JP2008288573A - ケミカル供給装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】キャニスター内の薬液の残量を測定し、残量が基準値以下になれば、バッファー側での低速真空吸入を行うことで、キャニスター内の薬液残量を低減して材料費を節減するケミカル供給装置を提供する。
【解決手段】薬液が充填されるキャニスター、前記キャニスター内に充填された薬液を受けて半導体装備側に送り出すための放出バルブが下部に設置され、前記薬液に含まれた気泡を外部に放出させるための気泡排出バルブが上部に備えられるバッファー、前記キャニスター内の薬液残量を測定するための残量測定手段、及び前記残量測定手段による測定結果、キャニスター内の薬液残量が基準値以下であるとき、バッファー内の薬液収容空間を収縮及び膨脹させて、キャニスター内の薬液を吸入するようになった体積可変手段、を含む。
【選択図】図2

Description

本発明は半導体装備のケミカル供給装置に係り、より詳しくは半導体ウェハーまたはフラットパネルディスプレイ(Flat Panel Display:FPD)の製造工程に使用されるケミカルをキャニスターからバッファーに移送して半導体装備に安定に供給するためのケミカル供給装置に関するものである。
図1は従来技術のケミカル供給装置を示す概略図である。
同図に示すような従来技術によるケミカル供給装置は、大別してケミカル原料が充填されるキャニスター10と、前記キャニスター10内に充填されたケミカル(以下、薬液という)を受けて半導体装備25に安定的に供給するためのバッファー20とから構成される。
前記キャニスター10内には、薬液11bが充填され、前記薬液11bはビニルバッグ形態のカートリッジ11に包装されて供給される。
この際、前記カートリッジ11内には、薬液11bと共に、溶媒として不活性ガスまたは窒素11aを充填して使用することになる。
前述したようなカートリッジ11は、キャニスター10の中央に貫設された移送管16が内部に浸漬できるように装着され、前記移送管16を介して薬液11bをバッファー20に供給させることになる。
この際、前記バッファー20は、キャニスター10の上部に位置することになり、これにより前記薬液11bをバッファー20の位置まで強制に移送させる強制移送手段が必要になる。
このような強制移送手段としては、図1に示すような加圧ポンプ13を使用することができる。前記加圧ポンプ13は、キャニスター10の内部圧力を上昇させる役目をする。
前記加圧ポンプ13の作用によって上昇したキャニスター10の内部圧力はカートリッジ11を圧縮させることになり、前記圧縮力によってカートリッジ11の内部の薬液11bをバッファー20まで移送させることになる。
前記バッファー20に移送された薬液11bは、さらに放出バルブ24を介して半導体装備25に移送される。この際、前記半導体装備25は多数でなり、前記バッファー20によって、充填された一定量の薬液11bが一つまたは多数の半導体装備25に安定した圧力と移送速度で供給される。
前記バッファー20の上部には、薬液11bに含まれた気泡を外部に放出させるための気泡排出バルブ26が設置される。
また、前記バッファー20の一側面には、充填された薬液11bの水位を測定することにより、薬液11bの充填状態がいつも一定の水位以上を維持するようにするレベルセンサー23が設置される。
このようなレベルセンサー23が設置される理由は、放出バルブ24を介して気体が半導体装備25に流入する問題を予防するためである。
しかし、前述したような従来技術のケミカル供給装置は、キャニスター10側に保管された薬液11bの残量が100〜500ccに至れば、バッファー20に供給される流速が非常に速くなる。
この際、前記のように、薬液11bの流速が上昇すれば、薬液11b内に不活性ガス11aが微粒子の気泡状態で混じって泡が発生する問題があった。
この際、発生した気泡は、粒子が小さいため、バッファー20に移送された後、薬液11bの上層に浮かび上がることができず、薬液11b内に混じったままで硬化して配管系統及び機械に深刻な故障を引き起こすことになる問題があった。
したがって、従来には、このような問題のため、薬液11bを最後まで使用することができず、100〜500cc程度の残量が残った状態で廃棄している実情であるので、これによる材料の浪費及び工程短縮などの損失が非常に大きい問題点があった。
前記従来技術の問題点を解決するための本発明の目的は、キャニスター内の薬液の残量を測定し、残量が基準値以下になれば、バッファー側での低速真空吸入が行われるようにするケミカル供給装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、カートリッジ内の薬液を残量なしにすべて消耗するようにすることはもちろん、残量の薬液内に気泡が発生しないようにするケミカル供給装置を提供することにある。
前述したような本発明の目的を達成するための本発明によるケミカル供給装置は、薬液が充填されるキャニスター、前記キャニスター内に充填された薬液を受けて半導体装備側に送り出すための放出バルブが下部に設置され、前記薬液に含まれた気泡を外部に放出させるための気泡排出バルブが上部に備えられるバッファー、前記キャニスター内の薬液残量を測定するための残量測定手段、及び前記残量測定手段による測定結果、キャニスター内の薬液残量が基準値以下であるとき、バッファー内の薬液収容空間を収縮及び膨脹させて、キャニスター内の薬液を吸入させる体積可変手段、を含んでなる。
前記キャニスターの内部には、薬液が充填されたカートリッジが備えられ、前記キャニスターの内部圧力を上昇させて、前記カートリッジを圧縮する加圧ポンプが備えられることができる。
前記バッファーには、充填された薬液の水位を測定するためのレベルセンサーが設置されることができる。
前記体積可変手段は、バッファーの内部左右側部にそれぞれ設置され、その間に形成された収容空間を任意に収縮及び膨脹させるように、左右方向への収縮及び膨脹作用を行う膜部材、及び前記膜部材を収縮及び膨脹作用させるための可変アクチュエータ、を含んでなることができる。
前記膜部材は、ダイアフラム、波形管及びゴム板のいずれか一つを用いることができる。
前記膜部材が球体形状に製作され、前記球体の下部に移送管が連結され、上部に気泡排出バルブが連結され、前記移送管が連結された一側に放出バルブが連結されることができる。
前記可変アクチュエータは、加圧/減圧ポンプまたはシリンダーを利用することができる。
前記可変アクチュエータは、カートリッジ内の薬液の残量が基準値以下であるとき、減圧駆動が行われることができる。
前記残量基準値は100〜500ccであることができる。
前記体積可変手段による真空吸入速度は、10cc/s以下であることができる。
前記残量測定手段は、キャニスターの底面に設置され、キャニスターの重さ変化を感知するためのロードセル、あるいは移送管に設置された圧力センサーを用いることができる。
このような本発明は、キャニスター内の薬液の残量を測定し、残量が基準値以下になれば、バッファー側での低速真空吸入を行って、キャニスター内の薬液残量を低減することにより、材料費を節減することになる効果がある。
また、本発明は、キャニスター内の薬液残量を10cc/s以下の低速で吸入することにより、薬液内に気泡が発生して供給管内に固着化する問題を予防する効果がある。
以下、本発明の好適な実施例について添付図面を参照して詳細に説明する。
図2は本発明の第1実施例によるケミカル供給装置を説明するための全体構造を示す概略図である。
同図に示すような本発明によるケミカル供給装置は、大別してケミカル原料が充填されるキャニスター100と、前記キャニスター100内に充填されたケミカル(以下、薬液という)を受けて半導体装備250に安定的に供給するためのバッファー200とから構成される。
前記キャニスター100内には薬液が充填され、前記薬液はビニルバッグ形態のカートリッジ110に包装されて供給される。
この際、前記カートリッジ110内には、薬液113と共に、溶媒として、不活性ガスまたは窒素111を充填して使用することになる。
前述したようなカートリッジ110は、キャニスター100の中央に貫設された移送管160が内部に浸漬されるように装着され、前記移送管160を介して薬液113をバッファー200に供給させることになる。
この際、前記バッファー200はキャニスター100上部に位置し、これにより、前記薬液113をバッファー200の位置まで強制に移送させる強制移送手段が必要になる。
このような強制移送手段としては、図2に示すような加圧ポンプ130が使用可能であり、前記加圧ポンプ130はキャニスター100の内部圧力を上昇させる役目をする。
前記加圧ポンプ130の作用によって上昇したキャニスター100の内部圧力はカートリッジ110を圧縮させ、前記圧縮力によってカートリッジ110の内部の薬液113をバッファー200まで移送させることになる。
前記バッファー200に移送された薬液113は、さらに放出バルブ240を介して半導体装備250に移送される。この際、前記半導体装備250は多数でなり、前記バッファー200によって、充填された一定量の薬液113が一つまたは多数の半導体装備250に安定した圧力と移送速度で供給される。
前記バッファー200の上部には、薬液113に含まれた気泡を外部に放出させるための気泡排出バルブ260が設置される。
また、前記バッファー200の一側面には、充填された薬液113の水位を測定することにより、薬液113の充填状態がいつも一定の水位以上を維持するようにするレベルセンサー230が設置される。
このようなレベルセンサー230が設置される理由は、放出バルブ240を介して気体が半導体装備250に流入する問題を予防するためである。
そして、前記バッファー200内部には、薬液113の充填空間を任意に可変させるための体積可変手段が設置される。
前記体積可変手段は、バッファー200の内部左右側部にそれぞれ設置され、その間に充填された薬液113の収容空間を任意に収縮及び膨脹させるように、左右方向への収縮及び膨脹作用を行う膜部材210と、前記膜部材210の形態及び位置を可変させるための可変アクチュエータ220とを含む。
図2に示すような膜部材210としては、ダイアフラム、波形管及びゴム板などのように、形状変形の自由な素材が使用できる。
また、前記膜部材210を可変させるための可変アクチュエータ220としては、加圧/減圧ポンプが利用できる。
前記加圧/減圧ポンプは、通常に、膜部材210とバッファー200との間の空間に高圧雰囲気を形成して、膜部材210をバッファー200の中心側に膨脹させることにより、結果として薬液113の収容空間を最小状態に維持させることになる。
このような加圧/減圧ポンプは、カートリッジ110内の薬液113の残量が基準値以下になれば、減圧駆動が行われる。この際、キャニスター100側の加圧ポンプ130は、作動を中止することになる。
前記加圧/減圧ポンプが減圧駆動すれば、膜部材210が図2の二点鎖線で表示したように、バッファー200の外壁側に収縮することになる。前記膜部材210が収縮すれば、相対的に中央の薬液113の収容空間体積が増大して、減圧現象が起こる。
前記薬液113の収容空間が減圧されることにより、キャニスター100側に保管された残量の薬液113が移送管160に沿って吸入、移送される。
この際、前記加圧/減圧ポンプの減圧駆動は、残量基準が100〜500ccになる時点から始め、最低の流速、好ましくは10cc/s以下の流速になるようにし、残量が50〜0ccになるまで徐々に進むようにする。
ここで、減圧速度を最低速度に維持させる理由は、薬液113内に気泡が発生することを防止するためである。
このような方法によってバッファー200の内部に一定量の薬液113が充填されれば、前記バッファー200の内部の体積可変手段の収縮作用が行われるようにして、バッファー200の内部薬液113が半導体装備250に押し出されるようにする。
この際、前記体積可変手段の収縮作用は、加圧/減圧ポンプを加圧作用させることでなされる。前記加圧/減圧ポンプは、膜部材210とバッファー200との間の空間に圧縮空気を供給して加圧することにより、膜部材210をバッファー200の中央側に膨脹させる。
前記膜部材210が内部中央側に膨脹されることにより、膜部材210の間に形成された薬液113の収容空間が収縮し、薬液113の収容空間内の薬液113は放出バルブ240を介して半導体装備250側に供給される。
このような体積可変手段のポンピング作用は、キャニスター100内の薬液113がすべて消耗されるまで繰り返される。
そして、前記キャニスター100の薬液113の残量を測定するためには、残量測定手段が使用される。前記残量測定手段としては、キャニスター100の底面に設置され、キャニスターの重量変化を感知するようになったロードセル150、あるいは移送管160に設置され圧力センサー170が使用できる。
この際、前記圧力センサー170は、薬液113の流速及び流量を測定するセンサーにも取り替えることができる。
前述したような本発明の第1実施例によるケミカル供給装置は、カートリッジ110内の薬液113を残量なしに、すべて消耗することができるので、材料費を節減することになる利点を有する。
図3は本発明の第2実施例によるケミカル供給装置を説明するためのバッファー構造を示す拡大図である。
同図に示すような本発明の第2実施例によるケミカル供給装置は、図2に示すような本発明の第1実施例によるバッファー200の構造のみを変更したものである。
したがって、以下では、キャニスター100の構造の説明を省略し、バッファー200の構成についてだけ詳細に説明する。
本発明の第2実施例によるバッファー200は、薬液113を半導体装備250に供給するための放出バルブ240を下部に備え、上部には、薬液113に含まれた気泡を外部に放出させるための気泡排出バルブ260が設置される。
また、前記バッファー200の一側面には、充填された薬液113の水位を測定して、薬液113の充填状態がいつも一定の水位以上を維持するようにするレベルセンサー230が設置される。
このようなレベルセンサー230が設置される理由は、放出バルブ240を介して気体が半導体装備250に流入する問題を予防するためである。
そして、前記バッファー200の内部には、薬液113の充填空間を任意に可変させるようにする体積可変手段が設置される。
前記体積可変手段は、バッファー200の内部左右側部にそれぞれ設置され、その間に充填された薬液113の収容空間を任意に収縮及び膨脹させるように、左右方向への収縮及び膨脹作用を行う膜部材210と、前記膜部材210の形態及び位置を可変させるための可変アクチュエータ220とから構成される。
前記膜部材210は、図3に示すように、アコーディオン形状の波形管部材が使用できる。
また、前記膜部材210を可変させるための可変アクチュエータ220としては、波形管部材の先端を横方向に左右に移送させるためのシリンダーなどが使用できる。
前記シリンダーは、通常に、ピストンを最大長に伸ばして膜部材210をバッファー200の中心側に移動させ、結果として、薬液113の収容空間を最小状態に維持させることになる。
このようなシリンダーは、カートリッジ110内の薬液113の残量が基準値以下になれば、減圧駆動が行われる。
前記シリンダー220が減圧駆動すれば、ピストンの長さが最小に縮小し、膜部材210がバッファー200の外壁側に拡張して、相対的に中央の薬液113の収容空間の体積を膨脹させることになる。
この際、前記薬液113の収容空間が膨脹すれば、内圧が急激に減少することになり、キャニスター100側に保管された残量の薬液113が移送管160に沿ってバッファー200側に吸入される。
この際、前記加圧/減圧ポンプ220の減圧駆動は、残量基準が100〜500ccになる時点で始め、最低の流速、好ましくは10cc/s以下の流速になるように行われ、残量が50〜0ccになるまで徐々に進む。
前記のように、バッファー200の内部に一定量の薬液113が充填されれば、前記バッファー200の内部の体積可変手段の収縮作用が行って、バッファー200の内部の薬液113を半導体装備250に押し出すことになる。
前記体積可変手段の収縮作用は、シリンダー220を加圧駆動させることでなることができる。前記加圧駆動のために、シリンダー220はピストンを最大長に伸ばして、膜部材210がバッファー200の中心側に移動するようにし、結果として、薬液113の収容空間を収縮させることになる。
前記薬液113の収容空間が収縮されることにより、薬液113の収容空間内の薬液113は放出バルブ240を介して半導体装備250側に供給される。
このような体積可変手段のポンピング作用は、キャニスター100内の薬液113がすべて消耗されるまで繰り返される。
この際、前記キャニスター100の薬液113の残量を測定するための残量測定手段としては、キャニスターの重量変化を感知するためのロードセル150、あるいは移送管160に設置された圧力センサー170が利用できる。
このような圧力センサー170は、薬液113の流速及び流量を測定するセンサーにも取り替えることができる。
図4は本発明の第3実施例によるケミカル供給装置を説明するためのバッファー構造を示す拡大図である。
同図に示すような本発明の第3実施例によるケミカル供給装置は、図2に示すような本発明の第1実施例バッファー200の構造のみを変更したものである。
したがって、以下では、キャニスター100の構造についての説明を省略し、バッファー200の構成についてだけ詳細に説明する。
本発明の第3実施例によるバッファー200は、薬液113を半導体装備250に供給するための放出バルブ240を下部に備え、上部には、薬液113に含まれた気泡を外部に放出させるための気泡排出バルブ260が設置される。
また、前記バッファー200の一側面には、充填された薬液113の水位を測定して、薬液113の充填状態がいつも一定の水位以上を維持するようにするレベルセンサー230が設置される。
このようなレベルセンサー230が設置される理由は、放出バルブ240を介して気体が半導体装備250に流入する問題を予防するためである。
そして、前記バッファー200の内部には、薬液113の充填空間を任意に可変させるための体積可変手段が設置される。
前記体積可変手段は、バッファー200の内部中央に球体形状に設置され、その内部に充填された薬液113の収容空間を任意に収縮及び膨脹させて収縮及び膨脹作用を行う膜部材210と、前記膜部材210を収縮及び膨脹作用させるための可変アクチュエータ220とから構成される。
この際、前記膜部材210としては、図4に示すように、収縮及び膨脹の際、伸縮性を有する球体形状の伸縮部材が使用できる。
前記球体形状の伸縮部材の下部中心には移送管160が連結され、上部中心には、気泡排出バルブ260が連結され、前記移送管160が連結された一側に放出バルブ240が連結される。
また、前記膜部材210を可変させるための可変アクチュエータ220としては、バッファー200と膜部材210との間の空間を加圧及び減圧させるための加圧/減圧ポンプが利用できる。
前記加圧/減圧ポンプは、通常に、バッファー200と膜部材210との間の空間を高圧雰囲気に維持して、膜部材210を最大限に収縮させ、結果として、薬液113の収容空間を最小状態に維持させることになる。
このようなシリンダーは、カートリッジ110内の薬液113の残量が基準値以下になれば、減圧駆動を行うことになる。
前記シリンダー220が減圧駆動すれば、バッファー200と膜部材210との間の空間に低圧雰囲気が形成され、膜部材210が膨脹して、中央の薬液113の収容空間の体積を膨脹させることになる。
この際、前記薬液113の収容空間が膨脹すれば、内圧が急激に減少することになり、キャニスター100側に保管された残量の薬液113が移送管160に沿ってバッファー200側に吸入される。
この際、前記加圧/減圧ポンプ220の減圧駆動は、残量基準が100〜500ccになる時点で始め、最低の流速、好ましくは10cc/s以下の流速になり、残量が50〜0ccになるまで徐々に進む。
前記のような減圧駆動によって、バッファー200内部に一定量の薬液113が充填されれば、前記バッファー200の内部の体積可変手段の収縮作用が行って、バッファー200の内部の薬液113を半導体装備250に押し出すことになる。
前記体積可変手段の収縮作用は、加圧/減圧ポンプ220を加圧駆動させることでなる。前記加圧/減圧ポンプは、バッファー200と膜部材210との間の空間を高圧雰囲気に維持して膜部材210を最大限に収縮させ、結果として、薬液113の収容空間を収縮させることになる。
前記薬液113の収容空間が収縮されるにしたがい、薬液113の収容空間内の薬液113が放出バルブ240を介して半導体装備250側に供給される。
このような体積可変手段のポンピング作用は、キャニスター100内の薬液113がすべて消耗されるまで繰り返される。
この際、前記キャニスター100の薬液113の残量を測定するための残量測定手段としては、キャニスターの重量変化を感知するためのロードセル150、あるいは移送管160に設置された圧力センサー170が利用できる。
このような圧力センサー170は、薬液113の流速及び流量を測定する測定センサーにも取り替えることができる。
前記のような構成及び作用を有する本発明は、前述した多様な実施例を利用する当業者の多様な修正及び変更が可能であるので、本発明の真正な技術的範囲は明細書の詳細な説明に開示された内容に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲によって決定されなければならない。
本発明は、半導体ウェハーまたはフラットパネルディスプレイの製造工程に使用されるケミカルをキャニスターからバッファーに移送して半導体装備に安定に供給するケミカル供給装置に適用可能である。
従来技術のケミカル供給装置を示す概略図である。 本発明の第1実施例によるケミカル供給装置を説明するための全体構造を示す概略図である。 本発明の第2実施例によるケミカル供給装置を説明するためのバッファー構造を示す拡大図である。 本発明の第3実施例によるケミカル供給装置を説明するためのバッファー構造を示す拡大図である。
符号の説明
100 キャニスター
110 カートリッジ
111 不活性ガス、窒素
113 薬液
130 加圧ポンプ
150 ロードセル
160 移送管
170 圧力センサー
200 バッファー
210 膜部材
220 可変アクチュエータ
230 レベルセンサー
240 放出バルブ
250 半導体装備
260 気泡排出バルブ

Claims (11)

  1. 薬液が充填されるキャニスター、
    前記キャニスター内に充填された薬液を受けて半導体装備側に送り出すための放出バルブが下部に設置され、前記薬液に含まれた気泡を外部に放出させるための気泡排出バルブが上部に備えられるバッファー、
    前記キャニスター内の薬液残量を測定するための残量測定手段、及び、
    前記残量測定手段による測定結果、キャニスター内の薬液残量が基準値以下であるとき、バッファー内の薬液収容空間を収縮及び膨脹させて、キャニスター内の薬液を吸入させる体積可変手段、
    を含んでなることを特徴とする、ケミカル供給装置。
  2. 前記キャニスターの内部には、薬液が充填されたカートリッジが備えられ、前記キャニスターの内部圧力を上昇させて、前記カートリッジを圧縮する加圧ポンプが備えられることを特徴とする、請求項1に記載のケミカル供給装置。
  3. 前記バッファーには、充填された薬液の水位を測定するためのレベルセンサーが設置されることを特徴とする、請求項1に記載のケミカル供給装置。
  4. 前記体積可変手段は、バッファーの内部左右側部にそれぞれ設置され、その間に形成された収容空間を任意に収縮及び膨脹させるように、左右方向への収縮及び膨脹作用を行う膜部材、及び、
    前記膜部材を収縮及び膨脹作用させるための可変アクチュエータ、
    を含んでなることを特徴とする、請求項1に記載のケミカル供給装置。
  5. 前記膜部材は、ダイアフラム、波形管及びゴム板のいずれか一つを用いることを特徴とする、請求項4に記載のケミカル供給装置。
  6. 前記膜部材が球体形状に製作され、前記球体の下部に移送管が連結され、上部に気泡排出バルブが連結され、前記移送管が連結された一側に放出バルブが連結されることを特徴とする、請求項4に記載のケミカル供給装置。
  7. 前記可変アクチュエータは、加圧/減圧ポンプまたはシリンダーを利用することを特徴とする、請求項4に記載のケミカル供給装置。
  8. 前記可変アクチュエータは、カートリッジ内の薬液の残量が基準値以下であるとき、減圧駆動が行われることを特徴とする、請求項4に記載のケミカル供給装置。
  9. 前記残量基準値が100〜500ccであることを特徴とする、請求項8記載のケミカル供給装置。
  10. 前記体積可変手段による真空吸入速度は、10cc/s以下であることを特徴とする、請求項1に記載のケミカル供給装置。
  11. 前記残量測定手段は、キャニスターの底面に設置され、キャニスターの重さ変化を感知するためのロードセル、あるいは移送管に設置された圧力センサーを用いることを特徴とする、請求項1に記載のケミカル供給装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102122608A (zh) * 2010-12-31 2011-07-13 北京七星华创电子股份有限公司 化学制剂处理系统

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100905255B1 (ko) 2007-12-27 2009-06-29 세메스 주식회사 케미컬 제공 방법 및 장치
KR100940753B1 (ko) * 2007-12-28 2010-02-10 주식회사 케이씨텍 케미컬 공급장치
KR100954564B1 (ko) * 2008-02-04 2010-04-22 세메스 주식회사 약액 공급 시스템 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR101064048B1 (ko) * 2009-12-21 2011-09-08 주식회사 케이씨텍 케미컬 공급장치
WO2014136880A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 大日本印刷株式会社 薬液収納容器
JP6917775B2 (ja) * 2017-05-19 2021-08-11 株式会社荏原製作所 ガス溶解液製造装置
CN113978887A (zh) * 2021-09-09 2022-01-28 岳少鹏 一种自适应温度的防挥发化工品存储桶

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02190700A (ja) * 1989-01-19 1990-07-26 Sigma Gijutsu Kogyo Kk 液体圧送装置
JPH0326336U (ja) * 1989-07-19 1991-03-18
JP2005305396A (ja) * 2004-04-26 2005-11-04 Koganei Corp 可撓性タンクとこれを用いた薬液供給装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE326348T1 (de) * 2001-10-05 2006-06-15 Canon Kk Tintenbehälter, flüssigkeitszufuhrvorrichtung und aufzeichnungsvorrichtung
KR20060118196A (ko) * 2005-05-16 2006-11-23 삼성전자주식회사 캐니스터를 구비한 케미컬 분사 장치 및 캐니스터의 압력조절 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02190700A (ja) * 1989-01-19 1990-07-26 Sigma Gijutsu Kogyo Kk 液体圧送装置
JPH0326336U (ja) * 1989-07-19 1991-03-18
JP2005305396A (ja) * 2004-04-26 2005-11-04 Koganei Corp 可撓性タンクとこれを用いた薬液供給装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102122608A (zh) * 2010-12-31 2011-07-13 北京七星华创电子股份有限公司 化学制剂处理系统

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