JP2008502897A5 - - Google Patents

Claims (19)

1. 電気化学セルを有する装置を製造する方法であって、前記装置が、その中に形成されたレセプタクルまたは部分レセプタクルを含むストリップを含み、そのレセプタクルまたは部分レセプタクルの壁に電気化学セルの作用電極が位置しており、
   前記方法が、
   − ２つの絶縁層間に作用電極層を有する積層体を形成する工程と、
   − 作用電極層を貫通する穴またはウェルを積層体に作製する工程と、
   − 場合により、積層体をベースに取り付けてレセプタクルを形成する工程を含み、
   前記の穴またはウェルを形成する工程が、積層体をレーザー穴あけ加工する工程を含む、方法。
2. レーザー穴あけ工程が、１５０〜４００ｎｍの波長で動作するレーザーを用いて実施される、請求項１記載の方法。
3. レーザー穴あけ工程が、０．１〜１０００ｐｓのパルス幅を有するパルスレーザーを用いて実施される、請求項１または２記載の方法。
4. レーザー穴あけ工程が、１〜１００ｎｓのパルス幅を有するパルスレーザーを用いて実施される、請求項１または２記載の方法。
5. 積層体が色素を含む、請求項１〜４のいずれか一項記載の方法。
6. レーザー穴あけ加工が反応性アシストガスの存在下で実施される、請求項１〜５のいずれか一項記載の方法。
7. レーザー穴あけ加工工程で用いられるレーザーのトレパニング速度（Ｔ）およびパルス繰り返し周波数（ｐｒｆ）がＴ（ｒｐｍ）／ｐｒｆ（ｋＨｚ）＞２００という関係を満たす、請求項１〜６のいずれか一項記載の方法。
8. 穴を積層体に形成する工程が、該積層体の穴あけ加工によりリングを穿設して中央プラグを取り囲む実質的に環状のウェルの形成と、次に該中央プラグを取り除くこととを含む、請求項１〜７のいずれか一項記載の方法。
9. 電気化学セルを有する装置を製造する方法である請求項１の方法の改良であって、前記装置が、その中に形成されたレセプタクルまたは部分レセプタクルを有するストリップを含み、そのレセプタクルまたは部分レセプタクルの壁に電気化学セルの作用電極が位置しており、
   前記方法が、
   − ２つの絶縁層間に作用電極層を含む積層体を形成する工程と、
   − 作用電極層を貫通する穴またはウェルを積層体に作製する工程と、
   − 場合により、該積層体をベースに取り付けてレセプタクルを形成する工程を含み、
   穴またはウェルを形成する工程が、ウォータージェット切断または超音波切断によって積層体を切断する工程を含む、請求項１の方法の改良。
10. 電気活性物質をレセプタクルまたは部分レセプタクルへの挿入と、場合により、電気活性物質を乾燥することとをさらに含む、請求項１〜９のいずれか一項記載の方法。
11. １以上の通気口をレセプタクルまたは部分レセプタクルに形成することをさらに含む、請求項１〜１０のいずれか一項記載の方法。
12. １以上の層を有する膜を、レセプタクルまたは部分レセプタクルの開口部の少なくとも一部にわたって配置することをさらに含み、前記膜が、場合により血液ろ過膜層を含む、請求項１〜１１のいずれか一項記載の方法。
13. 穴またはウェルが、傾斜した壁を有しており、得られるレセプタクルおよび部分レセプタクルが、実質的に円錐または円錐台の形状である、請求項１〜１２のいずれか一項記載の方法。
14. 傾斜した壁を有する穴を、穴の最も狭い部分が６００μｍ以下の幅を有するように、積層体に作製する、請求項１３記載の方法。
15. ベースが、親水性表面または疎水性表面を提供するように表面処理されるか、または、ベースが、親水性多孔質膜または疎水性多孔質膜を含む、請求項１〜１４のいずれか一項記載の方法。
16. 作用電極層が、５０μｍ以下の厚さを有する、請求項１〜１５のいずれか一項記載の方法。
17. 作用電極層が、炭素を有する、請求項１〜１６のいずれか一項記載の方法。
18. 請求項１〜１７のいずれか一項記載の方法によって得られた、または得ることができる装置。
19. − 請求項１８記載の装置のレセプタクルまたは部分レセプタクルに試料を挿入することと、
    − 電気化学セルの両端に電位を印加することと、
    − その結果生じる電気化学応答を測定することを含む電気化学検出方法。