KR100940753B1 - 케미컬 공급장치 - Google Patents

케미컬 공급장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100940753B1
KR100940753B1 KR1020070140518A KR20070140518A KR100940753B1 KR 100940753 B1 KR100940753 B1 KR 100940753B1 KR 1020070140518 A KR1020070140518 A KR 1020070140518A KR 20070140518 A KR20070140518 A KR 20070140518A KR 100940753 B1 KR100940753 B1 KR 100940753B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
bubble
chemical liquid
canister
chemical
buffer
Prior art date
Application number
KR1020070140518A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20090072419A (ko
Inventor
조강일
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020070140518A priority Critical patent/KR100940753B1/ko
Publication of KR20090072419A publication Critical patent/KR20090072419A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100940753B1 publication Critical patent/KR100940753B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Abstract

본 발명의 목적을 달성하기 위한 케미컬 공급장치는 약액이 충진되는 캐니스터와, 상기 캐니스터 내에 충진된 약액을 공급받아 반도체 장비에 공급하기 위한 버퍼를 포함하는 케미컬 공급장치로서, 상기 버퍼 내부의 약액 속에 포함된 기포를 감지하기 위한 기포감지수단을 구비하고, 상기 기포감지수단에서 허용치 이상의 기포가 감지된 경우, 기포배기관을 통해 기포가 배출되도록 하되, 상기 기포배기관에 유량조절밸브를 설치시켜 기포배기관에서의 배기유속과 캐니스터의 약액 이송관에서의 공급유속이 연동 조절되도록 하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 버퍼탱크에 유량조절밸브를 간단히 설치하고, 이를 제어함으로써, 캐니스터 내의 약액을 최대한 소진시켜 낭비를 줄일 수 있게 된다.
이는 고가의 약액을 절감함으로써, 매우 경제적인 효과가 있고, 카트리지 교체시기를 연장함으로써, 공정지연을 최소화 할 수 있어, 생산성을 향상시키는 효과를 갖는다.
케미컬 공급장치, 캐니스터, 버퍼, 약액, 기포

Description

케미컬 공급장치{CHEMICAL SUPPLYING APPARATUS}
본 발명은 반도체 장비의 케미컬 공급장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 웨이퍼나 평판표시장치(Flat Panel Display: FPD)의 제조공정에 사용되는 케미컬을 캐니스터에서 버퍼로 이송시켜 반도체 장비로 안정공급하기 위한 케미컬 공급장치에 관한 것이다.
도 1은 종래기술의 케미컬 공급장치를 도시한 개략도로서, 동 도면에서 보는 바와 같은 종래기술에 따른 케미컬 공급장치는 크게 케미컬 원료가 충진되는 캐니스터(10)와, 상기 캐니스터(10) 내에 충진된 케미컬(이하, 약액이라 함)을 공급받아 반도체 장비(25)에 안정적으로 공급하기 위한 버퍼(20)로 구성된다.
상기 캐니스터(10) 내에는 약액(12)이 충진되는데, 상기 약액(12)은 비닐백 형태의 카트리지(11)에 포장되어 공급된다.
이때, 상기 카트리지(11) 내에는 약액(12)과 더불어 용매로서 불활성가스 또는 질소(11a)를 충진하여 사용하게 된다.
상기한 바와 같은 카트리지(11)는 캐니스터(10)의 중앙으로 관통 설치된 이 송관(16)이 내부에 침지될 수 있도록 장착되고, 상기 이송관(16)을 통해 약액(12)을 버퍼(20)로 공급시키게 된다.
이때, 상기 버퍼(20)의 내부는 저압상태가 아니므로 약액을 이송하기 위해서는 강제이송수단을 필요로 하게 된다.
이와 같은 강제 이송수단으로는 도 1에서 보는 바와 같은 가압펌프(13)가 사용될 수 있는데, 상기 가압펌프(13)는 캐니스터(10) 내부의 압력을 상승시키는 역할을 한다.
상기 가압펌프(13)의 작용에 의해 상승된 캐니스터(10)의 내부압력은 카트리지(11)를 압축시키게 되고, 상기 압축력에 의해 카트리지(11) 내부의 약액(12)을 버퍼(20)까지 이송시키게 된다.
상기 버퍼(20)로 보내진 약액(12)은 다시 방출밸브(24)를 통해 반도체 장비(25)로 보내지게 된다.
이때, 상기 버퍼(20)의 상부에는 약액(12)에 포함된 기포를 외부로 방출시키기 위한 기포배기 밸브(26) 및 버퍼 가압용 공기의 개폐를 제어하는 공기유입 밸브(27)가 설치되도록 할 수 있다.
또한, 상기 버퍼(20)의 일 측면에는 충진된 약액(12)의 수위를 측정함으로써, 약액(12)의 충진 상태가 항상 일정수위 이상을 유지할 수 있도록 하는 레벨센서(23)가 설치된다.
이와 같은 레벨센서(23)가 설치되는 이유는 방출밸브(24)를 통해 기체가 반도체 장비(25)에 유입되는 문제를 예방하기 위함이다.
그러나, 상기한 바와 같은 종래기술의 케미컬 공급장치는 캐니스터(10) 측에 보관된 약액(12)의 잔량(100~500cc)에 이르게 되면, 버퍼(20)로 공급되는 유속이 매우 빨라지게 되고, 상기와 같이 약액(12)의 유속이 상승하게 되면, 약액(12) 내에 불활성가스(11a)가 미립자의 기포상태로 섞이게 되어 거품이 발생된다.
이때, 발생된 기포는 입자가 작기 때문에 버퍼(20)로 이송된 후, 약액(12)의상층으로 떠오르지 못하고, 약액(12) 내에 섞인 채로 경화되기 때문에 배관 계통 에 심각한 고장을 야기시키게 된다.
따라서, 종래에는 이러한 이유로 인해 약액(12)을 끝까지 사용하지 못하고, 100~500cc 정도의 잔량이 남은 상태에서 폐기하고 있는데, 이는 재료의 낭비 및 작업중단 등의 손실로 이어지고 있다.
특히, 캐니스터 내의 유액 잔량을 파악하기 위해 로드셀이나 압력센서 등과 같은 부가장치를 설치하게 되는데, 이러한 부가장치들은 케미컬 공급장치의 전체구조를 복잡하게 할 뿐, 캐니스터 내의 케미컬 잔량을 저감시키는 데에는 전혀 기여하지 못하는 문제가 있었다.
종래기술의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 캐니스터에 충진된 약액을 최대한 소진시켜, 버려지는 약액의 양을 최소화 할 수 있도록 하는 케미컬 공급장치를 제공함에 있다.
본 발명의 목적을 달성하기 위한 케미컬 공급장치는 약액이 충진되는 캐니스터와, 상기 캐니스터 내에 충진된 약액을 공급받아 반도체 장비에 공급하기 위한 버퍼를 포함하는 케미컬 공급장치로서, 상기 버퍼 내부의 약액 속에 포함된 기포를 감지하기 위한 기포감지수단을 구비하고, 상기 기포감지수단에서 허용치 이상의 기포가 감지된 경우, 기포배기관을 통해 기포가 배출되도록 하되, 상기 기포배기관에 유량조절밸브를 설치시켜 기포배기관에서의 배기유속과 캐니스터의 약액 이송관에서의 공급유속이 연동 조절되도록 하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 기포감지수단에서 허용치 이상의 기포가 감지된 경우, 캐니스터 내에 가압공기를 제공하는 가압밸브를 닫아 캐니스터 내의 잔압만으로 약액이 버퍼 측에 이송되도록 하는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 기포감지수단은 정전용량센서를 이용할 수 있다.
또한, 상기 기포감지수단을 버퍼의 상, 하단에 각각 설치할 수도 있다.
그리고, 상기 유량조절밸브의 유속은 1~5cc/s로 제어하는 것이 바람직하다.
본 발명은 버퍼탱크에 유량조절밸브를 간단히 설치하고, 이를 제어함으로써, 캐니스터 내의 약액을 최대한 소진시켜 낭비를 줄일 수 있게 된다.
이는 고가의 약액을 절감함으로써, 매우 경제적인 효과가 있고, 카트리지 교체시기를 연장함으로써, 공정지연을 최소화 할 수 있어, 생산성을 향상시키는 효과 를 갖는다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부된 도면을 참조하여 자세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명에 따른 케미컬 공급장치를 도시한 개략도이다.
동 도면에서 보는 바와 같은 본 발명에 따른 케미컬 공급장치는 크게 케미컬 원료(이하, 약액이라 함)가 충진되는 캐니스터(110)와, 상기 캐니스터(110) 내에 충진된 케미컬을 공급받아 반도체 장비(미도시)에 안정적으로 공급하기 위한 버퍼(210)로 구성된다.
상기 캐니스터(110) 내에는 약액이 충진되는데, 상기 약액은 비닐백 형태의 카트리지(120)에 포장된 상태로 공급된다.
이때, 상기 카트리지(120) 내에는 약액과 더불어 용매로서 불활성가스 또는 질소를 충진하여 사용하게 된다.
상기한 바와 같은 카트리지(120)는 캐니스터(110)의 중앙으로 관통 설치된 이송관(130)이 내부에 침지될 수 있도록 장착되고, 상기 이송관(130)을 통해 약액을 버퍼(210)로 공급시키게 된다.
이때, 상기 버퍼(210)의 위치가 캐니스터(110) 상부에 위치하게 되는데, 이로 인해 상기 약액을 버퍼 위치까지 강제 이송시키기 위한 강제 이송수단을 필요로 하게 된다.
이와 같은 강제 이송수단으로는 캐니스터(110) 내부에 주입되는 가압공기(압축공기)를 이용할 수 있다. 상기 가압공기는 캐니스터(110) 내의 압력을 상승시켜 카트리지(120)를 압축시킴으로써, 카트리지(120) 내부의 약액이 버퍼(210) 측으로 이동되도록 한다.
상기 가압공기는 캐니스터(110) 일측에 연결된 가압공기 공급관(150)으로 공급되고, 상기 가압공기 공급관(150)에 마련된 가압밸브(160)에 의해 공급 제어된다.
상기 버퍼(210)로 보내진 약액은 충진된 상태로 있다 약액 배출관(230)을 통해 반도체 장비(미도시) 측으로 보내지게 된다.
이때, 상기 캐니스터(110)의 약액 잔량이 줄어들수록 이송관(130)을 통한 약액의 유속이 빨라지게 되어 약액 내에 기포가 발생된 채로 버퍼(210)에 공급되는데, 이러한 기포의 유입을 감지하기 위한 기포감지수단(220)이 버퍼(210) 상에 설치된다.
상기 기포감지수단(220)은 정전용량센서가 이용될 수 있는데, 도 2에서와 같이 버퍼(210)의 상, 하단에 각각 2개를 설치하고, 상기 기포감지수단(220) 사이의 소정영역에서 발생되는 기포발생 정도를 측정할 수 있도록 한다.
이때, 상기 기포감지수단(220)에 의해 측정된 기포발생 정도를 통해 캐니스터(110) 내의 약액 잔량을 예측할 수 있다.
상기 버퍼(210) 내에 허용치 이상의 기포가 발생된 것이 기포감지수단(220) 을 이용해 감지되면, 제어부(미도시)는 버퍼(210) 상부에 연결된 기포배기관(240)을 통해 기포가 외부로 배기될 수 있도록 한다.
상기 기포배기관(240) 상에는 기포 배기를 온/오프 시키기 위한 기포배기밸브(250)가 설치되고, 상기 기포배기밸브(250)의 후단에는 유량조절밸브(260)가 설치되어 기포배기관(240)에서의 유속이 조절되도록 한다.
이때, 상기 유량조절밸브(260)의 유량을 조절하게 되면, 기포배기관(240)에서의 배기유속과 캐니스터(110)의 약액 이송관(130)에서의 공급유속이 함께 연동하여 조절된다.
상기 유량조절밸브(260)의 유속을 1~5cc/s 로 제어하는 것이 바람직한데, 이는 캐니스터(110)의 약액 이송관(130)의 유속을 1~5cc/s 저속 제어시켜 약액 내에 기포가 발생되지 않도록 하기 위함이다.
또한, 이를 보다 효율적으로 제어하기 위해 기포배기 시, 가압공기 공급관(150)의 가압밸브(160)를 닫아 캐니스터(110) 내로 공급되는 가압공기를 차단되도록 한 후, 캐니스터(110) 내의 잔압만을 이용해 약액이 버퍼(210) 측에 이송되도록 한다.
도 3내지 도 7은 본 발명에 따른 케미컬 공급장치의 작용을 설명하는 공정순서도로서, 도 3은 캐니스터(110) 내의 약액 잔량이 300cc 정도로 줄어든 상태의 예시도로서, 이송관(130) 내의 유속이 상승되어 기포발생량이 점차 증가되는 상황이다.
도 4는 캐니스터(110) 내의 약액 잔량이 150cc 정도로 줄어든 상태로서, 이를 버퍼(210) 하단에 설치한 기포감지수단(220)에서 감지하여 제어부(미도시)에 감지신호를 전달시켜 경보를 발생시키거나 기포배기밸브(250)를 열어 기포배기가 이루어지도록 한다.
이때, 상기 기포배기밸브(250) 후단에 설치된 유량조절밸브(260)를 조절시켜 유속이 1~5cc/s 로 제어되도록 하는 동시에 가압밸브(160)를 차단시켜, 캐니스터(110) 내의 잔압만을 이용해 약액이 버퍼(210) 측에 이송되도록 한다.
도 5는 캐니스터(110) 내의 약액 잔량이 버퍼(210) 측으로 저속 충진되고 있는 상태를 도시하고 있고, 도 6은 캐니스터(110) 내의 약액 잔량이 모두 버퍼(210) 측으로 충진되어 카트리지(120)를 교체하는 상태를 도시하고 있다.
이때, 카트리지(120)의 교체를 위해 가압밸브(160)가 개방되고, 기포배기밸브(250) 또한 개방된 상태를 유지하게 된다.
또한, 버퍼(210)와 캐니스터(110) 사이의 이송관(130) 상에는 역류방지밸브(140)가 설치되어 있어, 카트리지(120)를 교체하는 동안 버퍼(210) 측의 약액이 이송관(130)을 통해 배출되는 것을 방지하게 된다.
도 7은 캐니스터(110) 내에 새로운 카트리지(120)가 교체된 상태로서, 가압공기 공급관(150)을 통해 가압공기를 주입시켜 버퍼(210) 측으로 약액이 정상 충진되도록 하는 상태를 도시하고 있다.
이때, 버퍼(210) 내에 약액이 만충되는 시점 즉, 기포배기가 완료되는 시점에서 기포배기밸브(250)를 닫도록 하고, 약액 배출관(230)의 밸브(미도시)를 개방 시켜 약액이 반도체 장비측으로 공급되도록 한다.
여기서, 도면에 도시 되지는 않았으나, 약액 배출관(230) 상에 밸브를 설치시켜 약액공급을 제어하게 되는데, 상기 밸브는 도 5, 도 6에서와 같이 기포배기 공정 중에는 닫힌 상태가 유지되도록 한다.
상기와 같은 구성 및 작용을 갖는 본 발명은 앞서 설명한 다양한 실시예를 이용한 당업자의 다양한 수정 및 변경이 가능한 만큼, 본 발명의 진정한 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라, 특허 청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.
도 1은 종래기술의 케미컬 공급장치를 도시한 개략도.
도 2는 본 발명에 따른 케미컬 공급장치를 도시한 개략도.
도 3내지 도 7은 본 발명에 따른 케미컬 공급장치의 작용을 설명하는 공정순서도.
<도면중 주요부분에 대한 부호의 설명>
110: 캐니스터
120: 카트리지
130: 이송관
140: 역류방지밸브
150: 가압공기 공급관
160: 가압밸브
210: 버퍼
220: 기포감지수단
230: 약액 배출관
240: 기포배기관
250: 기포배기밸브
260: 유량조절밸브

Claims (5)

  1. 약액이 충진되는 캐니스터와, 상기 캐니스터 내에 충진된 약액을 공급받아 반도체 장비에 공급하기 위한 버퍼를 포함하는 케미컬 공급장치로서,
    상기 버퍼 내부의 약액 속에 포함된 기포를 감지하기 위한 기포감지수단을 구비하고, 상기 기포감지수단에서 허용치 이상의 기포가 감지된 경우, 기포배기관을 통해 기포가 배출되도록 하되, 상기 기포배기관에 유량조절밸브를 설치시켜 기포배기관에서의 배기유속과 캐니스터의 약액 이송관에서의 공급유속이 연동 조절되도록 하되, 상기 유량조절밸브의 유속을 1~5cc/s로 제어하고, 이와 연동되는 캐니스터의 약액 이송관의 유속을 1~5cc/s 저속 제어시켜 약액 내에 기포가 발생되지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기포감지수단에서 허용치 이상의 기포가 감지된 경우, 캐니스터 내에 가압공기를 제공하는 가압밸브를 닫아 캐니스터 내의 잔압만으로 약액이 버퍼 측에 이송되도록 하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 기포감지수단은 정전용량센서를 이용하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 기포감지수단을 버퍼의 상, 하단에 각각 설치하는 것을 특징으로 하는 케미컬 공급장치.
  5. 삭제
KR1020070140518A 2007-12-28 2007-12-28 케미컬 공급장치 KR100940753B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070140518A KR100940753B1 (ko) 2007-12-28 2007-12-28 케미컬 공급장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070140518A KR100940753B1 (ko) 2007-12-28 2007-12-28 케미컬 공급장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090072419A KR20090072419A (ko) 2009-07-02
KR100940753B1 true KR100940753B1 (ko) 2010-02-10

Family

ID=41329645

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070140518A KR100940753B1 (ko) 2007-12-28 2007-12-28 케미컬 공급장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100940753B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101274240B1 (ko) * 2010-12-06 2013-06-11 현대자동차주식회사 연료 전지 냉각 시스템
KR101141147B1 (ko) * 2012-01-27 2012-05-02 주식회사 케이씨텍 기포없는 약액을 공급하는 약액 공급 장치 및 그 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004327747A (ja) 2003-04-25 2004-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薬液塗布装置
KR20060133149A (ko) * 2005-06-20 2006-12-26 삼성전자주식회사 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급방법 및 감광액공급장치
KR100768326B1 (ko) * 2007-04-13 2007-10-17 주식회사 케이씨텍 케미컬 공급장치
KR20090022917A (ko) * 2007-08-31 2009-03-04 주식회사 케이씨텍 케미컬 공급장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004327747A (ja) 2003-04-25 2004-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薬液塗布装置
KR20060133149A (ko) * 2005-06-20 2006-12-26 삼성전자주식회사 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급방법 및 감광액공급장치
KR100768326B1 (ko) * 2007-04-13 2007-10-17 주식회사 케이씨텍 케미컬 공급장치
KR20090022917A (ko) * 2007-08-31 2009-03-04 주식회사 케이씨텍 케미컬 공급장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090072419A (ko) 2009-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100454156B1 (ko) 화학물질 송출 시스템 및 송출 방법
US6098843A (en) Chemical delivery systems and methods of delivery
JP5015655B2 (ja) 液体材料供給装置およびこれを用いた液体材料供給方法
JP2007532433A (ja) 上部スペースの気体除去を伴う、液体分配のための方法およびシステム
CN1665718A (zh) 化学品混合与输送系统及其方法
CN104555870A (zh) 一种液体定量供给装置
KR100940753B1 (ko) 케미컬 공급장치
KR101261217B1 (ko) 디스펜서용 레진 공급 장치
KR20160132880A (ko) 가압 탱크, 수송관으로의 분체(粉體)의 이송 장치 및 그 이송 방법
JP2004518049A (ja) 二重チャンバ液体ポンプ
KR101355559B1 (ko) 고압 분체원료 기류수송장치
JP2002143751A (ja) 処理液分配装置及び方法
KR101335094B1 (ko) 케미컬 공급장치
JP3362878B2 (ja) 液状流体搬送装置
RU2418732C2 (ru) Способ пневматического транспортирования сыпучих материалов
CN204611339U (zh) 一种带排放并接的双侧供气式气体控制面板
CN109630893B (zh) 一种连续稳定供液系统
KR101141147B1 (ko) 기포없는 약액을 공급하는 약액 공급 장치 및 그 방법
JP4138440B2 (ja) 薬液供給装置
KR20110068389A (ko) 케미컬 공급장치
KR200453876Y1 (ko) 약액 공급장치의 과충진 방지장치
CN216917746U (zh) 吨桶连续卸料装置
KR101083802B1 (ko) 용액 공급 방법
JP2007314346A (ja) 加圧タンク、粉体の輸送管への送込み装置およびその送込み方法
JP6846252B2 (ja) 液状物の計量充填装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121206

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131115

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141215

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160122

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170125

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee