点鎖線により描かれており、開放位置は破線により描かれている。単位時間当たりの通流量は主としてタイミング弁の操作時における開放時間対閉鎖時間の割合により規定される。通流方向は矢印により示されている。タイミング弁１０はもちろん逆方向でも通流され得る。

閉鎖体１８には、ロッド５６を介して減衰ディスク５４が結合されている。被運動質量をできるだけ小さく保持するためには、この減衰ディスク５４が薄く形成されていて、軽量構造材料、たとえばプラスチックまたは複合材料から成っていてよい。減衰ディスク５４は減衰シリンダ５０と協働する。減衰ディスク５４が減衰シリンダ５０の内部で運動すると、減衰ディスク５４の周面は減衰シリンダ５０と共に絞りギャップ７０を形成する。減衰シリンダ５０は一方の端面側において案内開口５８を除いて閉鎖されている。この案内開口５８内にはロッド５６が案内されている。リブ５２を介して流入通路１２内に固定されている減衰シリンダ５０（図１）は、ハイドロリック的な減衰が全行程６０の一部にわたってしか有効とならないようにロッド５６および減衰ディスク５４に合わせて調整されている。図１に示した構成において、全行程６０のうちの減衰された部分６２では、減衰ディスク５４が減衰シリンダ５０内に位置しており、減衰された部分６２に続く減衰されていない部分６４では、減衰ディスク５４が減衰シリンダ５０の外部に位置しているので、減衰シリンダ５０の内室は拡大された絞りギャップ横断面を介して十分にすすがれるようになるので、場合によっては存在する汚染粒子は除去される。これにより、摩耗の減少および弁可使時間の増大が得られる。閉鎖体１８が再び開かれると、減衰ディスク５４は再び減衰シリンダ５０内へ進入するので、所望の減衰が再び達成される。

閉鎖体１８は電磁石２８によって弁ばね２４の力に抗して閉鎖方向に操作される。電磁石２８の通電が故障すると、閉鎖体１８は開放されるので、暖房および／または冷房用の循環路における使用時では、いかなる場合にも通流が保証されている。

電磁石２８は電磁コイル３０を有している。この電磁コイル３０は磁気帰路ヨーク３８に巻き付けられている。この磁気帰路ヨーク３８内には、ガイドブシュ４２が嵌め込まれている。このガイドブシュ４２内にはアーマチュア３４が軸方向摺動可能に配置されていて、開放方向で弁ばね２４によって負荷される。アーマチュア３４は弁ステム２６に装着固定されており、この弁ステム２６は閉鎖体１８と減衰ディスク５４とに結合されている。電磁コイル３０が通電されると、アーマチュア３４は磁気コア３２によって引き付けられるので、閉鎖体１８は弁ステム２６によって弁座２２に押圧される。アーマチュア３４の自由な運動のためには、ガイドブシュ４２内にアーマチュア室４４が設けられており、このアーマチュア室４４の一方の端部は、たとえば弾性的なストッパ４０により仕切られる。このストッパ４０には、タイミング弁１０の開放された位置において弁ステム２６の自由端面が当接する。電磁石２８の一部はハウジング３６内に収納されている。このハウジング３６は弁座ハウジング４６に固定されている。タイミング弁１０は一般に電磁石を介して駆動されるが、しかしその他の電動モータ式、機械式またはハイドロリック式のアキュムレータを使用することも可能である。

図２に示した実施例では、減衰シリンダ５０が、減衰される減衰部分６２と、減衰されない非減衰部分６４との間に移行範囲６６を有している。この移行範囲６６では、低減された、変えられた減衰が達成される。面取り部６８を介して絞りギャップ７０の横断面は、非減衰部分６４が到達されるまで連続的に拡張される。面取り部６８は軸方向で真っ直ぐな延在形状または曲げられた延在形状、たとえば凸面状または凹面状の延在形状を有していてよい。移行範囲６６は１つまたは複数の溝７２によっても形成され得る。この溝７２により、絞りギャップ７０の絞り作用は、非減衰部分６４にまで徐々に減少する。この場合、溝７２の側縁は同じく真っ直ぐに延びているか、または曲げられて延びていてよい。同様の作用は切欠き７４；７８によっても達成され得る。この場合、切欠き７４は曲げられた制限輪郭７６を有しており、切欠き７８は直線状の制限輪郭８０を有している（図３）。したがって、移行範囲６６における減衰特性を広い範囲で変えることができる。

図４に示した実施例では、減衰ディスク５４が減衰シリンダ５０から進出しない。この場合、非減衰部分６４は全行程６０のほぼ中間に位置しており、それに対して減衰部分６２は全行程６０の両端に設けられている。非減衰部分６４は環状溝８４により実現される。この環状溝８４は減衰シリンダ５０の中間の範囲に配置されている。この環状溝８４の幅は減衰ディスク５４の厚さよりも大きく形成されている。環状溝８４の範囲にその他の範囲よりも著しく大きな流過横断面が設けられていることにより、減衰シリンダ５０を良好にすすぎ通すことができるので、汚染粒子が固着する恐れはない。この場合には、環状溝８４の縁部のデザインによって両行程方向におけるそれぞれ１つの移行範囲を形成することができる。このためには、図２および図３において減衰シリンダ５０の端範囲のために図示されている手段と同様の手段を利用することができる。

環状溝８４の代わりに、バイパス９０を設けることができる（図５）。このバイパス９０は絞られていない部分範囲の始端部で減衰シリンダ５０に開口していて、減衰ディスク５４の周面に形成される絞りギャップ７０を跨いでいる。バイパス９０を介して減衰シリンダ５０から汚染粒子を搬出することができる。

減衰特性もしくは減衰特性曲線は減衰ディスクの形状およびサイズにより調節することができる。図６および図７に示した実施例では、減衰ディスク５４の面が円形とは異なる形状を有している。図６に示した実施例では、減衰ディスク５４が周面に平らな面取り部９２を有しており、図７に示した減衰ディスク５４は正六角形を成している。しかし、その他の形状、たとえば卵形または任意の正多角形または非正多角形を選択することもできる。減衰ディスク５４の面の形状に基づき、第１に面積と周面の長さとの間の比を調節することができ、第２に減衰ディスク５４が、提供されている構成スペースを最適に利用し得るようになる。すなわち、図８に示した実施例では、減衰ディスク５４が、弁ハウジング１６に設けられた拡張された弁室８６内に収納されていてよい。これにより、減衰ディスク５４は閉鎖体１８よりも著しく大きな直径もしくは著しく大きな面を有することができる。弁室８６はタイミング弁１０の選択された通流方向において閉鎖体１８の下流側に位置している。さらに、減衰ディスク５４は軸方向に突出した縁部８８を有している。これにより、減衰部分６２において減衰ディスク５４の周面に形成されるシールギャップ７０は軸方向において一層長く形成される。シールギャップ７０は減衰シリンダ５０からの減衰ディスク５４の進出時に連続的に短くなるので、やはり減衰特性曲線における移行範囲が形成される。縁部８８は減衰ディスク５４の被運動質量を僅かにしか増大させない。

減衰ディスク５４の減衰特性曲線は複数の孔９４の形の別の絞り開口によってさらに変えることができる。図７に示した減衰ディスク５４は微細な孔構造を示している。このような孔構造では、孔９４の直径がマイクロメートル領域にあってよい。

図９に示した実施例では、減衰ディスク５４の代わりに、液体透過性のダイヤフラム９６が使用される。このダイヤフラム９６は波形成形された薄いばね金属薄板から成っていてよく、そして弁ハウジング１６と弁ステム２６との間に緊締されている。液体通路は図７に示した減衰ディスク５４と同様に孔構造により形成され得る。実線で描かれたダイヤフラム９６は減衰範囲の端部における位置を示しており、破線で描かれた構成はタイミング弁１０を、開放された位置で示している。ダイヤフラム９６の弾性特性は閉鎖体１８の所望の減衰特性曲線に合わせて調整され得るので、特にダイヤフラム９６は非減衰部分６４において液体に小さな圧力しか加えず、したがって無視し得る程度の減衰しか生ぜしめない。

図１０に示した実施例では、ダイヤフラム９６が細かいメッシュの網構造または織物構造を有している。この構造のメッシュにより形成された液体通路はマイクロメートル領域にあると有利である。この場合にも、ダイヤフラム９６の弾性特性は閉鎖体１８の所望の減衰特性曲線に合わせて調整される。

図１１および図１２に示した実施例では、ダイヤフラム９６が、クリアランス（Freigang）を介して弁ステム２６と連結されている。このクリアランスは弁ステム２６に設けられた切欠き１００と連行リング９８とにより形成される。この場合、切欠き１００の軸方向延在長さは連行リング９８の軸方向延在長さよりも大きく形成されているので、連行リング９８と切欠き１００との間には軸方向のクリアランスが形成される。このクリアランスは行程運動８２の両反転位置で連行リング９８によってその都度埋められて、閉鎖体１８の非減衰部分６４を生ぜしめる。図１１には、タイミング弁１０の閉鎖された位置が示されており、この閉鎖された位置では、連行リング９８が切欠き１００の上側の肩部１０２に接触している。図１２には、タイミング弁１０の開放された位置が示されており、この開放された位置では、連行リング９８が切欠き１００の下側の肩部１０４に接触している。クリアランスは別の手段によっても形成され得る。たとえば、上側の肩部１０２および／または下側の肩部１０４を、弁ステム２６に設けられた段部またはばねリングにより形成することができる。

タイミング弁を概略的に示す縦断面図である。 減衰シリンダの拡大縦断面図である。 図２に示した実施例に対する変化実施例を示す拡大縦断面図である。 図２に示した実施例に対する別の変化実施例を示す拡大縦断面図である。 図２に示した実施例に対するさらに別の変化実施例を示す拡大縦断面図である。 減衰ディスクの１実施例を示す平面図である。 減衰ディスクの別の実施例を示す平面図である。 図１に示したタイミング弁の別の実施例を示す縦断面図である。 図１に示したタイミング弁のさらに別の実施例を示す縦断面図である。 織物構造を有するダイヤフラムの平面図である。 クリアランスを有する減衰装置の１実施例を示す部分縦断面図である。 クリアランスを有する減衰装置の別の実施例を示す部分縦断面図である。

Claims (24)

1. 閉鎖体（１８）と、該閉鎖体（１８）と協働する弁座（２２）とを備えたタイミング弁（１０）であって、閉鎖体（１８）が、第１の切換位置では流入通路（１２）と流出通路（１４）との間の通流接続を形成し、第２の切換位置では前記通流接続を遮断するようになっており、閉鎖体（１８）が、当該タイミング弁（１０）の操作時に第１第２の両切換位置の間で周期的に切り換えられ、しかも閉鎖体（１８）の運動が、絞り部（７０）によってハイドロリック的に減衰されている形式のものにおいて、ハイドロリック的な減衰が所定の部分範囲（６２）にわたってのみ有効であることを特徴とするタイミング弁。
2. 絞り横断面が、閉鎖体（１８）の行程運動（８２）の経過中に、減衰される部分範囲（６２）に続いて増大している、請求項１記載のタイミング弁。
3. 行程運動（８２）の所定の部分範囲（６４）にわたって、前記絞り部（７０）に対して平行に延びるバイパス（９０）が開制御されている、請求項１記載のタイミング弁。
4. 閉鎖体（１８）が減衰ディスク（５４）に結合されており、該減衰ディスク（５４）が、減衰シリンダ（５０）内に設けられていて、該減衰シリンダ（５０）と共にその周面に絞りギャップ（７０）を形成しており、該絞りギャップ（７０）が、閉鎖体（１８）の行程運動の経過中に所定の部分範囲（６４，６６）において拡張するようになっている、請求項２記載のタイミング弁。
5. 減衰シリンダ（５０）が一方の端面側で開いており、減衰ディスク（５４）が、閉鎖体（１８）の行程運動の終了直前に減衰シリンダ（５０）から進出するようになっている、請求項４記載のタイミング弁。
6. 減衰シリンダ（５０）の流過横断面が、減衰シリンダ（５０）の開いた端部で連続的に拡張している、請求項４記載のタイミング弁。
7. 減衰シリンダ（５０）の開いた端部が、内側の面取り部（６８）を有している、請求項６記載のタイミング弁。
8. 減衰シリンダ（５０）の開いた端部が、少なくとも１つの内側の溝（７２）および／または切欠き（７４，７８）を有しており、該溝（７２）および／または切欠き（７４，７８）が、減衰シリンダ（５０）の開いた端面に向かって拡張している、請求項６記載のタイミング弁。
9. 前記溝（７２）の側縁および前記切欠き（７４，７８）の輪郭（７６，７８）が、曲げられた延在形状を有している、請求項８記載のタイミング弁。
10. 減衰シリンダ（５０）が、中間の範囲に内側の環状溝（８４）を有しており、該環状溝（８４）の幅が、減衰ディスク（５４）の周面の厚さよりも大きく形成されている、請求項４記載のタイミング弁。
11. 前記環状溝（８４）の側縁が移行範囲（６６）を形成している、請求項１０記載のタイミング弁。
12. 減衰ディスク（５４）の周面が、軸方向に突出した縁部（８８）を有している、請求項１から１１までのいずれか１項記載のタイミング弁。
13. 減衰ディスク（５４）が、円形とは異なる形状の面を有している、請求項１から１２までのいずれか１項記載のタイミング弁。
14. 減衰ディスク（５４）が極めて薄く形成されていて、微細な孔構造を有している、請求項１から１３までのいずれか１項記載のタイミング弁。
15. 孔（９４）の横断面がマイクロメートル領域にある、請求項１４記載のタイミング弁。
16. ハイドロリック的な絞り装置が、液体透過性のダイヤフラム（９６）により形成されており、該ダイヤフラム（９６）の周面が弁ハウジング（１６）に結合されており、該ダイヤフラム（９６）の中央の範囲が、弁ステム（２６）もしくは該弁ステム（２６）に結合されたロッド（５６）によって行程運動（８２）の方向に連行されるようになっている、請求項１記載のタイミング弁。
17. ダイヤフラム（９６）が半剛性半弾性的に形成されている、請求項１６記載のタイミング弁。
18. ダイヤフラム（９６）の弾性特性が、閉鎖体（１８）の所望の減衰特性曲線に合わせて調整されている、請求項１６記載のタイミング弁。
19. ダイヤフラム（９６）が、細目メッシュの網構造もしくは織物構造を有している、請求項１４記載のタイミング弁。
20. メッシュの横断面がマイクロメートル領域にある、請求項１４記載のタイミング弁。
21. ダイヤフラム（９６）が複合材料から成っている、請求項１６から２０までのいずれか１項記載のタイミング弁。
22. 行程運動（８２）の非減衰部分（６４）が、弁ステム（２６）もしくは該弁ステム（２６）に結合されたロッド（５６）と、減衰ディスク（５４）もしくはダイヤフラム（９６）との間のクリアランスにより形成されている、請求項１から２１までのいずれか１項記載のタイミング弁。
23. 減衰ディスク（５４）もしくはダイヤフラム（９６）が、弁ステム（２６）に対して同軸的に流れ方向で閉鎖体（１８）の上流側または下流側に設けられている、請求項１から２２までのいずれか１項記載のタイミング弁。
24. 減衰ディスク（５４）の面またはダイヤフラム（９６）の面が、閉鎖体（１８）の横断面よりも大きく形成されている、請求項１から２３までのいずれか１項記載のタイミング弁。

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