JP2008293839A - ワーク処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】プラズマ発生部のメンテナンス作業を容易に行うことが可能なワーク処理装置を提供する。
【解決手段】このワーク処理装置Ｓは、供給される所定のガスをプラズマ化するプラズマ発生部１８を有し、このプラズマ発生部１８からプラズマ化したガスを放出するプラズマ発生装置６と、プラズマ発生部１８の下方で処理対象であるワークＷを支持する搬送装置２とを備え、ワークＷに対してプラズマ化したガスを照射することにより所定の処理を施与するものであって、プラズマ発生部１８がワークＷ上に位置するようにプラズマ発生装置６を据え付けるための据付枠４を備えている。そして、プラズマ発生装置６は、プラズマ発生部１８がワークＷ上に配置される据付位置から水平方向に引き出し可能に据付枠４に対して取り付けられている。
【選択図】図１

Description

本発明は、被処理ワークに対してプラズマを照射して所定の処理を施与するワーク処理装置に関するものである。

従来、半導体基板等の被処理ワークに対してプラズマを照射し、その表面の有機汚染物の除去、表面改質、エッチング、薄膜形成又は薄膜除去等の処理を行うワーク処理装置が知られている。例えば、下記の特許文献１にそのようなワーク処理装置の一例が開示されている。この特許文献１に開示されたワーク処理装置は、供給される所定のガスをプラズマ化するためのプラズマ発生ノズルを有するプラズマ発生部を備えており、前記プラズマ発生ノズルでプラズマ化したガスを被処理ワークに照射してその被処理ワークに上記した各種処理を施与するように構成されている。また、このワーク処理装置では、移動機構を有するテーブルがプラズマ発生部の下方に設置されており、そのテーブル上に被処理ワークが載置されてプラズマ照射を受ける所定の位置に配置されるようになっている。
特開２００３−１９７３９７号公報

ところで、上記のようなワーク処理装置では、プラズマ発生部の下方に前記テーブルが設置されていることに起因して、プラズマ発生ノズルの交換やプラズマ発生部の点検等のメンテナンスを行う際に前記テーブルが邪魔になってメンテナンス作業が行いにくいという問題点がある。

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、プラズマ発生部のメンテナンス作業を容易に行うことが可能なワーク処理装置を提供することである。

上記目的を達成するために、本発明によるワーク処理装置は、供給される所定のガスをプラズマ化するプラズマ発生部を有し、このプラズマ発生部からプラズマ化したガスを放出するプラズマ発生装置と、前記プラズマ発生部の下方で処理対象であるワークを支持する支持部とを備え、前記ワークに対して前記プラズマ化したガスを照射することにより所定の処理を施与するワーク処理装置であって、前記プラズマ発生部が前記ワーク上に位置するように前記プラズマ発生装置を据え付けるための据付枠を備え、前記プラズマ発生装置は、前記プラズマ発生部が前記ワーク上に配置される据付位置から水平方向に引き出し可能に前記据付枠に対して取り付けられている。

この構成では、プラズマ発生部がワーク上に配置される据付位置からプラズマ発生装置を水平方向に引き出すことができるので、ワークを支持する支持部上からプラズマ発生部が外れた位置にプラズマ発生装置を引き出して、支持部に邪魔されることなくプラズマ発生部のメンテナンスを行うことができる。これにより、プラズマ発生部のメンテナンス作業を容易に行うことができる。

上記ワーク処理装置において、前記据付枠は、水平方向に延びるガイドレールを有し、前記プラズマ発生装置は、前記据付位置から引き出される際に前記ガイドレール上を移動しながら当該プラズマ発生装置を前記ガイドレールに対して支える移動支持部材を有するのが好ましい。

このように構成すれば、ガイドレールと移動支持部材によりプラズマ発生装置を前記据付位置から水平方向に容易に引き出し可能な構造を構成することができる。これにより、前記ガイドレール及び移動支持部材を備えていないワーク処理装置に比べて、メンテナンス作業時にプラズマ発生装置の引き出しがより容易となるため、プラズマ発生部のメンテナンス作業をより容易に行うことができる。

この場合において、前記据付枠は、前記移動支持部材と係合することにより前記プラズマ発生装置を前記据付位置で保持する係合部を有するのが好ましい。

このように構成すれば、プラズマ発生装置が引き出し可能であっても、プラズマ発生装置が前記据付位置に配置されたときは、係合部によってプラズマ発生装置が前記据付位置から位置ずれを生じるのを防ぐことができる。従って、この構成では、プラズマ発生部のメンテナンス作業を容易に行えるようにしながら、プラズマ発生装置の据付位置からの位置ずれを防ぐことができる。

上記ワーク処理装置において、前記プラズマ発生装置には、前記プラズマ発生部にマイクロ波電力を供給する電源部が設けられている一方、前記据付枠には、前記プラズマ発生装置を制御する制御部が設けられているのが好ましい。

このように構成すれば、前記電源部及び前記制御部が両方ともプラズマ発生装置に設けられている構成に比べて、プラズマ発生装置の重量を軽減することができる。これにより、プラズマ発生装置を前記据付位置から引き出す際やプラズマ発生装置を据付枠に組み付ける際の作業負担を軽減することができる。

上記ワーク処理装置において、前記支持部は、前記ワークを支持しながら前記プラズマ発生部の下方に搬送する搬送装置からなり、前記プラズマ発生装置は、前記据付位置から前記搬送装置による前記ワークの搬送方向に対して交差する方向に引き出し可能に前記据付枠に取り付けられているのが好ましい。

この構成のように、前記支持部がプラズマ発生部の下方にワークを搬送する搬送装置からなる場合には、そのワークの搬送方向に交差する方向にプラズマ発生装置が引き出せることによって搬送装置上から外れた位置でプラズマ発生部のメンテナンスを行うことができる。従って、上記のように構成すれば、プラズマ発生部の下方にワークを搬送する搬送装置を備えたワーク処理装置において、プラズマ発生部のメンテナンスを容易に行うことができる。

以上説明したように、本発明によるワーク処理装置では、プラズマ発生部のメンテナンス作業を容易に行うことができる。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。

図１は、本発明の一実施形態によるワーク処理装置Ｓの全体構成を示す斜視図である。図２は、図１に示したワーク処理装置Ｓを構成するプラズマ発生装置６の斜視図である。図３は、図１に示したワーク処理装置Ｓにおいて据付枠４の係合部４ｅとプラズマ発生装置６のコロ部材２１ｂとが係合した状態を示した図である。図４は、図３で示した係合部４ｅとコロ部材２１ｂとが係合している部分を拡大して示した図である。図５は、据付枠４の係合部４ｅとプラズマ発生装置６のコロ部材２１ｂとの係合が外れた状態を示した図３に対応する図である。なお、図１及び図２において、Ｘ−Ｘ方向を前後方向、Ｙ−Ｙ方向を左右方向、Ｚ−Ｚ方向を上下方向というものとし、−Ｘ方向を前方向、＋Ｘ方向を後方向、−Ｙを左方向、＋Ｙ方向を右方向、−Ｚ方向を下方向、＋Ｚ方向を上方向として説明する。

本実施形態によるワーク処理装置Ｓは、後述するプラズマ発生装置６のプラズマ発生部１８において所定のガスをプラズマ化するとともに、そのプラズマ化したガスを処理対象であるワークＷに照射して各種処理を施与するものである。このワーク処理装置Ｓは、図１に示すように、搬送装置２と、据付枠４と、プラズマ発生装置６と、制御部８と、操作部１０とを備えている。

前記搬送装置２は、ワークＷを支持しながら前記プラズマ発生装置６の後述するプラズマ発生部１８の下方に搬送するものである。この搬送装置２は、その搬送方向が前後方向となるように設置されており、その搬送方向に沿って配置された複数の搬送ローラ２ａを備えている。そして、搬送装置２は、図略の駆動手段を有しており、この駆動手段によって搬送ローラ２ａを駆動することによってワークＷを搬送するように構成されている。

ここで、処理対象となるワークＷとしてはプラズマディスプレイパネルや半導体基板のような平型基板、電子部品が実装された回路基板等を例示することができる。また、平型形状でないパーツや組部品等も処理対象とすることができ、この場合は搬送ローラ２ａに代えてベルトコンベア等を採用すればよい。

前記据付枠４は、前記プラズマ発生装置６の後述するプラズマ発生部１８が前記搬送装置２に支持されたワークＷ上に位置するようにプラズマ発生装置６を据え付けるためのものであり、搬送装置２を幅方向（左右方向）に跨る門形に構成されている。具体的には、据付枠４は、右側脚部４ａと、左側脚部４ｂと、一対の水平連結部４ｃ，４ｃと、ガイドレール４ｄと、係合部４ｅ（図３参照）とを有している。

前記右側脚部４ａは搬送装置２の右側に立設されている一方、前記左側脚部４ｂは搬送装置２の左側に立設されており、これら右側脚部４ａと左側脚部４ｂとによって据付枠４が設置面に対して支えられている。

そして、右側脚部４ａは、底壁部４ｆと、前側壁部４ｇと、後側壁部４ｈと、一対の仕切壁４ｉ，４ｊとを有している。底壁部４ｆは、右側脚部４ａの下部に位置し、水平に配置されている。前側壁部４ｇは、底壁部４ｆの前端から上方に垂直に立設された部分であり、後側壁部４ｈは、底壁部４ｆの後端から上方に垂直に立設された部分である。一対の仕切壁４ｉ，４ｊは、前側壁部４ｇと後側壁部４ｈの互いに対向する面間に水平に設置されているとともに、上下方向に所定の間隔をあけて配置されており、底壁部４ｆ、前側壁部４ｇ及び後側壁部４ｈによって囲まれた空間を上下に３つの空間に仕切っている。これら３つの空間は左右両側に開口している。

また、左側脚部４ｂは、箱型に構成されており、前後方向において前記右側脚部４ａと略等しい寸法を有している。

前記一対の水平連結部４ｃ，４ｃは、左右方向に水平に延びるとともに、搬送装置２の上方において右側脚部４ａと左側脚部４ｂを相互に連結している。そして、この一対の水平連結部４ｃ，４ｃは、前後方向に所定の間隔を隔てて配設されており、一方の水平連結部４ｃが右側脚部４ａの前側壁部４ｇの上端部と左側脚部４ｂの前側の壁部の上端部とを連結している一方、他方の水平連結部４ｃが右側脚部４ａの後側壁部４ｈの上端部と左側脚部４ｂの後側の壁部の上端部とを連結している。

前記ガイドレール４ｄは、前記搬送装置２に支持されたワークＷ上に後述するプラズマ発生部１８が配置される据付位置に前記プラズマ発生装置６が配設された状態では、そのプラズマ発生装置６の前後方向における両端部を下方から支える一方、後述するようにプラズマ発生装置６が前記据付位置から引き出される際には後述のコロ部材２１ｂがその上を転がるレールとして機能する。このガイドレール４ｄは、前記両水平連結部４ｃ，４ｃの互いに対向する側面にそれぞれ設置されており、両ガイドレール４ｄ，４ｄは等しい高さ位置に配設されている。そして、各ガイドレール４ｄは、水平連結部４ｃと平行、すなわち左右方向に水平に延びているとともに、水平連結部４ｃの長手方向の全域に亘って設けられている。

前記係合部４ｅは、図３及び図４に示すように、前記プラズマ発生装置６の後述する移動支持部材２０のコロ部材２１ｂと係合することによりプラズマ発生装置６を前記据付位置で保持するものである。この係合部４ｅは、左側脚部４ｂの前側の壁部と後側の壁部の互いに対向する面の上部にそれぞれ取り付けられている。各係合部４ｅは、細長い板体からなり、左右方向に水平に延びる水平部４ｋと、その水平部４ｋの右端部から上方へ垂直に突設された突出部４ｍとを有している。そして、各係合部４ｅは、突出部４ｍの右側面が対応するガイドレール４ｄの左端面に接するとともに、突出部４ｍの上面が対応するガイドレール４ｄの上面と面一になるように設置されている。

また、水平部４ｋの上面の前記突出部４ｍに近接した位置には円弧状の凹部４ｎが設けられている。この凹部４ｎは、プラズマ発生装置６が前記据付位置に配置されたときに後述する移動支持部材２０のコロ部材２１ｂの小径部２１ｆが嵌り込む部分であり、そのコロ部材２１ｂの小径部２１ｆに対応した大きさに形成されている。

前記プラズマ発生装置６は、マイクロ波を利用して常温常圧でのプラズマ発生が可能な装置である。このプラズマ発生装置６は、図１に示すように、その長手方向が左右方向に一致するように配置されており、前記搬送装置２の上方に当該搬送装置２によるワークＷの搬送方向と直交するように配置されている。そして、このプラズマ発生装置６は、前記据付位置から水平方向に右側へ引き出し可能に据付枠４に対して取り付けられている。

具体的には、プラズマ発生装置６は、図２に示すように、本体フレーム１２と、電源部１４と、一対の導波管１６，１６と、プラズマ発生部１８と、一対の移動支持部材２０，２０と、引上部２２とを有している。

前記本体フレーム１２は、プラズマ発生装置６のフレームであり、電源収容部１２ａと、一対の支持枠部１２ｂ，１２ｂと、連結桟１２ｃとを有している。

電源収容部１２ａは、プラズマ発生装置６の右端部に設けられた箱型の部分であり、その内部に前記電源部１４が収容されている。

一対の支持枠部１２ｂ，１２ｂは、前記据付位置にプラズマ発生装置６が配設された状態で据付枠４のガイドレール４ｄに対してプラズマ発生装置６を支える部分である。各支持枠部１２ｂは、プラズマ発生装置６の前端と後端とにそれぞれ配置されており、互いに平行で、かつ、左右方向に水平に延びている。

連結桟１２ｃは、両支持枠部１２ｂ，１２ｂの中間部同士を繋いで一体化している。

前記電源部１４は、プラズマ発生部１８にマイクロ波電力を供給するものであり、プラズマ発生装置６の右端の前記電源収容部１２ａ内に設けられている。この電源部１４は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置１４ａを有しており、このマイクロ波発生装置１４ａで発生させた所定波長のマイクロ波、例えば約２．５ＧＨｚのマイクロ波を導波管１６の内部へ放出するように構成されている。

前記一対の導波管１６，１６は、マイクロ波発生装置１４ａにより発生されたマイクロ波をプラズマ発生部１８へ向けて、その長手方向に伝搬させるものである。各導波管１６は、例えば非磁性金属（アルミニウム等）からなり、断面矩形の長尺管状を呈している。両導波管１６，１６は、左右方向に水平に延びているとともに、前後方向に所定間隔をあけて互いに平行に配置されている。そして、各導波管１６の右端側から前記マイクロ波発生装置１４ａにより放出されたマイクロ波が導入されるようになっている。

また、各導波管１６の上面板には、後述するプラズマ発生ノズル１８ａの内部導電体を交換するための交換口１６ａが各プラズマ発生ノズル１８ａに対応する位置にそれぞれ設けられている。各交換口１６ａの上部は蓋部１６ｂによって閉じられるようになっており、内部導電体の交換の際には、この蓋部１６ｂを外して交換口１６ａを通じて内部導電体を交換する。

前記プラズマ発生部１８は、供給される所定のガスをプラズマ化する部分であり、前記各導波管１６の下面板（ワークＷとの対向面）に、左右方向へ所定間隔で一列に整列して突設されたプラズマ発生ノズル１８ａを具備して構成されている。このプラズマ発生ノズル１８ａは、図略の内部導電体と外部導電体とを有している。内部導電体は、良導電性の金属から構成された棒状の導電体からなり、その上端部側が導波管１６の下面板を貫通して導波管１６内に突出している。この内部導電体と導波管１６とは絶縁されている。また、外部導電体は、略円筒状の導電体からなり、内部導電体の周りを囲むように配置されている。この外部導電体は、導波管１６と導通状態（同電位）にある。また、外部導電体と内部導電体の間の空間には、所定の処理ガス、例えば酸素ガスや空気のような酸素形の処理ガスが供給されるようになっている。

そして、内部導電体の上端部側によってマイクロ波電力が受信されて当該内部導電体に給電が行われると、内部導電体と外部導電体の下端部近傍に電界集中部が形成される。この状態で前記処理ガスが内部導電体と外部導電体の間の空間に供給されると、処理ガスが励起されて内部導電体の下端部付近においてプラズマが発生する。このようにプラズマ化された処理ガスは、供給されるガス流によりプルームとしてプラズマ発生ノズル１８ａの下端から放射される。このプラズマ化されて放射されたガスによりワークＷに所定の処理、例えば有機物の分解や除去、レジスト除去、表面クリーニング、表面改質または薄膜形成等の処理が施与される。

前記一対の移動支持部材２０，２０は、プラズマ発生装置６が前記据付位置から引き出される際に前記ガイドレール４ｄ上を長手方向に移動しながらプラズマ発生装置６をガイドレール４ｄに対して支えるものである。

具体的には、各移動支持部材２０は、図４に示すように、前記本体フレーム１２の支持枠部１２ｂ，１２ｂの左端部にそれぞれ取り付けられている。そして、各移動支持部材２０は、取付部２１ａとコロ部材２１ｂを備えている。

取付部２１ａは、コロ部材２１ｂを本体フレーム１２に取り付けるための部材である。この取付部２１ａは、支持枠部１２ｂの左端部の前記プラズマ発生装置６の幅方向における内側面に取り付けられている。そして、取付部２１ａは、下方に突出した基部２１ｃと、この基部２１ｃの下端部から前記プラズマ発生装置６の幅方向における外側へ突出する軸部２１ｄとを有している。

コロ部材２１ｂは、前記取付部２１ａの軸部２１ｄに回転可能に取り付けられている。移動支持部材２０では、プラズマ発生装置６が前記据付位置から引き出される際にこのコロ部材２１ｂが前記ガイドレール４ｄ上を転がりながらプラズマ発生装置６を前記ガイドレール４ｄに対して支えるようになっている。コロ部材２１ｂは、大径部２１ｅと、その大径部２１ｅと同軸に配置された小径部２１ｆとを一体に有している。前記小径部２１ｆは、前記大径部２１ｅからプラズマ発生装置６の幅方向外側へ向かって突出するように設けられている。

そして、プラズマ発生装置６が前記据付位置に配置されたときには、コロ部材２１ｂの小径部２１ｆが係合部４ｅの凹部４ｎに嵌り込むことによってコロ部材２１ｂが係合部４ｅと係合し、プラズマ発生装置６が前記据付位置で保持されるように構成されている。すなわち、コロ部材２１ｂの小径部２１ｆが係合部４ｅの凹部４ｎに嵌り込むことによって、プラズマ発生装置６の水平方向への移動が規制され、プラズマ発生装置６が前記据付位置で仮固定されるようになっている。

一方、プラズマ発生装置６を前記据付位置から引き出すときには、プラズマ発生装置６の左端部を引き上げてコロ部材２１ｂの小径部２１ｆを係合部４ｅの凹部４ｎから離脱させ、ガイドレール４ｄ上に小径部２１ｆを乗せる。これにより、プラズマ発生装置６を右側へ水平に引っ張れば、コロ部材２１ｂの小径部２１ｆがガイドレール４ｄ上を転がりながらプラズマ発生装置６を据付枠４に対して引き出せるようになる。

また、前記引上部２２は、前記一対の取付部２１ａ，２１ａの基部２１ｃ，２１ｃ間に前後方向に水平に架設された棒状の部材である。この引上部２２は、前記コロ部材２１ｂを係合部４ｅの凹部４ｎから離脱させるときに作業者が把持してプラズマ発生装置６の左端部を引き上げるためのものである。

前記制御部８は、図１に示すように、据付枠４の右側脚部４ａの仕切壁４ｉ，４ｊ間の空間に設置されており、プラズマ発生装置６及びその他各部の制御を行うものである。例えば、制御部８は、マイクロ波発生装置１４ａによるマイクロ波発生の動作制御、プラズマ発生部１８の各プラズマ発生ノズル１８ａへ供給する処理ガスの流量制御、搬送装置２の搬送ローラ２ａを駆動する駆動モータの動作制御及びワーク処理装置Ｓを構成する各部の動作を連動させて制御する全体制御等を行う。

前記操作部１０は、前記制御部８に対して所定の操作信号を与えるものである。この操作部１０は、前記右側脚部４ａに隣接した位置に設置されており、前記制御部８と電気的に接続されている。

次に、プラズマ発生部１８のメンテナンス時に行う操作について説明する。

まず、プラズマ発生装置６が前記据付位置に配置され、図３に示すように、コロ部材２１ｂが係合部４ｅの凹部４ｎに嵌り込んでいる状態から、作業者が引上部２２を把持してプラズマ発生装置６の左端部を引き上げるとともに右側に押す。これにより、図５に示すように、コロ部材２１ｂの小径部２１ｆ（図４参照）が係合部４ｅの凹部４ｎから離脱し、ガイドレール４ｄ上に乗る。

この操作によって、プラズマ発生装置６の電源収容部１２ａが据付枠４の右側脚部４ａから右側に突出するので、その突出した電源収容部１２ａを台車等に載せて支える。この後、プラズマ発生装置６を水平に右側へ引き出す。この際、移動支持部材２０のコロ部材２１ｂがガイドレール４ｄ上を転がりながらプラズマ発生装置６の左端部をガイドレール４ｄに対して支える。このようにプラズマ発生装置６を引き出す際にコロ部材２１ｂの転がりを利用することができるので、小さな力でプラズマ発生装置６を引き出すことができる。

そして、プラズマ発生部１８が搬送装置２上から外れて作業しやすい位置までプラズマ発生装置６を引き出したところで停止させ、プラズマ発生部１８のメンテナンス作業、すなわちプラズマ発生ノズル１８ａの交換やプラズマ発生部１８の点検等を行う。

そして、メンテナンス作業が終了したら、上記と逆の操作によりプラズマ発生装置６を据付枠４に対して前記据付位置まで押し込む。そして、プラズマ発生装置６が前記据付位置まで移動すると、移動支持部材２０のコロ部材２１ｂの小径部２１ｆがガイドレール４ｄ上から係合部４ｅの突出部４ｍの上面を通って凹部４ｎに嵌り込む。これにより、係合部４ｅとコロ部材２１ｂが係合し、プラズマ発生装置６が前記据付位置で保持される。

以上のようにして、ワーク処理装置Ｓにおけるプラズマ発生部１８のメンテナンス作業が行われる。

以上説明したように、本実施形態では、搬送装置２に支持されたワークＷ上にプラズマ発生部１８が配置される据付位置から、プラズマ発生装置６が水平方向で、かつ、搬送装置２によるワークＷの搬送方向に対して直交する方向に引き出し可能に据付枠４に取り付けられているので、搬送装置２上からプラズマ発生部１８が外れた位置にプラズマ発生装置６を引き出して、搬送装置２に邪魔されることなくプラズマ発生部１８のメンテナンスを行うことができる。これにより、プラズマ発生部１８のメンテナンス作業を容易に行うことができる。

また、本実施形態では、プラズマ発生装置６が前記据付位置から引き出される際に据付枠４のガイドレール４ｄ上を移動しながら当該プラズマ発生装置６の左端部を前記ガイドレール４ｄに対して支える移動支持部材２０を有するので、ガイドレール４ｄと移動支持部材２０によりプラズマ発生装置６を前記据付位置から水平方向に容易に引き出し可能な構造を構成することができる。これにより、前記ガイドレール４ｄ及び移動支持部材２０を備えていないワーク処理装置に比べて、メンテナンス作業時にプラズマ発生装置６の引き出しが容易となるため、プラズマ発生部１８のメンテナンス作業をより容易に行うことができる。

さらに、本実施形態では、移動支持部材２０が、前記据付位置からプラズマ発生装置６が引き出される際にガイドレール４ｄ上を転がりながらプラズマ発生装置６をガイドレール４ｄに対して支えるコロ部材２１ｂを有するので、コロ部材２１ｂの転がりを利用してプラズマ発生装置６を前記据付位置から小さな力で引き出すことができる。これにより、メンテナンス作業時にプラズマ発生装置６の引き出しをより容易に行うことができる。

また、本実施形態では、プラズマ発生装置６の移動支持部材２０のコロ部材２１ｂと係合することによりプラズマ発生装置６を前記据付位置で保持する係合部４ｅが据付枠４に設けられているので、プラズマ発生装置６が引き出し可能であっても、プラズマ発生装置６が前記据付位置に配置されたときは、係合部４ｅによってプラズマ発生装置６が前記据付位置から位置ずれを生じるのを防ぐことができる。従って、プラズマ発生部１８のメンテナンス作業を容易に行えるようにしながら、プラズマ発生装置６の前記据付位置からの位置ずれを防ぐことができる。

また、本実施形態では、プラズマ発生部１８にマイクロ波電力を供給するための電源部１４がプラズマ発生装置６に設けられている一方、プラズマ発生装置６を制御する制御部８が据付枠４に設けられているので、電源部１４及び制御部８が両方ともプラズマ発生装置６に設けられている構成に比べて、プラズマ発生装置６の重量を軽減することができる。これにより、プラズマ発生装置６を前記据付位置から引き出す際やプラズマ発生装置６を据付枠４に組み付ける際の作業負担を軽減することができる。

なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれる。

例えば、上記実施形態では、プラズマ発生部１８の下方でワークＷを支持する支持部を搬送装置２によって構成した例について説明したが、本発明はこの構成に限らない。すなわち、プラズマ発生部１８の下方においてワークＷを固定もしくは静止させた状態で支持する支持部を設け、この支持部で支持されたワークＷに対してプラズマ照射を行う形態でも本発明を同様に適用することが可能である。

また、上記実施形態では、移動支持部材２０として、ガイドレール４ｄ上を転がりながらプラズマ発生装置６をガイドレール４ｄに対して支えるコロ部材２１ｂを備えたものを用いたが、これ以外の種々の構成の移動支持部材を用いてもよい。例えば、ガイドレール４ｄ上を長手方向に滑りながらプラズマ発生装置６をガイドレール４ｄに対して支えるスライド部材を備えた移動支持部材や、その他の構成の移動支持部材を用いてもよい。

本発明の一実施形態によるワーク処理装置の全体構成を示す斜視図である。 図１に示したワーク処理装置を構成するプラズマ発生装置の斜視図である。 図１に示したワーク処理装置において据付枠の係合部とプラズマ発生装置のコロ部材とが係合している状態を示した図である。 図３で示した係合部とコロ部材とが係合している部分を拡大して示した図である。 据付枠の係合部とプラズマ発生装置のコロ部材との係合が外れた状態を示した図３に対応する図である。

符号の説明

２ 搬送装置（支持部）
４ 据付枠
４ｄ ガイドレール
４ｅ 係合部
６ プラズマ発生装置
８ 制御部
１４ 電源部
１８ プラズマ発生部
２０ 移動支持部材
Ｗ ワーク
Ｓ ワーク処理装置

Claims (5)

1. 供給される所定のガスをプラズマ化するプラズマ発生部を有し、このプラズマ発生部からプラズマ化したガスを放出するプラズマ発生装置と、前記プラズマ発生部の下方で処理対象であるワークを支持する支持部とを備え、前記ワークに対して前記プラズマ化したガスを照射することにより所定の処理を施与するワーク処理装置であって、
   前記プラズマ発生部が前記ワーク上に位置するように前記プラズマ発生装置を据え付けるための据付枠を備え、
   前記プラズマ発生装置は、前記プラズマ発生部が前記ワーク上に配置される据付位置から水平方向に引き出し可能に前記据付枠に対して取り付けられている、ワーク処理装置。
2. 前記据付枠は、水平方向に延びるガイドレールを有し、
   前記プラズマ発生装置は、前記据付位置から引き出される際に前記ガイドレール上を移動しながら当該プラズマ発生装置を前記ガイドレールに対して支える移動支持部材を有する、請求項１に記載のワーク処理装置。
3. 前記据付枠は、前記移動支持部材と係合することにより前記プラズマ発生装置を前記据付位置で保持する係合部を有する、請求項２に記載のワーク処理装置。
4. 前記プラズマ発生装置には、前記プラズマ発生部にマイクロ波電力を供給する電源部が設けられている一方、前記据付枠には、前記プラズマ発生装置を制御する制御部が設けられている、請求項１〜３のいずれか１項に記載のワーク処理装置。
5. 前記支持部は、前記ワークを支持しながら前記プラズマ発生部の下方に搬送する搬送装置からなり、
   前記プラズマ発生装置は、前記据付位置から前記搬送装置による前記ワークの搬送方向に対して交差する方向に引き出し可能に前記据付枠に取り付けられている、請求項１〜４のいずれか１項に記載のワーク処理装置。

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